CN117460950A - 荧光x射线分析装置 - Google Patents

Abstract

本发明的X射线荧光分析装置包括使用FP方法的定量机构(13)，该定量机构(13)进行：强度比装置灵敏度曲线制作步骤，其中，制作强度比装置灵敏度曲线，该强度比装置灵敏度曲线为作为对比主成分的测定强度与基准主成分的测定强度之比的测定强度比、与作为对比主成分的理论强度与基准主成分的理论强度之比的理论强度比之间的相关性；强度比换算步骤，其中，基于上述强度比装置灵敏度曲线，将上述测定强度比换算为理论强度标度，作为换算测定强度比；含有率比更新步骤，其中，基于换算测定强度比来更新含有率比，上述含有率比是对比主成分的含有率与基准主成分的含有率之比；以及含有率更新步骤，其中，基于最新的含有率比来更新各成分的含有率。

Description

荧光X射线分析装置

相关申请

本申请要求2021年6月8日申请的JP特愿2021-095721的优先权，并将其全部内容通过参照进行引用构成本申请的一部分。

技术领域

本发明涉及一种荧光X射线分析装置，该荧光X射线分析装置对试样照射一次X射线，根据所产生的荧光X射线的测定强度，通过采用基本参数法或校准曲线法(検量線法)的定量机构，求出试样中的成分的含有率。

背景技术

在过去，进行定量分析的荧光X射线分析装置大致分为基于校准曲线法的装置和基于基本参数法(也称为FP法)的装置。在基于校准曲线法的定量分析中，为了未知试样的分析，使用成分的含有率已知的一组标准试样，作为成分的含有率与对应于成分的测定元素的荧光X射线(测定线)的测定强度之间的相关性，求出校准曲线。另外，成分是指元素或化合物。另外，在成分为元素的情况下，该元素本身是与成分相对应的测定元素，在成分为化合物的情况下，代表该化合物的元素成为与成分相对应的测定元素(例如，参照专利文献1的第0002段)。

另一方面，在基于基本参数法的定量分析中，为了未知试样的分析，使用成分的含有率已知的一组标准试样，作为基于已知的含有率计算出的理论强度与测定强度之间的相关性，求出装置灵敏度曲线(例如，参照专利文献1的第0009段、专利文献2的第0003段以及图4)。另外，专利文献2中的术语“浓度比”表示将整体设为1时某成分在整体中所占的比例，相当于本申请中的术语“含有率”，并不相当于后述的“含有率之比”。

另外，在基于校准曲线法的定量分析、基于基本参数法的定量分析这两者中，根据试样的形态，为了进行更精确的分析，作为测定强度，使用基于试样的分析面的高度与测定强度之间的相关性，以除去试样的分析面的高度的变动而对测定强度造成的影响的方式进行了校正的测定强度，进行所谓的高度校正(例如，参照专利文献3的权利要求2、12)。

此外，在电子材料等的试样的定量分析中，在对于主成分彼此的含有率之比要求高精度时，有这样一种荧光X射线分析装置，其对于由两个主成分构成的钛酸钡的试样，制作并使用作为测定强度之比与含有率之比之间的相关性的校准曲线(参照非专利文献1的“e.校准曲线和测定例”、图13.45等)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：JP特开2021-51053号公报

专利文献2：WO2018/168939号公报

专利文献3：JP特开2002-82075号公报

非专利文献

中井泉编，「蛍光X線分析の実際」，初版，第7次印刷，朝仓书店，2011年1月30日，p.194-195。

发明内容

发明要解决的课题

然而，在非专利文献1中，没有记载用于去除试样的含有元素对荧光X射线的吸收、激发的影响的基体校正(マトリックス補正)，因此在对主成分彼此的含有率之比要求更精确的分析的情况下，即使考虑技术常识，也不清楚应该如何对作为测定强度之比与含有率之比之间的相关性的校准曲线进行基体校正。

另外，在基于基本参数法的定量分析中，为了对主成分彼此的含有率之比进行更精确的分析，也考虑针对多个主成分来制作并使用作为测定强度之比与理论强度之比之间的相关性的装置灵敏度曲线。但是，在基本参数法中，基于由假定的含有率而计算出的理论强度和通过装置灵敏度曲线换算成理论强度标度的测定强度，进行更新含有率这样的反复计算，将收敛后的含有率作为分析结果，因此即使使用作为测定强度之比与理论强度之比之间的相关性的装置灵敏度曲线，即使考虑技术常识也不清楚应该如何进行反复计算。

本发明是鉴于上述现有的问题而提出的，其目的在于，提供一种在通过采用基本参数法或校准曲线法的定量机构求出试样中的成分的含有率的荧光X射线分析装置，该荧光X射线分析装置能够充分精确地对主成分彼此的含有率之比进行分析。

用于解决课题的技术方案

为了实现上述目的，本发明的第1方案涉及下述的荧光X射线分析装置，该荧光X射线分析装置首先对试样照射一次X射线，基于所产生的荧光X射线的测定强度，通过采用基本参数法的定量机构，求出上述试样中的成分的含有率。

接着，上述定量机构进行：标准试样测定步骤，其中，针对标准试样，测定作为与成分相对应的荧光X射线的测定线的强度，在上述标准试样中，将作为构成基准的主成分的单一的基准主成分和与该基准主成分进行对比的对比主成分指定为成分，且各成分的含有率是已知的；标准试样理论强度计算步骤，其中，针对每条测定线，根据已知的含有率来计算理论强度；强度比装置灵敏度曲线制作步骤，其中，针对与对比主成分相对应的每条测定线，基于上述标准试样测定步骤中的测定强度以及上述标准试样理论强度计算步骤中的理论强度，制作强度比装置灵敏度曲线，上述强度比装置灵敏度曲线为作为对比主成分的测定强度与基准主成分的测定强度之比的测定强度比、与作为对比主成分的理论强度与基准主成分的理论强度之比的理论强度比之间的相关性。

然后，上述定量机构进行：未知试样测定步骤，其中，针对将上述基准主成分以及上述对比主成分指定为成分且各成分的含有率未知的未知试样，测定上述测定线的强度；强度比换算步骤，其中，针对与对比主成分相对应的每条测定线，基于上述未知试样测定步骤中的测定强度以及上述强度比装置灵敏度曲线制作步骤中的强度比装置灵敏度曲线，将作为对比主成分的测定强度与基准主成分的测定强度之比的测定强度比换算成理论强度标度，作为换算测定强度比；含有率初始值设定步骤，其中，设定各成分的含有率的初始值。

此外，上述定量机构进行：未知试样理论强度计算步骤，其中，针对每条测定线，基于最新的含有率来计算理论强度；含有率比更新步骤，其中，针对每个对比主成分，基于上述强度比换算步骤中的换算测定强度比和上述未知试样理论强度计算步骤中的基于理论强度的理论强度比，更新作为对比主成分的含有率与基准主成分的含有率之比的含有率比；含有率更新步骤，其中，基于最新的含有率比，更新各成分的含有率；收敛判断步骤，其中，基于预定收敛条件进行收敛判断；以及结果输出步骤，其中，输出最新的含有率作为应求出的未知试样中的成分的含有率，在上述收敛判断步骤中，在判断为未收敛的情况下，使流程返回到上述未知试样理论强度计算步骤，在判断为收敛的情况下，使流程进行至上述结果输出步骤。

在上述第1方案的荧光X射线分析装置中，使用基本参数法的定量机构进行：制作强度比装置灵敏度曲线的强度比装置灵敏度曲线制作步骤、强度比换算步骤、含有率比更新步骤和含有率更新步骤，上述强度比装置灵敏度曲线为对比主成分的测定强度与基准主成分的测定强度之比的测定强度比、与对比主成分的理论强度与基准主成分的理论强度之比的理论强度比之间的相关性，上述强度比换算步骤是基于强度比装置灵敏度曲线，将测定强度比换算成理论强度标度而作为换算测定强度比的步骤，上述含有率比更新步骤是基于换算测定强度比来更新作为对比主成分的含有率与基准主成分的含有率之比的含有率比的步骤，上述含有率更新步骤是基于最新的含有率比来更新各成分的含有率的步骤。通过进行在现有技术的基本参数法的算法中不存在的这些步骤，针对主成分彼此的含有率之比来进行足够精确的分析。

本发明的第2方案涉及下述的荧光X射线分析装置，该荧光X射线分析装置首先对试样照射一次X射线，基于所产生的荧光X射线的测定强度，通过采用基本参数法的定量机构，求出上述试样中的成分的含有率。

接着，上述定量机构进行：标准试样测定步骤，其中，针对标准试样，测定作为与成分相对应的荧光X射线的测定线的强度，在上述标准试样中，将作为构成基准的主成分的单一的基准主成分、与该基准主成分进行对比的对比主成分、以及副成分指定为成分，且各成分的含有率是已知的；标准试样理论强度计算步骤，其中，针对每条测定线，基于已知的含有率来计算理论强度；装置灵敏度曲线制作步骤，其中，针对与副成分相对应的每条测定线，基于上述标准试样测定步骤中的测定强度以及上述标准试样理论强度计算步骤中的理论强度，制作作为副成分的测定强度与副成分的理论强度之间的相关性的装置灵敏度曲线；强度比装置灵敏度曲线制作步骤，其中，针对与对比主成分相对应的每条测定线，基于上述标准试样测定步骤中的测定强度以及上述标准试样理论强度计算步骤中的理论强度，制作强度比装置灵敏度曲线，上述强度比装置灵敏度曲线为作为对比主成分的测定强度与基准主成分的测定强度之比的测定强度比、与作为对比主成分的理论强度与基准主成分的理论强度之比的理论强度比之间的相关性。

还有，上述定量机构进行：未知试样测定步骤，其中，针对上述基准主成分、上述对比主成分以及上述副成分指定为成分且各成分的含有率未知的未知试样，测定上述测定线的强度；强度换算步骤，其中，针对与副成分相对应的每条测定线，基于上述未知试样测定步骤中的测定强度以及上述装置灵敏度曲线制作步骤中的装置灵敏度曲线，将副成分的测定强度换算成理论强度标度，作为换算测定强度；强度比换算步骤，其中，针对与对比主成分相对应的每条测定线，基于上述未知试样测定步骤中的测定强度以及上述强度比装置灵敏度曲线制作步骤中的强度比装置灵敏度曲线，将作为对比主成分的测定强度与基准主成分的测定强度之比的测定强度比换算成理论强度标度，作为换算测定强度比；含有率初始值设定步骤，其中，设定各成分的含有率的初始值。

再有，上述定量机构进行：未知试样理论强度计算步骤，其中，针对每条测定线，基于最新的含有率来计算理论强度；副成分含有率更新步骤，针对每个副成分，基于上述强度换算步骤中的换算测定强度和上述未知试样理论强度计算步骤中的理论强度，更新含有率；含有率比更新步骤，其中，针对每个对比主成分，基于上述强度比换算步骤中的换算测定强度比和上述未知试样理论强度计算步骤中的基于理论强度的理论强度比，更新作为对比主成分的含有率与基准主成分的含有率之比的含有率比；主成分含有率更新步骤，其中，基于最新的含有率比及最新的副成分的含有率，更新对比主成分的含有率及基准主成分的含有率；收敛判断步骤，其中，基于预定收敛条件进行收敛判断；以及结果输出步骤，输出作为应求出的未知试样中的成分的含有率的最新的含有率，在上述收敛判断步骤中，在判断为未收敛的情况下，使流程返回到上述未知试样理论强度计算步骤，在判断为收敛的情况下，使流程进行至上述结果输出步骤。

在第2方案的荧光X射线分析装置中，使用基本参数法的定量机构进行：制作强度比装置灵敏度曲线的强度比装置灵敏度曲线制作步骤、强度比换算步骤、含有率比更新步骤及主成分含有率更新步骤，上述强度比装置灵敏度曲线为对比主成分的测定强度与基准主成分的测定强度之比的测定强度比、与对比主成分的理论强度与基准主成分的理论强度之比的理论强度比之间的相关性，上述强度比换算步骤是基于强度比装置灵敏度曲线，将测定强度比换算成理论强度标度作为换算测定强度比的步骤，上述含有率比更新步骤是基于换算测定强度比来更新对比主成分的含有率与基准主成分的含有率之比的含有率比的步骤，上述主成分含有率更新步骤是基于最新的含有率比来更新对比主成分的含有率及基准主成分的含有率的步骤。通过进行在现有技术的基本参数法的算法中不存在的这些步骤，针对主成分彼此的含有率之比来进行足够精确的分析。

本发明的第3方案涉及下述的荧光X射线分析装置，该荧光X射线分析装置首先对试样照射一次X射线，基于所产生的荧光X射线的测定强度，通过采用基本参数法的定量机构，求出上述试样中的成分的含有率。

接着，上述定量机构进行：标准试样测定步骤，其中，针对标准试样，测定作为与成分相对应的荧光X射线的测定线的强度，在上述标准试样中，将作为构成基准的主成分的单一的基准主成分、与该基准主成分进行对比的对比主成分、以及副成分指定为成分，且各成分的含有率是已知的；标准试样理论强度计算步骤，其中，针对每条测定线，基于已知的含有率来计算理论强度；装置灵敏度曲线制作步骤，其中，针对每条测定线，基于上述标准试样测定步骤中的测定强度以及上述标准试样理论强度计算步骤中的理论强度，制作作为测定强度与理论强度的相关性的装置灵敏度曲线；强度比装置灵敏度曲线制作步骤，其中，针对与对比主成分相对应的每条测定线，基于上述标准试样测定步骤中的测定强度以及上述标准试样理论强度计算步骤中的理论强度，制作强度比装置灵敏度曲线，上述强度比装置灵敏度曲线为作为对比主成分的测定强度与基准主成分的测定强度之比的测定强度比、与作为对比主成分的理论强度与基准主成分的理论强度之比的理论强度比之间的相关性。

