JP6175662B2 - 蛍光ｘ線分析装置 - Google Patents
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Description
本出願は、２０１５年８月１０日出願の特願２０１５−１５７９５８の優先権を主張するものであり、それらの全体を参照により本願の一部をなすものとして引用する。
本発明は、単層もしくは多層の薄膜を基板上にまたは独立して形成した試料に１次Ｘ線を照射し、発生する２次Ｘ線の測定強度に基づいてファンダメンタルパラメーター法により薄膜の組成および／または厚さの定量値を求める蛍光Ｘ線分析装置に関する。
蛍光Ｘ線分析においては、分析する試料の品種によって、測定すべき２次Ｘ線すなわち測定線を適切に選択して設定するところ、半導体ウエハや鉄亜鉛合金めっき鋼板等のいわゆる薄膜試料では、薄膜の組成と厚さの両方を分析したり、同一元素が異なる層または基板に含まれたりすることから、測定線の選択が容易でなく、選択が不適切であれば正確な分析ができない。
そこで、従来技術として、例えば、以下のような蛍光Ｘ線分析装置がある（特許文献１参照）。この蛍光Ｘ線分析装置では、測定線評価手段が、指定された測定線ごとに、薄膜の各層について指定された厚さおよび組成での第１理論強度ならびに厚さまたは含有率を所定量変更した厚さおよび組成での第２理論強度を算出し、前記第１および第２理論強度を用いて所定の厚さ精度または含有率精度を算出し、その厚さ精度または含有率精度に基づいて、前記指定された測定線による分析の可否を判断し、その分析の可否が表示器に表示されるので、操作者は、それに基づいて容易に測定線を選択できる。
しかし、例えば試料が鉄亜鉛合金めっき鋼板である場合のように、薄膜であるめっき層の厚さと組成の両方を分析し、かつ、異なる層である基板とめっき層に共通の元素として鉄が含まれるような場合には、指定された測定線による分析の可否について正しく判断されないことがある。これは、この従来の装置では、指定された測定線ごとに、めっき層について指定された厚さおよび組成での第１理論強度、厚さのみを所定量変更しての第２理論強度、含有率のみを所定量変更しての第２理論強度を算出し、それらの理論強度を用いて所定の厚さ精度および含有率精度を算出し、その厚さ精度および含有率精度に基づいて、指定された測定線による分析の可否を判断するところ、実際には、厚さと組成のそれぞれの定量値の変化が、単独の測定線の強度変化に対応しているのではなく、各測定線の強度は、めっき層の厚さと組成の両方に大きく依存しているためである。
本発明は前記従来の問題に鑑みてなされたもので、薄膜試料の蛍光Ｘ線分析において、薄膜の各層の組成と厚さの両方を分析し、かつ、同一元素が異なる層に含まれる場合にも、適切な測定線の選択を容易にし、正確な分析ができる装置を提供することを目的とする。
前記目的を達成するために、本発明の第１構成は、単層もしくは多層の薄膜を基板上にまたは独立して形成した試料に１次Ｘ線を照射し、発生する２次Ｘ線の測定強度に基づいてファンダメンタルパラメーター法により前記薄膜の組成および／または厚さの定量値を求める蛍光Ｘ線分析装置であって、強度を測定すべき２次Ｘ線である測定線による分析について、定量誤差の推定および／または分析の可否の判断を行う測定線評価手段と、その測定線評価手段によって得られた定量誤差および／または分析の可否を表示器に表示させる表示制御手段とを備えている。
そして、前記測定線評価手段が、まず、前記薄膜について指定された組成および／または厚さに基づいて、指定された測定線のすべてについて理論強度計算および装置感度により推定測定強度を算出する。次に、その推定測定強度の組のうち１つの測定線の推定測定強度のみを所定量変化させた推定測定強度の組に基づいて、ファンダメンタルパラメーター法により推定測定強度変化後の前記薄膜の組成および／または厚さの定量値を求める手順を、推定測定強度を変化させる測定線を変えて繰返す。そして、求めた定量値と前記指定された組成および／または厚さとに基づいて、前記定量誤差の推定および／または分析の可否の判断を行う。
第１構成の蛍光Ｘ線分析装置では、薄膜について指定された組成および／または厚さに基づいて、指定された測定線のすべてについて理論強度計算および装置感度により推定測定強度を算出し、１つの測定線の推定測定強度のみを所定量変化させて、ファンダメンタルパラメーター法により推定測定強度変化後の前記薄膜の組成および／または厚さの定量値を求める手順を、推定測定強度を変化させる測定線を変えて繰返し、求めた定量値と前記指定された組成および／または厚さとに基づいて、前記定量誤差の推定および／または分析の可否の判断を行う。
つまり、各測定線の強度が薄膜の組成と厚さの両方に大きく依存しているという現実に沿って、定量誤差の推定および／または分析の可否の判断を行うので、薄膜の各層の組成と厚さの両方を分析し、かつ、同一元素が異なる層に含まれる場合にも、適切な測定線の選択を容易にし、正確な分析ができる。
本発明の第２構成は、単層もしくは多層の薄膜を基板上にまたは独立して形成した試料に１次Ｘ線を照射し、発生する２次Ｘ線の測定強度に基づいてファンダメンタルパラメーター法により前記薄膜の組成および／または厚さの定量値を求める蛍光Ｘ線分析装置であって、強度を測定すべき２次Ｘ線である測定線による分析について、定量誤差の推定および／または分析の可否の判断ならびに最適な測定線の組み合わせの選択を行う測定線評価手段と、その測定線評価手段によって得られた定量誤差および／または分析の可否ならびに最適な測定線の組み合わせを表示器に表示させる表示制御手段とを備えている。
そして、前記測定線評価手段が、まず、前記薄膜について指定された組成および／または厚さに基づいて、強度を測定できる測定線のすべてについて理論強度計算および装置感度により推定測定強度を算出する。次に、前記強度を測定できる測定線のすべてから、前記薄膜の組成および／または厚さの定量値を求めるための測定線の組み合わせを作成する。次に、その測定線の組み合わせごとに、その組み合わせに含まれる測定線の前記推定測定強度の組のうち１つの測定線の推定測定強度のみを所定量変化させた推定測定強度の組に基づいて、ファンダメンタルパラメーター法により推定測定強度変化後の前記薄膜の組成および／または厚さの定量値を求める手順を、推定測定強度を変化させる測定線を変えて繰返す。そして、求めた定量値と前記指定された組成および／または厚さとに基づいて、前記定量誤差の推定および／または分析の可否の判断ならびに最適な測定線の組み合わせの選択を行う。
第２構成の蛍光Ｘ線分析装置では、薄膜について指定された組成および／または厚さに基づいて、強度を測定できる測定線のすべてについて理論強度計算および装置感度により推定測定強度を算出し、前記薄膜の組成および／または厚さの定量値を求めるための測定線の組み合わせを作成し、その測定線の組み合わせごとに、１つの測定線の推定測定強度のみを所定量変化させて、ファンダメンタルパラメーター法により推定測定強度変化後の前記薄膜の組成および／または厚さの定量値を求める手順を、推定測定強度を変化させる測定線を変えて繰返し、求めた定量値と前記指定された組成および／または厚さとに基づいて、前記定量誤差の推定および／または分析の可否の判断ならびに最適な測定線の組み合わせの選択を行う。
つまり、各測定線の強度が薄膜の組成と厚さの両方に大きく依存しているという現実に沿って、定量誤差の推定および／または分析の可否の判断のみならず、最適な測定線の組み合わせの選択をも行うので、薄膜の各層の組成と厚さの両方を分析し、かつ、同一元素が異なる層に含まれる場合にも、適切な測定線の選択が自動的になされ、正確な分析ができる。
請求の範囲および／または明細書および／または図面に開示された少なくとも２つの構成のどのような組合せも、本発明に含まれる。特に、請求の範囲の各請求項の２つ以上のどのような組合せも、本発明に含まれる。
この発明は、添付の図面を参考にした以下の好適な実施形態の説明からより明瞭に理解されるであろう。しかしながら、実施形態および図面は単なる図示および説明のためのものであり、この発明の範囲を定めるために利用されるべきでない。この発明の範囲は添付の請求の範囲によって定まる。添付図面において、複数の図面における同一の部品番号は、同一部分を示す。
本発明の第１、第２実施形態の蛍光Ｘ線分析装置を示す概略図である。
第１実施形態の蛍光Ｘ線分析装置の動作を示すフローチャートである。
第２実施形態の蛍光Ｘ線分析装置の動作を示すフローチャートである。
以下、本発明の第１実施形態の装置について、図にしたがって説明する。図１に示すように、この装置は、単層もしくは多層の薄膜を基板上にまたは独立して形成した試料３に、Ｘ線管等のＸ線源１から１次Ｘ線２を照射して、発生する２次Ｘ線４の強度を検出手段９で測定し、その測定強度に基づいてファンダメンタルパラメーター法（以下、ＦＰ法ともいう）により前記薄膜の組成および／または厚さの定量値を求める蛍光Ｘ線分析装置であって、強度を測定すべき２次Ｘ線である測定線４による分析について、定量誤差の推定および／または分析の可否の判断を行う測定線評価手段２３と、その測定線評価手段２３によって得られた定量誤差および／または分析の可否を液晶ディスプレイ等の表示器１６に表示させる表示制御手段２２とを備えている。
ここで、試料３は、いわゆる薄膜試料で、例えば鉄亜鉛合金めっき鋼板であり、試料台８に載置される。検出手段９は、試料３から発生する蛍光Ｘ線等の２次Ｘ線４を分光する分光素子５と、分光された２次Ｘ線６ごとにその強度を測定する検出器７で構成される。なお、分光素子５を用いずに、エネルギー分解能の高い検出器を検出手段としてもよい。また、表示制御手段２２および測定線評価手段２３は、分析条件作成手段２０に含まれている。
測定強度に基づいてＦＰ法により薄膜の組成および／または厚さの定量値を求めるとは、試料３を構成する各薄膜（単層の場合もある）について仮定した組成および／または厚さに基づいて、１次Ｘ線２により励起されて試料３から発生する２次Ｘ線４の理論強度を計算し、その理論強度と試料３についての測定強度を理論強度スケールに換算した換算測定強度とが合致するように、各薄膜について仮定した組成および／または厚さを逐次近似的に修正計算して、組成および／または厚さの定量値を求めることをいう。
第１実施形態の蛍光Ｘ線分析装置が備える測定線評価手段２３は、具体的には、図２のフローチャートに示したように動作する。まず、ステップＳ１において、分析条件作成手段２０に設けられた図示しない入力手段を用いて操作者により薄膜i について指定された組成（各成分の含有率）Ｗi1および／または厚さＴi1（符号1 は指定された数値であることを示す）に基づいて、同様に指定された測定線ipのすべてについて理論強度計算および装置感度により推定測定強度ＩipM1（符号M は測定強度スケールであることを示す）を算出する。推定測定強度ＩipM1は、各測定線ipについて理論計算により算出された理論強度ＩipT1（符号T は理論強度スケールであることを示す）を、装置感度ｋipで除して測定強度スケールに換算することにより、算出される。なお、装置感度ｋipは、あらかじめ、測定線ipごとに純物質などの標準試料を測定し、測定強度に対する理論強度の比として求めて、測定線評価手段２３に記憶させておく。
次に、ステップＳ２において、ステップＳ１で算出した推定測定強度ＩipM1の組のうち１つの測定線の推定測定強度のみを所定量変化させた推定測定強度ＩipM2の組に基づいて、ＦＰ法により推定測定強度変化後の薄膜の組成の定量値Ｗi2(ip)および／または厚さの定量値Ｔi2(ip)を求める（符号2 は指定された数値から変化した数値であることを示す）。より具体的には、まず、次式（１）により、各測定線ipの強度についての精度Ｓipを推定する。
Ｓip＝（ＩipM1／ｔ）１／２ …（１）
ここで、ｔは測定時間（秒）で、例えば４０秒とする。そして、ステップＳ１で算出した推定測定強度ＩipM1の組のうち、１つの測定線ipの推定測定強度ＩipM1のみに、次式（２）により精度Ｓipの所定倍（α倍、例えば２倍）を加えて、推定測定強度ＩipM2とする。
ＩipM2＝ＩipM1＋α×Ｓip …（２）
他の測定線ipについては、次式（３）によりもとのままの推定測定強度ＩipM1とする。
ＩipM2＝ＩipM1 …（３）
これらの式（２）、（３）による推定測定強度ＩipM2から新たな推定測定強度ＩipM2の組を作成する。そして、新たな推定測定強度ＩipM2の組に基づいて、ＦＰ法により推定測定強度変化後の薄膜の組成の定量値Ｗi2(ip)および／または厚さの定量値Ｔi2(ip)を求める。なお、定量値に至るまでのＦＰ法における繰り返し計算の回数に上限値（例えば２回）を設けてもよい。この動作を、測定線ipの推定測定強度を１つずつＩipM1＋α×Ｓipに変化させて行う。つまり、ステップＳ２の手順を、推定測定強度ＩipM1を変化させる測定線ipを変えて、指定された測定線ipのすべてについて推定測定強度ＩipM1を変化させるまで繰返す。測定線のＸ線強度のばらつきは、測定線ごとに独立した現象であるので、このように１つ１つの測定線の推定測定強度だけを変化させても合理性は失われない。
そして、ステップＳ３において、ステップＳ２で求めた組成の定量値Ｗi2(ip)および／または厚さの定量値Ｔi2(ip)と前記指定された組成Ｗi1および／または厚さＴi1とに基づいて、定量誤差ΔＷi および／またはΔＴi の推定、および／または、分析の可否の判断を行う。より具体的には、まず、次式（４）および／または（５）により、推定測定強度を変化させた測定線ipごとに、変化後の組成の定量値Ｗi2(ip)および／または厚さの定量値Ｔi2(ip)と、指定された組成Ｗi1および／または厚さＴi1との差を求める。
ΔＷi(ip) ＝Ｗi2(ip)−Ｗi1 …（４）
ΔＴi(ip) ＝Ｔi2(ip)−Ｔi1 …（５）
そして、次式（６）および／または（７）で示される誤差の自乗平均平方根として、各薄膜i について、指定された全測定線ipを考慮した、組成の定量誤差ΔＷi および／または厚さの定量誤差ΔＴi を推定する。ここで、ｎは測定線の数である。
ΔＷi ＝（ΣipΔＷi(ip)２／ｎ）１／２ …（６）
ΔＴi ＝（ΣipΔＴi(ip)２／ｎ）１／２ …（７）
この定量誤差ΔＷi および／またはΔＴi の推定に代えて、または定量誤差ΔＷi および／またはΔＴi の推定に加えて、次式（８）および／または（９）により、指定された測定線による分析の可否の判断を行ってもよい。
ΔＷi ／Ｗi1＜Ｒs …（８）
ΔＴi ／Ｔi1＜Ｒs …（９）
ここで、Ｒsは必要相対精度であり、例えば一律に０．０５とするが、各薄膜i について個別に設定してもよい。そして、すべての薄膜の組成および／または厚さについて式（８）および／または（９）が満たされれば、分析可能と判断し、１つでも満たされなければ分析不可と判断する。なお、分析の可否の判断は、次式（１０）および／または（１１）により、指定された各測定線について行ってもよく、ステップＳ２のループの中で行ってもよい。
ΔＷi(ip) ／Ｗi1＜Ｒs …（１０）
ΔＴi(ip) ／Ｔi1＜Ｒs …（１１）
このように測定線評価手段２３によって得られた、定量誤差ΔＷi および／またはΔＴi 、および／または、分析の可否が、表示制御手段２２により表示器１６に表示される。以上のように、第１実施形態の蛍光Ｘ線分析装置では、各測定線ipの強度が薄膜の組成と厚さの両方に大きく依存しているという現実に沿って、定量誤差ΔＷi および／またはΔＴi の推定、および／または、分析の可否の判断を行い、その結果が表示器１６に表示されるので、薄膜の各層の組成と厚さの両方を分析し、かつ、同一元素が異なる層に含まれる場合にも、操作者は、表示された結果に基づいて、測定線を容易かつ適切に選択でき、正確な分析ができる。
次に、本発明の第２実施形態の蛍光Ｘ線分析装置について説明する。図１に示すように、この装置は、単層もしくは多層の薄膜を基板上にまたは独立して形成した試料３に１次Ｘ線２を照射し、発生する２次Ｘ線４の測定強度に基づいてＦＰ法により前記薄膜の組成および／または厚さの定量値を求める蛍光Ｘ線分析装置であって、強度を測定すべき２次Ｘ線である測定線４による分析について、定量誤差の推定および／または分析の可否の判断ならびに最適な測定線の組み合わせの選択を行う測定線評価手段３３と、その測定線評価手段３３によって得られた定量誤差および／または分析の可否ならびに最適な測定線の組み合わせを表示器１６に表示させる表示制御手段３２とを備えている。
第２実施形態の装置は、測定線評価手段３３の動作と、表示制御手段３２の動作すなわち表示器１６に表示される内容とが、第１実施形態の装置と異なるので、それらについて説明する。
第２実施形態の装置が備える測定線評価手段３３は、具体的には、図３のフローチャートに示したように動作する。まず、ステップＳ１Ａにおいて、薄膜i について第１実施形態の装置と同様に指定された組成Ｗi1および／または厚さＴi1に基づいて、強度を測定できる測定線ipのすべてについて、第１実施形態の装置と同様に理論強度計算および装置感度により推定測定強度ＩipM1を算出する。強度を測定できる測定線ipは、測定線評価手段３３が記憶している薄膜i を構成する元素ごとの測定線の表から、使用する装置の構成（例えば分光素子）に基づいて検索される。例えば、試料３が、鋼板である基板の上に鉄および亜鉛からなるめっき被膜が形成された鉄亜鉛合金めっき鋼板であり、指定された組成Ｗi1が鉄の含有率であって亜鉛は残分とされ、基板が鉄とされる場合には、Ｚn −Ｋα、Ｚn −Ｋβ、Ｚn −Ｌα、Ｆe −Ｋα、Ｆe −Ｋβ、Ｆe −Ｌαの６つの測定線ipが検索される。
次に、ステップＳ２Ａ−１において、ステップＳ１Ａで検索した測定線ipのすべてから、薄膜の組成および／または厚さの定量値を求めるための測定線ipの組み合わせj を作成する。上述の例では、めっき被膜について鉄の含有率と厚さを分析するため２つの測定線を使用するので、１５通りの組み合わせが作成される。
次に、ステップＳ２Ａ−２において、ステップＳ２Ａ−１で作成した測定線ipの組み合わせj ごとに、その組み合わせj に含まれる測定線ipについてステップＳ１Ａで算出した推定測定強度ＩipM1の組のうち１つの測定線の推定測定強度のみを所定量変化させた推定測定強度ＩipM2の組に基づいて、ＦＰ法により推定測定強度変化後の薄膜の組成の定量値Ｗi2(ip,j)および／または厚さの定量値Ｔi2(ip,j)を求める手順を、推定測定強度ＩipM1を変化させる測定線ipを変えて繰返す。つまり、ステップＳ２Ａ−１で作成した測定線ipの組み合わせj のすべてについて、第１実施形態の装置の測定線評価手段２３におけるステップＳ２の動作を行う。
そして、ステップＳ３Ａにおいて、ステップＳ２Ａ−２で求めた組成の定量値Ｗi2(ip,j)および／または厚さの定量値Ｔi2(ip,j)と前記指定された組成Ｗi1および／または厚さＴi1とに基づいて、定量誤差ΔＷijおよび／またはΔＴijの推定、および／または、分析の可否の判断、ならびに最適な測定線の組み合わせの選択を行う。より具体的には、まず、次式（１２）および／または（１３）により、ステップＳ２Ａ−１で作成した測定線ipの組み合わせj のすべてについて、推定測定強度を変化させた測定線ipごとに、変化後の組成の定量値Ｗi2(ip,j)および／または厚さの定量値Ｔi2(ip,j)と、指定された組成Ｗi1および／または厚さＴi1との差を求める。
ΔＷi(ip,j) ＝Ｗi2(ip,j)−Ｗi1 …（１２）
ΔＴi(ip,j) ＝Ｔi2(ip,j)−Ｔi1 …（１３）
そして、次式（１４）および／または（１５）により、ステップＳ２Ａ−１で作成した測定線ipの組み合わせj のすべてにおいて、各薄膜i について、組み合わせた全測定線ipを考慮した、組成の定量誤差ΔＷijおよび／または厚さの定量誤差ΔＴijを推定する。なお、前述したようにｎは測定線の数である。
ΔＷij＝（ΣipΔＷi(ip,j)２／ｎ）１／２ …（１４）
ΔＴij＝（ΣipΔＴi(ip,j)２／ｎ）１／２ …（１５）
さらに、このように推定した組成の定量誤差ΔＷijおよび／または厚さの定量誤差ΔＴijに基づいて、例えば、測定線ipの各組み合わせj において、組成の定量相対誤差ΔＷij／Ｗi1および／または厚さの定量相対誤差ΔＴij／Ｔi1を算出し、最も数値の大きい定量相対誤差をその組み合わせj の代表定量相対誤差とし、すべての組み合わせの中で、代表定量相対誤差が最も小さい組み合わせを、最適な測定線の組み合わせとして選択する。
また、選択した最適な測定線の組み合わせについて、前式（８）および／または（９）により、分析の可否の判断を行ってもよい。
この場合も、すべての薄膜の組成および／または厚さについて式（８）および／または（９）が満たされれば、分析可能と判断し、１つでも満たされなければ分析不可と判断する。なお、分析の可否の判断は、ステップＳ２Ａ−２における測定線ipの各組み合わせj において、前式（１０）および／または（１１）により、各測定線ipについて行い、分析不可と判断した時点でその組み合わせの処理を終了して、次の組み合わせの処理に移ってもよい。
このように測定線評価手段３３によって得られた、最適な測定線の組み合わせ、ならびに、その組み合わせj における定量誤差ΔＷijおよび／またはΔＴij、および／または、同組み合わせj における分析の可否が、表示制御手段３２により表示器１６に表示される。分析不可の場合、厚さ分析不可の層および／または含有率分析不可の成分とその成分を含む層を表示器１６に表示してもよい。
第２実施形態の装置を用いて鉄亜鉛合金めっき鋼板の鉄亜鉛の合金層を分析する場合を例にとり、測定線評価手段３３による定量誤差の推定結果を表１に示す。この例では、指定されたＦｅの含有率は１０．０％、指定された厚さは４．３μｍである。また、前述したように、強度を測定できる測定線は６つであり、１５通りの測定線の組み合わせが作成される。前式（２）における推定測定強度の変化量を精度の２倍とし、各種再現性を考慮してＸ線強度の相対精度の下限を０．０５％としている。表１中の「ＲＭＳ」は、前式（１４）および（１５）で推定した定量誤差（誤差の自乗平均の平方根）であり、「解なし」は、含有率と厚さとで整合性のとれる定量値が求められなかったことを意味している。
表１において含有率と厚さについてそれぞれ推定した定量誤差ＲＭＳが両方とも最小となる、Ｚn −ＫβとＺn −Ｌαの組み合わせが、最適な測定線の組み合わせとして測定線評価手段３３により選択され、その旨が表示制御手段３２により表示器１６に表示される。
以上のように、第２実施形態の蛍光Ｘ線分析装置では、各測定線の強度が薄膜の組成と厚さの両方に大きく依存しているという現実に沿って、定量誤差の推定および／または分析の可否の判断のみならず、最適な測定線の組み合わせの選択をも行うので、薄膜の各層の組成と厚さの両方を分析し、かつ、同一元素が異なる層に含まれる場合にも、適切な測定線の選択が自動的になされ、正確な分析ができる。
以上のとおり、図面を参照しながら好適な実施例を説明したが、当業者であれば、本件明細書を見て、自明な範囲内で種々の変更および修正を容易に想定するであろう。したがって、そのような変更および修正は、添付の請求の範囲から定まるこの発明の範囲内のものと解釈される。
２ １次Ｘ線
３ 試料
４ ２次Ｘ線（測定線）
１６ 表示器
２２，３２ 表示制御手段
２３，３３ 測定線評価手段
３ 試料
４ ２次Ｘ線（測定線）
１６ 表示器
２２，３２ 表示制御手段
２３，３３ 測定線評価手段
Claims (2)
- 単層もしくは多層の薄膜を基板上にまたは独立して形成した試料に１次Ｘ線を照射し、発生する２次Ｘ線の測定強度に基づいてファンダメンタルパラメーター法により前記薄膜の組成および／または厚さの定量値を求める蛍光Ｘ線分析装置であって、
強度を測定すべき２次Ｘ線である測定線による分析について、定量誤差の推定および／または分析の可否の判断を行う測定線評価手段と、
その測定線評価手段によって得られた定量誤差および／または分析の可否を表示器に表示させる表示制御手段とを備え、
前記測定線評価手段が、
前記薄膜について指定された組成および／または厚さに基づいて、指定された測定線のすべてについて理論強度計算および装置感度により推定測定強度を算出し、
その推定測定強度の組のうち１つの測定線の推定測定強度のみを所定量変化させた推定測定強度の組に基づいて、ファンダメンタルパラメーター法により推定測定強度変化後の前記薄膜の組成および／または厚さの定量値を求める手順を、推定測定強度を変化させる測定線を変えて繰返し、
求めた定量値と前記指定された組成および／または厚さとに基づいて、前記定量誤差の推定および／または分析の可否の判断を行う蛍光Ｘ線分析装置。 - 単層もしくは多層の薄膜を基板上にまたは独立して形成した試料に１次Ｘ線を照射し、発生する２次Ｘ線の測定強度に基づいてファンダメンタルパラメーター法により前記薄膜の組成および／または厚さの定量値を求める蛍光Ｘ線分析装置であって、
強度を測定すべき２次Ｘ線である測定線による分析について、定量誤差の推定および／または分析の可否の判断ならびに最適な測定線の組み合わせの選択を行う測定線評価手段と、
その測定線評価手段によって得られた定量誤差および／または分析の可否ならびに最適な測定線の組み合わせを表示器に表示させる表示制御手段とを備え、
前記測定線評価手段が、
前記薄膜について指定された組成および／または厚さに基づいて、強度を測定できる測定線のすべてについて理論強度計算および装置感度により推定測定強度を算出し、
前記強度を測定できる測定線のすべてから、前記薄膜の組成および／または厚さの定量値を求めるための測定線の組み合わせを作成し、
その測定線の組み合わせごとに、その組み合わせに含まれる測定線の前記推定測定強度の組のうち１つの測定線の推定測定強度のみを所定量変化させた推定測定強度の組に基づいて、ファンダメンタルパラメーター法により推定測定強度変化後の前記薄膜の組成および／または厚さの定量値を求める手順を、推定測定強度を変化させる測定線を変えて繰返し、
求めた定量値と前記指定された組成および／または厚さとに基づいて、前記定量誤差の推定および／または分析の可否の判断ならびに最適な測定線の組み合わせの選択を行う蛍光Ｘ線分析装置。
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