JP2007139754A - 蛍光x線分析装置およびそれに用いるプログラム - Google Patents

蛍光x線分析装置およびそれに用いるプログラム Download PDF

Info

Publication number
JP2007139754A
JP2007139754A JP2006241760A JP2006241760A JP2007139754A JP 2007139754 A JP2007139754 A JP 2007139754A JP 2006241760 A JP2006241760 A JP 2006241760A JP 2006241760 A JP2006241760 A JP 2006241760A JP 2007139754 A JP2007139754 A JP 2007139754A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
intensity
chromium
ratio
light receiving
ray
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2006241760A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2007139754A5 (ja
JP4908119B2 (ja
Inventor
Yoshiyuki Kataoka
由行 片岡
Hisamasa Kono
久征 河野
Masaji Kuraoka
正次 倉岡
Takashi Shoji
孝 庄司
Kojiro Yamada
康治郎 山田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rigaku Corp
Original Assignee
Rigaku Industrial Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rigaku Industrial Corp filed Critical Rigaku Industrial Corp
Priority to JP2006241760A priority Critical patent/JP4908119B2/ja
Priority to US11/581,487 priority patent/US7450685B2/en
Priority to CN2006101528157A priority patent/CN1952652B/zh
Publication of JP2007139754A publication Critical patent/JP2007139754A/ja
Publication of JP2007139754A5 publication Critical patent/JP2007139754A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4908119B2 publication Critical patent/JP4908119B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/223Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material by irradiating the sample with X-rays or gamma-rays and by measuring X-ray fluorescence
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/2209Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using wavelength dispersive spectroscopy [WDS]
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/07Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
    • G01N2223/076X-ray fluorescence
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/30Accessories, mechanical or electrical features
    • G01N2223/316Accessories, mechanical or electrical features collimators

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

【課題】簡単な構成で6価クロムを定量分析できる蛍光X線分析装置などを提供する。
【解決手段】X線源4、発散スリット11、分光素子6、受光スリット20、検出器8、分光素子6と受光スリット20および検出器8とを連動させる連動手段10、ならびに、検出器8の測定結果に基づいて定量分析を行う定量分析手段18を備えた走査型蛍光X線分析装置である。定量分析手段18が、Cr −Kα線22において強度が最大となるピーク分光角が6価クロムの含有率対クロム全体の含有率の比に応じて変化することに基づいて、6価クロムの含有率を算出する。発散スリット11、分光素子6、受光スリット20および検出器8の組合せとして分解能が相異なる複数の検出手段23を備え、ピーク分光角の変化を検出する際に、クロム全体の含有率または強度を求める際に選択される検出手段23Aよりも分解能が高い検出手段23Bが選択される。
【選択図】図1

