JP2015225000A - 蛍光x線分析装置 - Google Patents
蛍光x線分析装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015225000A JP2015225000A JP2014110782A JP2014110782A JP2015225000A JP 2015225000 A JP2015225000 A JP 2015225000A JP 2014110782 A JP2014110782 A JP 2014110782A JP 2014110782 A JP2014110782 A JP 2014110782A JP 2015225000 A JP2015225000 A JP 2015225000A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- model
- spectrum
- fluorescent
- ray
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 title claims abstract description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 44
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 44
- 238000004451 qualitative analysis Methods 0.000 claims abstract description 15
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 39
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 14
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 13
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 7
- 238000004876 x-ray fluorescence Methods 0.000 claims description 7
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 38
- 238000002083 X-ray spectrum Methods 0.000 abstract description 11
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 21
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 11
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 3
- 229910002535 CuZn Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013590 bulk material Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical group [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
【解決手段】コーティング試料モデルを複数種記憶するモデル記憶手段9の記憶内容と、未知のコーティング試料Sの蛍光X線スペクトルをバルク試料と見なして定性分析した結果とを照合し、モデル記憶手段9の記憶内容のうち、試料Sの組成として妥当なモデルを候補モデル抽出表示手段8,10により表示して、表示された候補モデルから一つを指定手段7により指定し、そのモデルの条件のもとに、演算手段5が試料Sの蛍光X線スペクトルを用いて定量演算することで、コーティング試料Sのモデル設定を簡略化する。
【選択図】図1
Description
(2)検出された元素とめっき色から考えると、真鍮めっきの可能性が最も高いと思われる。Pbはめっき層に含まれているか、下地(ベース)のFeに含まれているかは定かでないが、めっき層に含まれるものと仮定して、以下の条件を作成する。
(A)1層ベースありの層構成を指定する。
(B)1層目にCu,Zn,Pbを登録する。
(C)層の膜厚計算にはCuの強度を使用し、層内の組成計算はZn,Pbを使って設定し、Cuは組成バランス設定とする。
(D)ベースにFeを登録。このFeは固定値100%とする。
(3)以上の条件設定により再度測定する。結果は次の通りとなった。
1層目:Cu65%、Zn34.9%、Pb0.1%
ベース:Fe100%
(4)測定結果からPbは0.1%と算出されたが、めっき層ではなく下地に含まれている可能性もある。そこで、Pbが下地に含まれるものとして、以下の条件を作成する。
(A)1層ベースありの層構成を指定する。
(B)1層目にCu,Znを登録する。
(C)層の膜厚計算にはCuの強度を使用し、層内の組成計算はZnを使って設定し、Cuは組成バランス設定とする。
(D)ベースにFe,Pbを登録し、Fe,Pbについて組成の計算設定を行う。
(5)以上の条件設定により蛍光X線スペクトルを再々測定する。結果は次の通りとなった。
1層目:Cu65%、Zn35%
ベース:Fe99.5%、Pb0.5%
以上のように、煩雑な条件設定と複数回の測定が必要になる。
Cr−Coated(Crめっき−下地未知)
Cr−Zn−Coated(Cr/Znめっき−下地未知)
CuZn−Base(未知めっき−下地CuZn)
CuZn−Coated(CuZnめっき−下地未知)
Fe−Base(未知めっき−下地Fe)
などが提示されている。
2 X線検出器
3 マルチチャンネルアナライザ
4 スペクトル記憶部(スペクトル記憶手段)
5 演算部(演算手段)
6 制御部
7 操作部(指定手段)
8 表示器(表示手段)
9 コーティング試料モデル記憶部(モデル記憶手段)
10 コーティング試料モデル抽出部(候補モデル抽出手段)
Claims (2)
- X線源と、そのX線源からのX線を試料に照射して得られる蛍光X線を検出するX線検出器と、そのX線検出器の出力から得られる蛍光X線のスペクトルを記憶するスペクトル記憶手段と、そのスペクトル記憶手段に記憶されたスペクトルから、試料に含まれる元素とその量に係る情報を計算する演算手段を備えた蛍光X線分析装置において、
ベース材料に表面層がコーティングされているコーティング試料に関し、そのベース材料および/または表面層の成分元素を特定した複数のコーティング試料モデルを記憶するモデル記憶手段と、未知のコーティング試料の蛍光X線を測定して得たスペクトルを、バルク試料と見なして定性分析した結果を上記モデル記憶手段の記憶内容と照合し、定性分析により検出された元素が含まれるコーティング試料モデルを抽出して一覧表示する候補モデル抽出表示手段と、その表示された候補モデルから一つを指定する指定手段を有し、上記演算手段は、上記スペクトル記憶部に記憶しているスペクトルを用いて、指定されたコーティング試料モデルの条件のもとにベース材料および表面層の組成並びに表面層の膜厚あるいは付着量を算出することを特徴とする蛍光X線分析装置。 - 上記指定手段による指定が変更されるごとに、上記演算手段は、上記スペクトル記憶手段に記憶しているスペクトルを用いて、変更後のコーティング試料モデルの条件のもとにベース材料および表面層の組成並びに表面層の膜厚あるいは付着量を算出することを特徴とする請求項1に記載の蛍光X線分析装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014110782A JP6172054B2 (ja) | 2014-05-29 | 2014-05-29 | 蛍光x線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014110782A JP6172054B2 (ja) | 2014-05-29 | 2014-05-29 | 蛍光x線分析装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015225000A true JP2015225000A (ja) | 2015-12-14 |
JP2015225000A5 JP2015225000A5 (ja) | 2016-10-13 |
JP6172054B2 JP6172054B2 (ja) | 2017-08-02 |
Family
ID=54841841
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014110782A Active JP6172054B2 (ja) | 2014-05-29 | 2014-05-29 | 蛍光x線分析装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6172054B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU169793U1 (ru) * | 2016-05-24 | 2017-04-03 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт информатики и проблем регионального управления Кабардино-Балкарского научного центра РАН | Устройство для измерения профиля распределения элементов по глубине в фотовольтаических слоях |
CN110132188A (zh) * | 2019-06-19 | 2019-08-16 | 中国人民解放军空军工程大学 | 一种基于多元素x射线特征光谱综合分析的涂渗层厚度计算方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06235628A (ja) * | 1993-02-09 | 1994-08-23 | Seiko Instr Inc | 蛍光x線膜厚計 |
JP2000199749A (ja) * | 1998-12-29 | 2000-07-18 | Rigaku Industrial Co | 蛍光x線分析装置 |
JP2012002785A (ja) * | 2010-06-21 | 2012-01-05 | Horiba Ltd | 蛍光x線分析装置及びコンピュータプログラム |
JP2014041065A (ja) * | 2012-08-22 | 2014-03-06 | Horiba Ltd | X線分析装置及びコンピュータプログラム |
-
2014
- 2014-05-29 JP JP2014110782A patent/JP6172054B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06235628A (ja) * | 1993-02-09 | 1994-08-23 | Seiko Instr Inc | 蛍光x線膜厚計 |
JP2000199749A (ja) * | 1998-12-29 | 2000-07-18 | Rigaku Industrial Co | 蛍光x線分析装置 |
JP2012002785A (ja) * | 2010-06-21 | 2012-01-05 | Horiba Ltd | 蛍光x線分析装置及びコンピュータプログラム |
JP2014041065A (ja) * | 2012-08-22 | 2014-03-06 | Horiba Ltd | X線分析装置及びコンピュータプログラム |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU169793U1 (ru) * | 2016-05-24 | 2017-04-03 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт информатики и проблем регионального управления Кабардино-Балкарского научного центра РАН | Устройство для измерения профиля распределения элементов по глубине в фотовольтаических слоях |
CN110132188A (zh) * | 2019-06-19 | 2019-08-16 | 中国人民解放军空军工程大学 | 一种基于多元素x射线特征光谱综合分析的涂渗层厚度计算方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6172054B2 (ja) | 2017-08-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Ernst et al. | Signal‐to‐noise ratios in forensic glass analysis by micro X‐ray fluorescence spectrometry | |
Brunetti et al. | Use of Monte Carlo simulations for cultural heritage X-ray fluorescence analysis | |
EP2283345B1 (en) | Automated x-ray fluorescence analysis | |
CN105637352B (zh) | 荧光x射线分析方法及荧光x射线分析装置 | |
WO2006013728A1 (ja) | 蛍光x線分析方法および蛍光x線分析装置 | |
JP6175662B2 (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
JP6576751B2 (ja) | 分析方法およびx線光電子分光装置 | |
JP3888389B2 (ja) | クロマトデータ処理装置,クロマトデータ処理方法、及びクロマトグラフ分析装置 | |
JP6172054B2 (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
JP6009963B2 (ja) | 試料分析方法および試料分析装置 | |
JP6994931B2 (ja) | 蛍光x線分析装置および分析方法 | |
US11609191B2 (en) | Analyzer | |
JP6266914B2 (ja) | 蛍光x線分析装置を用いた貴金属製品の分析方法、及び、貴金属製品分析用のコンピュータプログラム | |
CN103245683A (zh) | 使用辐射的物体的金属可靠性检测 | |
JP2016176817A (ja) | 異物解析システム | |
JP6507898B2 (ja) | 樹脂判別装置 | |
US10557808B2 (en) | Method and apparatus for discriminating resin | |
JP6336876B2 (ja) | 情報処理装置、及び情報処理方法 | |
JP2015225000A5 (ja) | ||
JP6917668B1 (ja) | エネルギー分散型蛍光x線分析装置、評価方法及び評価プログラム | |
JP2020071130A (ja) | 微量金属検出装置 | |
US20190302040A1 (en) | Portable, hand held aluminum alloy xrf analyzer and method | |
US20210010957A1 (en) | Devices and methods for detecting elements in a sample | |
AU2015314163B2 (en) | Method for extracting information encoded in a result of an NMR measurement | |
JP2019090652A (ja) | 分析装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160829 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160829 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170531 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170606 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170619 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6172054 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |