JP6346036B2 - 蛍光x線分析装置及びその測定位置調整方法 - Google Patents
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Description
すなわち、上記従来の蛍光X線分析装置のように、試料の設置位置にレーザ光やスポットライトを照射し、これを粗位置決めの目印とする方法では、設置位置を拡大表示している撮像装置の画像には、レーザ光やスポットライトの光が映り込み、試料表面が観察し辛くなり、詳細な位置決め作業が煩雑になってしまうという不都合があった。
すなわち、この蛍光X線分析装置では、ポインタ照射部が、可視光としてレーザ光を照射するので、視認性が高く、粗位置決めがより容易となる。
すなわち、この蛍光X線分析装置では、ポインタ照射部が、視野領域の両側にそれぞれ可視光を照射するので、試料台に照射された2つの可視光の間に位置を合わせることで、より容易に粗位置決めすることが可能になる。
すなわち、この蛍光X線分析装置では、ポインタ照射部が、視野領域の大きさに合わせて可視光の照射位置を変更可能であるので、視野領域がデジタルズーム等で拡大又は縮小されても、これに対応した照射位置に変更される可視光を目印にすることで、粗位置決めが容易になる。
すなわち、この蛍光X線分析装置では、可視光が、視野領域の外周の少なくとも一部に沿った略線状とされているので、試料台に照射された略線状の可視光を目安にして視野領域の外周を把握し易くなる。
すなわち、この蛍光X線分析装置では、ポインタ照射部が、略矩形状の視野領域の四隅又は四辺の近傍にそれぞれ可視光を照射するので、略矩形状の視野領域が4つの可視光で囲まれることになり、視野領域の位置及び大きさを容易に把握することができる。
すなわち、本発明に係る蛍光X線分析装置及びその測定位置調整方法によれば、ポインタ照射部で、ディスプレイ部において表示する前記視認領域に映り込まない範囲であって試料台の視野領域の近傍に可視光を照射するので、試料台に照射された可視光を目印に粗位置決めを行うことができると共に、その後に詳細な位置決めを行う際には、ディスプレイ部の画面に表示される視野領域には可視光が映り込まないため、画質の劣化や可視光による妨害のない試料表面の画像が表示される。したがって、撮像部による画像をディスプレイ部で見ながら詳細な位置決めをストレスなく行うことが可能になる。
上記撮像部6は、CCD等を搭載した観察用カメラであり、試料台2の上方に設置されており、試料台2上の試料Sを撮像可能である。
上記ポインタ照射部8は、視野領域Aの両側にそれぞれ可視光Lを照射するように設定されている。すなわち、一対のレーザ光照射機構8aが、撮像部6の両側に設置されており、下方の試料台2上に一対の可視光Lを平行光として照射するように配されている。
上記制御部9は、CPU等で構成されたコンピュータであり、ディスプレイ部7等にも接続され、分析結果をディスプレイ部7に表示する機能を有している。
本実施形態の測定位置調整方法は、まず試料台2を動かして視野領域A内に試料Sを移動させる粗位置決めを行う。この際、図3に示すように、ポインタ照射部8の一対のレーザ光照射機構8aから一対の可視光L(レーザ光)を試料台2上に照射する。一対の可視光Lは、視野領域Aの近傍であって視野領域Aの両側に照射される。
目視で一対の可視光Lを確認しながら、一対の可視光Lを目安にしてその間に試料Sが位置するように試料移動機構3により試料台2を動かして粗位置決めを行う。次に、撮像部6によりディスプレイ部7に映し出された視野領域Aを見ながら詳細な位置決めを行い、その後、X線源4からX線照射を行って分析又は測定を行う。
また、ポインタ照射部8が、視野領域Aの両側にそれぞれ可視光Lを照射するので、試料台2上に照射された2つの可視光Lの間に位置を合わせることで、より容易に粗位置決めすることが可能になる。
さらに、ポインタ照射部8が、視野領域Aの大きさに合わせて可視光Lの照射位置を変更可能であるので、視野領域Aがデジタルズーム等で拡大又は縮小されても、これに対応した照射位置に変更される可視光Lを目印にすることで、粗位置決めが容易になる。
このように第2実施形態の蛍光X線分析装置では、ポインタ照射部8が、略矩形状の視野領域Aの四隅又は四辺の近傍にそれぞれ可視光Lを照射するので、略矩形状の視野領域Aが4つの可視光Lで囲まれることになり、視野領域Aの位置及び大きさを容易に把握することができる。
このように第3実施形態の蛍光X線分析装置では、可視光Lが、視野領域Aの外周の少なくとも一部に沿った略線状とされているので、試料台2上に照射された略線状の可視光Lを目安にして視野領域Aの外周を把握し易くなる。
また、上記各実施形態では、可視光としてレーザ光を採用したが、スポットライトを採用しても構わない。
また、図1ではX線源,検出器及び撮像部など主要な構成要素を試料台の上方に配置しているが、試料台の下方に配置し、試料の下側を分析または測定しても構わない。また、検出器については、真空管タイプのものなどでも構わない。更に、試料台は平面方向に進退可能としたが、平面方向への進退不可な固定型であってもよい。
Claims (6)
- 試料を設置可能な試料台と、
前記試料に対して一次X線を照射するX線源と、
前記一次X線を照射された前記試料から発生する蛍光X線を検出する検出器と、
前記試料台の一定の視野領域を撮像する撮像部と、
前記撮像部で撮像した前記視野領域を表示するディスプレイ部と、
前記ディスプレイ部において表示する前記視野領域に映り込まない範囲であって前記試料台の前記視野領域の近傍に可視光を照射するポインタ照射部とを備え、
前記撮像部が、前記視野領域の大きさを変更可能であり、
前記ポインタ照射部が、前記視野領域の大きさに合わせて前記可視光の照射位置を変更可能であり、
前記試料に対するX線照射の位置決めを行う際に、前記視野領域に前記可視光が映り込まないことを特徴とする蛍光X線分析装置。 - 請求項1に記載の蛍光X線分析装置において、
前記ポインタ照射部が、前記可視光としてレーザ光を照射することを特徴とする蛍光X線分析装置。 - 請求項1又は2に記載の蛍光X線分析装置において、
前記ポインタ照射部が、前記視野領域の両側にそれぞれ前記可視光を照射することを特徴とする蛍光X線分析装置。 - 請求項1から3のいずれか一項に記載の蛍光X線分析装置において、
前記可視光が、前記視野領域の外周の少なくとも一部に沿った略線状とされていることを特徴とする蛍光X線分析装置。 - 請求項1から4のいずれか一項に記載の蛍光X線分析装置において、
前記視野領域が、略矩形状とされ、
前記ポインタ照射部が、前記視野領域の四隅又は四辺の近傍にそれぞれ前記可視光を照射することを特徴とする蛍光X線分析装置。 - 試料台に設置された試料を視野領域の大きさが変更可能な撮像部で撮像し、該撮像した画像をディスプレイ部に表示させ、前記試料に対するX線照射の位置合わせを行った後、測定または分析を行う蛍光X線分析装置の測定位置調整方法であって、
前記ディスプレイ部において表示する前記視野領域に映り込まない範囲であって、前記視野領域の大きさに合わせて可視光の照射位置を変更して前記試料台の前記視野領域の近傍に前記可視光を照射し粗位置決めを行う粗調整工程と、
前記撮像部で撮像した画像を前記ディスプレイ部に表示する表示工程と、
前記表示工程で表示された前記画像に基づいて前記粗位置決めよりも詳細な位置決めを行う微調整工程とを有し、
前記微調整工程で、前記視野領域に前記可視光が映り込まないことを特徴とする蛍光X線分析装置の測定位置調整方法。
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