DE10159828B4

DE10159828B4 - Röntgenfluoreszenzspektrometer

Info

Publication number: DE10159828B4
Application number: DE10159828A
Authority: DE
Inventors: Yoshiyuki Takatsuki Kataoka; Yasujiro Takatsuki Yamada
Original assignee: Rigaku Industrial Corp
Current assignee: Rigaku Corp
Priority date: 2001-12-06
Filing date: 2001-12-06
Publication date: 2007-09-20
Anticipated expiration: 2021-12-07
Also published as: DE10159828A1; US6668038B2; US20030118148A1

Abstract

Röntgenfluoreszenzspektrometer zum Messen von Intensitäten von von einer Probe emittierten Sekundär-Röntgenstrahlen, wobei die Probe eine einschichtige oder eine mehrschichtige Dünnschichtstruktur ist, die unabhängig oder auf einem Substrat ausgebildet ist, durch Bestrahlen der Probe mit Primär-Röntgenstrahlen, wobei das Spektrometer aufweist:
eine Einrichtung zum Einstellen der Analysebedingungen, wobei Spezifikationen der zu analysierenden Dünnschichtstruktur und Modi für die durchzuführenden Analysen eingebbar sind,
eine Meßlinienauswertungseinrichtung, die dazu geeignet ist, für jede spezifizierte, zu messende Sekundär-Röntgenlinie eine erste theoretische Intensität bei einer Dicke und einer Zusammensetzung, die für jede Schicht der Dünnschichtstruktur spezifiziert sind, und eine zweite theoretische Intensität bei einer Dicke und der entsprechenden Zusammensetzung der Dünnschichtstruktur zu berechnen, wenn die Dicke oder die Konzentration um einen vorgegebenen Wert geändert worden ist, eine Dickengenauigkeit oder eine Konzentrationsgenauigkeit basierend auf der ersten und der zweiten theoretischen Intensität zu berechnen, und die Anwendbarkeit oder Nichtanwendbarkeit einer Analyse unter Verwendung der spezifizierten, zu messenden...

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Röntgenfluoreszenzspektrometer zum Messen der Intensität von Sekundär-Röntgenstrahlen, die von einer Probe emittiert werden, die Dünnschichten aufweist, z.B. von einem Halbleiterwafer, durch Bestrahlen der Probe mit Primär-Röntgenstrahlen.

Sogenannte Röntgenfluoreszenzspektrometer zum Messen der Intensität von Sekundär-Röntgenstrahlen, z.B. von Röntgenfluoreszenzstrahlen, die von in einer Probe enthaltenen Elementen emittiert werden, wenn die Probe mit Primär-Röntgenstrahlen bestrahlt wird, und zum anschließenden Bestimmen der Konzentration jedes der Elemente oder der Dicke einer Schicht in der Probe basierend auf der gemessenen Intensität sind bekannt und werden weit verbreitet verwendet. Bei einer unter Verwendung einer solchen Analysevorrichtung durchgeführten Röntgenfluoreszenzanalyse ändern sich in der Praxis in Abhängigkeit vom zu analysierenden Probentyp die geeigneten Analysebedingungen, z.B. die zu analysierende Komponente (Element), die zu messenden Sekundär-Röntgenlinien, die Atmosphäre, in der die Messung durchgeführt wird, und die Anzahl von Ordnungen einer Kalibrierungskurve. Daher hat ein Operateur der Analysevorrichtung in einem herkömmlichen Röntgenfluoreszenzspektrometer geeignete Analysebedingungen basierend auf seiner oder ihrer Erfahrung bestimmt und eingestellt.

Bei einer sogenannten Dünnschichtprobe, die z.B. häufig bei Halbleiterwafern vorliegt, werden sowohl die Dicke als auch die Zusammensetzung jeder Schichtlage der Dünnschichtstruktur analysiert, wobei in verschiedenen Schichtlagen die gleichen Elemente enthalten sind. Daher ist die Auswahl der zu messenden Sekundär-Röntgenlinien für den Operateur nicht einfach, wobei, wenn keine geeignete Auswahl getroffen wird, keine exakte Analyse möglich ist.

Hinsichtlich des vorstehenden Sachverhalts ist es Aufgabe der vorliegenden Erfindung, die vorstehend diskutierten, bei herkömmlichen Röntgenfluoreszenzspektrometern auftretenden Probleme im wesentlichen zu eliminieren und ein verbessertes Röntgenfluoreszenzspektrometer bereitzustellen, das in der Lage ist, eine exakte Analyse durchzuführen, indem die Auswahl geeigneter zu messender Sekundär-Röntgenlinien erleichtert wird, wenn die zu analysierende Probe eine Dünnschichtprobe ist. Diese Aufgabe wird durch eine Vorrichtung mit den Merkmalen des Patentanspruchs 1 gelöst.

Mit dem Röntgenfluoreszenzspektrometer gemäß Anspruch 2 kann, weil die Anwendbarkeit oder Nichtanwendbarkeit der Analyse der Dünnschichtprobe mit den spezifizierten, zu messenden Sekundär-Röntgenlinien dargestellt werden kann, der Operateur die geeigneten, zu messenden Sekundär-Röntgenlinien auswählen, so daß eine exakte Analyse möglich ist.

Mit der Ausführungsform gemäß Anspruch 3 kann der Operateur, weil eine Information über die Verwendbarkeit oder die Nichtverwendbarkeit der spezifizierten, zu messenden Sekundär-Röntgenlinie für das Kalibrierungskurvenverfahren durch ein Display angezeigt wird, basierend auf der Displayanzeige geeignete, zu messende Sekundär-Röntgenlinien bequem auswählen, insbesondere wenn die Analyse durch das Kalibrierungskurvenverfahren durchgeführt werden soll, so daß eine exakte Analyse durchgeführt werden kann.

Wenn eine Steuereinrichtung gemäß Anspruch 6 verwendet wird, können die automatisch ausgewählten, zu messenden Sekundär-Röntgenlinien automatisch als Teil der geeigneten Analysebedingungen gesetzt werden, so daß der Operateur von der Last befreit ist, die zu messenden Sekundär-Röntgenlinien zu setzen, die einen Teil der Analysebedingungen bilden.

Bei einer Ausführungsform gemäß Anspruch 7 kann, weil die Meßlinienauswertungseinheit die Dickengenauigkeit oder die Konzentrationsgenauigkeit unter Verwendung der theoretischen Intensität des Untergrundes zusammen mit der ersten und der zweiten Intensität berechnet, die Bestimmung der Anwendbarkeit oder der Nichtanwendbarkeit der Analyse mit der zu messenden Sekundär-Röntgenlinie exakter ausgeführt werden, und der Operateur kann die exakte Analyse darauf basierend durchführen.
Das Röntgenfluoreszenzspektrometer wird anhand der folgenden Beschreibung bevorzugte Ausführungsformen in Verbindung mit den beigefügten Zeichnungen verdeutlicht.
In den beigefügten Zeichnungen bezeichnen identische Bezugszeichen ähnliche Teile; es zeigen:
1 ein schematisches Diagramm zum Darstellen eines Röntgenfluoreszenzspektrometers, das in Verbindung mit der ersten und zweiten bevorzugten Ausführungsform verwendbar ist;
2A und 2B Ablaufdiagramme zum Darstellen eines Arbeitsablaufs der ersten Ausführungsform des Röntgenfluoreszenzspektrometers; und
3A und 3B Ablaufdiagramme zum Darstellen eines Arbeitsablaufs der zweiten Ausführungsform des Röntgenfluoreszenzspektrometers.
Nachstehend wird unter Bezug auf 1 die erste bevorzugte Ausführungsform des Röntgenfluoreszenzspektrometers beschrieben. Wie dargestellt ist, weist das Röntgenfluoreszenzspektrometer auf: eine Probenhalterung oder einen Probentisch 8 zum Halten einer ein- oder mehrschichtigen Dünnschichtprobe 3, eine Röntgenquelle 1, z.B. eine Röntgenröhre, zum Emittieren von Primär-Röntgenstrahlen 2 zur Probe 3 und eine Erfassungseinrichtung 9 zum Messen der Intensität von Sekundär-Röntgenstrahlen 6, die von der Probe 3 emittiert werden, wenn diese durch die Primär-Röntgenstrahlen 2 bestrahlt wird. Wenn die Probe 3 eine auf einem Substrat ausgebildete Dünnschicht ist, sollte das Substrat in der Probe 3 enthalten sein. Die Erfassungseinrichtung 3 weist eine spektroskopische Vorrichtung 5, die dazu geeignet ist, die von der Probe 3 emittierten Sekundär-Röntgenstrahlen 4 monochromatisch zu machen, und einen Detektor 7 zum Messen der Intensität der Sekundär-Röntgenstrahlen 6 für jede Wellenlänge auf, die durch die spektroskopische Vorrichtung 5 monochromatisch gemacht wurden.
Das vorstehend erwähnte Röntgenfluoreszenzspektrometer ist ein sogenanntes Scanning-Röntgenfluoreszenzspektrometer, in dem die spektroskopische Vorrichtung 5 und der Detektor 7 durch ein Goniometer miteinander verbunden sind. Daher weist dieses Röntgenfluoreszenzspektrometer eine Steuereinrichtung 15 zum Steuern der Röntgenquelle 1, des Goniometers, des Detektors 7 und anderer Komponenten auf, um eine Analyse der Probe 3 unter vorgegebenen Analysebedingungen durchzuführen, eine Displayeinheit 16, die eine Elektronen- oder Kathodenstrahlröhre oder eine ähnliche Komponente aufweisen kann, und eine Einrichtung 20 zum Einstellen von Analysebedingungen mit einer Displaysteuerungseinrichtung 22 und einer Meßlinienauswertungseinrichtung 23, wie nachstehend ausführlich beschrieben wird.
Die Meßlinienauswertungseinrichtung 23 ist dazu geeignet, für jede spezifizierte, zu messende Sekundär-Röntgenlinie eine erste theoretische Intensität bei einer Dicke und einer Zusammensetzung, die für jede der Schichten der Dünnschichtstruktur spezifiziert sind, und eine zweite theoretische Intensität bei einer Dicke und der entsprechenden Zusammensetzung zu berechnen, wenn die Dicke oder die Konzentration um einen vorgegebenen Wert geändert worden sind, die Dickengenauigkeit oder die Konzentrationsgenauigkeit basierend auf der ersten und der zweiten theoretischen Intensität zu berechnen und schließlich zu entscheiden, ob eine Analyse unter Verwendung der spezifizierten, zu messenden Sekundär-Röntgenlinie möglich ist oder nicht. Die Meßlinienauswertungseinrichtung 23 kann für jede spezifizierte, zu messende Sekundär-Röntgenlinie die theoretische Intensität ihres Untergrunds berechnen und dann die Dickengenauig keit oder die Konzentrationsgenauigkeit basierend auf der theoretischen Intensität des Untergrunds und der ersten und der zweiten theoretischen Intensität berechnen.
Außerdem kann die Meßlinienauswertungseinrichtung 23 in Abhängigkeit vom Vorhandensein oder Nichtvorhandensein einer Spezifizierung der Analyse der Konzentration in der Schicht der Dünnschichtstruktur, wenn die spezifizierte, zu messende Sekundär-Röntgenlinie für die Analyse der Dicke der Dünnschicht basierend auf dem Kalibrierungskurvenverfahren verwendet wird, oder in Abhängigkeit vom Vorhandensein oder Nichtvorhandensein der Spezifizierung der Analyse der Dicke einer Schicht, wenn die spezifizierte, zu messende Sekundär-Röntgenlinie für die Analyse der Konzentration der Lage verwendet wird, bestimmen, ob die spezifizierte, zu messende Sekundär-Röntgenlinie für ein Kalibrierungskurvenverfahren verwendbar ist.
Die Displaysteuerungseinrichtung 22 ist dazu geeignet, die Displayeinheit 16 anzuweisen, eine Anzeige bereitzustellen, die die durch die Meßlinienauswertungseinrichtung 23 bestimmte Anwendbarkeit oder Nichtanwendbarkeit der Analyse darstellt und anzeigt, ob die Meßlinie für das Kalibrierungskurvenverfahren verwendbar ist oder nicht.
Nachstehend wird die Funktionsweise der ersten Ausführungsform des Röntgenfluoreszenzspektrometers unter Bezug auf das Ablaufdiagramm der 2A und 2B in Verbindung mit der Analyse der Dicke und der Zusammensetzung der Dünnschicht der Probe 3 eines Kupfersubstrats (einer Cu-Schicht) beschrieben, auf dem eine einschichte Dünnschichtstruktur aus Kupfer und Zink (eine CuZn-Schicht) ausgebildet ist. Zu Beginn spezifiziert der Operateur unter Verwendung einer Eingabeeinrichtung (nicht dargestellt) der Einrichtung 30 zum Einstellen der Analysebedingungen (diese Eingabeeinrichtung wird auch während der Spezifizierung und der Eingabe durch einen Operateur verwendet, obwohl hierin nicht ausdrücklich darauf hingewiesen wird) die Dicke und die Zusammensetzung (einen Satz von Konzentrationen) für jede der Lagen, um eine Basis für die Berechnung der theoreti schen Intensitäten bereitzustellen. In diesem Beispiel spezifiziert der Operateur (Schritt 1) 100 Masse-% Cu mit einer Unendlichdicke (bezüglich Röntgenstrahlung) für die Cu-Schicht und 60 Masse-% Cu und 40 Masse-% Zn (Ausgleich) mit einer Dicke von 100 nm für die CuZn-Schicht. Die Zusammensetzung der Cu-Schicht (Substrat) mit der Unendlichdicke ist bekannt, so daß sie im voraus eingegeben werden kann und der Operateur sie in dieser Phase nicht eingeben muß.
Dann spezifiziert der Operateur die Schichtlage, deren Dicke analysiert werden soll, und spezifiziert die Komponente einer Schichtlage, deren Konzentration (Konzentration einer bestimmten Komponente) analysiert werden soll. In diesem Beispiel spezifiziert der Operateur, daß die Dicke der CuZn-Schicht und die Konzentration von Cu in der CuZn-Schicht analysiert werden soll (Schritt 2). Das in der CuZn-Schicht enthaltene Zink (Zn) kann als der Ausgleich bestimmt werden, der verbleibt, wenn das Kupfer (Cu) entfernt würde.
Basierend auf den durch die Schritte 1 und 2 spezifizierten Inhalten setzt die Meßlinienauswertungseinrichtung 23 (1) für jede Schicht ein Flag, das eine Analyse nur der Dicke, eine Analyse nur der Konzentration, eine Analyse sowohl der Dicke als auch der Konzentration anzeigt, bzw. anzeigt, daß keine dieser Analysen durchgeführt werden soll. In diesem Beispiel wird in einem Programm ein Flag für die CuZn-Schicht gesetzt, das die Analyse sowohl der Dicke als auch der Konzentration anzeigt, und ein Flag für die Cu-Schicht (Substrat) gesetzt, das anzeigt, daß keine Analyse ausgeführt werden soll, weil sowohl die Dicke als auch die Konzentration der Cu-Schicht (Substrat) bekannt sind und nicht analysiert werden müssen (Schritt 3).
Anschließend spezifiziert der Operateur so viele zu messenden Sekundär-Röntgenlinien (nachstehend auch als Meßlinien bezeichnet) wie unbekannte Parameter vorhanden sind. In diesem Beispiel liegen zwei unbekannte Parameter vor, d.h. die Dicke der CuZn-Schicht und die Konzentration von Cu, so daß die Cu-Kα-Linie spezifiziert wird, indem sie der Dickenanalyse zugeordnet wird, und die Zn-Kα-Linie spezifi ziert wird, indem sie der Konzentrationsanalyse zugeordnet wird (Schritt 4). D.h., in der Praxis wird Cu als Ausgleich von Zn bestimmt. Als Meßlinien können charakteristische Röntgenlinien von einer Röntgenröhre oder ein Untergrund verwendet werden. D.h., die Röntgenlinien sind auch in den von der Probe emittierten Sekundär-Röntgenstrahlen enthalten und können als Meßlinien verwendet werden. Außerdem kann in dieser Phase spezifiziert werden, ob das Fundamental-Parameter-(FP) Verfahren oder das Kalibrierungskurvenverfahren für die Analyse verwendet werden soll.
Die Meßlinienauswertungseinrichtung 23 (1) (falls nicht anders angegeben, wird der Hauptteil der Verarbeitung durch die Meßlinienauswertungseinrichtung 23 ausgeführt) berechnet dann für jede spezifizierte Meßlinie ip eine erste theoretische Intensität I^T _o(ip) mit der spezifizierten Dicke und der spezifizierten Zusammensetzung durch das Fundamental-Parameter-Verfahren. In diesem Beispiel werden die ersten theoretischen Intensitäten I^T _o(ip) für Cu-Kα und Zn-Kα berechnet (Schritt 5).
Anschließend werden die folgenden Schritte 6 bis 10 für jede der Schichten nacheinander ausgeführt. Zunächst wird bezüglich den Schichten, für die lediglich die Dicke analysiert werden soll, die spezifizierte Dicke um einen vorgegebenen Wert geändert (z.B. in einer vorgegebenen Rate; nachstehend wird die gleiche Rate verwendet); für die Schicht, für die lediglich die Konzentration analysiert werden soll, die Konzentration um einen vorgegebenen Wert bezüglich der spezifizierten Konzentration geändert; und für die Schicht, für die sowohl die Dicke als auch die Konzentration analysiert werden soll, die Dicke und die spezifizierte Konzentration um einen jeweils vorgegebenen Wert bezüglich der spezifizierten Dicke und der spezifizierten Konzentration geändert. In diesem Beispiel wird in der CuZn-Schicht, für die die Dicke und die Konzentration analysiert werden soll, wie durch die folgenden Gleichungen (1) und (2) dargestellt, ein erster Satz, in dem die Dicke um 1% (α=0,1) von der ursprünglichen Dicke T_org = 100 nm auf T_new = 101 nm geändert wird, während die Konzentration unverändert bleibt, und ein zweiter Satz bereitgestellt, in dem die Konzentration von Cu um ΔW = 1 Masse-% von W_org = 60 Masse-% auf W_new = 61 Masse-% geändert wird, während die ursprüngliche Dicke T_org unverändert bleibt.
Im zweiten Satz entspricht der Ausgleich der Konzentration von Zn 39 Masse-%. Wenn der Film mehrere Schichten aufweist, deren Konzentrationen analysiert werden sollen, wird eine Konzentration bereitgestellt, die für jede der Schichten um einen vorgegebenen Wert geändert wird (Schritt 6). Tnew – Torg × (1,0 + α) (1) Wnew – Worg + ΔW (2)
Dann werden für jede spezifizierte Meßlinie unter Verwendung der Dicke und der Konzentration, die um die jeweiligen vorgegebenen Werte geändert wurden, die zweiten theoretischen Intensitäten I^T _diff(ip) durch das Fundamental-Parameter-Verfahren berechnet. In diesem Beispiel werden die zweiten theoretischen Intensitäten I^T _diff(ip) bezüglich Cu-Kα und Zn-Kα basierend auf den vorstehend diskutierten ersten und zweiten Sätzen berechnet (Schritt 7).
Anschließend werden unter Verwendung einer Geräteempfindlichkeitskonstante k(ip) die ersten theoretischen Intensitäten I^T _o(ip) in einen Meßintensitätsmaßstab umgewandelt. D.h., weil die durch das Fundamental-Parameter-Verfahren berechneten theoretischen Intensitäten, anders als die unter Verwendung solcher Geräte tatsächlich gemessenen Intensitäten, keine Gerätefaktoren (Kenngrößen für jedes Gerät) aufweisen, werden unter Verwendung der Geräteempfindlichkeitskonstante k(ip), die für jede Meßlinie ip im voraus gespeichert worden ist, von den ersten theoretischen Intensitäten I^T _o(ip) geschätzte Meßintensitäten I^m _o(ip) (Einheit kcps) bestimmt, wie durch die folgende Gleichung (3) dargestellt ist (Schritt 8): Im o(ip) = k(ip) × IT o(ip) (3)
In Gleichung (3) wird die Geräteempfindlichkeitskonstante k(ip) als Verhältnis der unter Verwendung eines repräsentativen Standardverfahrens durch ein solches Gerät oder ein äquivalentes Gerät unter Verwendung eines repräsentativen Standardmaterials gemessenen Intensität zur theoretischen Intensität bestimmt und in der Meßlinienauswertungseinrichtung 23 (1) gespeichert. Eine nicht auf diese Weise gemessene Meßlinie kann durch Interpolieren oder Extrapolieren basierend auf den gemessenen Geräteempfindlichkeitskonstanten für bezüglich der Wellenlänge nahegelegene Linien bestimmt werden. Obwohl die theoretische Intensität unter Verwendung einer Verteilung der Primär-Röntgenstrahlen berechnet wird, wird eine Verteilung von Primär-Röntgenstrahlen bestimmt, indem Kenngrößen für jeden Röntgenröhrentyp berücksichtigt werden, und die Verteilung wird im voraus gespeichert, so daß die geschätzte Meßintensität problemlos auch dann bestimmt werden kann, wenn ein anderer Röntgenröhrentyp verwendet wird.
Dann wird unter Verwendung der ersten und der zweiten theoretischen Intensität I^T _o(ip) und I^T _diff(ip) für jede auf die vorstehende Weise spezifizierte Meßlinie die Dickengenauigkeit und die Konzentrationsgenauigkeit berechnet. Weil in diesem Beispiel sowohl die Dicke als auch die Konzentration der CuZn-Schicht analysiert werden, werden die Dickengenauigkeit und die Konzentrationsgenauigkeit berechnet. Beim Berechnen dieser Genauigkeiten wird eine relative Genauigkeit SigInt der geschätzten Meßintensität berechnet, wie durch die folgende Gleichung (4) dargestellt ist. Es wird in diesem Beispiel vorausgesetzt, daß die Meßzeit t 40 Sekunden beträgt. SigInt = {Im o(ip)/(t × 1000)}1/2/Im o(ip) (4)
Unter Verwendung der Genauigkeit SigInt der Intensität werden die relative Genauigkeit SigThk der Dicke und die relative Genauigkeit SigCnc der Konzentration gemäß den folgenden Gleichungen (5) und (6) berechnet (Schritt 9).
Dann werden die Empfindlichkeit und die Dickengenauigkeit für den Fall, daß daß lediglich die Dicke der Schicht analysiert werden soll, die Empfindlichkeit und die Konzentrationsgenauigkeit für den Fall, daß nur die Konzentration der Schicht analysiert werden soll, und die Empfindlichkeit, die Dickengenauigkeit und die Konzentrationsgenauigkeit für den Fall, daß sowohl die Dicke als auch die Konzentration der Schicht analysiert werden soll, geprüft. In diesem Beispiel werden bezüglich der CuZn-Schicht, für die sowohl die Dicke als auch die Konzentration analysiert werden soll, die Empfindlichkeit, die Dickengenauigkeit und die Konzentrationsgenauigkeit auf folgende Weise geprüft.
Beim Prüfen der Empfindlichkeit wird, wenn die geschätzte Meßintensität I^m _o(ip) kleiner ist als eine vorgegebene, analysierbare, minimale Intensität, z.B. 0,001 kcps, entschieden, daß die Empfindlichkeit unzureichend ist. Dies ist der Fall, wenn die aufgebrachte Materialmenge der entsprechenden Komponente sehr gering ist, oder wenn, obwohl die aufgebrachte Materialmenge groß ist, die meisten Röntgenstrahlen von der Komponente durch darüberliegende Schichten absorbiert werden.
Hinsichtlich der Prüfung der Dickengenauigkeit wird, wenn die relative Dickengenauigkeit SigThk nicht kleiner ist als ein vorgegebener Prüfwert, z.B. 0,1, die Analyse der Dicke als unmöglich betrachtet. Dies ist der Fall, wenn die entsprechende Schicht hinsichtlich Röntgenstrahlen eine unendliche Dicke aufweist, auch wenn die relative Genauigkeit SigInt der vorstehend beschriebenen Intensität ausreichend (klein) ist.
Hinsichtlich der Prüfung der Konzentration wird, wenn die relative Genauigkeit SigCnc der Konzentration nicht kleiner ist als ein vorgegebener Prüfwert, z.B. 0,1, die Analyse der Konzentration als unmöglich betrachtet. In diesem Beispiel wird Cu-Kα sowohl für die Dickenanalyse als auch für die Konzentrationsanalyse als inakzeptabel betrachtet. Die Prüfergebnisse für die Empfindlichkeit, die Dickengenauigkeit und die Konzentrationsgenauigkeit jeder Meßlinie werden in der Meßlinienauswertungseinrichtung 23 (1) gespeichert (Schritt 10).
Dann wird in den folgenden Schritten 11 bis 12 für jede Schicht anhand der Prüfergebnisse auf der Basis der Dickengenauigkeit oder der Konzentrationsgenauigkeit entschieden, ob eine Analyse unter Verwendung der spezifizierten Linien möglich ist. Im Fall einer Schicht, für die nur die Dicke analysiert werden soll, wird, wenn das Prüfergebnis unter Verwendung der dieser Schicht zugeordneten Meßlinie anzeigt, daß die Empfindlichkeit unzureichend ist, ein dieses Ergebnis darstellender Fehler gesetzt. Wenn das Prüfergebnis unter Verwendung der zugeordneten Meßlinie anzeigt, daß die Analyse der Dicke möglich ist, bedeutet dies, daß die Analyse durchgeführt werden kann. Wenn es jedoch anzeigt, daß die Analyse unmöglich ist, wird ein dieses Ergebnis darstellender Fehler gesetzt (Schritt 11-A). Im Fall einer Schicht, für die nur die Konzentration analysiert werden soll, wird, wenn das Prüfergebnis unter Verwendung der einer Komponente der Schicht zugeordneten Meßlinie anzeigt, daß die Empfindlichkeit unzureichend ist, ein dieses Ergebnis darstellender Fehler gesetzt. Wenn das Prüfergebnis unter Verwendung der einer Komponente der Schicht zugeordneten Meßlinie anzeigt, daß die Analyse der Konzentration möglich ist, bedeutet dies, daß die Analyse der Komponente möglich ist, und wenn das Ergebnis anzeigt, daß die Analyse der Konzentration unmöglich ist, wird ein dieses Ergebis darstellender Fehler gesetzt (Schritt 11-C).
Im Fall einer Schicht, für die sowohl die Dicke als auch die Konzentration analysiert werden soll, wird, wenn das Prüfergebnis unter Verwendung der der Schicht zugeordneten Meßlinie anzeigt, daß die Empfindlichkeit unzureichend ist, ein dieses Ergebnis darstellender Fehler gesetzt. Wenn das Prüfergebnis unter Verwendung der der Schicht zugeordneten Meßlinie anzeigt, daß eine Meßlinie vorhanden ist, mit der die Dicke analysiert werden kann, ist die Dickenanalyse möglich, wenn jedoch keine Meßlinie vorhanden ist, mit der die Dicke analysiert werden kann, wird ein dieses Ergebnis darstellender Fehler gesetzt (Schritt 11-B), woraufhin das Programm zu Schritt 11-C fortschreitet. In diesem Schritt wird, wenn eine Meßlinie vorhanden ist, mit der weder eine Analyse der Dicke noch eine Analyse der Konzentration möglich ist, ein dieses Ergebis darstellender Fehler gesetzt. In diesem Beispiel wird ein Fehler gesetzt, der anzeigt, daß in der CuZn-Schicht mit der Cu-Kα-Linie weder eine Analyse der Dicke noch eine Analyse der Konzentration möglich ist (Schritt 11-C).
Wenn ein Kalibrierungskurvenverfahren spezifiziert ist und die spezifizierte Meßlinie für die Analyse der Dicke der Schicht basierend auf dem Kalibrierungskurvenverfahren verwendet wird, wird die Verwendbarkeit oder Nichtverwendbarkeit der Meßlinie für das Kalibrierungskurvenverfahren in Abhängigkeit vom Vorhandensein oder Nichtvorhandensein der Spezifikation der Analyse der Konzentration der Schicht bestimmt. Dies ist der Fall, weil, wenn die Schichtdicke basierend auf dem Kalibrierungskurvenverfahren analysiert werden soll, die Analyse durch die Zusammensetzung der Schicht beeinflußt wird, so daß die Zusammensetzung der Schicht fest sein sollte. Daher wird, wenn die Analyse der Konzentration der Schicht spezifiziert ist, ein Warnfehler gesetzt, der anzeigt, daß die Analyse der Dicke durch das Kalibrierungskurvenverfahren unmöglich ist.
Wenn die spezifizierte Meßlinie für die Analyse der Konzentration der Schicht basierend auf dem Kalibrierungskurvenverfahren verwendet wird, wird die Verwendbarkeit oder Nichtverwendbarkeit der Meßlinie für das Kalibrierungskurvenverfahren in Abhängigkeit vom Vorhandensein oder Nicht vorhandensein der Spezifikation der Analyse der Dicke der Schicht oder der Anwendbarkeit oder Nichtanwendbarkeit der Analyse der Dicke bestimmt. Dies ist der Fall, weil, wenn die Konzentration der Schicht basierend auf dem Kalibrierungskurvenverfahren analysiert werden soll, die Dicke der Schicht konstant oder hinsichtlich der Röntgenstrahlen für die Meßlinie unendlich sein muß. Wenn die Analyse der Dicke der Schicht spezifiziert oder die Analyse der Dicke mit der spezifizierten Meßlinie möglich ist, wird ein Warnfehler gesetzt, der anzeigt, daß das Kalibrierungskurvenverfahren nicht auf die Analyse der Konzentration anwendbar ist.
Anschließend veranlaßt die Displaysteuerungseinrichtung 22 (1) die Displayeinheit 16, eine Anzeige der Anwendbarkeit oder Nichtanwendbarkeit der Analyse und der Verwendbarkeit oder. Nichtverwendbarkeit der Meßlinie für das bestimmte Kalibrierungskurvenverfahren bereitzustellen (Schritt 13), die durch die Meßlinienauswertungseinrichtung 23 (1) auf die vorstehend beschriebene Weise bestimmt wurden.
Wie vorstehend beschrieben, kann der Operateur gemäß der ersten Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Vorrichtung, weil die Anwendbarkeit oder Nichtanwendbarkeit der Analyse der Dünnschichtprobe mit der spezifizierten Meßlinie angezeigt werden kann, basierend auf der dargestellten Anzeige eine geeignete Meßlinie auswählen, so daß eine exakte Analyse durchgeführt werden kann. Außerdem kann der Operateur, weil außerdem die Verwendbarkeit oder Nichtverwendbarkeit der spezifizierten Meßlinie für das Kalibrierungskurvenverfahren angezeigt wird, basierend auf der dargestellten Anzeige eine geeignete Meßlinie auf bequeme Weise auswählen, insbesondere wenn die Analyse mit dem Kalibrierungskurvenverfahren durchgeführt werden soll, so daß eine exakte Analyse durchgeführt werden kann.
Obwohl es unproblematisch ist, wenn die Untergrundintensität im Vergleich zur Peakintensität sehr gering ist, muß die Untergrundintensität berücksichtigt werden, wenn eine Meßlinie mit kurzer Wellenlänge gemessen werden soll. Es kann vorkommen, daß, obwohl durch die K-Linie mit einer kurzen Wellenlänge eine höhere Intensität und ein höherer Untergrund erhalten wird als bei der L-Linie, die Genauigkeit der Analyse mit einer L-Linie mit niedrigem Untergrund besser wäre, auch wenn die Intensität kleiner ist. Daher kann die Meßlinienauswertungseinrichtung 23 (1) gemäß der ersten Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Vorrichtung verwendet werden, um die theoretische Intensität des Untergrundes für jede spezifizierte Meßlinie zu berechnen und die Dickengenauigkeit oder die Konzentrationsgenauigkeit unter Verwendung der theoretischen Intensität des Untergrunds der Meßlinie und der ersten und der zweiten theoretischen Intensität zu berechnen. In diesem Fall wird in Schritt 8 die theoretische Intensität des Untergrundes als Summe der Compton-Streuung und der Thompson-Streuung berechnet und dann in einen Meßintensitätsmaßstab umgewandelt, wie durch die folgenden Gleichungen (7) und (8) dargestellt ist: ITB = IOB(λ) × ITBO(λ) (7) IMB = k(λ) × ITB(λ) (8)
In diesen Gleichungen (7) und (8) stellt I_TBO(λ) die theoretische Intensität des Untergrunds dar, wenn vorausgesetzt wird, daß die Intensität der Primär-Röntgenstrahlen 1,0 beträgt, I_OB(λ) eine Verteilung der Primär-Röntgenstrahlen, I_TB(λ) die theoretische Intensität des Untergrunds, einschließlich der Intensität der Primär-Röntgenstrahlen, k(λ) einen Untergrundempfindlichkeitskoeffizienten der Wellenlänge λ und I_MB eine geschätzte Meßintensität des Untergrunds.
Der Untergrundempfindlichkeitskoeffizient k(λ) kann durch Messen einer Probe unter Verwendung der Vorrichtung oder einer äquivalenten Vorrichtung im voraus bestimmt werden, wobei die Untergrundintensität für jede Wellenlänge gemessen wird, und auch durch Berechnen der theoretischen Intensität unter Verwendung einer in der Messung verwendeten Röntgenröhre und der Verteilung der Primär-Röntgenstrahlen für eine Röhrenspannung, wobei der Untergrundempfindlich keitskoeffizient k(λ) in der Meßlinienauswertungseinrichtung 23 (1) gespeichert wird. Der Untergrundempfindlichkeitskoeffizient k(λ) einer Wellenlänge, für die keine Untergrundintensität gemessen worden ist, kann durch Interpolation oder Extrapolation bestimmt werden. Obwohl die theoretische Intensität unter Verwendung der Verteilung der Primär-Röntgenstrahlen berechnet wird, wird die Verteilung der Röntgenstrahlen hinsichtlich der Kenngrößen für jeden Röntgenröhrentyp bestimmt und im voraus gespeichert, so daß, auch wenn ein anderer Röntgenröhrentyp verwendet wird, die geschätzte Meßintensität problemlos ermittelt werden kann.
Wenn das Substrat ein Einkristall ist, z.B. ein Siliciumwafer, ist die Weise, werden die gestreuten Röntgenstrahlen auf eine spezifische Weise erzeugt, und darüber hinaus nimmt der Untergrund aufgrund gebeugter Röntgenstrahlen tendentiell zu. In diesem Fall wird der Untergrundempfindlichkeitskoeffizient k(λ) unter Verwendung des Einkristallsubstrats bestimmt, oder das Intensitätsverhältnis bezüglich einer beliebigen anderen amorphen oder polykristallinen Probe wird für jede Wellenlänge bestimmt.
Dann wird in Schritt 9 zum Berechnen der Dickengenauigkeit und der Konzentrationsgenauigkeit die relative Genauigkeit SigInt der geschätzten Meßintensität unter Verwendung der folgenden Gleichung (9) an Stelle der vorstehend diskutierten Gleichung (4) berechnet: SigInt = {(im o(ip) + IMB)/(t × 1000)}1/2/Im o(ip) (9)
Indem die relative Genauigkeit SigInt zusammen mit der Intensität dieses Untergrundes berücksichtigt wird, werden nachfolgende Berechnungen der relativen Genauigkeit SigThk der Dicke und der relativen Genauigkeit SigCnc der Konzentration auf ähnliche Weise ausgeführt wie vorstehend beschrieben. Mit der ersten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Vorrichtung kann, weil unter Verwendung der theoretischen Intensität des Untergrunds sowohl die Dickengenauigkeit als auch die Konzentrationsgenauigkeit in der Meßlinienauswertungseinrichtung 23 (1) berechnet werden können, die Anwendbarkeit oder Nichtanwendbarkeit der Analyse basierend auf der Meßlinie exakter bestimmt werden, und der Operateur kann darauf basierend eine exaktere Analyse durchführen.
Nachstehend wird eine zweite Ausführungsform der Vorrichtung beschrieben. Zunächst wird die Struktur dieser Vorrichtung unter Bezug auf 1 beschrieben. Diese Vorrichtung dient zum automatischen Auswählen einer geeigneten Meßlinie und unterscheidet sich von der vorstehend beschriebenen ersten Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Vorrichtung dahingehend, daß die in der zweiten Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Vorrichtung verwendete Meßlinienauswertungseinrichtung 33 dazu geeignet ist, für jede von der Probe emittierte Sekundär-Röntgenlinie eine erste theoretische Intensität bei einer Dicke und einer Zusammensetzung, die für jede der Schichten der Dünnschichtstruktur spezifiziert wurden, und eine zweite theoretische Intensität bei einer Dicke und der entsprechenden Zusammensetzung zu berechnen, wenn die Dicke oder die Konzentration um einen vorgegebenen Wert geändert worden ist, um die Dickengenauigkeit oder die Konzentrationsgenauigkeit basierend auf der ersten und der zweiten theoretischen Intensität zu berechnen, um die zu messende Sekundär-Röntgenlinie basierend auf der berechneten Dickengenauigkeit oder der berechneten Konzentrationsgenauigkeit zusammen mit der Bestimmung der Anwendbarkeit oder der Nichtanwendbarkeit der Analyse unter Verwendung der derart ausgewählten, zu messenden Sekundär-Röntgenlinie auszuwählen und schließlich die derart ausgewählte, zu messende Sekundär-Röntgenlinie einer Steuereinrichtung gemäß der derart bestimmten Anwendbarkeit oder Nichtanwendbarkeit der Analyse als Teil geeigneter Analysebedingungen zuzuführen.
Außerdem unterscheidet sich die in der zweiten Ausführungsform verwendete Meßlinienauswertungseinrichtung 33 von der in der ersten Ausführungsform verwendeten Meßlinienauswertungseinrichtung 23 dadurch, daß die in der zweiten Ausführungsform verwendete Meßlinienauswertungseinrichtung 33 nicht die Verwendbarkeit oder Nichtverwendbarkeit der Meßlinie für das Kalibrierungskurvenverfahren bestimmt. Die übrige Funktionsweise der zweiten Ausführungsform ist derjenigen der ersten Ausführungsform ähnlich, so daß diese nicht wiederholt im Detail dargestellt wird, und gleiche Teile sind durch gleiche Bezugszeichen bezeichnet.
Nachstehend wird unter besonderem Bezug auf das in den 3A, 3B dargestelle Ablaufdiagramm die Funktionsweise der zweiten Ausführungsform der Vorrichtung in Verbindung mit der Analyse der Dicke und der Zusammensetzung der Dünnschichtstruktur der Probe 3 beschrieben, die, wie im Fall der in der vorstehend beschriebenen ersten Ausführungsform verwendeten Probe, ein Kupfersubstrat (Cu-Schicht) ist, auf dem eine einschichtige Dünnschichtstruktur aus Kupfer und Zink (CuZn-Schicht) ausgebildet ist. Die Verarbeitung von Schritt 1 bis Schritt 3 ist mit der in Verbindung mit der ersten Ausführungsform beschriebenen Verarbeitung identisch.
Nach Schritt 3 sucht die Meßlinienauswertungseinrichtung 33 (1) basierend auf den in Schritt 3 gesetzten Inhalten meßbare Sekundär-Röntgenlinien (Sekundär-Röntgenlinien, die Kandidaten für die Auswahl von Meßlinien sind) bezüglich der Komponente, für die die Dicke oder die Konzentration bestimmt werden soll. Im Fall einer Schicht, für die nur die Konzentration analysiert werden soll, werden für jede zu analysierende Komponente die zu messenden Elemente, die im voraus gespeichert worden sind, ausgelesen (beispielsweise werden im Fall von Al₂O₃ und Cu Al bzw. Cu verwendet), und alle Arten von Röntgenlinien, die für jedes Element gemessen werden können, werden abgerufen. Im Fall einer Schicht, für die lediglich die Dicke analysiert werden soll, d.h., im Fall einer Schicht, die nur eine Komponente oder mehrere Komponenten mit einer festen Zusammensetzung aufweist, werden Elemente der Schicht oder Elemente der Komponenten, die in der unteren Schicht vorhanden sind und deren Konzentrationen fest sind, ausgelesen, und alle Arten von Röntgenlinien, die für jedes dieser Elemente gemessen werden können, werden abgerufen.
Im Fall einer Schicht, für die sowohl die Dicke als auch die Konzentration analysiert werden soll, werden durch Zuordnen der Dicke zur Ausgleich(Rest)-komponente und durch Auslesen der zu messenden Elemente bezüglich jeder der Komponenten, deren Konzentrationen analysiert werden sollen, alle Arten von Röntgenlinien, die für für jedes Element gemessen werden können, abgerufen. Anstatt alle Arten von Röntgenlinien abzurufen, die für jedes Element gemessen werden können, können sie aus den Hauptlinien Kα, Lα und Mα ausgewählt werden. In diesem Beispiel werden Cu-Kα, Cu-Lα, Zn-Kα und Zn-Lα gesucht (Schritt 4-2). Außerdem werden, wie im Fall der Schicht, für die nur die Dicke analysiert werden soll, zu messende Elemente, die eine Zusammensetzung aufweisen, deren Konzentration in den unteren Schichten fest ist, ausgelesen, und alle Arten von Röntgenlinien, die für jedes dieser Elemente gemessen werden können, werden abgerufen.
Anschließend wird bezüglich den derart gesuchten Meßlinien, wie im Fall der vorstehend beschriebenen ersten Ausführungsform, eine Verarbeitung von Schritt 5 bis Schritt 10 ausgeführt. Als Ergebnis zeigt sich, daß in diesem Beispiel die Cu-Kα-Linie für die Analyse sowohl der Dicke als auch der Konzentration nicht verwendet werden kann.
Dann wird basierend auf der berechneten Dickengenauigkeit oder der berechneten Konzentrationsgenauigkeit die optimale Meßlinie ausgewählt. In der Reihenfolge ausgehend von der oberen Schicht werden sie auf folgende Weise ausgewählt. Bezüglich der Schicht, für die nur die Konzentration analysiert werden soll, wird die Röntgenlinie mit der besten (kleinsten) Konzentrationsgenauigkeit von den Röntgenlinien ausgewählt, die der Analyse für jede Komponente zugeordnet sind. Andererseits wird bezüglich der Schicht, für die nur die Dicke analysiert werden soll, die Röntgenlinie mit der besten (kleinsten) Dickengenauigkeit von den der Analyse zugeordneten Röntgenlinien ausgewählt.
Im Fall einer Schicht, für die sowohl die Dicke als auch die Konzentration analysiert werden soll, wird, falls eine optimale Röntgenlinie sowohl für die Konzentrationsgenauigkeit als auch für die Dickengenauigkeit für jedes zu messende Element vorhanden ist, diese Röntgenlinie ausgewählt. Wenn keine solche Röntgenlinie vorhanden ist, und wenn die optimale Röntgenlinie für die Konzentrationsgenauigkeit nicht zum Analysieren der Dicke verwendet werden kann, wird die Röntgenlinie mit der besten Dickengenauigkeit ausgewählt. Andernfalls wird die Röntgenlinie mit der besten Konzentrationsgenauigkeit ausgewählt. In dieser Phase wird vorausgesetzt, das die Röntgenlinie für die Dicke tentativ bestimmt wird.
Im Fall einer Dünnschichtanalyse können mehrere Röntgenlinien als Meßlinien für das gleiche Element ausgewählt werden. Daher erfolgt bezüglich einer der auf die vorstehend beschriebene Weise ausgewählten Röntgenlinien, die die schlechteste Dickengenauigkeit aufweist, wenn eine Röntgenlinie vorhanden ist, die eine der nicht ausgewählten Röntgenlinien ist, jedoch eine bessere Dickengenauigkeit aufweist, die Auswahl, indem die Röntgenlinie mit der schlechtesten Dickengenauigkeit durch diese Röntgenlinie mit der besseren Dickengenauigkeit ersetzt wird. Außerdem erfolgt, wenn von den Röntgenlinien der in den unteren Schichten enthaltenen Elemente eine Röntgenlinie vorhanden ist, die eine bessere Dickengenauigkeit aufweist, die Auswahl, indem die Röntgenlinie mit der schlechtesten Dickengenauigkeit durch diese Röntgenlinie mit der besseren Dickengenauigkeit ersetzt wird. Wenn die ausgewählten Röntgenlinien sich überlappen, wird eine von ihnen als nächste Kandidaten-Röntgenlinie spezifiziert. In diesem Beispiel werden durch die tentative Bestimmung die Cu-Lα- und die Zn-Kα-Linie ausgewählt, durch Ersetzen der Cu-Lα-Linie wird jedoch die Zn-Lα-Linie ausgewählt, und schließlich werden die Zn-Kα- und die Zn-Lα-Linie ausgewählt (Schritt 10.5).
Anschließend wird unter Bezug auf die derart ausgewähl ten Meßlinien Schritt 11 auf ähnliche Weise ausgeführt wie in der ersten Ausführungsform. Dadurch sollte die Analyse in diesem Beispiel unter Verwendung der Zn-Kα- und der Zn-Lα-Linie problemlos für die Dicken- und Konzentrationsanalyse geeignet sein. Mit der zweiten Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Vorrichtung wird, weil die Verwendbarkeit oder Nichtverwendbarkeit der Meßlinien für das Kalibrierungskurvenverfahren nicht bestimmt wird, Schritt 12 (2B) nicht ausgeführt. Wie im Fall der ersten Ausführungsform veranlaßt die Displaysteuerungseinrichtung 32 (1) die Displayeinheit 16, eine Anzeige der durch die Meßlinienauswertungseinrichtung 33 (1) bestimmten Anwendbarkeit oder Nichtanwendbarkeit der Analyse bereitzustellen (Schritt 13-2).
Wie vorstehend beschrieben, muß mit der zweiten Ausführungsform der Vorrichtung, weil die Meß linie für die Dünnschichtprobe durch die Meßlinienauswer tungseinrichtung 33 (1) basierend auf der berechneten Dickengenauigkeit oder der berechneten Konzentrationsgenauigkeit automatisch und geeignet ausgewählt werden kann, der Operateur die Meßlinie für die Analysebedingungen nicht auswählen, so daß eine exakte Analyse möglich ist. Weil die Anwendbarkeit oder Nichtanwendbarkeit der Analyse der Dünnschichtprobe mit den automatisch ausgewählten, zu messenden Sekundär-Röntgenlinien dargestellt werden kann, kann der Operateur außerdem eine exakte Analyse unter Bezug auf die durch die Displayeinheit dargestellte Displayanzeige leicht durchführen, während eine ungenaue Analyse vermieden wird.
Auch mit der zweiten Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Vorrichtung kann die Dickengenauigkeit oder die Kon zentrationsgenauigkeit, wie im Fall der ersten Ausführungsform, unter Verwendung der theoretischen Intensität des Untergrunds berechnet werden.
Außerdem führt bei der zweiten Ausführungsform die Meß linienauswertungseinrichtung 33 (1) die ausgewählten Meßlinien der Steuereinrichtung 15 (1) als Teil der geeigneten Analysebedingungen basierend auf der derart be stimmten Anwendbarkeit oder Nichtanwendbarkeit der Analyse zu. In diesem Beispiel werden die Zn-Kα- und die Zn-Lα-Linie automatisch als Meßlinien gesetzt. Daher kann der Operateur mit der zweiten Ausführungsform der Vorrichtung von der Belastung zum Setzen der Meßlinie befreit werden, die eine der Analysebedingungen ist.

Claims

Röntgenfluoreszenzspektrometer zum Messen von Intensitäten von von einer Probe emittierten Sekundär-Röntgenstrahlen, wobei die Probe eine einschichtige oder eine mehrschichtige Dünnschichtstruktur ist, die unabhängig oder auf einem Substrat ausgebildet ist, durch Bestrahlen der Probe mit Primär-Röntgenstrahlen, wobei das Spektrometer aufweist: eine Einrichtung zum Einstellen der Analysebedingungen, wobei Spezifikationen der zu analysierenden Dünnschichtstruktur und Modi für die durchzuführenden Analysen eingebbar sind, eine Meßlinienauswertungseinrichtung, die dazu geeignet ist, für jede spezifizierte, zu messende Sekundär-Röntgenlinie eine erste theoretische Intensität bei einer Dicke und einer Zusammensetzung, die für jede Schicht der Dünnschichtstruktur spezifiziert sind, und eine zweite theoretische Intensität bei einer Dicke und der entsprechenden Zusammensetzung der Dünnschichtstruktur zu berechnen, wenn die Dicke oder die Konzentration um einen vorgegebenen Wert geändert worden ist, eine Dickengenauigkeit oder eine Konzentrationsgenauigkeit basierend auf der ersten und der zweiten theoretischen Intensität zu berechnen, und die Anwendbarkeit oder Nichtanwendbarkeit einer Analyse unter Verwendung der spezifizierten, zu messenden Sekundär-Röntgenlinie basierend auf der berechneten Dickengenauigkeit oder der berechneten Konzentrationsgenauigkeit zu bestimmen; und eine Displaysteuerungseinrichtung, die dazu geeignet ist, eine Displayeinheit zu veranlassen, die durch die Meßlinienauswertungseinrichtung bestimmte Anwendbarkeit oder Nichtanwendbarkeit der Analyse darzustellen.
Röntgenfluoreszenzspektrometer nach Anspruch 1, wobei die zur Analyse verwendeten Sekundär-Röntgenlinien durch einen Operateur spezifizierbar und in die Eingabeeinrichtung eingebbar sind.
Röntgenfluoreszenzspektrometer nach Anspruch 2, wobei die Meßlinienauswertungseinrichtung in Abhängigkeit vom Vorhandensein oder Nichtvorhandensein einer Spezifikation der Analyse der Konzentration in den Schichten der Dünnschichtstruktur, wenn die spezifizierte, zu messende Sekundär-Röntgenlinie für die Analyse der Dicke einer Schicht in der Dünnschichtstruktur basierend auf dem Kalibrierungskurvenverfahren verwendet wird, oder in Abhängigkeit vom Vorhandensein oder Nichtvorhandensein der Spezifizierung der Analyse der Dicke der Schicht in der Dünnschichtstruktur oder der Anwendbarkeit oder Nichtanwendbarkeit einer Analyse der Dicke, wenn die spezifizierte, zu messende Sekundär-Röntgenlinie für eine Analyse der Konzentration der Schicht in der Dünnschichtstruktur verwendet wird, bestimmt, ob die zu messende, spezifizierte Sekundär-Röntgenlinie für das Kalibrierungskurvenverfahren verwendbar ist oder nicht; und wobei die Displaysteuerungseinrichtung veranlaßt, daß die Displayeinheit die durch die Meßlinienauswertungseinrichtung bestimmte Verwendbarkeit oder Nichtverwendbarkeit der Meßlinie für das Kalibrierungskurvenverfahren anzeigt.
Röntgenfluoreszenzspektrometer nach Anspruch 2 oder 3, wobei die Meßlinienauswertungseinrichtung für jede Sekundär-Röntgenlinie eine theoretische Intensität ihres Untergrundes berechnet und dann eine Dickengenauigkeit oder eine Konzentrationsgenauigkeit unter Verwendung der theoretischen Intensität des Untergrundes und der ersten und der zweiten theoretischen Intensität berechnet.
Röntgenfluoreszenzspektrometer nach Anspruch 1, wobei die zur Analyse verwendeten Sekundär-Röntgenlinien durch die Vorrichtung automatisch auswählbar sind.
Röntgenfluoreszenzspektrometer nach Anspruch 5, mit einer Steuerungseinrichtung zum Durchführen einer Analyse der Probe gemäß vorgegebenen Analysebedingungen, wobei die Meßlinienauswertungseinrichtung der Steuerungseinrichtung die ausgewählten, zu messenden Sekundär-Röntgenlinien als Teil der geeigneten Analysebedingungen in Abhängigkeit von der derart bestimmten Anwendbarkeit oder Nichtanwendbarkeit der Analyse zuführt.
Röntgenfluoreszenzspektrometer nach Anspruch 5 oder 6, wobei die Meßlinienauswertungseinrichtung für jede Sekundär-Röntgenlinie eine theoretische Intensität ihres Untergrundes berechnet und dann eine Dickengenauigkeit oder eine Konzentrationsgenauigkeit unter Verwendung der theoretischen Intensität des Untergrundes und der ersten und der zweiten Intensität berechnet.