JP2022073175A - 蛍光x線分析装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】FP法により下地層の上の薄膜における各成分の付着量と厚さの定量値を求める蛍光X線分析装置において、下地層からの測定線強度の影響により薄膜についての定量計算がエラーになるような成分を、分析対象から除外できる装置を提供する。【解決手段】本発明の蛍光X線分析装置に備わる除外手段(21)が、下地層に測定元素が含まれない成分について、対応する測定線ごとに、当該成分が単独で薄膜を構成しているとの仮定で付着量を計算して、最大の付着量を当該成分の付着量の初期値とし、下地層に測定元素が含まれる成分について、対応する測定線ごとに、下地層に測定元素が含まれない各成分の付着量の初期値に基づいて付着量を計算して、すべての対応する測定線について計算結果がエラーになる場合には、当該成分を定量不可能な成分として分析対象から除外し、それ以外の場合には、最大の付着量を当該成分の付着量の初期値とする。【選択図】図1

Description

本発明は、下地層と、その上に形成されて各成分の付着量および厚さが分析対象である単層の薄膜とを有する試料に1次X線を照射し、発生する2次X線の測定強度に基づいてファンダメンタルパラメーター法により薄膜における各成分の付着量および厚さの定量値を求める蛍光X線分析装置に関する。
薄膜を有する試料に1次X線を照射し、発生する2次X線の測定強度に基づいてファンダメンタルパラメーター法(以下、FP法ともいう)により薄膜における組成(各成分の付着量)および厚さの定量値を求める蛍光X線分析装置として、例えば、特許文献1に記載の装置がある。ここで、測定強度に基づいてFP法により薄膜の組成および厚さの定量値を求めるとは、試料を構成する薄膜について仮定した組成に基づいて、1次X線により励起されて試料から発生する2次X線(測定線)の理論強度を計算し、その理論強度と試料についての測定強度を理論強度スケールに換算した換算測定強度とが合致するように、薄膜について仮定した組成を逐次近似的に修正計算して、組成および厚さの定量値を求めることをいう。
一般に、FP法によりバルクの組成の定量値を求める場合には、組成に対応するものとして、各成分の含有率(質量分率)が用いられ、測定線の強度が対応する成分の含有率に依存することから、バルクの組成の定量値が求められ、厚さの定量値を求めることはできない。これに対して、薄膜においては、組成に対応するものとして、各成分の付着量(単位面積あたりの質量)が用いられ、測定線の強度が対応する成分の付着量に依存することから、薄膜の厚さの変化に応じて測定線の強度が変化する領域で、薄膜における各成分の付着量および厚さの定量値が求められる。
国際公開第2017/026200号
しかし、下地層の上に薄膜が形成されている試料の場合、下地層からの測定線の強度が上述の領域を超えていると、逐次近似的な修正計算中に、仮定した各成分の付着量を更新できなくなることから、定量計算を続行できなくなり、その旨のエラー表示とともに各成分の付着量および厚さの定量値が求まらないまま定量計算が終了してしまう。
本発明は前記従来の問題に鑑みてなされたもので、FP法により下地層の上に形成された薄膜における各成分の付着量および厚さの定量値を求める蛍光X線分析装置において、下地層からの測定線強度の影響により薄膜についての定量計算がエラーになるような成分については、定量不可能な成分として分析対象から除外できる装置を提供することを目的とする。
前記目的を達成するために、本発明は、各成分の付着量または含有率が既知である単層または複層の下地層と、その下地層の上に形成されて各成分の付着量および厚さが分析対象である単層の薄膜とを有する試料に1次X線を照射し、発生する2次X線の測定強度に基づいてファンダメンタルパラメーター法により前記薄膜における各成分の付着量および厚さの定量値を求める蛍光X線分析装置であって、ファンダメンタルパラメーター法による定量計算の前処理として、強度を測定すべき2次X線である測定線に対応する成分のうち、定量不可能な成分を分析対象から除外する除外手段を備えている。
そして、除外手段は、まず、前記下地層に測定元素が含まれない成分について、対応する測定線ごとに、当該成分が単独で前記薄膜を構成しているとの仮定で付着量を計算して、最大の付着量を当該成分の付着量の初期値とする。さらに、除外手段は、前記下地層に測定元素が含まれる成分について、対応する測定線ごとに、前記下地層に測定元素が含まれない各成分の付着量の初期値に基づいて付着量を計算して、すべての対応する測定線について計算結果がエラーになる場合には、当該成分を定量不可能な成分として分析対象から除外し、それ以外の場合には、最大の付着量を当該成分の付着量の初期値とする。
本発明の蛍光X線分析装置では、除外手段により、まず、下地層に測定元素が含まれない成分について付着量の初期値を概算し、下地層に測定元素が含まれる成分については、下地層に測定元素が含まれない各成分の付着量の初期値に基づいて付着量を計算して、計算結果がエラーになるか否を検討することから、下地層からの測定線強度の影響により薄膜についての定量計算がエラーになるような成分を、定量不可能な成分として適切に分析対象から除外できる。
本発明の一実施形態の蛍光X線分析装置を示す概略図である。 同蛍光X線分析装置の動作を示すフローチャートである。
以下、本発明の一実施形態の装置について、図にしたがって説明する。図1に示すように、この装置は、各成分の付着量または含有率が既知である単層または複層の下地層と、その下地層の上に形成されて各成分の付着量および厚さが分析対象である単層の薄膜とを有する試料3に、X線管等のX線源1から1次X線2を照射して、発生する2次X線4の強度を検出手段9で測定し、その測定強度に基づいてファンダメンタルパラメーター法により前記薄膜における各成分の付着量および厚さの定量値を求める蛍光X線分析装置であって、ファンダメンタルパラメーター法による定量計算の前処理として、強度を測定すべき2次X線である測定線に対応する成分のうち、定量不可能な成分を分析対象から除外する除外手段を備えている。
ここで、試料3は、いわゆる薄膜試料で、例えば、クロムめっきを施された基板からなる下地層の上にインジウムスズオキサイドの薄膜が形成された試料、基板である下地層の上にガルバニウムめっきの薄膜が形成された試料、コバール基板である下地層の上にニッケルめっきの薄膜が形成された試料などであり、試料台8に載置される。検出手段9は、試料3から発生する蛍光X線等の2次X線4を分光する分光素子5と、分光された2次X線6ごとにその強度を測定する検出器7で構成される。なお、分光素子5を用いずに、エネルギー分解能の高い検出器を検出手段としてもよい。また、除外手段21は、コンピューターなどの定量手段20にプログラムとして含まれている。
測定強度に基づいてFP法により薄膜における各成分の付着量および厚さの定量値を求めるとは、試料3が有する単層の薄膜について仮定した各成分の付着量に基づいて、1次X線2により励起されて試料3から発生する2次X線4の理論強度を計算し、その理論強度と試料3についての測定強度を理論強度スケールに換算した換算測定強度とが、所定の収束条件を満たして合致するように、薄膜について仮定した各成分の付着量を逐次近似的に修正計算して、各成分の付着量および厚さの定量値を求めることをいう。なお、厚さの定量値は、各成分の付着量の定量値と各成分の密度に基づいて求められる。
除外手段21は、まず、下地層に測定元素が含まれない成分について、対応する測定線ごとに、当該成分が単独で薄膜を構成しているとの仮定で付着量を計算して、最大の付着量を当該成分の付着量の初期値とする。さらに、除外手段21は、下地層に測定元素が含まれる成分について、対応する測定線ごとに、下地層に測定元素が含まれない各成分の付着量の初期値に基づいて付着量を計算して、すべての対応する測定線について計算結果がエラーになる場合には、当該成分を定量不可能な成分として分析対象から除外し、それ以外の場合には、最大の付着量を当該成分の付着量の初期値とする。なお、各成分の測定元素とは、各成分に対応する測定線を発生させる元素である。また、各成分に対応する測定線は、1系列(1種類)に限られず、同一の測定元素についてのK線、L線など、2系列以上設定してもよい。
除外手段21は、具体的には、図2のフローチャートに示したように動作する。なお、以下に述べるステップのうち、ステップS1からステップS5までが除外手段21による動作であり、ステップS6は、定量手段20による公知のFP法の動作である。なお、ステップS1の前にも、公知のFP法の動作として、測定強度を得て、理論強度スケールに換算して換算測定強度を求める等のステップがあるが、記載を省略する。
まず、ステップS1において、下地層に測定元素が含まれない成分について、対応する測定線ごとに、つまり当該成分に対応する測定線が複数系列ある場合には1系列ごとに、当該成分が単独で前記薄膜を構成しているとの仮定で付着量を計算して、当該成分について計算した付着量のうち最大の付着量を当該成分の付着量の初期値とする。当該成分が単独で前記薄膜を構成しているとの仮定とは、より具体的には、共存する他の成分(以下、共存成分という)によるX線の吸収・励起の効果を考慮せず、いわゆるマトリックス補正を施さないという意味であり、FP法における初期値の計算にはよく用いられる手法である。ステップS1の動作は、下地層に測定元素が含まれないすべての成分について行われる。
次に、ステップS2において、下地層に測定元素が含まれる成分について、対応する測定線ごとに、下地層に測定元素が含まれない各成分の付着量の初期値に基づいて付着量を計算する。より具体的には、ステップS1で付着量の初期値が求められたすべての成分のみを共存成分として、下地層に測定元素が含まれる成分の1つずつについて、対応する測定線が複数系列ある場合には1系列ごとに、当該成分の付着量をFP法により定量計算する。その際、共存成分の付着量をステップS1で求めた付着量の初期値に固定し、共存成分によるX線の吸収・励起の効果を考慮して、いわゆるマトリックス補正を施す。
次に、ステップS3において、すべての対応する測定線について計算結果がエラーになるか否かを判定する。より具体的には、下地層に測定元素が含まれる成分の1つずつについて、対応するすべての系列の測定線について、ステップS2での計算結果がエラーになるか否かを判定する。そして、その判定がYesであればステップS4に進み、NoであればステップS5に進む。
ステップS4では、当該成分を定量不可能な成分として分析対象から除外する。一方、ステップS5では、当該成分についてステップS2で計算した付着量のうち最大の付着量を当該成分の付着量の初期値とする。
ステップS2からステップS4またはS5までの動作が、下地層に測定元素が含まれるすべての成分について行われた後、ステップS6に進み、従来の薄膜に対するFP法の定量計算により、各成分の付着量および厚さの定量値を求める。この際、ステップS1またはステップS5で付着量の初期値が求められた成分のみが分析対象となり、それらの成分に対応した系列の測定線のみが測定線として設定される。また、ステップS1またはステップS5で求められた各成分の付着量の初期値を、そのままステップS6での定量計算における各成分の付着量の初期値として用いることができる。なお、ステップS6での定量計算による結果が液晶ディスプレイ等の表示器16に表示される際には、ステップS4で分析対象から除外された成分について、定量計算が不可能である旨が併せて表示される。
以上のように、本実施形態の蛍光X線分析装置では、除外手段21により、まず、下地層に測定元素が含まれない成分について付着量の初期値を概算し、下地層に測定元素が含まれる成分については、下地層に測定元素が含まれない各成分の付着量の初期値に基づいて付着量を計算して、計算結果がエラーになるか否を検討することから、下地層からの測定線強度の影響により薄膜についての定量計算がエラーになるような成分を、定量不可能な成分として適切に分析対象から除外できる。
2 1次X線
3 試料
4 2次X線(測定線)
21 除外手段

Claims (1)

  1. 各成分の付着量または含有率が既知である単層または複層の下地層と、その下地層の上に形成されて各成分の付着量および厚さが分析対象である単層の薄膜とを有する試料に1次X線を照射し、発生する2次X線の測定強度に基づいてファンダメンタルパラメーター法により前記薄膜における各成分の付着量および厚さの定量値を求める蛍光X線分析装置であって、
    ファンダメンタルパラメーター法による定量計算の前処理として、強度を測定すべき2次X線である測定線に対応する成分のうち、定量不可能な成分を分析対象から除外する除外手段を備え、
    前記除外手段が、
    前記下地層に測定元素が含まれない成分について、対応する測定線ごとに、当該成分が単独で前記薄膜を構成しているとの仮定で付着量を計算して、最大の付着量を当該成分の付着量の初期値とし、
    前記下地層に測定元素が含まれる成分について、対応する測定線ごとに、前記下地層に測定元素が含まれない各成分の付着量の初期値に基づいて付着量を計算して、すべての対応する測定線について計算結果がエラーになる場合には、当該成分を定量不可能な成分として分析対象から除外し、それ以外の場合には、最大の付着量を当該成分の付着量の初期値とする、蛍光X線分析装置。
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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003107020A (ja) * 2001-10-02 2003-04-09 Shimadzu Corp 薄膜の蛍光x線分析方法
JP2004004102A (ja) * 2000-04-11 2004-01-08 Rigaku Industrial Co 蛍光x線分析装置
JP2006071311A (ja) * 2004-08-31 2006-03-16 Rigaku Industrial Co 蛍光x線分析装置およびそれに用いるプログラム
JP2012068084A (ja) * 2010-09-22 2012-04-05 E & M:Kk X線分析方法,x線分析装置及びそのプログラム
US8515009B1 (en) * 2012-02-03 2013-08-20 Thermo Niton Analyzers Llc Metal authenticity testing of an object using radiation
JPWO2017026200A1 (ja) * 2015-08-10 2017-08-31 株式会社リガク 蛍光x線分析装置
CN110530912A (zh) * 2019-09-12 2019-12-03 岛津企业管理(中国)有限公司 一种含镀层贵金属成分的x射线荧光光谱分析方法

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63292043A (ja) * 1987-05-26 1988-11-29 D S Sukiyanaa:Kk 膜厚・組成同時分析装置
US5461654A (en) * 1992-04-07 1995-10-24 Grodzins; Lee X-ray fluorescence detector
JPH08297106A (ja) * 1995-04-27 1996-11-12 Nisshin Steel Co Ltd Zn−Mg系合金めっき鋼板のめっき付着量及びMg含有率の測定方法
DE10159828B4 (de) * 2001-12-06 2007-09-20 Rigaku Industrial Corporation, Takatsuki Röntgenfluoreszenzspektrometer
JP4834613B2 (ja) * 2007-06-11 2011-12-14 株式会社リガク 蛍光x線分析装置およびその方法
JP4523958B2 (ja) * 2007-09-21 2010-08-11 株式会社リガク 蛍光x線分析装置およびそれに用いるプログラム
JP5557161B2 (ja) * 2011-01-24 2014-07-23 住友電気工業株式会社 構造解析方法
CN102384923B (zh) * 2011-08-03 2014-02-05 苏州华碧微科检测技术有限公司 一种涂层中微量元素的测试方法
US20130202083A1 (en) 2012-02-03 2013-08-08 Stanislaw Piorek System and method for identification of counterfeit gold jewelry using xrf
JP6550999B2 (ja) 2015-07-21 2019-07-31 三浦工業株式会社 ボイラシステム
JP6467684B2 (ja) * 2015-07-24 2019-02-13 株式会社リガク 蛍光x線分析装置
CN107209132B (zh) * 2015-08-28 2019-06-21 株式会社理学 荧光x射线分析装置
CN106501293A (zh) * 2016-09-30 2017-03-15 深圳市赛宝伦科技有限公司 一种基于小波变换法扣除x射线荧光能谱背景的方法
CN110865092A (zh) * 2019-12-10 2020-03-06 中国科学院金属研究所 利用x射线荧光光谱表征高温合金成分分布的原位分析方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004004102A (ja) * 2000-04-11 2004-01-08 Rigaku Industrial Co 蛍光x線分析装置
JP2003107020A (ja) * 2001-10-02 2003-04-09 Shimadzu Corp 薄膜の蛍光x線分析方法
JP2006071311A (ja) * 2004-08-31 2006-03-16 Rigaku Industrial Co 蛍光x線分析装置およびそれに用いるプログラム
JP2012068084A (ja) * 2010-09-22 2012-04-05 E & M:Kk X線分析方法,x線分析装置及びそのプログラム
US8515009B1 (en) * 2012-02-03 2013-08-20 Thermo Niton Analyzers Llc Metal authenticity testing of an object using radiation
JPWO2017026200A1 (ja) * 2015-08-10 2017-08-31 株式会社リガク 蛍光x線分析装置
CN110530912A (zh) * 2019-09-12 2019-12-03 岛津企业管理(中国)有限公司 一种含镀层贵金属成分的x射线荧光光谱分析方法

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