JP2000065765A - 蛍光ｘ線分析装置 - Google Patents
蛍光ｘ線分析装置Info
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- JP2000065765A JP2000065765A JP10232513A JP23251398A JP2000065765A JP 2000065765 A JP2000065765 A JP 2000065765A JP 10232513 A JP10232513 A JP 10232513A JP 23251398 A JP23251398 A JP 23251398A JP 2000065765 A JP2000065765 A JP 2000065765A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 蛍光Ｘ線分析において、適切な時間と分析精
度での測定ができる装置を提供する。 【解決手段】 代表的な試料３についてピーク強度およ
びバックグラウンド強度を測定する測定手段１２と、そ
れらの測定強度に基づいて指定された分析精度が得られ
る測定時間を算出する第１算出手段１４と、その算出さ
れた測定時間を表示する表示手段１９等を備える。
度での測定ができる装置を提供する。 【解決手段】 代表的な試料３についてピーク強度およ
びバックグラウンド強度を測定する測定手段１２と、そ
れらの測定強度に基づいて指定された分析精度が得られ
る測定時間を算出する第１算出手段１４と、その算出さ
れた測定時間を表示する表示手段１９等を備える。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、試料に１次Ｘ線を
照射して発生する蛍光Ｘ線の強度を測定し、その測定強
度に基づいて、試料における元素の濃度を求める蛍光Ｘ
線分析装置に関するものである。
照射して発生する蛍光Ｘ線の強度を測定し、その測定強
度に基づいて、試料における元素の濃度を求める蛍光Ｘ
線分析装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、試料に１次Ｘ線を照射して、
試料中の元素から発生する蛍光Ｘ線の強度を測定し、そ
の測定強度に基づいて、試料における元素の濃度を求め
るいわゆる蛍光Ｘ線分析においては、分析精度は、測定
時間の関数であるが、試料における元素の濃度やバック
グラウンド強度によっても変動し、所望の分析精度が得
られるように測定時間を決定することが容易でないの
で、例えば、測定時間を一律に、重元素では２０秒、重
元素よりも感度の劣る軽元素では４０秒としている。
試料中の元素から発生する蛍光Ｘ線の強度を測定し、そ
の測定強度に基づいて、試料における元素の濃度を求め
るいわゆる蛍光Ｘ線分析においては、分析精度は、測定
時間の関数であるが、試料における元素の濃度やバック
グラウンド強度によっても変動し、所望の分析精度が得
られるように測定時間を決定することが容易でないの
で、例えば、測定時間を一律に、重元素では２０秒、重
元素よりも感度の劣る軽元素では４０秒としている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、これでは、実
際には、所望の十分な分析精度が得られなかったり、逆
に不必要に測定時間が長くなったりする。すなわち、適
切な時間と分析精度での測定ができない。同様に、従来
の蛍光Ｘ線分析装置では、所望の測定時間においてどれ
ほどの分析精度が得られるのかを事前に容易に知ること
もできず、やはり、適切な時間と分析精度での測定がで
きない。
際には、所望の十分な分析精度が得られなかったり、逆
に不必要に測定時間が長くなったりする。すなわち、適
切な時間と分析精度での測定ができない。同様に、従来
の蛍光Ｘ線分析装置では、所望の測定時間においてどれ
ほどの分析精度が得られるのかを事前に容易に知ること
もできず、やはり、適切な時間と分析精度での測定がで
きない。
【０００４】本発明は前記従来の問題に鑑みてなされた
もので、いわゆる蛍光Ｘ線分析において、適切な時間と
分析精度での測定ができる装置を提供することを目的と
する。
もので、いわゆる蛍光Ｘ線分析において、適切な時間と
分析精度での測定ができる装置を提供することを目的と
する。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、請求項１の蛍光Ｘ線分析装置は、まず、試料が固定
される試料台と、試料に１次Ｘ線を照射するＸ線源と、
試料から発生する２次Ｘ線の強度を測定する検出手段と
を備える。さらに、以下の測定手段、第１算出手段およ
び表示手段を備える。前記測定手段は、代表的な試料に
Ｘ線源から１次Ｘ線を照射させ、その試料中の元素から
発生する蛍光Ｘ線のピーク強度およびバックグラウンド
強度を検出手段に測定させ、それらの測定強度を記憶す
る。
に、請求項１の蛍光Ｘ線分析装置は、まず、試料が固定
される試料台と、試料に１次Ｘ線を照射するＸ線源と、
試料から発生する２次Ｘ線の強度を測定する検出手段と
を備える。さらに、以下の測定手段、第１算出手段およ
び表示手段を備える。前記測定手段は、代表的な試料に
Ｘ線源から１次Ｘ線を照射させ、その試料中の元素から
発生する蛍光Ｘ線のピーク強度およびバックグラウンド
強度を検出手段に測定させ、それらの測定強度を記憶す
る。
【０００６】前記第１算出手段は、分析対象の試料につ
いてピーク強度のみを測定するとの指示を受けた場合に
は、前記測定手段に記憶されたピーク強度およびバック
グラウンド強度に基づいて、前記代表的な試料について
指定された分析精度が得られるピーク測定時間を算出
し、一方、分析対象の試料についてピーク強度およびバ
ックグラウンド強度を測定するとの指示を受けた場合に
は、前記測定手段に記憶されたピーク強度およびバック
グラウンド強度に基づいて、前記代表的な試料について
指定された分析精度が得られるピーク測定時間およびバ
ックグラウンド測定時間を算出する。前記表示手段は、
第１算出手段で算出されたピーク測定時間またはピーク
測定時間およびバックグラウンド測定時間を表示する。
いてピーク強度のみを測定するとの指示を受けた場合に
は、前記測定手段に記憶されたピーク強度およびバック
グラウンド強度に基づいて、前記代表的な試料について
指定された分析精度が得られるピーク測定時間を算出
し、一方、分析対象の試料についてピーク強度およびバ
ックグラウンド強度を測定するとの指示を受けた場合に
は、前記測定手段に記憶されたピーク強度およびバック
グラウンド強度に基づいて、前記代表的な試料について
指定された分析精度が得られるピーク測定時間およびバ
ックグラウンド測定時間を算出する。前記表示手段は、
第１算出手段で算出されたピーク測定時間またはピーク
測定時間およびバックグラウンド測定時間を表示する。
【０００７】請求項１の装置によれば、分析対象の試料
に組成が近似する代表的な試料について、指定した分析
精度が得られる測定時間が算出され表示されるので、そ
の表示された測定時間に基づいて、指定した分析精度が
適切か否かの判断が容易となり、分析対象の試料につい
て適切な時間と分析精度での測定ができる。
に組成が近似する代表的な試料について、指定した分析
精度が得られる測定時間が算出され表示されるので、そ
の表示された測定時間に基づいて、指定した分析精度が
適切か否かの判断が容易となり、分析対象の試料につい
て適切な時間と分析精度での測定ができる。
【０００８】請求項２の蛍光Ｘ線分析装置は、まず、請
求項１の装置と同様に、試料台と、Ｘ線源と、検出手段
と、測定手段とを備える。さらに、以下の第２算出手段
および表示手段を備える。前記第２算出手段は、分析対
象の試料についてピーク強度のみを測定するとの指示を
受けた場合には、前記測定手段に記憶されたピーク強度
およびバックグラウンド強度に基づいて、前記代表的な
試料について指定されたピーク測定時間で得られる分析
精度を算出し、一方、分析対象の試料についてピーク強
度およびバックグラウンド強度を測定するとの指示を受
けた場合には、前記測定手段に記憶されたピーク強度お
よびバックグラウンド強度に基づいて、前記代表的な試
料について指定されたピーク測定時間およびバックグラ
ウンド測定時間で得られる分析精度を算出する。前記表
示手段は、第２算出手段で算出された分析精度を表示す
る。
求項１の装置と同様に、試料台と、Ｘ線源と、検出手段
と、測定手段とを備える。さらに、以下の第２算出手段
および表示手段を備える。前記第２算出手段は、分析対
象の試料についてピーク強度のみを測定するとの指示を
受けた場合には、前記測定手段に記憶されたピーク強度
およびバックグラウンド強度に基づいて、前記代表的な
試料について指定されたピーク測定時間で得られる分析
精度を算出し、一方、分析対象の試料についてピーク強
度およびバックグラウンド強度を測定するとの指示を受
けた場合には、前記測定手段に記憶されたピーク強度お
よびバックグラウンド強度に基づいて、前記代表的な試
料について指定されたピーク測定時間およびバックグラ
ウンド測定時間で得られる分析精度を算出する。前記表
示手段は、第２算出手段で算出された分析精度を表示す
る。
【０００９】請求項２の装置によれば、分析対象の試料
に組成が近似する代表的な試料について、指定した測定
時間で得られる分析精度が算出され表示されるので、そ
の表示された分析精度に基づいて、指定した測定時間が
適切か否かの判断が容易となり、分析対象の試料につい
て適切な時間と分析精度での測定ができる。
に組成が近似する代表的な試料について、指定した測定
時間で得られる分析精度が算出され表示されるので、そ
の表示された分析精度に基づいて、指定した測定時間が
適切か否かの判断が容易となり、分析対象の試料につい
て適切な時間と分析精度での測定ができる。
【００１０】請求項３の蛍光Ｘ線分析装置は、分析対象
の試料における元素の濃度の範囲、または分析対象の試
料における元素の濃度と前記代表的な試料における元素
の濃度との比の範囲が指定され、前記測定手段に記憶さ
れたピーク強度およびバックグラウンド強度に基づい
て、前記指定された範囲内の各濃度または濃度比におけ
る分析精度、および検出限界を算出する第３算出手段を
備える。また、前記表示手段が、前記第３算出手段で算
出された分析精度および検出限界を表示する。
の試料における元素の濃度の範囲、または分析対象の試
料における元素の濃度と前記代表的な試料における元素
の濃度との比の範囲が指定され、前記測定手段に記憶さ
れたピーク強度およびバックグラウンド強度に基づい
て、前記指定された範囲内の各濃度または濃度比におけ
る分析精度、および検出限界を算出する第３算出手段を
備える。また、前記表示手段が、前記第３算出手段で算
出された分析精度および検出限界を表示する。
【００１１】請求項３の装置によれば、分析対象の試料
における元素の濃度等の範囲を想定して指定すれば、そ
の範囲の各濃度等における分析精度、および検出限界が
算出され表示されるので、それらの表示された分析精度
および検出限界に基づいて前記指定した分析精度または
測定時間が適切か否かの判断がいっそう容易となり、分
析対象の試料についていっそう適切な時間と分析精度で
の測定ができる。
における元素の濃度等の範囲を想定して指定すれば、そ
の範囲の各濃度等における分析精度、および検出限界が
算出され表示されるので、それらの表示された分析精度
および検出限界に基づいて前記指定した分析精度または
測定時間が適切か否かの判断がいっそう容易となり、分
析対象の試料についていっそう適切な時間と分析精度で
の測定ができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の第１実施形態の装
置について説明する。まず、この装置の構成について、
図１にしたがって説明する。この装置は、まず、試料
３，１３が固定される試料台８と、試料３，１３に１次
Ｘ線２を照射するＸ線源１と、試料３，１３から発生す
る２次Ｘ線６の強度を測定する検出手段１０とを備えて
いる。検出手段１０は、試料３，１３から発生した２次
Ｘ線４を分光する分光器５と、分光器５で分光された波
長ごとの２次Ｘ線６の強度を測定する検出器７からな
る。この装置は、分光器５と検出器７がゴニオメータに
よって連動されるいわゆるスキャン型の装置である。ま
た、この装置は、以下の、測定手段１２、第１算出手段
１４および第３算出手段１６を含む制御手段１７、なら
びに表示手段１９を備えている。
置について説明する。まず、この装置の構成について、
図１にしたがって説明する。この装置は、まず、試料
３，１３が固定される試料台８と、試料３，１３に１次
Ｘ線２を照射するＸ線源１と、試料３，１３から発生す
る２次Ｘ線６の強度を測定する検出手段１０とを備えて
いる。検出手段１０は、試料３，１３から発生した２次
Ｘ線４を分光する分光器５と、分光器５で分光された波
長ごとの２次Ｘ線６の強度を測定する検出器７からな
る。この装置は、分光器５と検出器７がゴニオメータに
よって連動されるいわゆるスキャン型の装置である。ま
た、この装置は、以下の、測定手段１２、第１算出手段
１４および第３算出手段１６を含む制御手段１７、なら
びに表示手段１９を備えている。
【００１３】前記測定手段１２は、代表的な試料３にＸ
線源１から１次Ｘ線２を照射させ、その試料３中の元素
から発生する蛍光Ｘ線６のピーク強度およびバックグラ
ウンド強度を検出手段１０に測定させ、それらの測定強
度を記憶する。前記第１算出手段１４は、分析対象の試
料１３についてピーク強度のみを測定するとの指示を受
けた場合には、前記測定手段１２に記憶されたピーク強
度およびバックグラウンド強度に基づいて、前記代表的
な試料３について指定された分析精度が得られるピーク
測定時間を算出する。一方、前記第１算出手段１４は、
分析対象の試料１３についてピーク強度およびバックグ
ラウンド強度を測定するとの指示を受けた場合には、前
記測定手段１２に記憶されたピーク強度およびバックグ
ラウンド強度に基づいて、前記代表的な試料３について
指定された分析精度が得られるピーク測定時間およびバ
ックグラウンド測定時間を算出する。
線源１から１次Ｘ線２を照射させ、その試料３中の元素
から発生する蛍光Ｘ線６のピーク強度およびバックグラ
ウンド強度を検出手段１０に測定させ、それらの測定強
度を記憶する。前記第１算出手段１４は、分析対象の試
料１３についてピーク強度のみを測定するとの指示を受
けた場合には、前記測定手段１２に記憶されたピーク強
度およびバックグラウンド強度に基づいて、前記代表的
な試料３について指定された分析精度が得られるピーク
測定時間を算出する。一方、前記第１算出手段１４は、
分析対象の試料１３についてピーク強度およびバックグ
ラウンド強度を測定するとの指示を受けた場合には、前
記測定手段１２に記憶されたピーク強度およびバックグ
ラウンド強度に基づいて、前記代表的な試料３について
指定された分析精度が得られるピーク測定時間およびバ
ックグラウンド測定時間を算出する。
【００１４】前記第３算出手段１６は、分析対象の試料
１３における元素の濃度の範囲、または分析対象の試料
１３における元素の濃度と前記代表的な試料３における
元素の濃度との比の範囲が指定され、前記測定手段１２
に記憶されたピーク強度およびバックグラウンド強度に
基づいて、前記指定された範囲内の各濃度または濃度比
における分析精度、および検出限界を算出する。前記表
示手段１９は、具体的には、液晶表示パネル、ＣＲＴ等
であり、前記第１算出手段１２で算出されたピーク測定
時間またはピーク測定時間およびバックグラウンド測定
時間、前記第３算出手段で算出された分析精度および検
出限界等を表示する。
１３における元素の濃度の範囲、または分析対象の試料
１３における元素の濃度と前記代表的な試料３における
元素の濃度との比の範囲が指定され、前記測定手段１２
に記憶されたピーク強度およびバックグラウンド強度に
基づいて、前記指定された範囲内の各濃度または濃度比
における分析精度、および検出限界を算出する。前記表
示手段１９は、具体的には、液晶表示パネル、ＣＲＴ等
であり、前記第１算出手段１２で算出されたピーク測定
時間またはピーク測定時間およびバックグラウンド測定
時間、前記第３算出手段で算出された分析精度および検
出限界等を表示する。
【００１５】次に、この装置の動作について説明する。
最初に、分析対象の試料１３についてピーク強度および
バックグラウンド強度を測定する場合であって、分析対
象の試料１３に組成が近似する代表的な試料３の組成が
既知である場合について説明する。まず、測定手段１２
が、試料台８に固定された代表的な試料３に、Ｘ線源１
から１次Ｘ線２を照射して、その試料３中の元素から発
生する蛍光Ｘ線６のピーク強度 SＩP (cps) およびバッ
クグラウンド強度 SＩB (cps) を検出手段１０で測定
し、それらの測定強度 SＩP ， SＩB を記憶する。な
お、添字 Sは、代表的な試料３についての数値であるこ
とを意味する。
最初に、分析対象の試料１３についてピーク強度および
バックグラウンド強度を測定する場合であって、分析対
象の試料１３に組成が近似する代表的な試料３の組成が
既知である場合について説明する。まず、測定手段１２
が、試料台８に固定された代表的な試料３に、Ｘ線源１
から１次Ｘ線２を照射して、その試料３中の元素から発
生する蛍光Ｘ線６のピーク強度 SＩP (cps) およびバッ
クグラウンド強度 SＩB (cps) を検出手段１０で測定
し、それらの測定強度 SＩP ， SＩB を記憶する。な
お、添字 Sは、代表的な試料３についての数値であるこ
とを意味する。
【００１６】次に、操作者が、第１算出手段１４に、分
析対象の試料１３についてピーク強度およびバックグラ
ウンド強度を測定する旨、ピーク測定時間ＴP (sec) と
バックグラウンド測定時間ＴB (sec) との比ｈ（ｈ＝Ｔ
P ／ＴB 、例えば２）、および所望の分析精度 Aσm (m
ass ％) を指定して入力するとともに、代表的な試料３
における元素の濃度 SＷ (mass％) も入力する。ここ
で、分析精度 Aσm は、濃度の精度である。すると、第
１算出手段１４は、指定された測定時間の比ｈと、前記
測定手段１２に記憶したピーク強度 SＩP およびバック
グラウンド強度 SＩB と、代表的な試料３における元素
の濃度 SＷとに基づいて、代表的な試料３について指定
された分析精度 Aσm が得られるピーク測定時間ＴP お
よびバックグラウンド測定時間ＴB を算出する。そし
て、表示手段１９は、その算出されたピーク測定時間Ｔ
P およびバックグラウンド測定時間ＴB を表示する。な
お、添字 Aは、指定された数値であることを意味する。
析対象の試料１３についてピーク強度およびバックグラ
ウンド強度を測定する旨、ピーク測定時間ＴP (sec) と
バックグラウンド測定時間ＴB (sec) との比ｈ（ｈ＝Ｔ
P ／ＴB 、例えば２）、および所望の分析精度 Aσm (m
ass ％) を指定して入力するとともに、代表的な試料３
における元素の濃度 SＷ (mass％) も入力する。ここ
で、分析精度 Aσm は、濃度の精度である。すると、第
１算出手段１４は、指定された測定時間の比ｈと、前記
測定手段１２に記憶したピーク強度 SＩP およびバック
グラウンド強度 SＩB と、代表的な試料３における元素
の濃度 SＷとに基づいて、代表的な試料３について指定
された分析精度 Aσm が得られるピーク測定時間ＴP お
よびバックグラウンド測定時間ＴB を算出する。そし
て、表示手段１９は、その算出されたピーク測定時間Ｔ
P およびバックグラウンド測定時間ＴB を表示する。な
お、添字 Aは、指定された数値であることを意味する。
【００１７】ここで、ピーク測定時間ＴP およびバック
グラウンド測定時間ＴB の算出は、次式（１）に基づ
く。例えば、 SＩP ＝１０１００， SＩB ＝１００，ｈ
＝２， Aσm ＝０．００４， SＷ＝２の場合には、ピー
ク測定時間ＴP ＝２６(sec) およびバックグラウンド測
定時間ＴB ＝１３(sec) （小数点以下四捨五入）が、算
出され表示される。
グラウンド測定時間ＴB の算出は、次式（１）に基づ
く。例えば、 SＩP ＝１０１００， SＩB ＝１００，ｈ
＝２， Aσm ＝０．００４， SＷ＝２の場合には、ピー
ク測定時間ＴP ＝２６(sec) およびバックグラウンド測
定時間ＴB ＝１３(sec) （小数点以下四捨五入）が、算
出され表示される。
【００１８】
【数１】
【００１９】なお、この式（１）は、以下の式（２）な
いし（５）から導出される。
いし（５）から導出される。
【００２０】
【数２】
【００２１】
【数３】
【００２２】
【数４】
【００２３】
【数５】
【００２４】このように、第１実施形態の装置によれ
ば、分析対象の試料１３に組成が近似する代表的な試料
３について、例えば、指定した分析精度０．００４ (ma
ss％)が得られるピーク測定時間２６(sec) およびバッ
クグラウンド測定時間１３(sec) が算出され表示される
ので、操作者が、それらの表示された測定時間さらには
合計測定時間が３９(sec) となることに基づいて、指定
した０．００４ (mass％) という分析精度が適切か否か
を判断することが容易となり、分析対象の試料１３につ
いて適切な時間と分析精度での測定ができる。すなわ
ち、表示された測定時間が数百秒にも及ぶような場合に
は、指定した分析精度が不適切に厳しかったものと判断
され、より低い分析精度を指定して再度その分析精度が
得られる測定時間を算出、表示させてみることができ
る。
ば、分析対象の試料１３に組成が近似する代表的な試料
３について、例えば、指定した分析精度０．００４ (ma
ss％)が得られるピーク測定時間２６(sec) およびバッ
クグラウンド測定時間１３(sec) が算出され表示される
ので、操作者が、それらの表示された測定時間さらには
合計測定時間が３９(sec) となることに基づいて、指定
した０．００４ (mass％) という分析精度が適切か否か
を判断することが容易となり、分析対象の試料１３につ
いて適切な時間と分析精度での測定ができる。すなわ
ち、表示された測定時間が数百秒にも及ぶような場合に
は、指定した分析精度が不適切に厳しかったものと判断
され、より低い分析精度を指定して再度その分析精度が
得られる測定時間を算出、表示させてみることができ
る。
【００２５】分析対象の試料についてピーク強度のみを
測定する場合には、第１算出手段１４に、分析対象の試
料１３についてピーク強度のみを測定する旨が指定され
入力される点、ピーク測定時間ＴP とバックグラウンド
測定時間ＴB との比ｈの指定、入力が不要である点、第
１算出手段１４が算出し、表示手段１９が表示するもの
が、ピーク測定時間ＴP のみである点で、前述した分析
対象の試料１３についてピーク強度およびバックグラウ
ンド強度を測定する場合と異なる。ここで、ピーク測定
時間ＴP の算出は、次式（６）に基づく。
測定する場合には、第１算出手段１４に、分析対象の試
料１３についてピーク強度のみを測定する旨が指定され
入力される点、ピーク測定時間ＴP とバックグラウンド
測定時間ＴB との比ｈの指定、入力が不要である点、第
１算出手段１４が算出し、表示手段１９が表示するもの
が、ピーク測定時間ＴP のみである点で、前述した分析
対象の試料１３についてピーク強度およびバックグラウ
ンド強度を測定する場合と異なる。ここで、ピーク測定
時間ＴP の算出は、次式（６）に基づく。
【００２６】
【数６】
【００２７】なお、この式（６）は、前式（２）および
（５）ならびに以下の式（７）および（８）から導出さ
れる。
（５）ならびに以下の式（７）および（８）から導出さ
れる。
【００２８】
【数７】
【００２９】
【数８】
【００３０】この場合も前述した分析対象の試料１３に
ついてバックグラウンド強度をも測定する場合と同様
に、分析対象の試料１３に組成が近似する代表的な試料
３について、指定した分析精度 Aσm が得られるピーク
測定時間ＴP が算出され表示されるので、その表示され
たピーク測定時間ＴP すなわち全体の測定時間に基づい
て、指定した分析精度 Aσm が適切か否かの判断が容易
となり、分析対象の試料１３について適切な時間と分析
精度での測定ができる。
ついてバックグラウンド強度をも測定する場合と同様
に、分析対象の試料１３に組成が近似する代表的な試料
３について、指定した分析精度 Aσm が得られるピーク
測定時間ＴP が算出され表示されるので、その表示され
たピーク測定時間ＴP すなわち全体の測定時間に基づい
て、指定した分析精度 Aσm が適切か否かの判断が容易
となり、分析対象の試料１３について適切な時間と分析
精度での測定ができる。
【００３１】なお、代表的な試料３の組成が未知である
場合には、第１算出手段１４に入力される所望の分析精
度が、濃度の相対精度と等価と考えられるネット強度の
相対精度 AσR （無名数）となる。この場合、ピーク測
定時間ＴP 等の算出は、前式（５）からも明らかなよう
に、前式（１）または（６）において、 Aσm ／ SＷを
AσR とした式による。
場合には、第１算出手段１４に入力される所望の分析精
度が、濃度の相対精度と等価と考えられるネット強度の
相対精度 AσR （無名数）となる。この場合、ピーク測
定時間ＴP 等の算出は、前式（５）からも明らかなよう
に、前式（１）または（６）において、 Aσm ／ SＷを
AσR とした式による。
【００３２】さらに、第１実施形態の装置においては、
代表的な試料３の組成が既知である場合には、第３算出
手段１６に、分析対象の試料１３における元素の濃度Ｗ
の範囲が指定され入力される。すると、第３算出手段１
６は、前記測定手段１２に記憶されたピーク強度 SＩP
およびバックグラウンド強度 SＩB に基づいて、指定さ
れた範囲内の各濃度Ｗにおける分析精度σm 、および検
出限界 (mass％) を算出する。表示手段１９は、その算
出された各濃度Ｗにおける分析精度σm および検出限界
を表示する。ここで、算出は、次式（９）に基づき、ま
た、検出限界は、Ｗ＝０のときのσm の３倍の数値を用
いる。
代表的な試料３の組成が既知である場合には、第３算出
手段１６に、分析対象の試料１３における元素の濃度Ｗ
の範囲が指定され入力される。すると、第３算出手段１
６は、前記測定手段１２に記憶されたピーク強度 SＩP
およびバックグラウンド強度 SＩB に基づいて、指定さ
れた範囲内の各濃度Ｗにおける分析精度σm 、および検
出限界 (mass％) を算出する。表示手段１９は、その算
出された各濃度Ｗにおける分析精度σm および検出限界
を表示する。ここで、算出は、次式（９）に基づき、ま
た、検出限界は、Ｗ＝０のときのσm の３倍の数値を用
いる。
【００３３】
【数９】
【００３４】なお、この式（９）は、バックグラウンド
強度が一定で、ネット強度ＩN が濃度Ｗに比例するとの
前提で、前式（２）および（３）ならびに以下の式（１
０）および（１１）から導出される。
強度が一定で、ネット強度ＩN が濃度Ｗに比例するとの
前提で、前式（２）および（３）ならびに以下の式（１
０）および（１１）から導出される。
【００３５】
【数１０】
【００３６】
【数１１】
【００３７】例えば、前述の SＩP ＝１０１００， SＩ
B ＝１００，ｈ＝２， SＷ＝２の場合に、濃度Ｗの範囲
が５．０〜０．００１ (mass％) と指定されると、次表
１が算出、表示される。すなわち、指定された範囲内の
各濃度Ｗには、例えば、指定された範囲内のｎ×１０m
（ｎは、１、２または５。ｍは、整数）で表される離散
的濃度を用いればよい。
B ＝１００，ｈ＝２， SＷ＝２の場合に、濃度Ｗの範囲
が５．０〜０．００１ (mass％) と指定されると、次表
１が算出、表示される。すなわち、指定された範囲内の
各濃度Ｗには、例えば、指定された範囲内のｎ×１０m
（ｎは、１、２または５。ｍは、整数）で表される離散
的濃度を用いればよい。
【００３８】
【表１】
【００３９】このように、第１実施形態の装置によれ
ば、分析対象の試料１３における元素の濃度の範囲を、
例えば５．０〜０．００１ (mass％) と想定して指定す
れば、その範囲の各濃度における分析精度が０．００６
２〜０．０００７ (mass％) と、検出限界が０．００２
０ (mass％) と算出され表示されるので、それらの表示
された分析精度および検出限界に基づいて、前記指定し
た０．００４ (mass％)という分析精度が適切か否か、
さらにはそれから算出された前記ピーク測定時間２６(s
ec) およびバックグラウンド測定時間１３(sec) が適切
か否かの判断がいっそう容易となり、分析対象の試料１
３についていっそう適切な時間と分析精度での測定がで
きる。
ば、分析対象の試料１３における元素の濃度の範囲を、
例えば５．０〜０．００１ (mass％) と想定して指定す
れば、その範囲の各濃度における分析精度が０．００６
２〜０．０００７ (mass％) と、検出限界が０．００２
０ (mass％) と算出され表示されるので、それらの表示
された分析精度および検出限界に基づいて、前記指定し
た０．００４ (mass％)という分析精度が適切か否か、
さらにはそれから算出された前記ピーク測定時間２６(s
ec) およびバックグラウンド測定時間１３(sec) が適切
か否かの判断がいっそう容易となり、分析対象の試料１
３についていっそう適切な時間と分析精度での測定がで
きる。
【００４０】なお、分析対象の試料についてピーク強度
のみを測定する場合には、第３算出手段１６における算
出は、次式（１２）に基づく。
のみを測定する場合には、第３算出手段１６における算
出は、次式（１２）に基づく。
【００４１】
【数１２】
【００４２】この式（１２）は、前式（２），（７）お
よび（１１）、ならびに以下の式（１３）から導出され
る。
よび（１１）、ならびに以下の式（１３）から導出され
る。
【００４３】
【数１３】
【００４４】また、代表的な試料３の組成が未知である
場合には、第３算出手段１６に、分析対象の試料１３に
おける元素の濃度Ｗと前記代表的な試料３における元素
の濃度 SＷとの比（いわば相対濃度）Ｗ／ SＷの範囲が
指定され入力される。すると、第３算出手段１６は、前
記測定手段１２に記憶されたピーク強度 SＩP およびバ
ックグラウンド強度 SＩB に基づいて、指定された範囲
内の各濃度比Ｗ／ SＷにおける分析精度σR 、および検
出限界 (無名数) を算出する。ここで、分析精度σ
R は、第１算出手段１４に入力される所望の分析精度と
同様に、濃度の相対精度と等価と考えられるネット強度
の相対精度σR （無名数）であり、検出限界は、Ｗ／ S
Ｗ＝０のときのσR の３倍の数値を用いる。この算出
は、分析対象の試料１３についてピーク強度およびバッ
クグラウンド強度を測定する場合には前式（５）および
（９）、ピーク強度のみを測定する場合には前式（５）
および（１２）に基づく。表示手段１９は、その算出さ
れた各濃度比Ｗ／ SＷにおける分析精度σR および検出
限界を表示する。
場合には、第３算出手段１６に、分析対象の試料１３に
おける元素の濃度Ｗと前記代表的な試料３における元素
の濃度 SＷとの比（いわば相対濃度）Ｗ／ SＷの範囲が
指定され入力される。すると、第３算出手段１６は、前
記測定手段１２に記憶されたピーク強度 SＩP およびバ
ックグラウンド強度 SＩB に基づいて、指定された範囲
内の各濃度比Ｗ／ SＷにおける分析精度σR 、および検
出限界 (無名数) を算出する。ここで、分析精度σ
R は、第１算出手段１４に入力される所望の分析精度と
同様に、濃度の相対精度と等価と考えられるネット強度
の相対精度σR （無名数）であり、検出限界は、Ｗ／ S
Ｗ＝０のときのσR の３倍の数値を用いる。この算出
は、分析対象の試料１３についてピーク強度およびバッ
クグラウンド強度を測定する場合には前式（５）および
（９）、ピーク強度のみを測定する場合には前式（５）
および（１２）に基づく。表示手段１９は、その算出さ
れた各濃度比Ｗ／ SＷにおける分析精度σR および検出
限界を表示する。
【００４５】すなわち、表１を用いて説明した場合に限
らず、分析対象の試料１３についてピーク強度 SＩP の
みを測定する場合や、代表的な試料３の組成が未知であ
る場合にも、第３算出手段１６および表示手段１９によ
り、分析対象の試料１３における元素の濃度等Ｗ，Ｗ／
SＷの範囲を想定して指定すれば、その範囲の各濃度等
Ｗ，Ｗ／ SＷにおける分析精度σm ，σR 、および検出
限界が算出され表示されるので、それらの表示された分
析精度σm ，σR および検出限界に基づいて、前記指定
した分析精度 Aσm ， AσR が適切か否かの判断がいっ
そう容易となり、分析対象の試料１３についていっそう
適切な時間と分析精度での測定ができる。
らず、分析対象の試料１３についてピーク強度 SＩP の
みを測定する場合や、代表的な試料３の組成が未知であ
る場合にも、第３算出手段１６および表示手段１９によ
り、分析対象の試料１３における元素の濃度等Ｗ，Ｗ／
SＷの範囲を想定して指定すれば、その範囲の各濃度等
Ｗ，Ｗ／ SＷにおける分析精度σm ，σR 、および検出
限界が算出され表示されるので、それらの表示された分
析精度σm ，σR および検出限界に基づいて、前記指定
した分析精度 Aσm ， AσR が適切か否かの判断がいっ
そう容易となり、分析対象の試料１３についていっそう
適切な時間と分析精度での測定ができる。
【００４６】さて、次に、本発明の第２実施形態の装置
について説明する。まず、図２に示すように、この装置
の構成については、第１算出手段１４（図１）ではなく
第２算出手段１５を備え、それに応じて表示手段１９の
表示内容が異なる点でのみ前記第１実施形態の装置と異
なり、その他の点は同様であるので説明を省略する。
について説明する。まず、図２に示すように、この装置
の構成については、第１算出手段１４（図１）ではなく
第２算出手段１５を備え、それに応じて表示手段１９の
表示内容が異なる点でのみ前記第１実施形態の装置と異
なり、その他の点は同様であるので説明を省略する。
【００４７】すなわち、第２実施形態の装置が備える制
御手段１８は、前記測定手段１２、前記第３算出手段１
６のほか、第２算出手段１５を含み、その第２算出手段
１５は、分析対象の試料１３についてピーク強度のみを
測定するとの指示を受けた場合には、前記測定手段１２
に記憶されたピーク強度およびバックグラウンド強度に
基づいて、前記代表的な試料３について指定されたピー
ク測定時間で得られる分析精度を算出する。一方、前記
第２算出手段は、分析対象の試料１３についてピーク強
度およびバックグラウンド強度を測定するとの指示を受
けた場合には、前記測定手段１２に記憶されたピーク強
度およびバックグラウンド強度に基づいて、前記代表的
な試料３について指定されたピーク測定時間およびバッ
クグラウンド測定時間で得られる分析精度を算出する。
表示手段１９は、前記第２算出手段１５で算出された分
析精度、前記第３算出手段で算出された分析精度および
検出限界等を表示する。
御手段１８は、前記測定手段１２、前記第３算出手段１
６のほか、第２算出手段１５を含み、その第２算出手段
１５は、分析対象の試料１３についてピーク強度のみを
測定するとの指示を受けた場合には、前記測定手段１２
に記憶されたピーク強度およびバックグラウンド強度に
基づいて、前記代表的な試料３について指定されたピー
ク測定時間で得られる分析精度を算出する。一方、前記
第２算出手段は、分析対象の試料１３についてピーク強
度およびバックグラウンド強度を測定するとの指示を受
けた場合には、前記測定手段１２に記憶されたピーク強
度およびバックグラウンド強度に基づいて、前記代表的
な試料３について指定されたピーク測定時間およびバッ
クグラウンド測定時間で得られる分析精度を算出する。
表示手段１９は、前記第２算出手段１５で算出された分
析精度、前記第３算出手段で算出された分析精度および
検出限界等を表示する。
【００４８】次に、第２実施形態の装置の動作について
説明する。前記第１実施形態の装置は、指定された分析
精度から、それが得られる測定時間を算出、表示するも
のであったが、この第２実施形態の装置は、逆に、指定
された測定時間から、それで得られる分析精度を算出、
表示するものである。すなわち、第２算出手段１５は、
分析対象の試料１３についてピーク強度およびバックグ
ラウンド強度を測定する場合であって、代表的な試料３
の組成が既知である場合には、次式（１４）に基づい
て、代表的な試料３について指定されたピーク測定時間
AＴP およびバックグラウンド測定時間 AＴB で得られ
る分析精度 Sσm を算出し、一方、分析対象の試料１３
についてピーク強度のみを測定する場合であって、代表
的な試料３の組成が既知である場合には、次式（１５）
に基づいて、代表的な試料３について指定されたピーク
測定時間 AＴP で得られる分析精度 Sσm を算出する。
説明する。前記第１実施形態の装置は、指定された分析
精度から、それが得られる測定時間を算出、表示するも
のであったが、この第２実施形態の装置は、逆に、指定
された測定時間から、それで得られる分析精度を算出、
表示するものである。すなわち、第２算出手段１５は、
分析対象の試料１３についてピーク強度およびバックグ
ラウンド強度を測定する場合であって、代表的な試料３
の組成が既知である場合には、次式（１４）に基づい
て、代表的な試料３について指定されたピーク測定時間
AＴP およびバックグラウンド測定時間 AＴB で得られ
る分析精度 Sσm を算出し、一方、分析対象の試料１３
についてピーク強度のみを測定する場合であって、代表
的な試料３の組成が既知である場合には、次式（１５）
に基づいて、代表的な試料３について指定されたピーク
測定時間 AＴP で得られる分析精度 Sσm を算出する。
【００４９】
【数１４】
【００５０】
【数１５】
【００５１】なお、式（１４）は、前式（１０），
（３）および（２）から導出され、式（１５）は、前式
（１３），（７）および（２）から導出される。
（３）および（２）から導出され、式（１５）は、前式
（１３），（７）および（２）から導出される。
【００５２】代表的な試料３の組成が未知である場合に
は、分析対象の試料１３についてバックグラウンド強度
をも測定するか否かに応じて、前式（５）および（１
４）、または前式（５）および（１５）に基づいて、分
析精度 SσR を算出する。表示手段１９は、その算出さ
れた分析精度 Sσm ， SσR を表示する。
は、分析対象の試料１３についてバックグラウンド強度
をも測定するか否かに応じて、前式（５）および（１
４）、または前式（５）および（１５）に基づいて、分
析精度 SσR を算出する。表示手段１９は、その算出さ
れた分析精度 Sσm ， SσR を表示する。
【００５３】このように、第２実施形態の装置によれ
ば、分析対象の試料１３に組成が近似する代表的な試料
３について、指定した測定時間 AＴP ， AＴB で得られ
る分析精度 Sσm ， SσR が算出され表示されるので、
その表示された分析精度 Sσm， SσR に基づいて、指
定した測定時間 AＴP ， AＴB が適切か否かの判断が容
易となり、分析対象の試料１３について適切な時間と分
析精度での測定ができる。
ば、分析対象の試料１３に組成が近似する代表的な試料
３について、指定した測定時間 AＴP ， AＴB で得られ
る分析精度 Sσm ， SσR が算出され表示されるので、
その表示された分析精度 Sσm， SσR に基づいて、指
定した測定時間 AＴP ， AＴB が適切か否かの判断が容
易となり、分析対象の試料１３について適切な時間と分
析精度での測定ができる。
【００５４】また、第２実施形態の装置においても、第
３算出手段１６および表示手段１９により、分析対象の
試料１３における元素の濃度等Ｗ，Ｗ／ SＷの範囲を想
定して指定すれば、前式（９），（１２）等に基づい
て、指定された範囲の各濃度等Ｗ，Ｗ／ SＷにおける分
析精度σm ，σR 、および検出限界が算出され表示され
る点は、第１実施形態の装置と同様である。算出に用い
られる測定時間が、第１実施形態の装置では、指定され
た分析精度 Aσm ， AσR から第１算出手段が算出した
ものＴP ，ＴB であるが、第２実施形態の装置では、直
接指定されたもの AＴP ， AＴB である点で異なるだけ
である。したがって、第２実施形態の装置によれば、表
示された各濃度等Ｗ，Ｗ／ SＷにおける分析精度σm ，
σR および検出限界に基づいて、前記指定した測定時間
AＴP ， AＴB が適切か否かの判断がいっそう容易とな
り、分析対象の試料１３についていっそう適切な時間と
分析精度での測定ができる。なお、１台の装置に、第１
算出手段１４と第２算出手段１６の両方を備えてもよ
い。
３算出手段１６および表示手段１９により、分析対象の
試料１３における元素の濃度等Ｗ，Ｗ／ SＷの範囲を想
定して指定すれば、前式（９），（１２）等に基づい
て、指定された範囲の各濃度等Ｗ，Ｗ／ SＷにおける分
析精度σm ，σR 、および検出限界が算出され表示され
る点は、第１実施形態の装置と同様である。算出に用い
られる測定時間が、第１実施形態の装置では、指定され
た分析精度 Aσm ， AσR から第１算出手段が算出した
ものＴP ，ＴB であるが、第２実施形態の装置では、直
接指定されたもの AＴP ， AＴB である点で異なるだけ
である。したがって、第２実施形態の装置によれば、表
示された各濃度等Ｗ，Ｗ／ SＷにおける分析精度σm ，
σR および検出限界に基づいて、前記指定した測定時間
AＴP ， AＴB が適切か否かの判断がいっそう容易とな
り、分析対象の試料１３についていっそう適切な時間と
分析精度での測定ができる。なお、１台の装置に、第１
算出手段１４と第２算出手段１６の両方を備えてもよ
い。
【００５５】以上の実施形態の説明においては、バック
グラウンドの測定点は、ピーク測定位置から分光角２θ
で０．１〜１度程度離れた１点としたが、２点でもよ
い。この場合は、ピーク測定時間ＴP と第１バックグラ
ウンド測定時間ＴB1との比ｈ1（ｈ1 ＝ＴP ／ＴB1）、
およびピーク測定時間ＴP (sec) と第２バックグラウン
ド測定時間ＴB2との比ｈ2 （ｈ2 ＝ＴP ／ＴB2）を指定
すればよい。合計測定時間Ｔは、Ｔ＝ＴP ＋ＴB1＋ＴB2
となる。また、この場合には、前式（２），（３）に代
えて、次式（１６），（１７）がそれぞれ用いられる。
グラウンドの測定点は、ピーク測定位置から分光角２θ
で０．１〜１度程度離れた１点としたが、２点でもよ
い。この場合は、ピーク測定時間ＴP と第１バックグラ
ウンド測定時間ＴB1との比ｈ1（ｈ1 ＝ＴP ／ＴB1）、
およびピーク測定時間ＴP (sec) と第２バックグラウン
ド測定時間ＴB2との比ｈ2 （ｈ2 ＝ＴP ／ＴB2）を指定
すればよい。合計測定時間Ｔは、Ｔ＝ＴP ＋ＴB1＋ＴB2
となる。また、この場合には、前式（２），（３）に代
えて、次式（１６），（１７）がそれぞれ用いられる。
【００５６】
【数１６】
【００５７】
【数１７】
【００５８】バックグラウンド除去係数ｋ1 ，ｋ2 は、
通常、ピーク測定位置と各バックグラウンド測定位置と
の関係から求められる。なお、これらの式（１６），
（１７）は、バックグラウンドを１点だけ測定する場合
も含んでいるが（ｋ2 ＝０）、その場合は、ｋ1 ＝１と
することが多く、前述の実施形態もそうしたものである
（前式（２），（３））。
通常、ピーク測定位置と各バックグラウンド測定位置と
の関係から求められる。なお、これらの式（１６），
（１７）は、バックグラウンドを１点だけ測定する場合
も含んでいるが（ｋ2 ＝０）、その場合は、ｋ1 ＝１と
することが多く、前述の実施形態もそうしたものである
（前式（２），（３））。
【００５９】また、濃度が高くて、濃度と強度が比例関
係になく、前式（１０）や（１１）が成立しないような
場合には、試料全体の組成が分かれば、理論マトリック
ス補正定数を用いて濃度の精度を計算することもでき
る。
係になく、前式（１０）や（１１）が成立しないような
場合には、試料全体の組成が分かれば、理論マトリック
ス補正定数を用いて濃度の精度を計算することもでき
る。
【００６０】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、蛍光Ｘ線分析において、分析対象の試料に組成が
近似する代表的な試料について、指定した分析精度が得
られる測定時間、または指定した測定時間で得られる分
析精度が算出され表示されるので、その表示された測定
時間等に基づいて、指定した分析精度等が適切か否かの
判断が容易となり、分析対象の試料について適切な時間
と分析精度での測定ができる。
れば、蛍光Ｘ線分析において、分析対象の試料に組成が
近似する代表的な試料について、指定した分析精度が得
られる測定時間、または指定した測定時間で得られる分
析精度が算出され表示されるので、その表示された測定
時間等に基づいて、指定した分析精度等が適切か否かの
判断が容易となり、分析対象の試料について適切な時間
と分析精度での測定ができる。
【図１】本発明の第１実施形態の蛍光Ｘ線分析装置を示
す概略図である。
す概略図である。
【図２】本発明の第２実施形態の蛍光Ｘ線分析装置を示
す概略図である。
す概略図である。
１…Ｘ線源、２…１次Ｘ線、３…代表的な試料、４，６
…２次Ｘ線（蛍光Ｘ線）、８…試料台、１０…検出手
段、１２…測定手段、１３…分析対象の試料、１４…第
１算出手段、１６…第３算出手段、１９…表示手段。
…２次Ｘ線（蛍光Ｘ線）、８…試料台、１０…検出手
段、１２…測定手段、１３…分析対象の試料、１４…第
１算出手段、１６…第３算出手段、１９…表示手段。
フロントページの続き Ｆターム(参考） 2F085 AA01 AA05 BB00 CC10 EE08 2G001 AA01 BA04 CA01 EA01 FA06 FA08 FA11 FA12 FA30 GA01 HA01 JA13 KA01
Claims (3)
- 【請求項１】 試料が固定される試料台と、 試料に１次Ｘ線を照射するＸ線源と、 試料から発生する２次Ｘ線の強度を測定する検出手段
と、 代表的な試料に前記Ｘ線源から１次Ｘ線を照射させ、そ
の試料中の元素から発生する蛍光Ｘ線のピーク強度およ
びバックグラウンド強度を前記検出手段に測定させ、そ
れらの測定強度を記憶する測定手段と、 分析対象の試料についてピーク強度のみを測定するとの
指示を受けた場合には、前記測定手段に記憶されたピー
ク強度およびバックグラウンド強度に基づいて、前記代
表的な試料について指定された分析精度が得られるピー
ク測定時間を算出し、分析対象の試料についてピーク強
度およびバックグラウンド強度を測定するとの指示を受
けた場合には、前記測定手段に記憶されたピーク強度お
よびバックグラウンド強度に基づいて、前記代表的な試
料について指定された分析精度が得られるピーク測定時
間およびバックグラウンド測定時間を算出する第１算出
手段と、 その第１算出手段で算出されたピーク測定時間またはピ
ーク測定時間およびバックグラウンド測定時間を表示す
る表示手段とを備えた蛍光Ｘ線分析装置。 - 【請求項２】 試料が固定される試料台と、 試料に１次Ｘ線を照射するＸ線源と、 試料から発生する２次Ｘ線の強度を測定する検出手段
と、 代表的な試料に前記Ｘ線源から１次Ｘ線を照射させ、そ
の試料中の元素から発生する蛍光Ｘ線のピーク強度およ
びバックグラウンド強度を前記検出手段に測定させ、そ
れらの測定強度を記憶する測定手段と、 分析対象の試料についてピーク強度のみを測定するとの
指示を受けた場合には、前記測定手段に記憶されたピー
ク強度およびバックグラウンド強度に基づいて、前記代
表的な試料について指定されたピーク測定時間で得られ
る分析精度を算出し、分析対象の試料についてピーク強
度およびバックグラウンド強度を測定するとの指示を受
けた場合には、前記測定手段に記憶されたピーク強度お
よびバックグラウンド強度に基づいて、前記代表的な試
料について指定されたピーク測定時間およびバックグラ
ウンド測定時間で得られる分析精度を算出する第２算出
手段と、 その第２算出手段で算出された分析精度を表示する表示
手段とを備えた蛍光Ｘ線分析装置。 - 【請求項３】 請求項１または２において、 分析対象の試料における元素の濃度の範囲、または分析
対象の試料における元素の濃度と前記代表的な試料にお
ける元素の濃度との比の範囲が指定され、前記測定手段
に記憶されたピーク強度およびバックグラウンド強度に
基づいて、前記指定された範囲内の各濃度または濃度比
における分析精度、および検出限界を算出する第３算出
手段を備え、 前記表示手段が、前記第３算出手段で算出された分析精
度および検出限界を表示する蛍光Ｘ線分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23251398A JP3291251B2 (ja) | 1998-08-19 | 1998-08-19 | 蛍光ｘ線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23251398A JP3291251B2 (ja) | 1998-08-19 | 1998-08-19 | 蛍光ｘ線分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000065765A true JP2000065765A (ja) | 2000-03-03 |
| JP3291251B2 JP3291251B2 (ja) | 2002-06-10 |
Family
ID=16940517
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23251398A Expired - Fee Related JP3291251B2 (ja) | 1998-08-19 | 1998-08-19 | 蛍光ｘ線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3291251B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003042978A (ja) * | 2001-07-30 | 2003-02-13 | Rigaku Industrial Co | 蛍光ｘ線分析装置 |
| JP2009097957A (ja) * | 2007-10-16 | 2009-05-07 | Jeol Ltd | Ｘ線スペクトルを用いる分析方法 |
| WO2020202644A1 (ja) | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 株式会社リガク | 蛍光ｘ線分析装置 |
| WO2021124859A1 (ja) | 2019-12-19 | 2021-06-24 | 株式会社リガク | エネルギー分散型蛍光ｘ線分析装置、評価方法及び評価プログラム |
| WO2021235037A1 (ja) * | 2020-05-18 | 2021-11-25 | 株式会社リガク | 蛍光ｘ線分析装置 |
| WO2022113481A1 (ja) * | 2020-11-30 | 2022-06-02 | 株式会社リガク | 蛍光ｘ線分析装置 |
-
1998
- 1998-08-19 JP JP23251398A patent/JP3291251B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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