Description

本発明は、6価クロムを定量分析する蛍光X線分析装置およびそれに用いるプログラムに関する。
クロムは、通常、メタルクロム(0価クロム)、3価クロムまたは6価クロムの形で存在するが、このうち6価クロムはきわめて毒性が強いことから、他のクロムと分別して定量することが必要となる。
これに対し、蛍光X線分析では、試料からの蛍光X線を2つの分光素子により連続して分光する(2段階で分光する)蛍光X線分析装置、いわゆる2結晶分光装置を用いて、Cr −Kβ1線を測定し、3価クロムと6価クロムを分別して定量する技術がある(第1の従来技術、非特許文献1参照)。また、2結晶分光装置を用いて、Cr −Kα線を測定し、3価クロムと6価クロムをピークのピークシフトと半値幅で識別し、3価クロムとメタルクロムをピークの半値幅で識別する技術もある(第2の従来技術、「二結晶型高分解能蛍光X線法(HRXRF)による化学状態分析法の判定限界I」2003年5月24日第64回分析化学討論会にて発表)。
Y.Gohshi et al., "Advaces in X-ray analysis" (USA) 1975, vol.18, p.406-414
しかし、いずれの従来技術においても2結晶分光装置、つまり複雑で大型の蛍光X線分析装置が必要になる。また、第1の従来技術では、メタルクロムと6価クロムを分別して定量できるかどうか不明であり、第2の従来技術は、クロムの価数の判定を目的としており、価数により分別して定量することは目的としていないため、6価クロムを他のクロムと分別して定量することはできない。さらに、蛍光X線分析以外の従来の分析技術では、破壊検査であったり、分析手順が複雑であったりする。
本発明は前記従来の問題に鑑みてなされたもので、簡単な構成で6価クロムを定量分析できる蛍光X線分析装置およびそれに用いるプログラムを提供することを目的とする。
前記目的を達成するために、本発明の第1構成の蛍光X線分析装置は、まず、試料に1次X線を照射するX線源と、試料から発生した蛍光X線を通過させる発散スリットと、その発散スリットを通過した蛍光X線を分光する分光素子と、その分光素子で分光された蛍光X線を通過させる受光スリットと、その受光スリットを通過した蛍光X線の強度を測定する検出器と、前記分光素子での分光角を変えて分光される蛍光X線の波長を変えながら、その分光された蛍光X線が前記受光スリットおよび検出器に入射するように、前記分光素子と受光スリットおよび検出器とを連動させる連動手段と、前記検出器の測定結果に基づいて定量分析を行う定量分析手段とを備えている。
そして、前記定量分析手段が、Cr −Kα線において強度が最大となるピーク分光角が6価クロムの含有率または強度対クロム全体の含有率または強度の比に応じて変化することに基づいて、6価クロムの含有率または付着量を算出する。また、前記発散スリット、分光素子および受光スリットのうち少なくともいずれかを択一的に複数備えることにより、前記発散スリット、分光素子、受光スリットおよび検出器の組合せとして分解能が相異なる複数の検出手段を構成し、前記ピーク分光角の変化を検出する際に、クロム全体の含有率または強度を求める際に選択される検出手段よりも分解能が高い検出手段が選択される。
第1構成の蛍光X線分析装置は、試料からの蛍光X線を、1つだけ備える分光素子または選択された1つの分光素子により1回だけ分光する蛍光X線分析装置、いわゆる1結晶分光装置であり、定量分析手段が、Cr −Kα線において強度が最大となるピーク分光角が6価クロムの含有率または強度対クロム全体の含有率または強度の比に応じて変化することに基づいて、6価クロムの含有率または付着量を算出するので、簡単な構成で6価クロムを定量分析できる。このような動作は、ピーク分光角の変化を検出する際に、クロム全体の含有率または強度を求める際に選択される検出手段よりも分解能が高い検出手段が選択されることにより、可能となっている。
第1構成の蛍光X線分析装置においては、前記定量分析手段が、標準試料を用いてあらかじめ求められた、Cr −Kα線におけるピークよりも低角度側の所定分光角での強度対ピークよりも高角度側の所定分光角での強度の比と、6価クロムの含有率対クロム全体の含有率の比との相関を記憶しており、分析対象試料について、前記強度の比を求めて前記相関に適用し、得られた前記含有率の比に求めたクロム全体の含有率を適用して6価クロムの含有率を算出することが好ましい。そして、前記受光スリットを択一的に複数備え、前記強度の比を求める際に、クロム全体の含有率を求める際に選択される受光スリットよりも分解能が高い受光スリットが選択されるようにすることが好ましい。この好ましい構成によれば、従来の走査型の蛍光X線分析装置に基づいて簡単に第1構成の蛍光X線分析装置を実現できる。
また、第1構成の蛍光X線分析装置において、試料がクロメート表面処理膜とその下地の鋼板または亜鉛めっき鋼板からなる場合には、まず、前記定量分析手段が、標準試料を用いてあらかじめ求められた、Cr −Kα線におけるピークよりも低角度側の所定分光角での強度対ピークよりも高角度側の所定分光角での強度の比すなわち第1の強度比と、6価クロムからの強度対クロム全体からの強度の比すなわち第2の強度比との相関を記憶するとともに、標準試料を用いてあらかじめ求められた、クロム全体からの強度とクロメート表面処理膜中のクロムの付着量の検量線を記憶しており、分析対象試料について、前記第1の強度比を求めて前記相関に適用し、得られた前記第2の強度比に求めたクロム全体からの強度を適用して6価クロムからの強度を算出し、その6価クロムからの強度に前記検量線の勾配を乗じてクロメート表面処理膜中の6価クロムの付着量を算出することが好ましい。
そして、前記受光スリットを択一的に複数備え、前記強度の比を求める際に、クロム全体の含有率を求める際に選択される受光スリットよりも分解能が高い受光スリットが選択されるようにすることが好ましい。この好ましい構成によれば、従来の走査型の蛍光X線分析装置に基づいて簡単に第1構成の蛍光X線分析装置を実現できるとともに、下地の鋼板または亜鉛めっき鋼板に含まれるクロムの影響を除外できる。
さらにまた、前記2つの好ましい構成においては、標準試料および分析対象試料における前記各所定分光角での強度に代えて、その強度とモニター試料における同分光角での強度との比を用いることもできる。装置の長時間の使用や装置内の温度変化に起因して所定分光角がずれることがあるが、この構成によれば、所定分光角のずれによる影響を補正できる。
さらにまた、前記2つの好ましい構成においては、あらかじめ、純粋なメタルクロムおよび3価クロムを試料としてCr −Kα線が測定され、面積強度で規格化されたピークプロファイルが求められ、Cr −Kα1線のピーク分光角の前後で両ピークプロファイルの強度が一致する分光角が求められて、その2つの分光角を前記低角度側および高角度側の所定分光角として前記定量分析手段が記憶することが好ましい。メタルクロムと3価クロムのピークプロファイルはわずかに異なるが、このように所定分光角を定めて測定を行うことにより、メタルクロムと3価クロムで低角度側の所定分光角での強度対高角度側の所定分光角での強度の比が全く同一になり、両者のピークプロファイルの差の影響を除外できるので、より正確に6価クロムを定量分析できる。
さらにまた、第1構成の蛍光X線分析装置においては、前記定量分析手段が、クロム全体の含有率または強度を求める際に、前記検出器の測定結果に基づいて定性分析を行い、その定性分析結果に基づいて定量分析を行い、その定量分析結果におけるクロム分析値をクロム全体の含有率または強度とするように、すなわちいわゆる半定量分析を行うようにしてもよい。
本発明の第2構成は、前記第1構成の蛍光X線分析装置が備えるコンピュータを前記定量分析手段として機能させるためのプログラムである。第2構成のプログラムによっても第1構成の蛍光X線分析装置と同様の作用効果が得られる。
以下、本発明の第1実施形態の蛍光X線分析装置について、図にしたがって説明する。図1に示すように、この装置は、波長分散型で走査型の蛍光X線分析装置であって、試料台2に載置された試料1に1次X線3を照射するX線管などのX線源4と、試料1から発生した蛍光X線5を通過させる発散スリット11と、その発散スリット11を通過した蛍光X線13を分光する分光素子6と、その分光素子6で分光された蛍光X線7を通過させる受光スリット20と、その受光スリット20を通過した蛍光X線22の強度を測定する検出器8と、分光素子6での分光角2θを変えて分光される蛍光X線7の波長を変えながら、その分光された蛍光X線7が受光スリット20および検出器8に入射するように、分光素子6と受光スリット20および検出器8とを連動させる連動手段10と、検出器8の測定結果に基づいて定量分析を行う定量分析手段18とを備えている。
さらに、この装置は、発散スリット11、分光素子6、受光スリット20のそれぞれについて択一的に複数備えることにより、発散スリット11、分光素子6、受光スリット20および検出器8の組合せとして分解能(角度分解能)が相異なる複数の検出手段23を構成している。
より具体的には、この装置は、まず、所定の取り出し角で試料1の表面に臨み、試料1から発生した蛍光X線5を通過させる発散スリット11を複数種類備えるとともに、その発散スリット11をプランジャー16などで交換する発散スリット交換器17を備える。複数種類の発散スリット11は、開き角の相異なるソーラスリットであり、ここでは、標準の発散スリット11Aと高分解能の発散スリット11Bのみを図示している。
また、分光素子6を複数種類備えるとともに、発散スリット11を通過した蛍光X線13の光路にいずれか一つの分光素子6を選択的に進出させて入射した蛍光X線13を分光させる分光素子交換器15を備えている。分光素子交換器15は、モータ14の回転軸に多角柱を同軸に取り付けたもので、その多角柱の各側面に種類の相異なる分光素子6が取り付けられている。ここでは、Li F(200)である標準の分光素子6AとLi F(220)である高分解能の分光素子6Bのみを図示している。モータ14の回転により選択された分光素子6は、試料1から発生し、発散スリット11を通過した蛍光X線13を分光する。
同様に、この装置は、受光スリット20についても複数種類備えている。ここでは、開き角の相異なるソーラスリットである標準の受光スリット20Aと高分解能の受光スリット20Bのみを図示している。また、検出器8についても複数種類備えている。ここでは、F−PC(ガスフロー型比例計数管)である検出器8AとSC(シンチレーションカウンター)である検出器8Bのみを図示している。なお、検出器8については角度分解能における優劣はない。ここで、標準の受光スリット20AはF−PCである検出器8Aの前に固定され、高分解能の受光スリット20BはSCである検出器8Bの前に固定されている。そして、この装置は、分光素子6で分光された蛍光X線7の光路にいずれか一つの検出器8を選択的に進出させる検出器交換器19を備えている。受光スリット20と検出器8の組合せは固定されているから、検出器交換器19は、分光素子6で分光された蛍光X線7の光路にいずれか一つの受光スリット20を選択的に進出させることになる。
このように、発散スリット11、分光素子6、受光スリット20のそれぞれについて択一的に複数備えることにより、発散スリット11、分光素子6、受光スリット20および検出器8の組合せとして分解能が相異なる複数の検出手段23、例えば、発散スリット11B、分光素子6B、受光スリット20Aおよび検出器8Aの組合せである標準の検出手段23Aや、発散スリット11B、分光素子6B、受光スリット20Bおよび検出器8Bの組合せである高分解能の検出手段23Bが構成される。
連動手段10は、いわゆるゴニオメータである。蛍光X線13がある入射角θで選択された分光素子6Bへ入射すると、その蛍光X線13の延長線9と分光素子6Bで分光(回折)された蛍光X線7は入射角θの2倍の分光角2θをなすが、連動手段10は、分光角2θを変えて分光される蛍光X線7の波長を変えながら、その分光された蛍光X線7が選択された受光スリット20Bおよび検出器8Bに入射するように、分光素子6Bを、分光素子交換器15を介して、分光素子6Bの表面の中心を通る紙面に垂直な軸Oを中心に回転させ、その回転角の2倍だけ、受光スリット20Bおよび検出器8Bを、軸Oを中心に円12に沿って回転(走査)させる。
定量分析手段18は、Cr −Kα線22において強度が最大となるピーク分光角が6価クロムの含有率または強度対クロム全体の含有率または強度の比に応じて変化することに基づいて、6価クロムの含有率または付着量を算出する。また、ピーク分光角の変化を検出する際に、クロム全体の含有率または強度を求める際に選択される前記標準の検出手段23Aよりも分解能が高い前記高分解能の検出手段23Bが選択される。
より具体的には、定量分析手段18は、コンピューターであり、標準試料1Aを用いてあらかじめ求められた、Cr −Kα線22におけるピークよりも低角度側の所定分光角での強度対ピークよりも高角度側の所定分光角での強度の比と、6価クロムの含有率対クロム全体の含有率の比との相関を記憶しており、分析対象試料1Bについて、前記強度の比を求めて前記相関に適用し、得られた前記含有率の比に求めたクロム全体の含有率を適用して6価クロムの含有率を算出する。そして、定量分析手段18による検出手段23の選択については、前記強度の比を求める際に、クロム全体の含有率を求める際に選択される受光スリット20Aよりも分解能が高い受光スリット20Bが選択されることになる。
次に、この装置の動作について説明する。まず、例えばメタルクロム100%である標準試料1Aと3価クロム(Cr)100%である標準試料1Aについて高分解能の検出手段23Bを用いてCr −Kα線22を測定し、面積強度で規格化したピークプロファイルを求め、Cr −Kα1線のピーク分光角の前後で両ピークプロファイルの強度が一致する分光角を求めて、その2つの分光角を低角度側の所定分光角2θおよび高角度側の所定分光角2θとして定量分析手段18に記憶させておく。
そして、クロムを含んで組成が既知で相異なる複数の標準試料1Aについて、高分解能の検出手段23Bを用いて、低角度側の所定分光角2θでの強度I、高角度側の所定分光角2θでの強度Iを測定し、その強度の比I/Iと、6価クロムの含有率W6+対クロム全体の含有率WTLの比W6+/WTLとの相関を求め、記憶させておく。本願発明者は、例えば図2に実線で示すような直線の相関が得られることを見出している。
なぜ、このような相関が得られるかについては、以下のように説明される。図1において、純粋なメタルクロム、3価クロムおよび6価クロムをそれぞれ試料1とし、高分解能の検出手段23Bを用いて、Cr −Kα線22を測定したピークプロファイルを図4に示す。各ピークプロファイルを面積強度で規格化し、重ねて表示している。これによれば、Cr −Kα1線のピークについて、相対強度約0.8以上で、メタルクロムのピークと3価クロムのピークがほぼ一致して(ほぼ重なって)、6価クロムのピークとは異なっている(重ならない)ことが分かる。そこで、メタルクロムと3価クロムのピークプロファイルについて、Cr −Kα1線のピーク分光角の前後で両ピークプロファイルの強度が一致する(強度差が0になる)分光角を求めて、その2つの分光角を低角度側の所定分光角2θおよび高角度側の所定分光角2θとする。
メタルクロムと3価クロムのピークプロファイルはわずかに異なるが、このように所定分光角2θ,2θを定めてクロムを含む試料1について測定を行えば、メタルクロムと3価クロムの含有率比に無関係に、メタルクロムと3価クロムで低角度側の所定分光角2θでの強度対高角度側の所定分光角2θでの強度の比が全く同一になり、両者のピークプロファイルの差の影響を除外できて、メタルクロムと3価クロムは同一視できるとともに、6価クロムと識別できる。したがって、図2のような相関が得られる。
次に、図1の定量分析手段18により、分析対象試料1Bについて、高分解能の検出手段23Bを用いて、低角度側の所定分光角2θでの強度I、高角度側の所定分光角2θでの強度Iを測定し、その強度の比I/Iを求めて前記相関に適用し、前記含有率の比W6+/WTLを得る。また、分析対象試料1Bについて、標準の検出手段23Aを用いて、ピーク分光角でのクロム全体の強度ITLを測定し、従来の検量線法によりクロム全体の含有率WTLを求める。そして、前記得られた含有率の比W6+/WTLに求めたクロム全体の含有率WTLを適用して6価クロムの含有率W6+を算出する。すなわち、定量分析手段18により、分析対象試料1Bについて6価クロムの含有率W6+が自動的に算出される。
第1実施形態の蛍光X線分析装置は、試料1からの蛍光X線5を選択された1つの分光素子6により1回だけ分光する蛍光X線分析装置、いわゆる1結晶分光装置であり、定量分析手段18が、Cr −Kα線22において強度が最大となるピーク分光角が6価クロムの含有率対クロム全体の含有率の比W6+/WTLに応じて変化することに基づいて、6価クロムの含有率W6+を算出するので、簡単な構成で6価クロムを定量分析できる。特に第1実施形態の蛍光X線分析装置は、従来の走査型の蛍光X線分析装置に基づいて定量分析手段18の動作内容を変更するのみで簡単に構成できる。このような簡単な構成で6価クロムを定量分析できるのは、ピーク分光角の変化を検出する際に、すなわち前記強度の比I/Iを求める際に、クロム全体の含有率WTLを求める際に選択される検出手段23Aよりも分解能が高い検出手段23Bが選択されるからである。
また、この装置の定量分析手段18は、試料1がクロメート表面処理膜(6価クロムと3価クロムを含む)1aとその下地の鋼板または亜鉛めっき鋼板(いずれもメタルクロムを含む)1bからなる場合のために、以下のように動作するようにも構成されている。まず、標準試料1Aを用いてあらかじめ求められた、Cr −Kα線22におけるピークよりも低角度側の所定分光角2θでの強度I対ピークよりも高角度側の所定分光角2θでの強度Iの比すなわち第1の強度比I/Iと、6価クロムからの強度I6+対クロム全体からの強度ITLの比すなわち第2の強度比I6+/ITL(具体的な求め方については後述する)との相関を記憶するとともに、標準試料1Aを用いてあらかじめ求められた、クロム全体からの強度ITLとクロメート表面処理膜中のクロムの付着量CFTL の検量線を記憶している。
そして、分析対象試料1Bについて、前記第1の強度比I/Iを求めて前記相関に適用し、得られた前記第2の強度比I6+/ITLに求めたクロム全体からの強度ITLを適用して6価クロムからの強度I6+を算出し、その6価クロムからの強度I6+に前記検量線の勾配を乗じてクロメート表面処理膜中の6価クロムの付着量C6+を算出する。さらに、前記強度の比I/Iを求める際に、クロム全体からの強度ITLを求める際に選択する検出手段23A(標準の受光スリット20Aを含む)よりも分解能が高い検出手段23B(高分解能の受光スリット20Bを含む)を選択する。
試料1がクロメート表面処理膜1aとその下地の亜鉛めっき鋼板1bからなる場合のこの装置の動作について説明する。まず、前述したのと同様に低角度側の所定分光角2θ、高角度側の所定分光角2θを定量分析手段18に記憶させておく。
そして、クロメート表面処理膜1aにおける価数ごとのクロムの付着量が既知で相異なり亜鉛めっき鋼板1bにおけるメタルクロムの含有量が既知である複数の標準試料1Aについて、高分解能の検出手段23Bを用いて、低角度側の所定分光角2θでの強度I、高角度側の所定分光角2θでの強度Iを測定し、その強度の比すなわち第1の強度比I/Iと、6価クロムからの強度I6+対クロム全体からの強度ITLの比すなわち第2の強度比I6+/ITLとの相関を求め、記憶させておく。第2の強度比I6+/ITLを求めるにあたり、6価クロムの付着量C6+、クロム全体の付着量(亜鉛めっき鋼板1b中のメタルクロムの寄与も含む)CTLを強度I6+,ITLへ変換する必要があるが、従来のファンダメンタルパラメータ法による理論強度計算により可能である。より簡便には、付着量の比C6+/CTLをそのまま第2の強度比I6+/ITLとして用いてもよい。
クロメート表面処理膜とその下地の亜鉛めっき鋼板からなる標準試料を準備することが困難な場合には、代替として、アルミナの粉末、3価クロム(Cr)の粉末試薬、6価クロム(Cr Oなど)の粉末試薬を混合して、組成が既知で相異なる複数の粉末標準試料を作製し、同様に第1の強度比I/Iを得るとともに、第2の強度比として6価クロムとクロム全体の含有率の比を用いて、相関を求めてもよい。例えば図2のような直線の相関が得られる。
また、図1のクロメート表面処理膜1aにおけるクロムの付着量が既知で相異なり亜鉛めっき鋼板1bにおけるメタルクロムの含有量が同じである複数の標準試料1Aについて、標準の検出手段23Aを用いて、ピーク分光角でのクロム全体の強度ITLを測定し、クロム全体からの強度ITLとクロメート表面処理膜中のクロムの付着量CFTL の検量線を作成して、記憶させておく。例えば図3のような直線の検量線が得られる。検量線式は、次式(1)で示される。
FTL =AITL+B
ここで、CFTL =0に対応するITL=b=−B/Aは、亜鉛めっき鋼板1bにおけるメタルクロムからの強度であり、Aは検量線の勾配である。検量線の勾配Aは、クロメート表面処理膜1aにおけるクロムからの強度を付着量に変換する係数となる。
次に、図1の定量分析手段18により、分析対象試料1Bについて、高分解能の検出手段23Bを用いて、低角度側の所定分光角2θでの強度I、高角度側の所定分光角2θでの強度Iを測定し、前記第1の強度比I/Iを求めて前記相関に適用し、前記第2の強度比I6+/ITLを得る。また、分析対象試料1Bについて、標準の検出手段23Aを用いて、ピーク分光角でのクロム全体の強度ITLを測定し、前記第2の強度比I6+/ITLに適用して6価クロムからの強度I6+を算出する。そして、その6価クロムからの強度I6+に前記検量線の勾配Aを乗じて、つまりAI6+ として、クロメート表面処理膜中の6価クロムの付着量C6+を算出する。すなわち、定量分析手段18により、分析対象試料1Bについてクロメート表面処理膜中の6価クロムの付着量C6+が自動的に算出される。
第1実施形態の蛍光X線分析装置は、前述したようにいわゆる1結晶分光装置であり、試料1がクロメート表面処理膜1aとその下地の鋼板または亜鉛めっき鋼板1bからなる場合には、定量分析手段18が、Cr −Kα線22において強度が最大となるピーク分光角が6価クロムの強度対クロム全体の強度の比I6+/ITLに応じて変化することに基づいて、6価クロムの付着量C6+を算出するので、やはり簡単な構成で6価クロムを定量分析でき、従来の走査型の蛍光X線分析装置に基づいて定量分析手段18の動作内容を変更するのみで簡単に構成できる。さらに、下地の鋼板または亜鉛めっき鋼板1bに含まれるメタルクロムの影響を除外できる。このような簡単な構成で6価クロムを定量分析できるのは、ピーク分光角の変化を検出する際に、すなわち前記第1の強度比I/Iを求める際に、クロム全体の強度ITLを求める際に選択される検出手段23Aよりも分解能が高い検出手段23Bが選択されるからである。
なお、第1実施形態の装置において、標準試料1Aおよび分析対象試料1Bにおける前記各所定分光角2θ,2θでの強度I,Iに代えて、その強度I,Iとモニター試料1Cにおける同分光角2θ,2θでの強度ICL,ICHとの比I/ICL,I/ICHを用いることもできる。モニター試料1Cには例えばメタルクロム100%のものを用い、高分解能の検出手段23Bを用いて測定する。装置の長時間の使用や装置内の温度変化に起因して、所定分光角に設定したはずなのに実際にはずれていることがあるが、この構成によれば、所定分光角のずれによる影響を補正できる。
ただし、この補正は、日常的な比較的短期間の補正としては有効であるが、長期間にわたって所定分光角が大きくずれる場合には、不十分である。そこで、例えば、メタルクロム100%のモニター試料1Cを分析して分析誤差が所定の範囲外(例えば±5%以上)のときは、再度標準試料1Aを測定して図2の相関を作成するか、以下の方法で図2の相関を修正する。
まず、前述したように標準試料1Aを用いて低角度側の所定分光角2θ、高角度側の所定分光角2θを求める際に、併せて、例えば、メタルクロム100%であるモニター試料1Cと6価クロム100%であるモニター試料1Cについて、所定分光角2θ,2θおよびずれが想定される範囲での分光角(例えば所定分光角±0.01度)で強度I,Iを測定し、所定分光角のずれと強度比I/Iとの相関を求め、定量分析手段18に記憶させておく。図5および図6のような直線の相関が得られる。
所定分光角のずれによる影響を補正するために図2の相関を修正するときは、メタルクロム100%であるモニター試料1Cについて、図5、6の相関を作成したときと同様に高分解能の検出手段23Bを用いて、所定分光角2θ,2θに設定して(実際にはずれているおそれがある)強度I,Iを測定し、強度比I/Iを求める。この強度比I/Iが例えば1.05であったとすると、図5の相関から、所定分光角のずれが−0.005度であること、つまり実際には2θ−0.005,2θ−0.005の分光角で測定していたことが分かる。また、所定分光角のずれ−0.005度を図6の相関に適用して、6価クロムでの強度比I/Iとして1.20が得られる。
そして、メタルクロムでの強度比1.05と6価クロムでの強度比1.20から、図2に二点鎖線で示すように相関が修正できるので、これを定量分析手段18に記憶させる。図2の相関を修正するたびに6価クロム100%であるモニター試料1Cについても測定する方法もあるが、ここに述べた方法によれば、毒性の強い6価クロムについての測定は、最初に図6の相関を作成するときだけでよい。
また、以上の説明においては、定量分析手段18が測定すべき分光角で連動手段10を停止させる狭義の定量分析を想定したが、クロム全体の含有率WTLまたは強度ITLを求める際には、連動手段10を停止させずに検出器8を連続的に走査させ、その検出器8の測定結果に基づいて定性分析を行い、その定性分析結果に基づいて定量分析を行い、その定量分析結果におけるクロム分析値をクロム全体の含有率WTLまたは強度ITLとするように、すなわちいわゆる半定量分析を行うようにしてもよい。
なお、第1実施形態の装置では、標準の検出手段23Aと高分解能の検出手段23Bにおいて発散スリット11Bおよび分光素子6Bが共通しているので、それぞれの交換が不要となり、再現性の点で有利になる。この場合、発散スリット11、分光素子6としてそれぞれ一つのみを備えて、発散スリット交換器17および分光素子交換器15は備えなくてもよい。これ以外にも、標準の検出手段23A、高分解能の検出手段23Bにおける発散スリット11、分光素子6、受光スリット20および検出器8の組合せは種々考えられ、例えば、標準の検出手段23Aを標準の発散スリット11A、標準の分光素子6A、高分解能の受光スリット20Bおよび検出器8Bの組合せで構成し、高分解能の検出手段23Bを高分解能の発散スリット11B、高分解能の分光素子6B、高分解能の受光スリット20Bおよび検出器8Bの組合せで構成してもよい。
本発明の第2実施形態は、前記第1実施形態の蛍光X線分析装置が備えるコンピュータを前記定量分析手段18として機能させるためのプログラムである。第2実施形態のプログラムによっても第1実施形態の蛍光X線分析装置と同様の作用効果が得られる。
なお、本発明の装置は、ゴニオメータを備えた走査型の蛍光X線分析装置であるが、Cr −Kα線について、高分解能による所定分光角2θ,2θでの測定、標準分解能によるピーク分光角での測定を、分光角ごとに、発散スリット、1つの分光素子、受光スリットおよび検出器を有する固定チャンネルの分光器によって行う、同時分析型の蛍光X線分析装置によっても6価クロムを定量分析できる。
本発明の第1実施形態の蛍光X線分析装置を示す概略図である。 同装置で6価クロムの含有率または付着量を算出する際に用いる相関の一例である。 同装置で用いる検量線の一例である。 同装置で測定したメタルクロム、3価クロムおよび6価クロムにおけるCr −Kα線のピークプロファイルである。 同装置で検量線を修正する際に用いる相関の一例である。 同装置で検量線を修正する際に用いる相関の別の例である。
符号の説明
1 試料
1A 標準試料
1B 分析対象試料
1C モニター試料
1a クロメート表面処理膜
1b 鋼板または亜鉛めっき鋼板
3 1次X線
4 X線源
5 試料から発生した蛍光X線
6A,6B 分光素子
7 分光素子で分光された蛍光X線
8A,8B 検出器
10 連動手段
11A,11B 発散スリット
13 発散スリットを通過した蛍光X線
18 定量分析手段
20A,20B 受光スリット
22 受光スリットを通過した蛍光X線
23A,23B 検出手段
2θ 分光角

Claims (7)

  1. 試料に1次X線を照射するX線源と、
    試料から発生した蛍光X線を通過させる発散スリットと、
    その発散スリットを通過した蛍光X線を分光する分光素子と、
    その分光素子で分光された蛍光X線を通過させる受光スリットと、
    その受光スリットを通過した蛍光X線の強度を測定する検出器と、
    前記分光素子での分光角を変えて分光される蛍光X線の波長を変えながら、その分光された蛍光X線が前記受光スリットおよび検出器に入射するように、前記分光素子と受光スリットおよび検出器とを連動させる連動手段と、
    前記検出器の測定結果に基づいて定量分析を行う定量分析手段とを備えた蛍光X線分析装置であって、
    前記定量分析手段が、Cr −Kα線において強度が最大となるピーク分光角が6価クロムの含有率または強度対クロム全体の含有率または強度の比に応じて変化することに基づいて、6価クロムの含有率または付着量を算出し、
    前記発散スリット、分光素子および受光スリットのうち少なくともいずれかを択一的に複数備えることにより、前記発散スリット、分光素子、受光スリットおよび検出器の組合せとして分解能が相異なる複数の検出手段を構成し、前記ピーク分光角の変化を検出する際に、クロム全体の含有率または強度を求める際に選択される検出手段よりも分解能が高い検出手段が選択される蛍光X線分析装置。
  2. 請求項1において、
    前記定量分析手段が、標準試料を用いてあらかじめ求められた、Cr −Kα線におけるピークよりも低角度側の所定分光角での強度対ピークよりも高角度側の所定分光角での強度の比と、6価クロムの含有率対クロム全体の含有率の比との相関を記憶しており、分析対象試料について、前記強度の比を求めて前記相関に適用し、得られた前記含有率の比に求めたクロム全体の含有率を適用して6価クロムの含有率を算出し、
    前記受光スリットを択一的に複数備え、前記強度の比を求める際に、クロム全体の含有率を求める際に選択される受光スリットよりも分解能が高い受光スリットが選択される蛍光X線分析装置。
  3. 請求項1において、
    試料がクロメート表面処理膜とその下地の鋼板または亜鉛めっき鋼板とからなり、
    前記定量分析手段が、標準試料を用いてあらかじめ求められた、Cr −Kα線におけるピークよりも低角度側の所定分光角での強度対ピークよりも高角度側の所定分光角での強度の比すなわち第1の強度比と、6価クロムからの強度対クロム全体からの強度の比すなわち第2の強度比との相関を記憶するとともに、標準試料を用いてあらかじめ求められた、クロム全体からの強度とクロメート表面処理膜中のクロムの付着量の検量線を記憶しており、分析対象試料について、前記第1の強度比を求めて前記相関に適用し、得られた前記第2の強度比に求めたクロム全体からの強度を適用して6価クロムからの強度を算出し、その6価クロムからの強度に前記検量線の勾配を乗じてクロメート表面処理膜中の6価クロムの付着量を算出し、
    前記受光スリットを択一的に複数備え、前記第1の強度の比を求める際に、クロム全体からの強度を求める際に選択される受光スリットよりも分解能が高い受光スリットが選択される蛍光X線分析装置。
  4. 請求項2または3において、
    標準試料および分析対象試料における前記各所定分光角での強度に代えて、その強度とモニター試料における同分光角での強度との比が用いられる蛍光X線分析装置。
  5. 請求項2から4までのいずれか一項において、
    あらかじめ、純粋なメタルクロムおよび3価クロムを試料としてCr −Kα線が測定され、面積強度で規格化されたピークプロファイルが求められ、Cr −Kα1線のピーク分光角の前後で両ピークプロファイルの強度が一致する分光角が求められて、その2つの分光角を前記低角度側および高角度側の所定分光角として前記定量分析手段が記憶する蛍光X線分析装置。
  6. 請求項1から5までのいずれか一項において、
    前記定量分析手段が、クロム全体の含有率または強度を求める際に、前記検出器の測定結果に基づいて定性分析を行い、その定性分析結果に基づいて定量分析を行い、その定量分析結果におけるクロム分析値をクロム全体の含有率または強度とする蛍光X線分析装置。
  7. 請求項1から6までのいずれか一項に記載の蛍光X線分析装置が備えるコンピュータを前記定量分析手段として機能させるためのプログラム。
JP2006241760A 2005-10-19 2006-09-06 蛍光x線分析装置 Expired - Fee Related JP4908119B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006241760A JP4908119B2 (ja) 2005-10-19 2006-09-06 蛍光x線分析装置
US11/581,487 US7450685B2 (en) 2005-10-19 2006-10-17 X-ray fluorescence spectrometer and program for use therewith
CN2006101528157A CN1952652B (zh) 2005-10-19 2006-10-18 荧光x射线分析装置

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005304664 2005-10-19
JP2005304664 2005-10-19
JP2006241760A JP4908119B2 (ja) 2005-10-19 2006-09-06 蛍光x線分析装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2007139754A true JP2007139754A (ja) 2007-06-07
JP2007139754A5 JP2007139754A5 (ja) 2009-04-23
JP4908119B2 JP4908119B2 (ja) 2012-04-04

Family

ID=37948151

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006241760A Expired - Fee Related JP4908119B2 (ja) 2005-10-19 2006-09-06 蛍光x線分析装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US7450685B2 (ja)
JP (1) JP4908119B2 (ja)
CN (1) CN1952652B (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110389143A (zh) * 2018-04-13 2019-10-29 马尔文帕纳科公司 X射线分析设备
JP7569428B2 (ja) 2019-08-30 2024-10-17 Hoya株式会社 導電膜付基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びに半導体デバイスの製造方法

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060153332A1 (en) * 2003-03-27 2006-07-13 Hisayuki Kohno X-ray fluorescence analyzer
WO2007034570A1 (ja) * 2005-09-22 2007-03-29 Jfe Steel Corporation 亜鉛系めっき鋼板のプレス成形性評価方法
DE102008060070B4 (de) * 2008-12-02 2010-10-14 Bruker Axs Gmbh Röntgenoptisches Element und Diffraktometer mit einer Sollerblende
US7972062B2 (en) * 2009-07-16 2011-07-05 Edax, Inc. Optical positioner design in X-ray analyzer for coaxial micro-viewing and analysis
EP2333529B1 (en) * 2009-09-07 2013-10-16 Rigaku Corporation X-ray fluorescence analyzing method
CN102411011A (zh) * 2010-09-21 2012-04-11 上海宝钢工业检测公司 镀锡板表面铬量的快速测定方法
JP4880077B1 (ja) * 2011-02-16 2012-02-22 株式会社リガク X線検出信号処理装置および方法
JP5971763B2 (ja) * 2013-04-17 2016-08-17 株式会社リガク X線光学部品装置及びx線分析装置
EP3239701B1 (en) * 2014-12-25 2019-05-15 Rigaku Corporation Grazing incidence x-ray fluorescence spectrometer and grazing incidence x-ray fluorescence analyzing method
EP3239702B1 (en) * 2015-08-28 2019-03-27 Rigaku Corporation X-ray fluorescence spectrometer
JP6467600B2 (ja) * 2016-09-30 2019-02-13 株式会社リガク 波長分散型蛍光x線分析装置
JP6574959B2 (ja) * 2016-09-30 2019-09-18 株式会社リガク 波長分散型蛍光x線分析装置およびそれを用いる蛍光x線分析方法
JP6871629B2 (ja) * 2018-06-29 2021-05-12 株式会社リガク X線分析装置及びその光軸調整方法
JP6838754B1 (ja) * 2019-09-26 2021-03-03 株式会社リガク 蛍光x線分析装置
JP7380421B2 (ja) * 2020-05-27 2023-11-15 株式会社島津製作所 X線分析装置およびx線分析方法
JP7325849B2 (ja) * 2021-10-28 2023-08-15 株式会社リガク ピーク同定解析プログラム及び蛍光x線分析装置
CN114185038B (zh) * 2021-11-29 2022-08-12 珠海安自达科技有限公司 一种基于毫米波雷达网实现超高角度分辨力的方法及系统

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6214045A (ja) * 1985-07-11 1987-01-22 Kawasaki Steel Corp クロメ−ト処理液組成の分析方法およびその装置
JPS6287840A (ja) * 1985-10-12 1987-04-22 Kawasaki Steel Corp クロメ−ト処理液組成の分析方法およびその装置
JPS63163154A (ja) * 1986-12-25 1988-07-06 Kawasaki Steel Corp 金属イオン形態の分析法
JPH05164710A (ja) * 1991-12-11 1993-06-29 Sumitomo Metal Ind Ltd 皮膜中の3価クロムと6価クロムとの強度比の測定法
JPH1038823A (ja) * 1996-07-19 1998-02-13 Rigaku Ind Co 蛍光x線分析装置
JP2000137008A (ja) * 1998-08-26 2000-05-16 Nkk Corp 鉄鋼製品および関連する原材料に含まれる元素の化学結合状態分析方法
JP2000193616A (ja) * 1998-12-28 2000-07-14 Rigaku Industrial Co 蛍光x線分析装置
JP2000249667A (ja) * 1998-12-28 2000-09-14 Rigaku Industrial Co 蛍光x線分析装置
JP2000329714A (ja) * 1999-05-24 2000-11-30 Rigaku Industrial Co 蛍光x線分析装置
JP2006313132A (ja) * 2005-05-09 2006-11-16 Fujitsu Ltd 試料分析方法およびx線分析装置
JP2006526789A (ja) * 2003-06-02 2006-11-24 エックス−レイ オプティカル システムズ インコーポレーテッド X線吸収端近傍構造解析を実行するためのxanes解析システム及びその方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5067111A (en) * 1988-10-28 1991-11-19 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor memory device having a majority logic for determining data to be read out
JP3731207B2 (ja) * 2003-09-17 2006-01-05 株式会社リガク X線分析装置

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6214045A (ja) * 1985-07-11 1987-01-22 Kawasaki Steel Corp クロメ−ト処理液組成の分析方法およびその装置
JPS6287840A (ja) * 1985-10-12 1987-04-22 Kawasaki Steel Corp クロメ−ト処理液組成の分析方法およびその装置
JPS63163154A (ja) * 1986-12-25 1988-07-06 Kawasaki Steel Corp 金属イオン形態の分析法
JPH05164710A (ja) * 1991-12-11 1993-06-29 Sumitomo Metal Ind Ltd 皮膜中の3価クロムと6価クロムとの強度比の測定法
JPH1038823A (ja) * 1996-07-19 1998-02-13 Rigaku Ind Co 蛍光x線分析装置
JP2000137008A (ja) * 1998-08-26 2000-05-16 Nkk Corp 鉄鋼製品および関連する原材料に含まれる元素の化学結合状態分析方法
JP2000193616A (ja) * 1998-12-28 2000-07-14 Rigaku Industrial Co 蛍光x線分析装置
JP2000249667A (ja) * 1998-12-28 2000-09-14 Rigaku Industrial Co 蛍光x線分析装置
JP2000329714A (ja) * 1999-05-24 2000-11-30 Rigaku Industrial Co 蛍光x線分析装置
JP2006526789A (ja) * 2003-06-02 2006-11-24 エックス−レイ オプティカル システムズ インコーポレーテッド X線吸収端近傍構造解析を実行するためのxanes解析システム及びその方法
JP2006313132A (ja) * 2005-05-09 2006-11-16 Fujitsu Ltd 試料分析方法およびx線分析装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110389143A (zh) * 2018-04-13 2019-10-29 马尔文帕纳科公司 X射线分析设备
JP7569428B2 (ja) 2019-08-30 2024-10-17 Hoya株式会社 導電膜付基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びに半導体デバイスの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN1952652B (zh) 2011-08-24
JP4908119B2 (ja) 2012-04-04
CN1952652A (zh) 2007-04-25
US20070086567A1 (en) 2007-04-19
US7450685B2 (en) 2008-11-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4908119B2 (ja) 蛍光x線分析装置
CN105937890B (zh) 定量x射线分析-基体厚度校正
EP3521814B1 (en) Wavelength-dispersive x-ray fluorescence spectrometer and x-ray fluorescence analysing method using the same
EP3239702B1 (en) X-ray fluorescence spectrometer
WO2017026200A1 (ja) 蛍光x線分析装置
WO2005005969A1 (ja) エネルギー分散型エックス線回折・分光装置
WO2021059597A1 (ja) 蛍光x線分析装置
JP2001124711A (ja) 蛍光x線分析方法及び試料構造の評価方法
EP3064932B1 (en) Quantitative x-ray analysis
JP2008298679A (ja) 蛍光x線分析装置およびその方法
JP2006313132A (ja) 試料分析方法およびx線分析装置
US11156569B2 (en) X-ray fluorescence spectrometer
JP6709377B2 (ja) 蛍光x線分析装置および蛍光x線分析方法
EP1521947B1 (en) Scatter spectra method for x-ray fluorescent analysis with optical components
JP3312002B2 (ja) 蛍光x線分析装置
WO2024176943A1 (ja) 蛍光x線分析装置
JP4253805B2 (ja) 蛍光x線分析装置および方法
JP2002365245A (ja) 波長分散型蛍光x線分析装置
JP2007155651A (ja) 多元素同時型蛍光x線分析装置
JP2002181740A (ja) 半定量分析方法および装置
JPS62261944A (ja) 螢光x線分析装置

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20090113

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090311

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090311

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110401

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110517

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110627

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120110

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120112

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150120

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees