JP7190751B2 - 蛍光x線分析装置 - Google Patents
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Description
3 試料
4 2次X線(測定線)
21 除外手段
Claims (1)
- 各成分の付着量または含有率が既知である単層または複層の下地層と、その下地層の上に形成されて各成分の付着量および厚さが分析対象である単層の薄膜とを有する試料に1次X線を照射し、発生する2次X線の測定強度に基づいてファンダメンタルパラメーター法により前記薄膜における各成分の付着量および厚さの定量値を求める蛍光X線分析装置であって、
ファンダメンタルパラメーター法による定量計算の前処理として、強度を測定すべき2次X線である測定線に対応する成分のうち、定量不可能な成分を分析対象から除外する除外手段を備え、
前記除外手段が、
前記下地層に測定元素が含まれない成分について、対応する測定線ごとに、当該成分が単独で前記薄膜を構成しているとの仮定で付着量を計算して、最大の付着量を当該成分の付着量の初期値とし、
前記下地層に測定元素が含まれる成分について、対応する測定線ごとに、前記下地層に測定元素が含まれない各成分の付着量の初期値に基づいて付着量を計算して、すべての対応する測定線について計算結果がエラーになる場合には、当該成分を定量不可能な成分として分析対象から除外し、それ以外の場合には、最大の付着量を当該成分の付着量の初期値とする、蛍光X線分析装置。
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