JP2019090652A - 分析装置 - Google Patents

Abstract

【課題】ユーザーが分析の精度を正確に把握することができる分析装置を提供する。【解決手段】分析装置１００は、分析装置本体１０と、分析装置本体１０で試料Ｓを測定して得られた測定値に基づく定量値、および定量値の誤差を算出する演算部４２と、分析装置本体１０に由来する装置由来のばらつきの情報を記憶する記憶部３４と、を含み、演算部４２は、測定値のばらつきを算出する処理と、測定値のばらつき、および装置由来のばらつきに基づいて、定量値の誤差を算出する処理と、を行う。【選択図】図１

Description

本発明は、分析装置に関する。

蛍光Ｘ線分析装置は、試料にＸ線発生器からの一次Ｘ線を照射し、発生した二次Ｘ線（蛍光Ｘ線）を検出器で検出して、定性分析および定量分析等を行う装置である（例えば特許文献１参照）。

図４は、蛍光Ｘ線分析装置で得られたＸ線スペクトルの一例を示す図である。図４では、横軸はＸ線のエネルギーであり、縦軸はＸ線強度（ｃｐｓ、（Count Per Second））である。

蛍光Ｘ線分析装置において、定量値の誤差は、一般的に、Ｘ線強度の標準偏差から求める。蛍光Ｘ線分析装置において、Ｘ線強度の標準偏差は、ポアソン分布に従い、Ｘ線強度の平方根がＸ線強度の標準偏差となる。具体的には、Ｘ線強度の標準偏差σ（ｃｐｓ）は、単位時間（１秒）に観測されるＸ線強度をＩ（ｃｐｓ）、測定時間をｔとした場合に、次式で表される。

特開２０１３−５３８７２号公報

ここで、蛍光Ｘ線分析装置において、測定時間を長くすると、当然ながらＸ線の計数量、すなわちＸ線強度が増える。そのため、上記の計算方法では、測定時間が長くなるほど、計算上の標準偏差は小さくなる。

しかしながら、測定時間を長くして計算上の標準偏差を小さくしても、実際には分析装置自身が持つ不安定性により、定量値の誤差は一定以上に小さくなることはない。

したがって、上記の計算方法を用いた場合、ユーザーは高精度に分析したつもりになるが、実際にはそれほどの精度がでていない場合があり、誤った判断をしてしまうことになるおそれがある。

本発明は、以上のような問題点に鑑みてなされたものであり、本発明のいくつかの態様に係る目的の１つは、定量値の誤差を実際に即した値に近づけることができる分析装置を提供することにある。

本発明に係る分析装置は、
分析装置本体と、
前記分析装置本体で試料を測定して得られた測定値に基づく定量値、および定量値の誤差を算出する演算部と、
前記分析装置本体に由来する装置由来のばらつきの情報を記憶する記憶部と、
を含み、
前記演算部は、
前記測定値のばらつきを算出する処理と、
前記測定値のばらつき、および前記装置由来のばらつきに基づいて、前記定量値の誤差を算出する処理と、
を行う。

このような分析装置では、演算部が測定値のばらつきおよび装置由来のばらつきに基づいて定量値の誤差を算出する処理を行うため、装置由来のばらつきを考慮した定量値の誤差が求められる。したがって、このような分析装置では、例えば、定量値の誤差を測定値のばらつきのみで算出した場合と比べて、定量値の誤差を実際に即した値に近づけることができる。

第１実施形態に係る分析装置の構成を示す図。 第１実施形態に係る分析装置の処理部の処理の一例を示すフローチャート。 第２実施形態に係る分析装置の構成を示す図。 蛍光Ｘ線分析装置で得られたＸ線スペクトルの一例を示す図。

以下、本発明の好適な実施形態について図面を用いて詳細に説明する。なお、以下に説明する実施形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではない。また、以下で説明される構成の全てが本発明の必須構成要件であるとは限らない。

１． 第１実施形態
１．１． 分析装置
まず、第１実施形態に係る分析装置について図面を参照しながら説明する。図１は、第１実施形態に係る分析装置１００の構成を示す図である。

分析装置１００は、蛍光Ｘ線分析法による分析を行う装置である。すなわち、分析装置１００は、蛍光Ｘ線分析装置である。蛍光Ｘ線分析法とは、試料にＸ線を照射し、Ｘ線の照射により試料から発生する蛍光Ｘ線を測定することで、試料の定性分析あるいは定量分析を行う手法である。

分析装置１００は、図１に示すように、分析装置本体１０と、操作部３０と、表示部３２と、記憶部３４と、処理部４０と、を含む。

分析装置本体１０は、Ｘ線発生器２と、フィルター３と、一次Ｘ線コリメーター４と、試料支持板５と、二次Ｘ線コリメーター６と、検出器７と、を含んで構成されている。

Ｘ線発生器２は、Ｘ線を発生させる。Ｘ線発生器２は、管球と高圧電源とを含んで構成されている。試料Ｓおよび測定対象元素に応じて、管電圧および管電流の条件が設定される。

フィルター３は、Ｘ線発生器２で発生し、試料Ｓに照射されるＸ線を通す。フィルター３を通してＸ線を試料Ｓに照射することで、フィルター３にＸ線発生器２からの連続Ｘ線や特性Ｘ線の一部を吸収させることができ、それらの成分を除去することができる。これ
により、例えば、Ｐ／Ｂ比（peak-to-background ratio）を向上できる。分析装置１００は、複数のフィルター３を備えており、複数のフィルター３は互いに低減できるエネルギー帯域が異なっている。測定対象元素に応じて複数のフィルター３から測定に用いられるフィルター３が選択される。

一次Ｘ線コリメーター４は、試料Ｓに照射されるＸ線の照射領域を制限する。一次Ｘ線コリメーター４によって、照射領域の大きさを選択することができる。

試料支持板５は、試料Ｓを支持している。試料支持板５には、開口が形成されており、当該開口を介して、一次Ｘ線が試料Ｓに照射される。

二次Ｘ線コリメーター６は、試料Ｓから発生した蛍光Ｘ線の取得領域を制限する。二次Ｘ線コリメーター６を用いることで、目的の蛍光Ｘ線を効率よく検出することができる。

検出器７は、試料Ｓで発生した蛍光Ｘ線を検出する。検出器７は、例えば、半導体検出器である。

分析装置本体１０では、蛍光Ｘ線分析法を用いた測定が行われる。具体的には、Ｘ線発生器２から発生した一次Ｘ線は、フィルター３および一次Ｘ線コリメーター４を通過し分析対象である試料Ｓに照射される。一次Ｘ線の照射に応じて試料Ｓで二次的に励起された蛍光Ｘ線（二次Ｘ線）は、二次Ｘ線コリメーター６を通過して検出器７で検出される。検出器７の出力（検出信号）は、信号処理回路（図示せず）でデジタル化され、処理部４０に取り込まれＸ線スペクトルが生成される。

操作部３０は、ユーザーによる操作に応じた操作信号を取得し、処理部４０に送る処理を行う。操作部３０は、例えば、ボタン、キー、タッチパネル型ディスプレイ、マイクなどである。また、操作部３０は、装置由来のばらつきの情報の入力を受け付ける入力部として機能する。

表示部３２は、処理部４０によって生成された画像を表示するものである。表示部３２は、ＬＣＤ（Liquid Crystal Display）、有機ＥＬ（Electroluminescence）ディスプレイ、などのディスプレイにより実現できる。

記憶部３４は、処理部４０が各種の計算処理や制御処理を行うためのプログラムやデータ等を記憶している。また、記憶部３４は、処理部４０の作業領域として用いられ、処理部４０が各種プログラムに従って実行した算出結果等を一時的に記憶するためにも使用される。記憶部３４は、ＲＡＭ（Random Access Memory）や、ＲＯＭ（Read Only Memory）、ハードディスクなどにより実現できる。

記憶部３４には、分析装置本体１０に由来する装置由来のばらつきの情報が記憶されている。装置由来のばらつきの情報は、Ｘ線発生器２に由来するばらつき（標準偏差）の情報と、一次Ｘ線コリメーター４に由来するばらつき（標準偏差）の情報と、フィルター３に由来するばらつき（標準偏差）の情報と、を含む。

Ｘ線発生器２に由来するばらつきは、例えば、管球の安定性を標準偏差（％）として表したものである。一次Ｘ線コリメーター４に由来するばらつきは、例えば、一次Ｘ線コリメーター４の再現性を標準偏差（％）として表したものである。フィルター３に由来するばらつきは、例えば、フィルター３の再現性を標準偏差（％）として表したものである。

装置由来のばらつきの情報は、ユーザーからの装置由来のばらつきの情報の入力を操作
部３０が受け付けて、処理部４０が当該情報を記憶部３４に記憶させる処理を行うことで、記憶部３４に記憶される。

処理部４０は、記憶部３４に記憶されているプログラムに従って、各種の制御処理や計算処理を行う。処理部４０の機能は、各種プロセッサ（ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）等）でプログラムを実行することにより実現することができる。処理部４０は、演算部４２と、表示制御部４４と、を含む。

演算部４２は、分析装置本体１０で試料Ｓを測定して得られた測定値に基づく定量値、および定量値の誤差を算出する。演算部４２は、分析装置本体１０で測定された測定値のばらつきを算出する処理と、測定値のばらつきおよび装置由来のばらつきに基づいて、定量値の誤差を算出する処理と、定量値を算出する処理と、を行う。

測定値のばらつきは、分析装置本体１０での測定結果からＸ線スペクトルを得て、元素ごと（スペクトルのピークごと）に標準偏差を算出することで取得することができる。具体的には、測定値のばらつき、すなわち、測定値の標準偏差σ_Ｍ（ｃｐｓ、（Count Per Second））は、単位時間（１秒）に観測されるＸ線強度をＩ（ｃｐｓ）とし、測定時間をｔとした場合に、次式で算出できる。

装置由来のばらつきの情報は、上述したように、記憶部３４に記憶されている。演算部４２は、記憶部３４から装置由来のばらつきの情報を読み出して、装置由来のばらつきの情報を取得する。

演算部４２は、上記式（１）を用いて算出された測定値のばらつき（標準偏差）および記憶部３４から読み出した装置由来のばらつきに基づいて、定量値の誤差を算出する。

具体的には、まず、測定値のばらつき（標準偏差）の単位を「ｃｐｓ」から「％」に変換する。例えば、次式を用いて、測定値のばらつき（標準偏差）の単位を「ｃｐｓ」から「％」に変換する。

標準偏差（％）＝標準偏差（ｃｐｓ）／Ｉ …（２）

次に、測定値の標準偏差σ_Ｍに、装置由来のばらつきを含めることで定量値の誤差を算出する。具体的には、管球の安定性（標準偏差）をａ％とし、一次Ｘ線コリメーター４の再現性（標準偏差）をｂ％とし、フィルター３の再現性（標準偏差）をｃ％とした場合、定量値の誤差σ_Ｑは、次式で算出できる（誤差の伝播）。

上記式で算出された定量値の誤差σ_Ｑは、単位が「％」であるため、「ｃｐｓ」単位に変換する。「％」から「ｃｐｓ」への変換は、例えば、次式を用いて行われる。

標準偏差（ｃｐｓ）＝標準偏差（％）×Ｉ …（４）

次に、演算部４２は、Ｘ線スペクトルから各元素の定量値の計算を行う。演算部４２は、算出された各元素の定量値を、各元素の定量値の誤差σ_Ｑとともに記憶部３４に記憶する処理を行う。

表示制御部４４は、記憶部３４から各元素の定量値と各元素の定量値の誤差σ_Ｑを読み出して、表示部３２に表示させる制御を行う。これにより、表示部３２に各元素の定量値と各元素の定量値の誤差とが表示される。

なお、上記では、装置由来のばらつきとして、管球の安定性、一次Ｘ線コリメーター４の再現性、およびフィルター３の再現性を挙げたが、装置由来のばらつきとして、分析装置本体１０を構成するその他の部材に由来するばらつきを含めてもよい。また、装置由来のばらつきとして、管球の安定性、一次Ｘ線コリメーター４の再現性、およびフィルター３の再現性のうちの１つを用いてもよい。

１．２． 動作
次に、分析装置１００の動作について説明する。ここでは、演算部４２の処理、および表示制御部４４の処理について説明する。

図２は、分析装置１００の処理部４０の処理の一例を示すフローチャートである。なお、記憶部３４には、あらかじめ、装置由来のばらつきの情報が記憶されている。

演算部４２は、分析装置本体１０で試料Ｓを測定して得られた測定値からＸ線スペクトルを取得する（Ｓ１００）。演算部４２は、検出器７の出力を受け付けてＸ線スペクトルを生成し、Ｘ線スペクトルを取得する。

次に、演算部４２は、Ｘ線スペクトルから測定値の標準偏差を算出する（Ｓ１０２）。具体的には、演算部４２は、Ｘ線スペクトルから、上記（１）式を用いて、元素ごと（スペクトルのピークごと）に標準偏差を算出する。

次に、演算部４２は、上記（２）式を用いて、各元素の測定値の標準偏差の単位を「ｃｐｓ」から「％」に変換する（Ｓ１０４）。

次に、演算部４２は、上記（３）式を用いて、各元素の測定値の標準偏差に、装置由来のばらつき、すなわち、管球の安定性（標準偏差）、一次Ｘ線コリメーター４の再現性（標準偏差）、フィルター３の再現性（標準偏差）を含めて定量値の誤差を算出する（Ｓ１０６）。

次に、演算部４２は、上記（４）式を用いて、各元素の定量値の誤差の単位を「％」から「ｃｐｓ」に変換する（Ｓ１０８）。

次に、演算部４２は、Ｘ線スペクトルから各元素の定量値を計算する（Ｓ１１０）。

次に、演算部４２は、算出された各元素の定量値を、各元素の定量値の誤差とともに記憶部３４に記憶する処理を行う（Ｓ１１２）。

次に、表示制御部４４が、記憶部３４から、各元素の定量値および各元素の定量値の誤差を読み出して、表示部３２に表示させる制御を行う（Ｓ１１４）。そして、処理部４０は処理を終了する。

１．３． 特徴
分析装置１００は、例えば、以下の特徴を有する。

分析装置１００は、分析装置本体１０と、分析装置本体１０で試料Ｓを測定して得られた測定値に基づく定量値および定量値の誤差を算出する演算部４２と、分析装置本体１０に由来する装置由来のばらつきの情報を記憶する記憶部３４と、を含み、演算部４２は、測定値のばらつきを算出する処理と、測定値のばらつきおよび装置由来のばらつきに基づいて、定量値の誤差を算出する処理と、を行う。そのため、分析装置１００では、装置由来のばらつきを考慮した定量値の誤差が求められる。したがって、分析装置１００では、例えば、定量値の誤差を測定値のばらつきのみで算出した場合と比べて、定量値の誤差を実際に即した値に近づけることができる。これにより、ユーザーが分析の精度を正確に把握することができる。

例えば、定量値の誤差を測定値の標準偏差（式（１）参照）のみで求めた場合、測定時間が長くなるほど、計算上の標準偏差は小さくなるため、より高精度の分析を行うために、ユーザーは長時間の分析を行うこととなる。しかしながら、測定時間を長くして計算上の標準偏差を小さくしても、実際には分析装置自身が持つ不安定性等により、定量値の誤差は、一定以上に小さくなることはない。

これに対して、分析装置１００では、定量値の誤差として、測定値の標準偏差に加えて、装置由来のばらつきが含まれているため、長時間の測定を行っても、装置由来のばらつき分の標準偏差は小さくならない。したがって、分析装置１００では、ユーザーが分析の精度を正確に把握することができ、過剰な長時間の測定を行うことを防ぐことができる。

分析装置１００は、装置由来のばらつきの情報の入力を受け付ける入力部としての操作部３０を含む。そのため、分析装置１００では、装置由来のばらつきの情報を入力することができ、装置由来のばらつきを考慮した定量値の誤差を算出できる。

分析装置１００では、分析装置本体１０は蛍光Ｘ線分析法を用いた測定を行う装置であり、演算部４２は、単位時間に観測されるＸ線強度をＩとし、測定時間をｔとした場合に、測定値のばらつきを、上記式（１）を用いて算出する。そのため、分析装置１００では、測定値のばらつきを求めることができる。

分析装置１００では、分析装置本体１０は、試料Ｓに照射されるＸ線を発生させるＸ線発生器２を含み、装置由来のばらつきは、Ｘ線発生器２に由来するばらつきを含む。したがって、分析装置１００では、Ｘ線発生器２に由来するばらつき、すなわち、Ｘ線発生器２の管球の安定性を考慮した定量値の誤差が求められるため、定量値の誤差を実際に即した値に近づけることができる。

分析装置１００では、分析装置本体１０は、試料Ｓに照射されるＸ線の照射領域を制限する一次Ｘ線コリメーター４を含み、装置由来のばらつきは、一次Ｘ線コリメーター４に由来するばらつきを含む。したがって、分析装置１００では、一次Ｘ線コリメーター４に由来するばらつき、すなわち、一次Ｘ線コリメーター４の再現性を考慮した定量値の誤差が求められるため、定量値の誤差を実際に即した値に近づけることができる。

分析装置１００では、分析装置本体１０は、試料Ｓに照射されるＸ線を通すフィルター３を含み、装置由来のばらつきは、フィルター３に由来するばらつき、すなわち、フィルター３の再現性を考慮した定量値の誤差が求められるため、定量値の誤差を実際に即した値に近づけることができる。

分析装置１００は、表示部３２と、演算部４２で算出された定量値の誤差の情報を表示部３２に表示する制御を行う表示制御部４４と、を含む。そのため、分析装置１００では、ユーザーが分析の精度を正確に把握することができる。

２． 第２実施形態
２．１． 分析装置
次に、第２実施形態に係る分析装置について、図面を参照しながら説明する。図３は、第２実施形態に係る分析装置２００の構成を示す図である。以下、第２実施形態に係る分析装置２００において、第１実施形態に係る分析装置１００の構成部材と同様の機能を有する部材については同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。

上述した分析装置１００では、ユーザーが操作部３０を介して装置由来のばらつきの情報を入力することで、記憶部３４に装置由来のばらつきの情報が記憶された。

これに対して、分析装置２００では、図３に示すように、処理部４０は、分析装置本体１０を制御する制御部４６を含み、制御部４６が装置由来のばらつきの情報を取得する測定が行われるように分析装置本体１０を制御する。すなわち、分析装置２００では、制御部４６が自動で測定を行うことによって装置由来のばらつきの情報を取得することにより、記憶部３４に装置由来のばらつきの情報が記憶される。

分析装置２００では、以下のようにして、装置由来のばらつきの情報を取得する。

Ｘ線発生器２の管球の安定性（標準偏差）の情報は、例えば、フィルター３および一次Ｘ線コリメーター４の条件を固定した状態で、分析装置本体１０で任意の測定を繰り返し行い（例えば１０回程度繰り返し行い）、この繰り返し測定の測定結果から標準偏差を求めることで得られる。

一次Ｘ線コリメーター４の再現性（標準偏差）の情報は、例えば、まず、フィルター３の条件を固定した状態で、一次Ｘ線コリメーター４を動作させて分析装置本体１０で任意の測定を繰り返し行い、この繰り返し測定の測定結果から標準偏差を求める。ここで、このようにして得られた一次Ｘ線コリメーター４の再現性を表す標準偏差には、管球の安定性（標準偏差）が含まれる。そのため、繰り返し測定の測定結果から得られた標準偏差をσ_Ａとし、管球の安定性を表す標準偏差をσ_１０とした場合、一次Ｘ線コリメーター４の再現性を表す標準偏差σ_４は、次式で求めることができる。

フィルター３の再現性（標準偏差）の情報は、例えば、まず、一次Ｘ線コリメーター４の条件を固定した状態で、フィルター３を動作させて分析装置本体１０で任意の測定を繰り返し行い、この繰り返し測定の測定結果から標準偏差を求める。ここで、このようにして得られたフィルター３の再現性を表す標準偏差には、管球の安定性（標準偏差）が含まれる。そのため、繰り返し測定の測定結果から得られた標準偏差をσ_Ｂとし、管球の安定性を表す標準偏差をσ_１０とした場合、フィルター３の再現性を表す標準偏差σ_３は、次式で求めることができる。

２．２． 動作
次に、分析装置２００の動作について説明する。分析装置２００の動作は、制御部４６が装置由来のばらつきの情報を取得する測定が行われるように分析装置本体１０を制御することで、あらかじめ装置由来のばらつきの情報が記憶部３４に記憶されている点を除いて、上述した分析装置１００の動作と同じであり、その説明を省略する。

なお、分析装置２００は、制御部４６があらかじめ指定された日時に装置由来のばらつきの情報を取得する測定を行うように構成されていてもよい。例えば、制御部４６は、１ヶ月に一度（または１年に一度）、当該測定を行って、記憶部３４に記憶されている装置由来のばらつきの情報を更新してもよい。また、例えば、装置のメンテナンス時に、制御部４６が装置由来のばらつきの情報を取得する測定を行うように構成されていてもよい。

２．３． 特徴
分析装置２００では、制御部４６は、装置由来のばらつきの情報を取得する測定が行われるように分析装置本体１０を制御する。そのため、分析装置２００では、ユーザーが装置由来のばらつきの情報を入力しなくても、自動で装置由来のばらつきの情報が記憶部３４に記憶される。

なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。

例えば、上述した実施形態では、測定値のばらつきを標準偏差で表した場合について説明したが、測定値のばらつきを表す指標は標準偏差に限定されず、標準偏差以外の指標を用いてばらつきを表してもよい。このことは、装置由来のばらつきについても同様である。

また、例えば、上述した実施形態では、一次Ｘ線コリメーター４で試料Ｓに照射されるＸ線の照射領域を制限する場合について説明したが、一次Ｘ線コリメーター４にかえてキャピラリーによってＸ線の照射領域を制限してもよい。

また、例えば、上述した実施形態では、フィルター３にＸ線発生器２からの連続Ｘ線成分や、特性Ｘ線の一部を吸収させることによって、これらの成分を除去していたが、フィルター３のかわりにＸ線発生器２からの一次Ｘ線により発生した蛍光Ｘ線を試料Ｓに照射するための金属である二次ターゲットを用いてこれらの成分を除去してもよい。また、フィルター３のかわりにＸ線発生器２からの一次Ｘ線を分光し、単一のエネルギー成分のＸ線を試料Ｓに照射するための分光素子を用いてもよい。

また、例えば、上述した実施形態では、分析装置が蛍光Ｘ線分析装置である場合について説明したが、本発明に係る分析装置は、蛍光Ｘ線分析装置に限定されず、定量分析が可能なその他の分析装置にも適用可能である。このような分析装置としては、電子プローブマイクロアナライザーや、質量分析装置、エネルギー分散型Ｘ線検出装置が搭載された電子顕微鏡などが挙げられる。

なお、上述した実施形態及び変形例は一例であって、これらに限定されるわけではない。例えば各実施形態及び各変形例は、適宜組み合わせることが可能である。

本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成（例えば、機能、方法および結果が同一の構成、あるいは目的及び効果が同一の構成）を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、
実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。

２…Ｘ線発生器、３…フィルター、４…一次Ｘ線コリメーター、５…試料支持板、６…二次Ｘ線コリメーター、７…検出器、１０…分析装置本体、３０…操作部、３２…表示部、３４…記憶部、４０…処理部、４２…演算部、４４…表示制御部、４６…制御部、１００…分析装置、２００…分析装置

Claims (8)

1. 分析装置本体と、
   前記分析装置本体で試料を測定して得られた測定値に基づく定量値、および定量値の誤差を算出する演算部と、
   前記分析装置本体に由来する装置由来のばらつきの情報を記憶する記憶部と、
   を含み、
   前記演算部は、
   前記測定値のばらつきを算出する処理と、
   前記測定値のばらつき、および前記装置由来のばらつきに基づいて、前記定量値の誤差を算出する処理と、
   を行う、分析装置。
2. 請求項１において、
   前記装置由来のばらつきの情報の入力を受け付ける入力部を含む、分析装置。
3. 請求項１において、
   前記分析装置本体を制御する制御部を含み、
   前記制御部は、前記装置由来のばらつきの情報を取得する測定が行われるように前記分析装置本体を制御する、分析装置。
4. 請求項１ないし３のいずれか１項において、
   前記分析装置本体では、蛍光Ｘ線分析法による測定を行う装置であり、
   前記演算部は、単位時間に観測されるＸ線強度をＩとし、測定時間をｔとした場合に、前記測定値のばらつきσを下記式を用いて算出する、分析装置。
   

   
5. 請求項１ないし４のいずれか１項において、
   前記分析装置本体は、
   試料に照射されるＸ線を発生させるＸ線発生器を含み、
   前記装置由来のばらつきの情報は、前記Ｘ線発生器に由来するばらつきの情報を含む、分析装置。
6. 請求項１ないし５のいずれか１項において、
   前記分析装置本体は、
   試料に照射されるＸ線の照射領域を制限するＸ線コリメーターを含み、
   前記装置由来のばらつきの情報は、前記Ｘ線コリメーターに由来するばらつきの情報を含む、分析装置。
7. 請求項１ないし６のいずれか１項において、
   前記分析装置本体は、
   試料に照射されるＸ線を通すフィルターを含み、
   前記装置由来のばらつきの情報は、前記フィルターに由来するばらつきの情報を含む、分析装置。
8. 請求項１ないし７のいずれか１項において、
   表示部と、
   前記演算部で算出された前記定量値の誤差の情報を前記表示部に表示する制御を行う表示制御部と、
   を含む、分析装置。

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