此外，上述定量机构进行：未知试样测定步骤，其中，针对将上述基准主成分、上述对比主成分以及上述副成分指定为成分且各成分的含有率未知的未知试样，测定上述测定线的强度；强度换算步骤，其中，针对每条测定线，基于上述未知试样测定步骤中的测定强度以及上述装置灵敏度曲线制作步骤中的装置灵敏度曲线，将测定强度换算成理论强度标度，作为换算测定强度；强度比换算步骤，其中，针对与对比主成分相对应的每条测定线，基于上述未知试样测定步骤中的测定强度以及上述强度比装置灵敏度曲线制作步骤中的强度比装置灵敏度曲线，将作为对比主成分的测定强度与基准主成分的测定强度之比的测定强度比换算成理论强度标度，作为换算测定强度比；含有率初始值设定步骤，其中，设定各成分的含有率的初始值。

还有，上述定量机构进行：未知试样理论强度计算步骤，其中，针对每条测定线，基于最新的含有率来计算理论强度；副成分含有率更新步骤，其中，针对每个副成分，基于上述强度换算步骤中的换算测定强度和上述未知试样理论强度计算步骤中的理论强度，更新含有率；推定含有率计算步骤，其中，对于对比主成分以及基准主成分，基于上述强度换算步骤中的换算测定强度和上述未知试样理论强度计算步骤中的理论强度，计算推定含有率；含有率比更新步骤，其中，针对每个对比主成分，基于上述强度比换算步骤中的换算测定强度比和上述未知试样理论强度计算步骤中的基于理论强度的理论强度比，更新作为对比主成分的含有率与基准主成分的含有率之比的含有率比；主成分含有率更新步骤，其中，基于上述推定含有率计算步骤中的对比主成分的推定含有率及基准主成分的推定含有率的合计以及最新的含有率比，更新对比主成分的含有率及基准主成分的含有率；收敛判断步骤，其中，基于预定收敛条件进行收敛判断；以及结果输出步骤，其中，输出作为应求出的未知试样中的成分的含有率的最新的含有率，在上述收敛判断步骤中，在判断为未收敛的情况下，使流程返回到上述未知试样理论强度计算步骤，在判断为收敛的情况下，使流程进行至上述结果输出步骤。

在第3方案的荧光X射线分析装置中，上述使用基本参数方法的定量机构进行：制作强度比装置灵敏度曲线的强度比装置灵敏度曲线制作步骤、强度比换算步骤、推定含有率计算步骤、含有率比更新步骤和主成分含有率更新步骤，上述强度比装置灵敏度曲线为作为对比主成分的测定强度与基准主成分的测定强度之比的测定强度比、与作为对比主成分的理论强度与基准主成分的理论强度之比的理论强度比之间的相关性，上述强度比换算步骤是基于强度比装置灵敏度曲线，将测定强度比换算为理论强度标度，作为换算测定强度比的步骤，上述推定含有率计算步骤是针对对比主成分及基准主成分来计算推定含有率的步骤，上述含有率比更新步骤是基于换算测定强度比，更新作为对比主成分的含有率与基准主成分的含有率之比的含有率比的步骤，上述主成分含有率更新步骤是基于对比主成分的推定含有率及基准主成分的推定含有率的合计以及最新的含有率比，更新对比主成分的含有率及基准主成分的含有率的步骤。通过进行在现有技术的基本参数法的算法中不存在的这些步骤，针对主成分彼此的含有率之比来进行足够精确的分析。

在第3方案的荧光X射线分析装置中，上述定量机构在针对标准试样和未知试样，副成分没有指定为成分的情况下，跳过上述副成分含有率更新步骤。

本发明的第4方案涉及下述的荧光X射线分析装置，该荧光X射线分析装置首先对试样照射一次X射线，基于所产生的荧光X射线的测定强度，通过采用校准曲线法的定量机构，求出上述试样中的成分的含有率。

接着，上述定量机构进行：标准试样测定步骤，其中，针对标准试样，测定作为与成分相对应的荧光X射线的测定线的强度，在上述标准试样中，将作为构成基准的主成分的单一的基准主成分和与该基准主成分进行对比的对比主成分指定为成分，各成分的含有率是已知的，从全部成分中指定用于基体校正的附加校正成分；强度比校准曲线制作步骤，其中，针对与对比主成分相对应的每条测定线，基于已知的含有率以及上述标准试样测定步骤中的测定强度，制作强度比校准曲线，该强度比校准曲线为作为对比主成分的测定强度与基准主成分的测定强度之比的测定强度比、与作为对比主成分的含有率与基准主成分的含有率之比的含有率比之间的相关性，且包含基体校正项。

此外，上述定量机构进行：未知试样测定步骤，其中，针对上述基准主成分以及上述对比主成分指定为成分、各成分的含有率未知且上述附加校正成分指定的未知试样，测定上述测定线的强度；未校正含有率比计算步骤，其中，针对每个对比主成分，基于上述未知试样测定步骤中的测定强度以及上述强度比校准曲线制作步骤中的强度比校准曲线，计算基体校正前的未校正含有率比；含有率初始值设定步骤，其中，针对各成分，基于上述未校正含有率比计算步骤中的未校正含有率比，计算基体校正前的未校正含有率并设定为含有率的初始值。

还有，上述定量机构进行：含有率比更新步骤，其中，针对每个对比主成分，基于最新的附加校正成分的含有率，对上述未校正含有率比计算步骤中的未校正含有率比进行基体校正，更新含有率比；含有率更新步骤，基于在上述含有率比更新步骤中已更新的含有率比，更新各成分的含有率；收敛判断步骤，其中，基于预定收敛条件进行收敛判断；以及结果输出步骤，其中，输出作为应求出的未知试样中的成分的含有率的最新的含有率，在上述收敛判断步骤中，在判断为未收敛的情况下，使流程返回到上述含有率比更新步骤，在判断为收敛的情况下，使流程进行至上述结果输出步骤。

在第4方案的荧光X射线分析装置中，使用校准曲线法的定量机构进行：制作强度比校准曲线的强度比校准曲线制作步骤、未校正含有率比计算步骤、含有率比更新步骤和含有率更新步骤，上述强度比校准曲线为作为对比主成分的测定强度与基准主成分的测定强度之比的测定强度比、与作为对比主成分的含有率与基准主成分的含有率之比的含有率比之间的相关性，且包含基体校正项，上述未校正含有率比计算步骤是基于强度比校准曲线来计算基体校正前的未校正含有率比的步骤，上述含有率比更新步骤是基于最新的附加校正成分的含有率对未校正含有率比进行基体校正，并更新含有率比的步骤，上述含有率更新步骤是基于更新后的含有率比来更新各成分的含有率的步骤。通过进行在现有技术的校准曲线法的算法中不存在的这些步骤，针对主成分彼此的含有率比来进行足够精确的分析。

本发明的第5方案涉及下述的荧光X射线分析装置，该荧光X射线分析装置首先对试样照射一次X射线，基于所产生的荧光X射线的测定强度，通过采用校准曲线法的定量机构，求出上述试样中的成分的含有率。

另外，上述定量机构进行：标准试样测定步骤，其中，针对标准试样，测定作为与成分相对应的荧光X射线的测定线的强度，在上述标准试样中，将作为构成基准的主成分的单一的基准主成分、与该基准主成分进行对比的对比主成分、以及副成分指定为成分，各成分的含有率是已知的，从全部成分中指定用于基体校正的附加校正成分；校准曲线制作步骤，其中，针对与副成分相对应的每条测定线，基于已知的含有率以及上述标准试样测定步骤中的测定强度，制作校准曲线，上述校准曲线是副成分的测定强度与副成分的含有率之间的相关性，且包含基体校正项；强度比校准曲线制作步骤，其中，针对与对比主成分相对应的每条测定线，基于已知的含有率以及上述标准试样测定步骤中的测定强度，制作强度比校准曲线，该强度比校准曲线为作为对比主成分的测定强度与基准主成分的测定强度之比的测定强度比、与作为对比主成分的含有率与基准主成分的含有率之比的含有率比之间的相关性，且包含基体校正项；

还有，上述定量机构进行：未知试样测定步骤，其中，针对上述基准主成分、上述对比主成分以及上述副成分指定为成分、各成分的含有率未知且上述附加校正成分指定的未知试样，测定上述测定线的强度；副成分含有率初始值设定步骤，其中，针对每个副成分，基于上述未知试样测定步骤中的测定强度及上述校准曲线制作步骤中的校准曲线，计算基体校正前的未校正含有率并设定为含有率的初始值；未校正含有率比计算步骤，其中，针对每个对比主成分，基于上述未知试样测定步骤中的测定强度以及上述强度比校准曲线制作步骤中的强度比校准曲线，计算基体校正前的未校正含有率比；主成分含有率初始值设定步骤，其中，针对对比主成分及基准主成分，基于上述未校正含有率比计算步骤中的未校正含有率比和上述副成分含有率初始值设定步骤中的副成分的未校正含有率，计算基体校正前的未校正含有率并设定为含有率的初始值。

再有，上述定量机构进行：副成分含有率更新步骤，其中，针对每个副成分，基于最新的附加校正成分的含有率，对上述副成分含有率初始值设定步骤中的未校正含有率进行基体校正，更新含有率；含有率比更新步骤，其中，针对每个对比主成分，基于在上述副成分含有率更新步骤中使用的最新的附加校正成分的含有率，对上述未校正含有率比计算步骤中的未校正含有率比进行基体校正，更新含有率比；主成分含有率更新步骤，基于在上述含有率比更新步骤中更新的含有率比及在上述副成分含有率更新步骤中已更新的副成分的含有率，更新对比主成分及基准主成分的含有率；收敛判断步骤，基于预定收敛条件进行收敛判断；以及结果输出步骤，输出作为应求出的未知试样中的成分的含有率的最新的含有率，在上述收敛判断步骤中，在判断为未收敛的情况下，使流程返回到上述副成分含有率更新步骤，在判断为收敛的情况下，使流程进行至上述结果输出步骤。

在第5方案的荧光X射线分析装置中，使用校准曲线法的定量机构进行：制作强度比校准曲线的强度比校准曲线制作步骤、未校正含有率比计算步骤、含有率比更新步骤和主成分含有率更新步骤，上述强度比校准曲线为作为对比主成分的测定强度与基准主成分的测定强度之比的测定强度比、与作为对比主成分的含有率与基准主成分的含有率之比的含有率比之间的相关性，且包含基体校正项，上述未校正含有率比计算步骤是基于强度比校准曲线计算基体校正前的未校正含有率比的步骤，上述含有率比更新步骤是基于最新的附加校正成分的含有率对未校正含有率比进行基体校正，并更新含有率比的步骤，上述主成分含有率更新步骤是基于已更新的含有率比，更新对比主成分及基准主成分的含有率的步骤。通过进行在现有技术的校准曲线法的算法中不存在的这些步骤，针对主成分彼此的含有率比来进行足够精确的分析。

本发明的第6方案涉及下述的荧光X射线分析装置，该荧光X射线分析装置首先对试样照射一次X射线，基于所产生的荧光X射线的测定强度，通过采用校准曲线法的定量机构，求出上述试样中的成分的含有率。

另外，上述定量机构进行：标准试样测定步骤，其中，针对标准试样，测定作为与成分相对应的荧光X射线的测定线的强度，在上述标准试样中，将作为构成基准的主成分的单一的基准主成分、与该基准主成分进行对比的对比主成分、以及副成分指定为成分，各成分的含有率是已知的，从全部成分中指定用于基体校正的附加校正成分；校准曲线制作步骤，其中，针对每条测定线，基于已知的含有率以及上述标准试样测定步骤中的测定强度，制作校准曲线，上述校准曲线为测定强度与含有率之间的相关性，且包含基体校正项；强度比校准曲线制作步骤，其中，针对与对比主成分相对应的每条测定线，基于已知的含有率以及上述标准试样测定步骤中的测定强度，制作强度比校准曲线，该强度比校准曲线为作为对比主成分的测定强度与基准主成分的测定强度之比的测定强度比、与作为对比主成分的含有率与基准主成分的含有率之比的含有率比之间的相关性，且包含基体校正项。

还有，上述定量机构进行：未知试样测定步骤，其中，针对上述基准主成分、上述对比主成分以及上述副成分指定为成分、各成分的含有率未知且上述附加校正成分指定的未知试样，测定上述测定线的强度；含有率初始值设定步骤，其中，针对各成分，基于上述未知试样测定步骤中的测定强度以及上述校准曲线制作步骤中的校准曲线，计算基体校正前的未校正含有率并设定为含有率的初始值；未校正含有率比计算步骤，其中，针对每个对比主成分，基于上述未知试样测定步骤中的测定强度以及上述强度比校准曲线制作步骤中的强度比校准曲线，计算基体校正前的未校正含有率比。

再有，上述定量机构进行：副成分含有率更新步骤，其中，针对每个副成分，基于最新的附加校正成分的含有率，对上述含有率初始值设定步骤中的未校正含有率进行基体校正，更新含有率；推定含有率计算步骤，其中，对于对比主成分及基准主成分，基于在上述副成分含有率更新步骤中使用的最新的附加校正成分的含有率，对上述含有率初始值设定步骤中的未校正含有率进行基体校正，计算推定含有率；含有率比更新步骤，其中，针对每个对比主成分，基于在上述副成分含有率更新步骤中使用的最新的附加校正成分的含有率，对上述未校正含有率比计算步骤中的未校正含有率比进行基体校正，更新含有率比；主成分含有率更新步骤，其中，基于上述推定含有率计算步骤中的对比主成分的推定含有率及基准主成分的推定含有率的合计以及在上述含有率比更新步骤中已更新的含有率比，更新对比主成分的含有率及基准主成分的含有率；收敛判断步骤，其中，基于预定收敛条件进行收敛判断；以及结果输出步骤，输出作为应求出的未知试样中的成分的含有率的最新的含有率，在上述收敛判断步骤中，在判断为未收敛的情况下，使流程返回到上述副成分含有率更新步骤，在判断为收敛的情况下，使流程进行至上述结果输出步骤。

在第6方案的荧光X射线分析装置中，使用校准曲线法的定量机构进行：制作强度比校准曲线的强度比校准曲线制作步骤、未校正含有率比计算步骤、推定含有率计算步骤、含有率比更新步骤和主成分含有率更新步骤，上述强度比校准曲线为构成作为对比主成分的测定强度与基准主成分的测定强度之比的测定强度比、与作为对比主成分的含有率与基准主成分的含有率之比的含有率比之间的相关性，且包含基体校正项，上述未校正含有率比计算步骤是基于强度比校准曲线计算基体校正前的未校正含有率比的步骤，上述推定含有率计算步骤是基于最新的附加校正成分的含有率，对对比主成分及基准主成分的未校正含有率进行基体校正并计算推定含有率的步骤，上述含有率比更新步骤是基于最新的附加校正成分的含有率，对未校正含有率比进行基体校正并更新含有率比的步骤，上述主成分含有率更新步骤是基于对比主成分的推定含有率及基准主成分的推定含有率的合计以及最新的含有率比来更新对比主成分的含有率及基准主成分的含有率的步骤。通过进行在现有技术的校准曲线法的算法中不存在的这些步骤，针对主成分彼此的含有率比来进行足够精确的分析。

在第6方案的荧光X射线分析装置中，对于上述定量机构，在针对标准试样和未知试样，副成分没有指定为成分的情况下，跳过上述副成分含有率更新步骤。

在本发明的荧光X射线分析装置中，对于上述定量机构，也可作为上述标准试样测定步骤中的测定强度和上述未知试样测定步骤中的测定强度，采用基于试样的分析面的高度与测定强度之间的相关性，按照除去试样的分析面的高度的变动而对测定强度造成的影响的方式进行了校正的测定强度。根据试样的形态，通过像这样进行高度校正，针对主成分彼此的含有率之比来进行更精确的分析。

权利要求书和/或说明书和/或附图所公开的至少两种结构的任意组合也包含在本发明中。特别是，权利要求书中各项权利要求的两项以上的任意组合也包含在本发明中。

附图说明

参考附图的以下优选实施方式的说明，能够更加清楚地理解本发明。然而，实施方式和附图仅用于图示和说明，不应该用于限制本发明的范围。本发明的范围由权利要求书确定。在附图中，多个附图中的相同的附图标号表示相同部分。

图1为表示本发明的第1实施方式的荧光X射线分析装置所具有的定量机构的动作的流程图；

图2为表示本发明的第2实施方式的荧光X射线分析装置所具有的定量机构的动作的流程图。

图3为表示本发明的第3实施方式的荧光X射线分析装置所具有的定量机构的动作的流程图；

图4为表示本发明的第4实施方式的荧光X射线分析装置所具有的定量机构的动作的流程图；

图5为表示本发明的第5实施方式的荧光X射线分析装置所具有的定量机构的动作的流程图；

图6为表示本发明的第6实施方式的荧光X射线分析装置所具有的定量机构的动作的流程图；

图7为表示本发明的第1～第6实施方式的荧光X射线分析装置的示意图。

具体实施方式

以下，对本发明的第1实施方式的荧光X射线分析装置进行说明。像图7所示的那样，第1实施方式的荧光X射线分析装置为测定对试样1、14(包括未知试样1和标准试样14的双方)照射一次X射线3而产生的二次X射线5的强度的扫描型的荧光X射线分析装置，该荧光X射线分析装置包括：载置试样1、14的试样台2；对试样1、14照射一次X射线3的X射线管等的X射线源4；对从试样1、14而产生的荧光X射线等的二次X射线5进行分光的分光元件6；入射通过该分光元件6分光的二次X射线7，检测其强度的检测器8。检测器8的输出经由在图中没有示出的放大器、波高分析器、计数机构等，输入到控制装置整体的计算机等的控制机构11中。

第1实施方式的荧光X射线分析装置为波长色散型且为扫描型的荧光X射线分析装置，该荧光X射线分析装置包括联动机构10，即所谓的测角器，该联动机构10按照射入检测器8中的二次X射线7的波长变化的方式，使分光元件6和检测器8联动。如果二次X射线5以某入射角θ入射到分光元件6中，则该二次X射线5的延长线9和通过分光元件6分光(衍射)的二次X射线7形成入射角θ的2倍的分光角2θ，但是，联动机构10按照一边改变分光角2θ而改变分光的二次X射线7的波长，一边使该分光的二次X射线7入射到检测器8中的方式，使分光元件6以通过其表面中心的与纸面垂直的轴O为中心旋转，以该旋转角的2倍使检测器8以轴O为中心，沿圆12旋转。分光角2θ的值(2θ角度)从联动机构10输入到控制机构11中。

第1实施方式的荧光X射线分析装置包括作为装载于控制机构11中的程序的定量机构13，基于荧光X射线5的测定强度，通过采用基本参数法的定量机构13，求出试样1、14中的成分的含有率。另外，在本发明中，荧光X射线分析装置可以是波长色散型且为多元素同时分析型的荧光X射线分析装置，也可以是能量色散型的荧光X射线分析装置。

接着，按照图1的流程图，对第1实施方式的荧光X射线分析装置所具有的定量机构13的动作进行说明。定量机构13首先在标准试样测定步骤中，针对作为构成基准的主成分的单一的基准主成分b和与该基准主成分b进行对比的单一或多个对比主成分i1指定为成分i(包括b、i1)，各成分i的含有率W_i(包括W_b、W_i1)已知的标准试样14，对作为与成分i相对应的荧光X射线5的测定线的强度进行测定。成分i的测定强度I_iM包括基准主成分b的测定强度I_bM和对比主成分i1的测定强度I_i1M。

然后，在标准试样理论强度计算步骤中，针对每条测定线，基于已知的含有率W_i，通过公知的理论强度式来计算理论强度I_iT(包括I_bT、I_i1T)。

之后，在强度比装置灵敏度曲线制作步骤中，针对与对比主成分i1相对应的每条测定线，基于上述标准试样测定步骤中的测定强度I_iM以及上述标准试样理论强度计算步骤中的理论强度I_iT，制作作为对比主成分i1的测定强度I_i1M与基准主成分b的测量强度I_bM之比的测定强度比I_i1bRM(即，I_i1bRM＝I_i1M/I_bM)，与作为对比主成分i1的理论强度I_i1T与基准主成分b的理论强度I_bT之比的理论强度比I_i1bRT(即，I_i1bRT＝I_i1T/I_bT)之间的相关性的强度比装置灵敏度曲线。具体而言，求出表示强度比装置灵敏度曲线的下式(1)的强度比装置灵敏度系数A_i1R、B_i1R、C_i1R。

I_i1bRT＝A_i1RI_i1bRM ²+B_i1RI_i1bRM+C_i1R…(1)

接着，在未知试样测定步骤中，针对上述基准主成分b以及上述对比主成分i1指定为成分i，针对各成分i的含有率W_i未知的未知试样1，测定上述测定线的强度I_iM。

然后，在强度比换算步骤中，基于与对比主成分i1相对应的每条测定线，按照上述未知试样测定步骤中的测定强度I_i1M、I_bM以及上述强度比装置灵敏度曲线制作步骤中的强度比装置灵敏度曲线(式(1))，将作为对比主成分i1的测定强度I_i1M与基准主成分b的测定强度I_bM之比的测定强度比I_i1bRM如下式(2)所示那样换算为理论强度标度，作为换算测定强度比I_i1bRTM。

I_i1bRTM＝A_i1RI_i1bRM ²+B_i1RI_i1bRM+C_i1R…(2)

接着，在含有率初始值设定步骤中，设定各成分i1、b的含有率的初始值W_i1(0)、W_b(0)。具体而言，首先，针对每个对比主成分i1，将作为对比主成分i1的含有率W_i1与基准主成分b的含有率W_b之比含有率比R_i1b的初始值R_i1b(0)如下式(3)所示那样设定。

R_i1b(0)＝I_i1bRTM/(I_i1TPure/I_bTPure)…(3)

I_i1bRTM：强度比换算步骤中求出的换算测定强度比；

I_i1TPure：仅由对比主成分i1构成的试样中的该成分i1的理论强度；

I_bTPure：仅由基准主成分b构成的试样中的该成分b的理论强度。

然后，基于含有率比的初始值R_i1b(0)，通过下式(4)、(5)求出并设定各成分i1、b的含有率的初始值W_i1(0)，W_b(0)。

W_b(0)＝100/(1+ΣR_i1b(0))…(4)

W_i1(0)＝R_i1b(0)×W_b(0)…(5)

另外，基本参数法中的各成分i(i1、b)的含有率的初始值W_i(0)(W_i1(0)、W_b(0))的设定有各种公知的方法，因此也可以从这些方法中适当选择，代替使用上述的式(3)～(5)的方法而利用。例如，也可在多个标准试样中对已知的各成分的含有率，求出平均值而设定为初始值W_i1(0)、W_b(0)，将单纯地用100(质量％)除以成分量的数量而得的值设定为各成分的含有率的初始值W_i1(0)、W_b(0)。在该情况下，含有率的初始值之比W_i1(0)/W_b(0)作为含有率比的初始值R_i1b(0)，也可以在含有率初始值设定步骤中进行设定。另外，在含有率初始值设定步骤中，在不设定含有率比的初始值R_i1b(0)的情况下，在后述的含有率比更新步骤的第一次中，通过将含有率的初始值之比W_i1(0)/W_b(0)设为更新前的含有率比R_i1b(n-1)，也可以设定含有率比的初始值R_i1b(0)。

接着，进行反复计算，在未知试样理论强度计算步骤中，针对每条测定线，基于最新的含有率W_i(n-1)，通过公知的理论强度式来计算理论强度I_iT(n-1)。在这里，含有率W_i(n)、如下所述的含有率比R_i1b(n)的()内的数值n表示更新含有率W_i、含有率比R_i1b的反复计算的次数，进行反复计算，将初次的计算作为第一次(n＝1)进行起算，将反复计算前的初始值的计算作为第0次(n-1＝0)。关于数值n的定义，在其他实施方式的装置中也相同。

接着，在含有率比更新步骤中，针对每个对比主成分i1，基于上述强度比换算步骤中的换算测定强度比I_i1bRTM和上述未知试样理论强度计算步骤中的理论强度I_i1T(n-1)、I_bT(n-1)的理论强度比I_i1bRT(n-1)(即，I_i1bRT(n-1)＝I_i1T(n-1)/I_bT(n-1))，将作为对比主成分i1的含有率W_i1(n-1)与基准主成分b的含有率W_b(n-1)之比的含有率比R_i1b(n-1)(即，R_i1b(n-1)＝W_i1(n-1)/W_b(n-1))如下式(6)所示的那样更新为R_i1b(n)。在这里，作为更新前的含有率比R_i1b(n-1)，在重复计算的第一次中，如上所述，采用含有率的初始值之比W_i1(0)/W_b，在重复计算的第二次中，采用在上次重复计算中已更新的含有率之比W_i1(n-1)/W_b(n-1)。

R_i1b(n)＝R_i1b(n-1)×(I_i1bRTM/I_i1bRT(n-1))…(6)

接着，在含有率更新步骤中，基于最新的含有率比R_i1b(n)，将各成分i1、b的含有率W_i1(n-1)、W_b(n-1)更新为通过下式(7)、(8)求出的W_i1(n)、W_b(n)。

W_b(n)＝100/(1+ΣR_i1b(n))…(7)

W_i1(n)＝R_i1b(n)×W_b(n)…(8)

接下来，在收敛判断步骤中，基于预定收敛条件进行收敛判断。在这里，作为预定收敛条件，基于公知的方法，例如，考虑含有率更新步骤中的更新前后的含有率之比W_i(n)/W_i(n-1)与1之差的绝对值小于规定的值这样的条件、反复计算的次数n达到规定的次数这样的条件。然后，反复进行下述的流程，即，在不满足预定收敛条件的情况下，判断为未收敛(否)，将流程返回到未知试样理论强度计算步骤，将含有率更新步骤中已更新的含有率W_i(n)作为最新的含有率W_i(n-1)，到收敛判断步骤为止。另一方面，在满足预定收敛条件的情况下，判断为收敛(是)，结束反复计算，使流程进行至结果输出步骤。

在结果输出步骤中，输出作为应求出的未知试样1中的成分i的含有率W_i的最新的含有率W_i(n)。

像以上那样，在第1实施方式的荧光X射线分析装置中，采用基本参数法的定量机构13进行下述步骤：制作作为对比主成分i1的测定强度I_i1M与基准主成分b的测定强度I_bM之比的测定强度比I_i1bRM、与作为对比主成分i1的理论强度I_i1T与基准主成分b的理论强度I_bT之比的理论强度比I_i1bRT之间的相关性的强度比装置灵敏度曲线的强度比装置灵敏度曲线制作步骤；基于强度比装置灵敏度曲线制作将测定强度比I_i1bRM换算为理论强度标度而作为换算测定强度比I_i1bRTM的强度比换算步骤；基于换算测定强度比I_i1bRTM，将作为对比主成分i1的含有率W_i1(n-1)与基准主成分b的含有率W_b(n-1)之比的含有率比R_i1b(n-1)更新为R_i1b(n)的含有率更新步骤；基于最新的含有率比R_i1b(n)，将各成分i1、b的含有率W_i1(n-1)、W_b(n-1)更新为W_i1(n)、W_b(n)的含有率更新步骤。通过进行在现有技术的基本参数法的算法中不存在的这些步骤，针对主成分彼此的含有率比R_i1b来进行足够精确的分析。

在第1实施方式的荧光X射线分析装置中的基于基本参数法的定量分析中，针对主成分，利用式(1)所示那样的作为测定强度比与理论强度比之间的相关性的强度比装置灵敏度曲线，但不利用作为测定强度与理论强度之间的相关性的过去的装置灵敏度曲线。将这样的定量方法称为第一成分定量法。

然后，对第2实施方式的荧光X射线分析装置进行说明。在第2实施方式的荧光X射线分析装置中，与第1实施方式的荧光X射线分析装置同样地，使用基本参数法的第一成分定量法，但作为对象的标准试样以及未知试样，不仅包含主成分，还包含副成分。副成分例如是低含有率成分，是针对相对应的测定线，不制作强度比装置灵敏度曲线的成分。由于作为第2实施方式的荧光X射线分析装置的方案，仅仅是所具有的定量机构13的动作与第1实施方式的荧光X射线分析装置不同，故按照图2的流程图，对该不同的动作进行说明。

定量机构13首先在标准试样测定步骤中，针对将作为构成基准的主成分的单一的基准主成分b、与该基准主成分b进行对比的单一或多个对比主成分i1、以及单一或多个副成分i2指定为成分i(包括b、i1、i2)，各成分i的含有率W_i(包括W_b、W_i1、W_i2)已知的标准试样14，对作为与成分i相对应的荧光X射线5的测定线的强度进行测定。在这里，成分i的测定强度I_iM包括基准主成分b的测量强度I_bM、对比主成分i1的测量强度I_i1M和副成分i2的测量强度I_i2M。

接着，在标准试样理论强度计算步骤中，针对每条测定线，基于已知的含有率W_i，通过公知的理论强度式来计算理论强度I_iT(包括I_bT、I_i1T、I_i2T)。

然后，在装置灵敏度曲线制作步骤中，针对与副成分i2相对应的每条测定线，基于上述标准试样测定步骤中的测定强度I_i2M以及上述标准试样理论强度计算步骤中的理论强度I_i2T，制作作为副成分i2的测量强度I_i2M、与副成分i2的理论强度I_i2T之间的相关性的装置灵敏度曲线。具体而言，求出表示装置灵敏度曲线的下式(9)的装置灵敏度系数A_i2、B_i2、C_i2。

I_i2T＝A_i2I_i2M ²+B_i2I_i2M+C_i2…(9)

接着，与第1实施方式的荧光X射线分析装置同样地，在强度比装置灵敏度曲线制作步骤中，针对与对比主成分i1相对应的每条测定线，基于上述标准试样测定步骤中的测定强度I_iM以及上述标准试样理论强度计算步骤中的理论强度I_iT，制作强度比装置灵敏度曲线，其为作为对比主成分i1与基准主成分b的测量强度I_bM的测定强度I_i1M之比的测定强度比I_i1bRM(即，I_i1bRM＝I_i1M/I_bM)、与作为对比主成分i1的理论强度I_i1T与基准主成分b的理论强度I_bT之比的理论强度比I_i1bRT(即，I_i1bRT＝I_i1T/I_bT)之间的相关性。具体而言，求出表示强度比装置灵敏度曲线的下述式(1)的强度比装置灵敏度系数A_i1R、B_i1R、C_i1R。

I_i1bRT＝A_i1RI_i1bRM ²+B_i1RI_i1bRM+C_i1R…(1)

然后，在未知试样测定步骤中，针对将上述基准主成分b、上述对比主成分i1以及上述副成分i2指定为成分i，各成分i的含有率W_i未知的未知试样1，测定上述测定线的强度I_iM。

之后，在强度换算步骤中，针对与副成分i2相对应的每条测定线，基于上述未知试样测定步骤中的测定强度I_i2M以及上述装置灵敏度曲线制作步骤中的装置灵敏度曲线(式(9))，将副成分i2的测定强度I_i2M如下式(10)所示那样换算为理论强度标度，作为换算测定强度I_i2TM。

I_i2TM＝A_i2I_i2M ²+B_i2I_i2M+C_i2…(10)

接着，与第1实施方式的荧光X射线分析装置同样地，在强度比换算步骤中，针对与对比主成分i1相对应的每条测定线，基于上述未知试样测定步骤中的测定强度I_i1M、I_bM以及上述强度比装置灵敏度曲线制作步骤中的强度比装置灵敏度曲线(式(1))，将作为对比主成分i1的测定强度I_i1M与基准主成分b的测定强度I_bM之比的测定强度比I_i1bRM如下式(2)所示那样换算为理论强度标度，作为换算测定强度比I_i1bRTM。

I_i1bRTM＝A_i1RI_i1bRM ²+B_i1RI_i1bRM+C_i1R…(2)

然后，在含有率初始值设定步骤中，设定各成分i1、b、i2的含有率的初始值W_i1(0)、W_b(0)、W_i2(0)。具体而言，首先，针对每个对比主成分i1，将作为对比主成分i1的含有率W_i1与基准主成分b的含有率W_b之比的含有率比R_i1b的初始值R_i1b(0)如下式(3)所示那样设定。

R_i1b(0)＝I_i1bRTM/(I_i1TPure/I_bTPure)…(3)

I_i1bRTM：强度比换算步骤中求出的换算测定强度比；

I_i1TPure：仅由对比主成分i1构成的试样中的该成分i1的理论强度；

I_bTPure：仅由基准主成分b构成的试样中的该成分b的理论强度。

另外，针对每个副成分i2，含有率的初始值W_i2(0)如下式(11)所示那样设定。

W_i2(0)＝(I_i2TM/I_i2TPure)×100…(11)

I_i2TM：强度换算步骤中求出的换算测定强度；

I_i2TPure：仅由副成分i2构成的试样中的该成分i2的理论强度。

然后，基于含有率比的初始值R_i1b(0)、副成分i2的含有率的初始值W_i2(0)，将对比主成分i1的含有率的初始值W_i1(0)、基准主成分b的含有率的W_b(0)通过下式(12)、(5)求出并设定。

W_b(0)＝(100-ΣW_i2(0))/(1+ΣR_i1b(0))…(12)

W_i1(0)＝R_i1b(0)×W_b(0)…(5)

此外，也可代替上述的方法，与对第1实施方式的荧光X射线分析装置进行的说明同样地，例如，在多个标准试样中针对已知的各成分的含有率，求出平均值并作为初始值W_i1(0)、W_b(0)、W_i2(0)来设定，将单纯地用100(质量％)除以成分量的数量得到的值设定为各成分的含有率的初始值W_i1(0)、W_b(0)、W_i2(0)。该情况下的含有率比的初始值R_i1b(0)的设定也与关于第1实施方式的荧光X射线分析装置说明的情况相同。

接着，进行反复计算，与第1实施方式的荧光X射线分析装置同样地，在未知试样理论强度计算步骤中，针对每条测定线，基于最新的含有率W_i(n-1)，通过公知的理论强度式来计算理论强度计算I_iT(n-1)。

之后，在副成分含有率更新步骤中，针对每个副成分i2，基于在上述强度换算步骤中的换算测定强度I_i2TM和上述未知试样理论强度计算步骤中的理论强度I_i2T(n-1)，如下式(13)所示的那样，将含有率W_i2(n-1)更新为W_i2(n)。

W_i2(n)＝W_i2(n-1)×(I_i2TM/I_i2T(n-1))…(13)

然后，与第1实施方式的荧光X射线分析装置同样地，在含有率比更新步骤中，针对每个对比主成分i1，基于上述强度比换算步骤中的换算测定强度比I_i1bRTM和上述未知试样理论强度计算步骤中的理论强度I_i1T(n-1)、I_bT(n-1)的理论强度比I_i1bRT(n-1)(即，I_i1bRT(n-1)＝I_i1T(n-1)/I_bT(n-1))，将作为对比主成分i1的含有率W_i1(n-1)与基准主成分b的含有率W_b(n-1)之比的含有率比R_i1b(n-1)(即，R_i1b(n-1)＝W_i1(n-1)/W_b(n-1))如下式(6)所示的那样更新为R_i1b(n)。

R_i1b(n)＝R_i1b(n-1)×(I_i1bRTM/I_i1bRT(n-1))…(6)

之后，在主成分含有率更新步骤中，基于最新的含有率比R_i1b(n)和最新的副成分i2的含有率W_i2(n)，将对比主成分i1的含有率W_i1(n-1)及基准主成分b的含有率W_b(n-1)更新为通过下式(14)、(8)求出的W_i1(n)和W_b(n)。

W_b(n)＝(100-ΣW_i2(n))/(1+ΣR_i1b(n))…(14)

W_i1(n)＝R_i1b(n)×W_b(n)…(8)

接着，与第1实施方式的荧光X射线分析装置同样地，在收敛判断步骤中，基于预定收敛条件进行收敛判断，在不满足预定收敛条件的情况下，判断为未收敛(否)，将流程返回到未知试样理论强度计算步骤，在满足了预定的收敛条件的情况下，判断为收敛(是)，将流程进行至结果输出步骤。

并且，与第1实施方式的荧光X射线分析装置同样地，在结果输出步骤中，输出作为应求出的未知试样1中的成分i的含有率W_i的最新的含有率W_i(n)。

像以上那样，在第2实施方式的荧光X射线分析装置中，采用基本参数法的定量机构13进行：制作作为对比主成分i1的测定强度I_i1M与基准主成分b的测定强度I_bM之比的测定强度比I_i1bRM、与作为对比主成分i1的理论强度I_i1T与基准主成分b的理论强度I_bT之比的理论强度比I_i1bRT之间的相关性的强度比装置灵敏度曲线的强度比装置灵敏度曲线制作步骤；基于强度比装置灵敏度曲线将测定强度比I_i1bRM换算为理论强度标度而作为换算测定强度比I_i1bRTM的强度比换算步骤；基于换算测定强度比I_i1bRTM，将作为对比主成分i1的含有率W_i1(n-1)与基准主成分b的含有率W_b(n-1)之比的含有率比R_i1b(n-1)更新为R_i1b(n)的含有率比更新步骤；基于最新的含有率比R_i1b(n)，将对比主成分i1的含有率W_i1(n-1)及基准主成分b的含有率W_b(n-1)更新为W_i1(n)、W_b(n)的主成分含有率更新步骤。通过进行在现有技术的基本参数法的算法中不存在的这些步骤，针对主成分彼此的含有率比R_i1b来进行足够精确的分析。

然后，对第3实施方式的荧光X射线分析装置进行说明。在第3实施方式的荧光X射线分析装置中，与第1、第2实施方式的荧光X射线分析装置不同，使用后述的基本参数法的第二成分定量法。作为对象的标准试样以及未知试样，不仅包含主成分，还包含副成分。由于作为第3实施方式的荧光X射线分析装置的结构，仅仅是所具有的定量机构13的动作与第1、第2实施方式的荧光X射线分析装置不同，故按照图3的流程图，对该不同的动作进行说明。

定量机构13首先与第2实施方式的荧光X射线分析装置同样地，在标准试样测定步骤中，针对将作为构成基准的主成分的单一的基准主成分b、与该基准主成分b进行对比的单一或多个对比主成分i1、与单一或多个副成分i2指定为成分i(包括b、i1、i2)，各成分i的含有率W_i(包括W_b、W_i1、W_i2)已知的标准试样14，对作为与成分i相对应的荧光X射线5的测定线的强度进行测定。这里，成分i的测定强度I_iM包括基准主成分b的测量强度I_bM、对比主成分i1的测量强度I_i1M和副成分i2的测量强度I_i2M。

接着，与第2实施方式的荧光X射线分析装置同样地，在标准试样理论强度计算步骤中，针对每条测定线，基于已知的含有率W_i，通过公知的理论强度式，计算理论强度I_iT(包括I_bT、I_i1T、I_i2T)。

之后，在装置灵敏度曲线制作步骤中，针对每条测定线，基于上述标准试样测定步骤中的测定强度I_iM以及上述标准试样理论强度计算步骤中的理论强度I_iT，制作作为测量强度I_iM与理论强度II_iT的相关性的装置灵敏度曲线。具体而言，求出表示装置灵敏度曲线的下式(15)的装置灵敏度系数A_i、B_i、C_i。

I_iT＝A_iI_iM ²+B_iI_iM+C_i…(15)

然后，与第1、第2实施方式的荧光X射线分析装置同样地，在强度比装置灵敏度曲线制作步骤中，针对与对比主成分i1相对应的每条测定线，基于上述标准试样测定步骤中的测定强度I_iM以及上述标准试样理论强度计算步骤中的理论强度I_iT，制作作为对比主成分i1的测定强度I_i1M与基准主成分b的测量强度I_bM之比的测定强度比I_i1bRM(即，I_i1bRM＝I_i1M/I_bM)、与作为对比主成分i1的理论强度I_i1T与基准主成分b的理论强度I_bT之比的理论强度比I_i1bRT(即，I_i1bRT＝I_i1T/I_bT)之间的相关性的强度比装置灵敏度曲线。具体而言，求出表示强度比装置灵敏度曲线的式(1)的强度比装置灵敏度系数A_i1R、B_i1R、C_i1R。

I_i1bRT＝A_i1RI_i1bRM ²+B_i1RI_i1bRM+C_i1R…(1)

然后，与第2实施方式的荧光X射线分析装置同样地，在未知试样测定步骤中，针对将上述基准主成分b、上述对比主成分i1以及上述副成分i2指定为成分i，各成分i的含有率W_i是未知的未知试样1，测定上述测定线的强度I_iM。

接着，在强度换算步骤中，针对每条测定线，基于在上述未知试样测定步骤中的测定强度I_iM以及上述装置灵敏度曲线制作步骤中的装置灵敏度曲线(式(15))，将测定强度I_iM像下式(16)所示那样，换算为理论强度标度，作为换算测定强度I_iTM。

I_iTM＝A_iI_iM ²+B_iI_iM+C_i…(16)

然后，与第1、第2实施方式的荧光X射线分析装置同样地，在强度比换算步骤中，针对与对比主成分i1相对应的每条测定线，基于上述未知试样测定步骤中的测定强度I_i1M、I_bM以及上述强度比装置灵敏度曲线制作步骤中的强度比装置灵敏度曲线(式(1))，将作为对比主成分i1的测定强度I_i1M与基准主成分b的测定强度I_bM之比的测定强度比I_i1bRM像下式(2)所示那样换算为理论强度标度，作为换算测定强度比I_i1bRTM。

I_i1bRTM＝A_i1RI_i1bRM ²+B_i1RI_i1bRM+C_i1R…(2)

之后，在含有率初始值设定步骤中，设定各成分i1、b、i2的含有率的初始值W_i1(0)、W_b(0)、W_i2(0)。具体而言，针对每种成分i，含有率的初始值W_i(0)如下式(17)所示那样设定。

W_i(0)＝(I_iTM/I_iTPure)×100…(17)

I_iTM：在强度换算步骤中求出的换算测定强度

I_iTPure：仅由成分i构成的试样中的该成分i的理论强度

此外，代替上述的方法，与对第1实施方式的荧光X射线分析装置进行的说明同样地，例如，在多个标准试样中对已知的各成分的含有率求出平均值并求出初始值W_i1(0)、W_b(0)、W_i2(0)，将单纯地用100(质量％)除以成分量的数量而得的值作为各成分的含有率的初始值W_i1(0)、W_b(0)、W_i2(0)。该情况下的含有率比的初始值R_i1b(0)的设定也与关于第1实施方式的荧光X射线分析装置说明的情况相同。

另外，进行反复计算，与第1、第2实施方式的荧光X射线分析装置同样地，在未知试样理论强度计算步骤中，针对每条测定线，基于最新的含有率W_i(n-1)通过公知的理论强度式来计算理论强度I_iT(n-1)。

接着，与第2实施方式的荧光X射线分析装置同样地，在副成分含有率更新步骤中，针对每个副成分i2，基于上述强度换算步骤中的换算测定强度I_i2TM和上述未知试样理论强度计算步骤中的理论强度I_i2T(n-1)，如下式(13)所示的那样，将含有率W_i2(n-1)更新为W_i2(n)。

W_i2(n)＝W_i2(n-1)×(I_i2TM/I_i2T(n-1))…(13)

然后，在推定含有率计算步骤中，对于对比主成分i1以及基准主成分b，基于在上述强度换算步骤中的换算测定强度I_i1TM、I_bTM和上述未知试样理论强度计算步骤中的理论强度I_i1T(n-1)、I_bT(n-1)、基于最新的含有率W_i1(n-1)、W_b(n-1)，如下式(18)、(19)所示的那样，计算推定含有率W_i1(S)、W_b(S)。

W_i1(S)＝W_i1(n-1)×(I_i1TM/I_i1T(n-1))…(18)

W_b(S)＝W_b(n-1)×(I_bTM/I_bT(n-1))…(19)

接着，与第1、第2实施方式的荧光X射线分析装置同样地，在含有率比更新步骤中，针对每个对比主成分i1，基于上述强度比换算步骤中的换算测定强度比I_i1bRTM和上述未知试样理论强度计算步骤中的理论强度I_i1T(n-1)、I_bT(n-1)的理论强度比I_i1bRT(n-1)(即，I_i1bRT(n-1)＝I_i1T(n-1)/I_bT(n-1))，将作为对比主成分i1的含有率W_i1(n-1)与基准主成分b的含有率W_b(n-1)之比的含有率比R_i1b(n-1)(即，R_i1b(n-1)＝W_i1(n-1)/W_b(n-1))如下式(6)所示的那样更新为R_i1b(n)。

R_i1b(n)＝R_i1b(n-1)×(I_i1bRTM/I_i1bRT(n-1))…(6)

之后，在主成分含有率更新步骤中，基于上述推定含有率计算步骤中的对比主成分i1的推定含有率W_i1(S)及基准主成分b的推定含有率W_b(S)的总W_Total(S)(即，W_Total(S)＝ΣW_i1(S)+W_b(S))与最新的含有率比R_i1b(n)，将对比主成分i1的含有率W_i1(n-1)及基准主成分b的含有率W_b(n-1)更新为通过下述的式(20)、(8)求出的W_i1(n)和W_b(n)。

W_b(n)＝W_Total(S)/(1+ΣR_i1b(n))…(20)

W_i1(n)＝R_i1b(n)×W_b(n)…(8)

然后，与第1、第2实施方式的荧光X射线分析装置同样地，在收敛判断步骤中，基于预定收敛条件进行收敛判断，在不满足预定收敛条件的情况下，判断为未收敛(否)，将流程返回到未知试样理论强度计算步骤，在满足了预定收敛条件的情况下，判断为收敛(是)，将流程进行至结果输出步骤。

并且，与第1、第2实施方式的荧光X射线分析装置同样地，在结果输出步骤中，输出作为应求出的未知试样1中的成分i的含有率W_i的最新的含有率W_i(n)。

像以上那样，在第3实施方式的荧光X射线分析装置中，采用基本参数法的定量机构13进行：制作作为对比主成分i1的测定强度I_i1M与基准主成分b的测定强度I_bM之比的测定强度比I_i1bRM、与对比主成分i1的理论强度I_i1T与基准主成分b的理论强度I_bT之比的理论强度比I_i1bRT之间的相关性的强度比装置灵敏度曲线的强度比装置灵敏度曲线制作步骤；基于强度比装置灵敏度曲线，将测定强度比I_i1bRM换算为理论强度标度而作为换算测定强度比I_i1bRTM的强度比换算步骤；针对对比主成分i1及基准主成分b，计算推定含有率W_i1(S)、W_b(S)的推定含有率计算步骤；基于换算测定强度比I_i1bRTM，将作为对比主成分i1的含有率W_i1(n-1)与基准主成分b的含有率W_b(n-1)之比的含有率比R_i1b(n-1)更新为R_i1b(n)的含有率比更新步骤；基于对比主成分i1的推定含有率W_i1(S)及基准主成分b的推定含有率W_b(S)的合计与最新的含有率比R_i1b(n)，将对比主成分i1的含有率W_i1(n-1)及基准主成分b的含有率W_b(n-1)更新为W_i1(n)、W_b(n)的主成分含有率更新步骤。通过进行在现有技术的基本参数法的算法中不存在的这些步骤，针对主成分彼此的含有率比R_i1b来进行足够精确的分析。

在第3实施方式的荧光X射线分析装置中的基于基本参数法的定量分析中，针对主成分，不仅利用式(1)所示那样的作为测定强度比与理论强度比之间的相关性的强度比装置灵敏度曲线，还利用式(15)所示那样的作为测定强度与理论强度之间的相关性的过去的装置灵敏度曲线。将这样的定量方法称为第二成分定量法。

另外，在第3实施方式的荧光X射线分析装置中，定量机构13还对应于针对标准试样14和未知试样1，副成分i2作为成分i而1个都没有指定的场合，在该场合，跳过上述副成分含有率更新步骤。

接着，对第4实施方式的荧光X射线分析装置进行说明。在第4实施方式的荧光X射线分析装置中，与第1～第3实施方式的荧光X射线分析装置不同，在所具有的定量机构13中采用校准曲线法。作为对象的标准试料以及未知试料仅含有主成分。由于作为第4实施方式的荧光X射线分析装置的结构，仅仅是所具有的定量机构13的动作与第1～第3实施方式的荧光X射线分析装置不同，故按照图4的流程图，对该不同的动作进行说明。

定量机构13首先在标准试样测定步骤中，针对将作为构成基准的主成分的单一的基准主成分b和与该基准主成分b进行对比的单一或多个对比主成分i1指定为成分i，指定为各成分i(包括b、i1)，各成分i的含有率W_i(包括W_b、W_i1)已知、且从全部成分i指定用于基体校正的附加校正成分j的标准试样14，测定作为与成分i相对应的荧光X射线5的测定线的强度。

在这里，成分i的测定强度I_iM包括基准主成分b的测量强度I_bM和对比主成分i1的测定强度I_i1M，基准主成分b、对比主成分i1均为想要对含有率进行定量的成分i、即分析成分i。而且，针对与分析成分i相对应的测定线的强度，吸收或激发该测定线而产生影响的成分为附加校正成分j，为了去除该影响，其用于针对分析成分i的基体校正。基准主成分b、对比主成分i1、分析成分i自身均可成为附加校正成分j，但通过公知的方法，从所有的成分i中选择并指定附加校正成分j。

接着，在强度比校准曲线制作步骤中，针对与对比主成分i1相对应的每条测定线，基于已知的含有率W_i以及上述标准试样测定步骤中的测定强度I_iM，制作作为对比主成分i1的测定强度I_i1M与基准主成分b的测量强度I_bM之比的测定强度比I_i1bRM(即，I_i1bRM＝I_i1M/I_bM)、与作为对比主成分i1的含有率W_i1与基准主成分b的含有率W_b之比的含有率比R_i1b(即，R_i1b＝W_i1/W_b)之间的相关性，且包含基体校正项∑α_jRW_j的强度比校准曲线。具体而言，求出表示强度比校准曲线的下式(21)的强度比校准曲线常数d_i1R、e_i1R、f_i1R、强度比基体校正系数α_jR。此外，在校准曲线法所包含的半基本参数法(SFP法)中，通过理论强度计算求出作为测定强度与含有率之间的相关性的过去的校准曲线的基体校正系数，但该强度比基体校正系数αjR也可以通过理论强度计算求出。

R_i1b＝(d_i1RI_i1bRM ²+e_i1RI_i1bRM+f_i1R)(1+Σα_jRW_j)…(21)

之后，在未知试样测定步骤中，针对将上述基准主成分b以及上述对比主成分i1指定为成分i，各成分i的含有率W_i是未知的，指定上述附加校正成分j的未知试样1，测定上述测定线的强度I_iM。

接着，在未校正含有率比计算步骤中，针对每个对比主成分i1，基于上述未知试样测定步骤中的测定强度I_iM以及上述强度比校准曲线制作步骤中的强度比校准曲线(式(21))，基体校正前的未校正含有率X_Ri1b如下式(22)所示那样进行计算。

X_Ri1b＝(d_i1RI_i1bRM ²+e_i1RI_i1bRM+f_i1R)…(22)

然后，在含有率初始值设定步骤中，如下式(23)、(24)所示的那样，针对各成分i1、b，基于上述未校正含有率比计算步骤中的未校正含有率比X_Ri1b，计算基体校正前的未校正含有率X_i1、X_b，将其设定为含有率的初始值W_i1(0)、W_b(0)。

W_b(0)＝X_b＝100/(1+ΣX_Ri1b)…(23)

W_i1(0)＝X_i1＝X_Ri1b×X_b…(24)

接着，进行反复计算，在含有率比更新步骤中，如下式(25)所示的那样，针对每个对比主成分i1，相对于上述未校正含有率比计算步骤中的未校正含有率比X_Ri1b，基于最新的附加校正成分j的含有率W_j(n-1)进行基体校正，将含有率比更新为R_i1b(n)。在这里，作为最新的附加校正成分j的含有率W_j(n-1)，在反复计算的第一次中，采用含有率初始值设定步骤中的初始值W_i1(0)、W_b(0)，在重复计算的第二次以后，采用在上次的重复计算中已更新的含有率W_i1(n-1)、W_b(n-1)。

R_i1b(n)＝X_Ri1b(1+Σα_jRW_j(n-1))…(25)

然后，在含有率更新步骤中，基于在上述含有率比更新步骤中已更新的含有率比R_i1b(n)，将各成分i1、b的含有率W_i1(n-1)、W_b(n-1)更新为通过下式(7)、(8)求出的W_i1(n)、W_b(n)。

W_b(n)＝100/(1+ΣR_i1b(n))…(7)

W_i1(n)＝R_i1b(n)×W_b(n)…(8)

之后，与第1～第3实施方式的荧光X射线分析装置同样地，在收敛判断步骤中，基于预定收敛条件进行收敛判断。在不满足预定收敛条件的情况下，判断为未收敛(否)，使流程返回到含有率比更新步骤，在满足预定收敛条件的情况下，判断为收敛(是)，使流程进行至结果输出步骤。

并且，与第1～第3实施方式的荧光X射线分析装置同样地，在结果输出步骤中，输出作为应求出的未知试样1中的成分i的含有率W_i的最新的含有率W_i(n)。

像以上那样，在第4实施方式的荧光X射线分析装置中，采用校准曲线法的定量机构13进行：制作作为对比主成分i1的测定强度I_i1M与基准主成分b的测定强度I_bM之比的测定强度比I_i1bRM、与作为对比主成分i1的含有率W_i1与基准主成分b的含有率W_b之比的含有率比R_i1b之间的相关性且包含基体校正项Σα_jRW_j的强度比校准曲线的强度比校准曲线制作步骤；基于强度比校准曲线来计算基体校正前的未校正含有率比X_Ri1b的未校正含有率比计算步骤；相对于未校正含有率比X_Ri1b，基于最新的附加校正成分j的含有率W_j(n-1)进行基体校正，将含有率比更新为R_i1b(n)的含有率比更新步骤；基于已更新的含有率比R_i1b(n)，将各成分i1、b的含有率W_i1(n-1)、W_b(n-1)更新为W_i1(n)、W_b(n)的含有率更新步骤。通过进行这些在现有技术的校准曲线法的算法中不存在的步骤，针对主成分彼此的含有率比R_i1b来进行足够精确的分析。

在第4实施方式的荧光X射线分析装置中的基于校准曲线法的定量分析中，针对主成分，利用式(21)所示那样的作为测量强度比与含有率比之间的相关性的强度比校准曲线，但不利用作为测量强度与含有率之间的相关性的过去的校准曲线。这样的定量方法也包含在第一成分定量法中。

接着，对第5实施方式的荧光X射线分析装置进行说明。在第5实施方式的荧光X射线分析装置中，与第4实施方式的荧光X射线分析装置同样地使用校准曲线法的第一成分定量法，但作为对象的标准试样以及未知试样，不仅包含主成分，还包含副成分。副成分例如是低含有率成分，是针对对应的测定线而不制作强度比校准曲线的成分。由于作为第5实施方式的荧光X射线分析装置的结构，仅仅是所具有的定量机构13的动作与第1～第4实施方式的荧光X射线分析装置不同，故按照图5的流程图，对该不同的动作进行说明。

定量机构13首先在标准试样测定步骤中，针对将作为构成基准的主成分的单一的基准主成分b、与该基准主成分b进行对比的单一或多个对比主成分i1、以及单一或多个副成分i2指定为成分i(包括b、i1、i2)，各成分i的含有率W_i(包括W_b、W_i1、W_i2)已知、且从全部成分i指定用于基体校正的附加校正成分j的标准试样14，测定作为与成分i相对应的荧光X射线5的测定线的强度。

在这里，成分i的测定强度I_iM包含基准主成分b的测量强度I_bM，对比主成分i1的测量强度I_i1M和副成分i2的测量强度I_i2M，基准主成分b、对比主成分i1、副成分i2均为想要对含有率进行定量的成分i、即分析成分i。而且，针对与分析成分i相对应的测定线的强度，吸收或激发该测定线而产生影响的成分为附加校正成分j，为了去除该影响，其用于针对分析成分i的基体校正。基准主成分b、对比主成分i1、副成分i2、分析成分i自身均可成为附加校正成分j，但通过公知的方法，从所有的成分i中选择并指定附加校正成分j。

之后，在校准曲线制作步骤中，针对与副成分i2相对应的每条测定线，基于已知的含有率W_i以及上述标准试样测定步骤中的测定强度I_iM，制作作为副成分i2的测量强度I_i2M与副成分i2的含有率W_i2之间的相关性且包含基体校正项Σα_jW_j的校准曲线。具体而言，求出表示校准曲线的下式(26)的校准曲线常数d_i2、e_i2、f_i2、基体校正系数α_j。

W_i2＝(d_i2I_i2M ²+e_i2I_i2M+f_i2)(1+Σα_jW_j)…(26)

接着，与第4实施方式的荧光X射线分析装置同样地，在强度比校准曲线制作步骤中，针对与对比主成分i1相对应的每条测定线，基于已知的含有率W_i以及上述标准试样测定步骤中的测定强度I_iM，制作作为对比主成分i1的测定强度I_i1M与基准主成分b的测量强度I_bM之比的测定强度比I_i1bRM(即，I_i1bRM＝I_i1M/I_bM)、与作为对比主成分i1的含有率W_i1与基准主成分b的含有率W_b之比的含有率比R_i1b(即，R_i1b＝W_i1/W_b)之间的相关性且包含基体校正项∑α_jRW_j的强度比校准曲线。具体而言，求出表示强度比校准曲线的下式(21)的强度比校准曲线常数d_i1R、e_i1R、f_i1R、强度比基体校正系数α_jR。

R_i1b＝(d_i1RI_i1bRM ²+e_i1RI_i1bRM+f_i1R)(1+Σα_jRW_j)…(21)

之后，在未知试样测定步骤中，针对将上述基准主成分b、上述对比主成分i1以及上述副成分i2指定为成分i，各成分i的含有率W_i是未知的，指定上述附加校正成分j的未知试样1，测定上述测定线的强度I_iM。

然后，在副成分含有初始值率设定步骤中，如下式(27)所示的那样，针对每个副成分i2，基于上述未知试样测定步骤中的测定强度I_i2M以及上述校准曲线制作步骤中的校准曲线(式(26))，计算基体校正前的未校正含有率X_i2，将其设定为含有率初始值W_i2(0)。

W_i2(0)＝X_i2＝d_i2I_i2M ²+e_i2I_i2M+f_i2…(27)

之后，与第4实施方式的荧光X射线分析装置同样地，在未校正含有率比计算步骤中，针对每个对比主成分i1，基于上述未知试样测定步骤中的测定强度I_iM以及上述强度比校准曲线制作步骤中的强度比校准曲线(式(21))，如下式(22)所示那样，计算基体校正前的未校正含义率比X_Ri1b。

X_Ri1b＝(d_i1RI_i1bRM ²+e_i1RI_i1bRM+f_i1R)…(22)

然后，在主成分含有率初始值设定步骤中，如下式(28)、(24)所示的那样，针对对比主成分i1及基准主成分b，基于上述未校正含有率比计算步骤中的未校正含有率比X_Ri1b以及上述副成分含有率初始值设定步骤中的副成分的未校正含有率X_i2，计算基体校正前的未校正含有率X_i1、X_b，将其设定为含有率的初始值W_i1(0)、W_b(0)。

W_b(0)＝X_b＝(100-ΣX_i2)/(1+ΣX_Ri1b)…(28)

W_i1(0)＝X_i1＝X_Ri1b×X_b…(24)

接着，进行反复计算，在副成分含有率更新步骤中，如下式(29)所示的那样，针对每个副成分i2，相对上述副成分含有率初始值设定步骤中的未校正含有率X_i2，基于最新的附加校正成分j的含有率W_j(n-1)，进行基体校正，将含有率更新为W_i2(n)。在这里，作为最新的附加校正成分j的含有率W_j(n-1)，在重复计算的第一次中，采用副成分含有率初始值设定步骤中的初始值W_i2(0)，主成分含有率初始值设定步骤中的初始值W_i1(0)、W_b(0)，在重复计算的第二次以后，采用上次的重复计算中已更新的含有率W_i2(n-1)、W_i1(n-1)、W_b(n-1)。

W_i2(n)＝X_i2(1+Σα_jW_j(n-1))…(29)

然后，在含有率比更新步骤中，如下式(25)所示的那样，针对每个对比主成分i1，相对上述未校正含有率比计算步骤中的未校正含有率比X_Ri1b，基于在上述副成分含有率更新步骤中使用的最新的附加校正成分j的含有率W_j(n-1)，进行基体校正，将含有率比更新为R_i1b(n)。

R_i1b(n)＝X_Ri1b(1+Σα_jRW_j(n-1))…(25)

接着，在主成分含有率更新步骤中，基于在上述含有率比更新步骤中已更新的含有率比R_i1b(n)以及上述副成分含有率更新步骤中已更新的副成分的含有率W_i2(n)，将对比主成分i1及基准主成分b的含有率W_i1(n-1)、W_b(n-1)更新为通过下式(14)、(8)求出的W_i1(n)、W_b(n)。

W_b(n)＝(100-ΣW_i2(n))/(1+ΣR_i1b(n))…(14)

W_i1(n)＝R_i1b(n)×W_b(n)…(8)

之后，与第1～第4实施方式的荧光X射线分析装置同样地，在收敛判断步骤中，基于预定收敛条件进行收敛判断。在不满足预定收敛条件的情况下，判断为未收敛(否)，使流程返回到副成分含有率更新步骤，在满足预定收敛条件的情况下，判断为收敛(是)，使流程进行至结果输出步骤。

而且，与第1～第4实施方式的荧光X射线分析装置同样地，在结果输出步骤中，输出作为应求出的未知试样1中的成分i的含有率W_i的最新的含有率W_i(n)。

像以上那样，在第5实施方式的荧光X射线分析装置中，采用校准曲线法的定量机构13进行：制作作为对比主成分i1的测定强度I_i1M与基准主成分b的测定强度I_bM之比的测定强度比I_i1bRM、与作为对比主成分i1的含有率W_i1与基准主成分b的含有率W_b之比的含有率比R_i1b之间的相关性且包含基体校正项Σα_jRW_j的强度比校准曲线的强度比校准曲线制作步骤；基于强度比校准曲线来计算基体校正前的未校正含有率比X_Ri1b的未校正含有率比计算步骤；相对未校正含有率比X_Ri1b，基于最新的附加校正成分j的含有率W_j(n-1)进行基体校正，将含有率比更新为R_i1b(n)的含有率比更新步骤；基于更新后的含有率比R_i1b(n)，将对比主成分i1及基准主成分b的含有率W_i1(n-1)、W_b(n-1)更新为W_i1(n)、W_b(n)的主成分含有率更新步骤。通过进行这些在现有技术的校准曲线法的算法中不存在的步骤，针对主成分彼此的含有率比R_i1b来进行足够精确的分析。

接着，对第6实施方式的荧光X射线分析装置进行说明。在第6实施方式的荧光X射线分析装置中，与第1～第5实施方式的荧光X射线分析装置不同，使用后述的校准曲线法的第二成分定量法。作为对象的标准试样以及未知试样不仅包含主成分，还包含副成分。由于作为第6实施方式的荧光X射线分析装置的结构，仅仅是所具有的定量机构13的动作与第1～第5实施方式的荧光X射线分析装置不同，故按照图6的流程图，对该不同的动作进行说明。

定量机构13首先与第5实施方式的荧光X射线分析装置相同，在标准试样测定步骤中，针对将作为构成基准的主成分的单一的基准主成分b、与该基准主成分b进行对比的单一或多个对比主成分i1、与单一或多个副成分i2指定为成分i(包括b、i1、i2)，各成分i的含有率W_i(包括W_b、W_i1、W_i2)已知、且从全部成分i指定用于基体校正的附加校正成分j的标准试样14，测定作为与成分i相对应的荧光X射线5的测定线的强度。

接着，在校准曲线制作步骤中，针对每条测定线，基于已知的含有率W_i以及上述标准试样测定步骤中的测定强度I_iM，制作作为测量强度I_iM和含有率W_i之间的相关性且包含基体校正项Σα_jW_j的校准曲线。具体而言，求出表示校准曲线的下式(30)的校准曲线常数d_i、e_i、f_i、基体校正系数α_j。

W_i＝(d_iI_iM ²+e_iI_iM+f_i)(1+Σα_jW_j)…(30)

接着，与第4、第5实施方式的荧光X射线分析装置同样地，在强度比校准曲线制作步骤中，针对与对比主成分i1相对应的每条测定线，基于已知的含有率W_i以及所述标准试样测定步骤中的测定强度I_iM，制作作为对比主成分i1的测定强度I_i1M与基准主成分b的测量强度I_bM之比的测定强度比I_i1bRM(即，I_i1bRM＝I_i1M/I_bM)、与作为对比主成分i1的含有率W_i1与基准主成分b的含有率W_b之比的含有率比R_i1b(即，R_i1b＝W_i1/W_b)之间的相关性且包含基体校正项∑α_jRW_j的强度比校准曲线。具体而言，求出表示强度比校准曲线的下式(21)的强度比校准曲线常数d_i1R、e_i1R、f_i1R、强度比基体校正系数α_jR。

R_i1b＝(d_i1RI_i1bRM ²+e_i1RI_i1bRM+f_i1R)(1+Σα_jRW_j)…(21)

接着，与第5实施方式的荧光X射线分析装置同样地，在未知试样测定步骤中，针对将上述基准主成分b、上述对比主成分i1以及上述副成分i2指定为成分i，各成分i的含有率W_i是未知的，指定上述附加校正成分j的未知试样1，测定上述测定线的强度I_iM。

之后，在含有率初始值设定步骤中，如下式(31)所示的那样，关于各成分i，基于上述未知试样测定步骤中的测定强度I_iM以及上述校准曲线制作步骤中的校准曲线(式(30))，计算基体校正前的未校正含有率X_i，将其设定为含有率的初始值W_i(0)。

W_i(0)＝X_i＝d_iI_iM ²+e_iI_iM+f_i…(31)

接着，与第4、第5实施方式的荧光X射线分析装置同样地，在未校正含有率比计算步骤中，针对每个对比主成分i1，基于上述未知试样测定步骤中的测定强度I_iM以及所述强度比校准曲线制作步骤中的强度比校准曲线(式(21))，基体校正前的未校正含有率X_Ri1b如下式(22)所示那样进行计算。

X_Ri1b＝(d_i1RI_i1bRM ²+e_i1RI_i1bRM+f_i1R)…(22)

然后，进行反复计算，在副成分含有率更新步骤中，如下式(29)所示的那样，针对每个副成分i2，相对上述含有率初始值设定步骤中的未校正含有率X_i2，基于最新的附加校正成分j的含有率W_j(n-1)进行基体校正，将含有率更新为W_i2(n)。在这里，作为最新的附加校正成分j的含有率W_j(n-1)，在反复计算的第一次中，采用含有率初始值设定步骤中的初始值W_i2(0)、W_i1(0)、W_b，在重复计算的第二次以后，采用上次的重复计算中已更新的含有率W_i2(n-1)、W_i1(n-1)、W_b(n-1)。

W_i2(n)＝X_i2(1+Σα_jW_j(n-1))…(29)

然后，在推定含有率计算步骤中，如下式(32)、(33)所示的那样，针对对比主成分i1以及基准主成分b，相对上述含有率初始值设定步骤中的未校正含有率X_i1、X_b，基于上述副成分含有率更新步骤中使用的最新的附加校正成分j的含有率W_j(n-1)进行基体校正，计算推定含有率W_i1(S)、W_b(S)。

W_i1(S)＝X_i1(1+Σα_jW_j(n-1))…(32)

W_b(S)＝X_b(1+Σα_jW_j(n-1))…(33)

之后，与第5实施方式的荧光X射线分析装置同样地，在含有率比更新步骤中，如下式(25)所示的那样，针对每个对比主成分i1，相对上述未校正含有率比计算步骤中的未校正含有率比X_Ri1b，基于在上述副成分含有率更新步骤中已使用的最新的附加校正成分j的含有率W_j(n-1)，进行基体校正，将含有率比更新为R_i1b(n)。

R_i1b(n)＝X_Ri1b(1+Σα_jRW_j(n-1))…(25)

接着，在主成分含有率更新步骤中，基于上述推定含有率计算步骤中的对比主成分i1的推定含有率W_i1(S)及基准主成分b的推定含有率W_b(S)的总W_Total(S)(即，W_Total(S)＝ΣW_i1(S)+W_b(S))，以及上述含有率比更新步骤中已更新的含有率比R_i1b(n)，将对比主成分i1的含有率W_i1(n-1)及基准主成分b的含有率W_b(n-1)更新为通过下式(20)、(8)求出的W_i1(n)和W_b(n)。

W_b(n)＝W_Total(S)/(1+ΣR_i1b(n))…(20)

W_i1(n)＝R_i1b(n)×W_b(n)…(8)

接着，与第1～第5实施方式的荧光X射线分析装置同样地，在收敛判断步骤中，基于预定收敛条件进行收敛判断。在不满足预定收敛条件的情况下，判断为未收敛(否)，使流程返回到副成分含有率更新步骤，在满足预定收敛条件的情况下，判断为收敛(是)，使流程进行至结果输出步骤。

而且，与第1～第5实施方式的荧光X射线分析装置同样地，在结果输出步骤中，输出作为应求出的未知试样1中的成分i的含有率W_i的最新的含有率W_i(n)。

像以上那样，在第6实施方式的荧光X射线分析装置中，采用校准曲线法的定量机构13进行：制作作为对比主成分i1的测定强度I_i1M与基准主成分b的测定强度I_bM之比的测定强度比I_i1bRM、与作为对比主成分i1的含有率W_i1与基准主成分b的含有率W_b之比的含有率比R_i1b之间的相关性且包含基体校正项Σα_jRW_j的强度比校准曲线的强度比校准曲线制作步骤；基于强度比校准曲线，计算基体校正前的未校正含有率比X_Ri1b的未校正含有率计算步骤；相对对比主成分i1及基准主成分b的未校正含有率X_i1、X_b，基于最新的附加校正成分j的含有率W_j(n-1)进行基体校正，计算推定含有率W_i1(S)、W_b(S)的推定含有率计算步骤；相对未校正含有率比X_Ri1b，基于最新的附加校正成分j的含有率W_j(n-1)进行基体校正，将含有率比更新为R_i1b(n)的含有率比更新步骤；基于对比主成分i1的推定含有率W_i1(S)及基准主成分b的推定含有率W_b(S)的合计以及最新的含有率比R_i1b(n)，将对比主成分i1的含有率W_i1(n-1)及基准主成分b的含有率W_b(n-1)更新为W_i1(n)、W_b(n)的主成分含有率更新步骤。通过进行这些在现有技术的校准曲线法的算法中不存在的步骤，针对主成分彼此的含有率比R_i1b来进行足够精确的分析。

在第6实施方式的荧光X射线分析装置中的基于校准曲线法的定量分析中，针对主成分，不仅利用式(21)所示那样的作为测量强度比与含有率比之间的相关性的强度比校准曲线，还利用式(30)所示那样的作为测量强度与含有率之间的相关性的过去的校准曲线。这样的定量方法也包含在第二成分定量法中。

另外，在第6实施方式的荧光X射线分析装置中，定量机构13还对应于针对标准试样14和未知试样1，副成分i2作为成分i而1个都没有指定的场合，在该场合，跳过上述副成分含有率更新步骤。此时，重复计算从推定含有率计算步骤开始，但是作为推定含有率计算步骤和含有率比更新步骤中的“在所述副成分含有率更新步骤中使用的最新的附加校正成分j的含有率W_j(n-1)”，如在副成分含有率更新步骤的说明中所述，在重复计算的第一次中，采用含有率初始值设定步骤中的初始值W_i2(0)、W_i1(0)、W_b(0)，在重复计算的第二次以后，采用上次的重复计算中已更新的含有率W_i2(n-1)、W_i1(n-1)、W_b(n-1)。

在以上的各实施方式的荧光X射线分析装置中，对于上述定量机构13，作为上述标准试样测定步骤中的测定强度和上述未知试样测定步骤中的测定强度I_iM，也可以使用基于试样1、14的分析面的高度与测定强度之间的相关性，以除去试样1、14的分析面的高度的变动而对测定强度造成的影响的方式进行了校正的测定强度。按照试样1、14的形态，通过这样进行高度校正，能够针对主成分彼此的含有率比R_i1b来进行更精确的分析。

此外，在以上的各实施方式的荧光X射线分析装置中，根据需要，通过公知的方法，例如在进行收敛判断步骤之前，按照全部成分i的含有率W_i(n)的合计为100(质量％)的方式进行标准化处理。

如上所述，一边参照附图一边对优选的实施例进行了说明，但如果是本领域技术人员，则在阅读本说明书后，会在显而易见的范围内容易想到各种变更和修改。因此，这样的变更以及修改应解释为属于由所附的权利要求书确定的本发明的范围内。

标号的说明：

标号1表示未知试样；

标号3表示一次X射线；

标号5表示荧光X射线；

标号13表示定量机构；

标号14表示标准试样。

Claims (9)

1.一种荧光X射线分析装置，该荧光X射线分析装置对试样照射一次X射线，根据所产生的荧光X射线的测定强度，通过采用基本参数法的定量机构，求出上述试样中的成分的含有率，其特征在于，

上述定量机构进行：

标准试样测定步骤，其中，针对标准试样，测定作为与成分相对应的荧光X射线的测定线的强度，在上述标准试样中，将作为构成基准的主成分的单一的基准主成分和与该基准主成分进行对比的对比主成分指定为成分，且各成分的含有率是已知的；

标准试样理论强度计算步骤，其中，针对每条测定线，根据已知的含有率来计算理论强度；

强度比装置灵敏度曲线制作步骤，其中，针对与对比主成分相对应的每条测定线，基于上述标准试样测定步骤中的测定强度以及上述标准试样理论强度计算步骤中的理论强度，制作强度比装置灵敏度曲线，上述强度比装置灵敏度曲线为作为对比主成分的测定强度与基准主成分的测定强度之比的测定强度比、与作为对比主成分的理论强度与基准主成分的理论强度之比的理论强度比之间的相关性；

未知试样测定步骤，其中，针对上述基准主成分以及上述对比主成分指定为成分且各成分的含有率未知的未知试样，测定上述测定线的强度；

强度比换算步骤，其中，针对与对比主成分相对应的每条测定线，基于上述未知试样测定步骤中的测定强度以及所述强度比装置灵敏度曲线制作步骤中的强度比装置灵敏度曲线，将作为对比主成分的测定强度与基准主成分的测定强度之比的测定强度比换算成理论强度标度，作为换算测定强度比；

含有率初始值设定步骤，其中，设定各成分的含有率的初始值；

未知试样理论强度计算步骤，其中，针对每条测定线，基于最新的含有率来计算理论强度；

含有率比更新步骤，其中，针对每个对比主成分，基于上述强度比换算步骤中的换算测定强度比和上述未知试样理论强度计算步骤中的基于理论强度的理论强度比，更新作为对比主成分的含有率与基准主成分的含有率之比的含有率比；

含有率更新步骤，其中，基于最新的含有率比，更新各成分的含有率；

收敛判断步骤，其中，基于预定收敛条件进行收敛判断；以及

结果输出步骤，其中，输出作为应求出的未知试样中的成分的含有率的最新的含有率，

在上述收敛判断步骤中，在判断为未收敛的情况下，使流程返回到上述未知试样理论强度计算步骤，在判断为收敛的情况下，使流程进行至上述结果输出步骤。

2.一种荧光X射线分析装置，该荧光X射线分析装置对试样照射一次X射线，根据所产生的荧光X射线的测定强度，通过采用基本参数法的定量机构，求出上述试样中的成分的含有率，其特征在于，

上述定量机构进行：

标准试样测定步骤，其中，针对标准试样，测定作为与成分相对应的荧光X射线的测定线的强度，在上述标准试样中，将作为构成基准的主成分的单一的基准主成分、与该基准主成分进行对比的对比主成分、以及副成分指定为成分，且各成分的含有率是已知的；

标准试样理论强度计算步骤，其中，针对每条测定线，根据已知的含有率来计算理论强度；

装置灵敏度曲线制作步骤，其中，针对与副成分相对应的每条测定线，根据上述标准试样测定步骤中的测定强度以及上述标准试样理论强度计算步骤中的理论强度，制作作为副成分的测定强度与副成分的理论强度之间的相关性的装置灵敏度曲线；

强度比装置灵敏度曲线制作步骤，其中，针对与对比主成分相对应的每条测定线，基于上述标准试样测定步骤中的测定强度以及上述标准试样理论强度计算步骤中的理论强度，制作强度比装置灵敏度曲线，上述强度比装置灵敏度曲线为作为对比主成分的测定强度与基准主成分的测定强度之比的测定强度比、与作为对比主成分的理论强度与基准主成分的理论强度之比的理论强度比之间的相关性；

未知试样测定步骤，其中，针对将上述基准主成分、上述对比主成分以及上述副成分指定为成分且各成分的含有率未知的未知试样，测定上述测定线的强度；

强度换算步骤，其中，针对与副成分相对应的每条测定线，基于上述未知试样测定步骤中的测定强度以及上述装置灵敏度曲线制作步骤中的装置灵敏度曲线，将副成分的测定强度换算成理论强度标度，作为换算测定强度；

强度比换算步骤，其中，针对与对比主成分相对应的每条测定线，基于上述未知试样测定步骤中的测定强度以及上述强度比装置灵敏度曲线制作步骤中的强度比装置灵敏度曲线，将作为对比主成分的测定强度与基准主成分的测定强度之比的测定强度比换算成理论强度标度，作为换算测定强度比；

含有率初始值设定步骤，其中，设定各成分的含有率的初始值；

未知试样理论强度计算步骤，其中，针对每条测定线，基于最新的含有率来计算理论强度；

副成分含有率更新步骤，针对每个副成分，基于上述强度换算步骤中的换算测定强度和上述未知试样理论强度计算步骤中的理论强度，更新含有率；

含有率比更新步骤，其中，针对每个对比主成分，基于上述强度比换算步骤中的换算测定强度比和上述未知试样理论强度计算步骤中的基于理论强度的理论强度比，更新作为对比主成分的含有率与基准主成分的含有率之比的含有率比；

主成分含有率更新步骤，其中，基于最新的含有率比及最新的副成分的含有率，更新对比主成分的含有率及基准主成分的含有率；

收敛判断步骤，其中，基于预定收敛条件进行收敛判断；以及

结果输出步骤，其中，输出作为应求出的未知试样中的成分的含有率的最新的含有率，

在上述收敛判断步骤中，在判断为未收敛的情况下，使流程返回到上述未知试样理论强度计算步骤，在判断为收敛的情况下，使流程进行至上述结果输出步骤。

3.一种荧光X射线分析装置，该荧光X射线分析装置对试样照射一次X射线，根据所产生的荧光X射线的测定强度，通过采用基本参数法的定量机构，求出上述试样中的成分的含有率，其特征在于，

上述定量机构进行：

标准试样测定步骤，其中，针对标准试样，测定作为与成分相对应的荧光X射线的测定线的强度，在上述标准试样中，将作为构成基准的主成分的单一的基准主成分、与该基准主成分进行对比的对比主成分、以及副成分指定为成分，且各成分的含有率是已知的；

标准试样理论强度计算步骤，其中，针对每条测定线，根据已知的含有率来计算理论强度；

装置灵敏度曲线制作步骤，其中，针对每条测定线，根据上述标准试样测定步骤中的测定强度以及上述标准试样理论强度计算步骤中的理论强度，制作作为测定强度与理论强度之间的相关性的装置灵敏度曲线；

强度比装置灵敏度曲线制作步骤，其中，针对与对比主成分相对应的每条测定线，基于上述标准试样测定步骤中的测定强度以及上述标准试样理论强度计算步骤中的理论强度，制作强度比装置灵敏度曲线，上述强度比装置灵敏度曲线为作为对比主成分的测定强度与基准主成分的测定强度之比的测定强度比、与作为对比主成分的理论强度与基准主成分的理论强度之比的理论强度比之间的相关性；

未知试样测定步骤，其中，针对将上述基准主成分、上述对比主成分以及上述副成分指定为成分且各成分的含有率未知的未知试样，测定上述测定线的强度；

强度换算步骤，其中，针对每条测定线，基于上述未知试样测定步骤中的测定强度以及上述装置灵敏度曲线制作步骤中的装置灵敏度曲线，将测定强度换算成理论强度标度，作为换算测定强度；

强度比换算步骤，其中，针对与对比主成分相对应的每条测定线，基于上述未知试样测定步骤中的测定强度以及上述强度比装置灵敏度曲线制作步骤中的强度比装置灵敏度曲线，将作为对比主成分的测定强度与基准主成分的测定强度之比的测定强度比换算成理论强度标度，作为换算测定强度比；

含有率初始值设定步骤，其中，设定各成分的含有率的初始值；

未知试样理论强度计算步骤，其中，针对每条测定线，基于最新的含有率来计算理论强度；

副成分含有率更新步骤，其中，针对每个副成分，基于上述强度换算步骤中的换算测定强度和上述未知试样理论强度计算步骤中的理论强度，更新含有率；

推定含有率计算步骤，其中，针对对比主成分以及基准主成分，基于上述强度换算步骤中的换算测定强度和上述未知试样理论强度计算步骤中的理论强度，计算推定含有率；

含有率比更新步骤，其中，针对每个对比主成分，基于上述强度比换算步骤中的换算测定强度比和上述未知试样理论强度计算步骤中的基于理论强度的理论强度比，更新作为对比主成分的含有率与基准主成分的含有率之比的含有率比；

主成分含有率更新步骤，其中，基于上述推定含有率计算步骤中的对比主成分的推定含有率及基准主成分的推定含有率的合计以及最新的含有率比，更新对比主成分的含有率及基准主成分的含有率；

收敛判断步骤，其中，基于预定收敛条件进行收敛判断；以及

结果输出步骤，其中，输出作为应求出的未知试样中的成分的含有率的最新的含有率，

在上述收敛判断步骤中，在判断为未收敛的情况下，使流程返回到上述未知试样理论强度计算步骤，在判断为收敛的情况下，使流程进行至上述结果输出步骤。

4.根据权利要求3所述的荧光X射线分析装置，其特征在于，

上述定量机构在针对标准试样和未知试样，副成分没有指定为成分的情况下，跳过上述副成分含有率更新步骤。

5.一种荧光X射线分析装置，该荧光X射线分析装置对试样照射一次X射线，根据所产生的荧光X射线的测定强度，通过采用校准曲线法的定量机构，求出上述试样中的成分的含有率，其特征在于，

上述定量机构进行：

标准试样测定步骤，其中，针对标准试样，测定作为与成分相对应的荧光X射线的测定线的强度，在上述标准试样中，将作为构成基准的主成分的单一的基准主成分和与该基准主成分进行对比的对比主成分指定为成分，各成分的含有率是已知的，从全部成分中指定用于基体校正的附加校正成分；

强度比校准曲线制作步骤，其中，针对与对比主成分相对应的每条测定线，基于已知的含有率以及上述标准试样测定步骤中的测定强度，制作强度比校准曲线，该强度比校准曲线为作为对比主成分的测定强度与基准主成分的测定强度之比的测定强度比、与作为对比主成分的含有率与基准主成分的含有率之比的含有率比之间的相关性，且包含基体校正项；

未知试样测定步骤，其中，针对上述基准主成分以及上述对比主成分指定为成分、各成分的含有率未知且上述附加校正成分指定的未知试样，测定上述测定线的强度；

未校正含有率比计算步骤，其中，针对每个对比主成分，基于上述未知试样测定步骤中的测定强度以及上述强度比校准曲线制作步骤中的强度比校准曲线，计算基体校正前的未校正含有率比；

含有率初始值设定步骤，其中，对于各成分，基于上述未校正含有率比计算步骤中的未校正含有率比，计算基体校正前的未校正含有率并设定为含有率的初始值；

含有率比更新步骤，其中，针对每个对比主成分，基于最新的附加校正成分的含有率，对上述未校正含有率比计算步骤中的未校正含有率比进行基体校正，更新含有率比；

含有率更新步骤，其中，基于在上述含有率比更新步骤中已更新的含有率比，更新各成分的含有率；

收敛判断步骤，其中，基于预定收敛条件进行收敛判断；以及

结果输出步骤，其中，输出作为应求出的未知试样中的成分的含有率的最新的含有率，

在上述收敛判断步骤中，在判断为未收敛的情况下，使流程返回到上述含有率比更新步骤，在判断为收敛的情况下，使流程进行至上述结果输出步骤。

6.一种荧光X射线分析装置，该荧光X射线分析装置对试样照射一次X射线，根据所产生的荧光X射线的测定强度，通过采用校准曲线法的定量机构，求出上述试样中的成分的含有率，其特征在于，

上述定量机构进行：

标准试样测定步骤，其中，针对标准试样，测定作为与成分相对应的荧光X射线的测定线的强度，在上述标准试样中，将作为构成基准的主成分的单一的基准主成分、与该基准主成分进行对比的对比主成分、以及副成分指定为成分，各成分的含有率是已知的，从全部成分中指定用于基体校正的附加校正成分；

校准曲线制作步骤，其中，针对与副成分相对应的每条测定线，基于已知的含有率以及上述标准试样测定步骤中的测定强度，制作校准曲线，上述校准曲线为副成分的测定强度与副成分的含有率之间的相关性，且包含基体校正项；

强度比校准曲线制作步骤，其中，针对与对比主成分相对应的每条测定线，基于已知的含有率以及所述标准试样测定步骤中的测定强度，制作强度比校准曲线，该强度比校准曲线为作为对比主成分的测定强度与基准主成分的测定强度之比的测定强度比、与作为对比主成分的含有率与基准主成分的含有率之比的含有率比之间的相关性，且包含基体校正项；

未知试样测定步骤，其中，针对上述基准主成分、上述对比主成分以及上述副成分指定为成分、各成分的含有率未知且上述附加校正成分指定的未知试样，测定上述测定线的强度；

副成分含有率初始值设定步骤，其中，针对每个副成分，基于上述未知试样测定步骤中的测定强度及上述校准曲线制作步骤中的校准曲线，计算基体校正前的未校正含有率并设定为含有率的初始值；

未校正含有率比计算步骤，其中，针对每个对比主成分，基于上述未知试样测定步骤中的测定强度以及上述强度比校准曲线制作步骤中的强度比校准曲线，计算基体校正前的未校正含有率比；

主成分含有率初始值设定步骤，其中，针对对比主成分及基准主成分，基于上述未校正含有率比计算步骤中的未校正含有率比和上述副成分含有率初始值设定步骤中的副成分的未校正含有率，计算基体校正前的未校正含有率并设定为含有率的初始值；

副成分含有率更新步骤，其中，针对每个副成分，基于最新的附加校正成分的含有率，对所述副成分含有率初始值设定步骤中的未校正含有率进行基体校正，更新含有率；

含有率比更新步骤，其中，针对每个对比主成分，基于在上述副成分含有率更新步骤中使用的最新的附加校正成分的含有率，对上述未校正含有率比计算步骤中的未校正含有率比进行基体校正，更新含有率比；

主成分含有率更新步骤，其中，基于在上述含有率比更新步骤中已更新的含有率比及在上述副成分含有率更新步骤中更新的副成分的含有率，更新对比主成分及基准主成分的含有率；

收敛判断步骤，其中，基于预定收敛条件进行收敛判断；以及

结果输出步骤，其中，输出作为应求出的未知试样中的成分的含有率的最新的含有率，

在上述收敛判断步骤中，在判断为未收敛的情况下，使流程返回到上述副成分含有率更新步骤，在判断为收敛的情况下，使流程进行至上述结果输出步骤。

7.一种荧光X射线分析装置，该荧光X射线分析装置对试样照射一次X射线，根据所产生的荧光X射线的测定强度，通过采用校准曲线法的定量机构，求出上述试样中的成分的含有率，其特征在于，

上述定量机构进行：

标准试样测定步骤，其中，针对标准试样，测定作为与成分相对应的荧光X射线的测定线的强度，在上述标准试样中，将作为构成基准的主成分的单一的基准主成分、与该基准主成分进行对比的对比主成分、以及副成分指定为成分，各成分的含有率是已知的，从全部成分中指定用于基体校正的附加校正成分；

校准曲线制作步骤，其中，针对每条测定线，基于已知的含有率以及上述标准试样测定步骤中的测定强度，制作校准曲线，上述校准曲线为测定强度与含有率之间的相关性，且包含基体校正项；

强度比校准曲线制作步骤，其中，针对与对比主成分相对应的每条测定线，基于已知的含有率以及上述标准试样测定步骤中的测定强度，制作强度比校准曲线，该强度比校准曲线为作为对比主成分的测定强度与基准主成分的测定强度之比的测定强度比、与作为对比主成分的含有率与基准主成分的含有率之比的含有率比之间的相关性，且包含基体校正项；

未知试样测定步骤，其中，针对上述基准主成分、上述对比主成分以及上述副成分指定为成分、各成分的含有率未知且上述附加校正成分指定的未知试样，测定上述测定线的强度；

含有率初始值设定步骤，其中，对于各成分，基于上述未知试样测定步骤中的测定强度以及上述校准曲线制作步骤中的校准曲线，计算基体校正前的未校正含有率并设定为含有率的初始值；

未校正含有率比计算步骤，其中，针对每个对比主成分，基于上述未知试样测定步骤中的测定强度以及上述强度比校准曲线制作步骤中的强度比校准曲线，计算基体校正前的未校正含有率比；

副成分含有率更新步骤，其中，针对每个副成分，基于最新的附加校正成分的含有率，对上述含有率初始值设定步骤中的未校正含有率进行基体校正，更新含有率；

推定含有率计算步骤，其中，针对对比主成分及基准主成分，基于在上述副成分含有率更新步骤中使用的最新的附加校正成分的含有率，对上述含有率初始值设定步骤中的未校正含有率进行基体校正，计算推定含有率；

含有率比更新步骤，其中，针对每个对比主成分，基于在上述副成分含有率更新步骤中使用的最新的附加校正成分的含有率，对上述未校正含有率比计算步骤中的未校正含有率比进行基体校正，更新含有率比；

主成分含有率更新步骤，其中，基于上述推定含有率计算步骤中的对比主成分的推定含有率及基准主成分的推定含有率的合计以及在上述含有率比更新步骤中更新后的含有率比，更新对比主成分的含有率及基准主成分的含有率；

收敛判断步骤，其中，基于预定收敛条件进行收敛判断；以及

结果输出步骤，其中，输出作为应求出的未知试样中的成分的含有率的最新的含有率，

在上述收敛判断步骤中，在判断为未收敛的情况下，使流程返回到上述副成分含有率更新步骤，在判断为收敛的情况下，使流程进行至上述结果输出步骤。

8.根据权利要求7所述的荧光X射线分析装置，其特征在于，

上述定量机构在针对标准试样和未知试样，副成分没有指定为成分的情况下，跳过上述副成分含有率更新步骤。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的荧光X射线分析装置，其特征在于，

对于上述定量机构，作为上述标准试样测定步骤中的测定强度和上述未知试样测定步骤中的测定强度，采用基于试样的分析面的高度与测定强度之间的相关性，按照除去试样的分析面的高度的变动而对测定强度造成的影响的方式进行了校正的测定强度。