JP2002082075A - 蛍光ｘ線分析装置及び蛍光ｘ線分析方法 - Google Patents
蛍光ｘ線分析装置及び蛍光ｘ線分析方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、分析面形状を測定して、蛍光Ｘ線
分析における分析精度を高める蛍光Ｘ線分析方法及び蛍
光Ｘ線分析装置を提供する。 【解決手段】 予め分析面の形状により蛍光Ｘ線強度が
どのように変化するのかを形状の関数で補正できるよう
に準備された蛍光Ｘ線分析装置において、光学式又は触
針式変位測定装置で分析面形状を測定し、その形状に基
づいて強度変化を推定し、補正した後、補正Ｘ線強度で
蛍光Ｘ線分析を行う。
分析における分析精度を高める蛍光Ｘ線分析方法及び蛍
光Ｘ線分析装置を提供する。 【解決手段】 予め分析面の形状により蛍光Ｘ線強度が
どのように変化するのかを形状の関数で補正できるよう
に準備された蛍光Ｘ線分析装置において、光学式又は触
針式変位測定装置で分析面形状を測定し、その形状に基
づいて強度変化を推定し、補正した後、補正Ｘ線強度で
蛍光Ｘ線分析を行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、蛍光Ｘ線分析装置
及び蛍光Ｘ線分析方法に関し、特に、蛍光Ｘ線分析法に
より試料の定量分析を行うものに関する。
及び蛍光Ｘ線分析方法に関し、特に、蛍光Ｘ線分析法に
より試料の定量分析を行うものに関する。
【０００２】
【従来の技術】試料例えばセラミックス、鉄鉱石、セメ
ント、金属材料、薄膜材料等の元素の含有量を求めるの
に、元素の含有量により蛍光Ｘ線強度が異なることを利
用した蛍光Ｘ線分析が一般に広く用いられている。この
蛍光Ｘ線分析を行う場合には、試料の分析面の形状が分
析精度に影響するため、試料の分析面は平坦平滑にし
て、蛍光Ｘ線分析に適した形態に調整する必要がある。
ント、金属材料、薄膜材料等の元素の含有量を求めるの
に、元素の含有量により蛍光Ｘ線強度が異なることを利
用した蛍光Ｘ線分析が一般に広く用いられている。この
蛍光Ｘ線分析を行う場合には、試料の分析面の形状が分
析精度に影響するため、試料の分析面は平坦平滑にし
て、蛍光Ｘ線分析に適した形態に調整する必要がある。
【０００３】この調整を行う方法としては、例えばセラ
ミックス、鉄鉱石、セメントなどの酸化物を主体とする
材料では、粉末プレス法、ガラスビード法などが知られ
ている。
ミックス、鉄鉱石、セメントなどの酸化物を主体とする
材料では、粉末プレス法、ガラスビード法などが知られ
ている。
【０００４】ガラスビード法は、粉末試料と融剤とを配
合し、ガラスビード作製皿内において加熱融解した後、
冷却固化（鋳込み）させてガラスビード試料を作製し
て、作製皿と接した底面を分析面とする。ガラスビード
作製皿は、白金（Ｐｔ）を主成分とする貴金属で作られ
ており、この皿の中で、融解と鋳込みの両方を行う場合
と、融解と鋳込みを別の皿で行う場合がある。通常は、
融解と鋳込みは同じ皿で連続して行われる。
合し、ガラスビード作製皿内において加熱融解した後、
冷却固化（鋳込み）させてガラスビード試料を作製し
て、作製皿と接した底面を分析面とする。ガラスビード
作製皿は、白金（Ｐｔ）を主成分とする貴金属で作られ
ており、この皿の中で、融解と鋳込みの両方を行う場合
と、融解と鋳込みを別の皿で行う場合がある。通常は、
融解と鋳込みは同じ皿で連続して行われる。
【０００５】また、金属材料では、研削、研磨した面を
分析面とする。さらに、薄帯状の試料や薄膜材料では、
分析面よりひと回り大きなリングなどに貼り付けて測定
する。
分析面とする。さらに、薄帯状の試料や薄膜材料では、
分析面よりひと回り大きなリングなどに貼り付けて測定
する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、ガラスビー
ド法にあっては、ガラスビード分析面の平坦・平滑を実
現するために鋳込皿の底面の平坦・平滑を維持すること
を行っている。すなわち、鋳込み皿は定期的にその底面
の研磨を行い、数個のガラスビード試料を作製する。そ
して、各試料について分析を行い、数個のガラスビード
試料を作製し、分析値のバラツキが所定値以下になるか
を調べる。ここで、ガラスビード分析面は、ガラスビー
ド内外の熱膨張の差のため、必ず毎回異なる形状となっ
てしまい、分析精度が低下するという問題があった。
ド法にあっては、ガラスビード分析面の平坦・平滑を実
現するために鋳込皿の底面の平坦・平滑を維持すること
を行っている。すなわち、鋳込み皿は定期的にその底面
の研磨を行い、数個のガラスビード試料を作製する。そ
して、各試料について分析を行い、数個のガラスビード
試料を作製し、分析値のバラツキが所定値以下になるか
を調べる。ここで、ガラスビード分析面は、ガラスビー
ド内外の熱膨張の差のため、必ず毎回異なる形状となっ
てしまい、分析精度が低下するという問題があった。
【０００７】さらに、薄帯、薄膜試料においては、自重
によるたわみや貼り付け時の力が加わることによって、
分析面が変形し、平坦でなくなるという問題がある。
によるたわみや貼り付け時の力が加わることによって、
分析面が変形し、平坦でなくなるという問題がある。
【０００８】また、金属材料などの分析面の研削・研磨
は、平坦・平滑になるものの汚染などの問題があり、試
料調整の十分な管理が必要となってしまう。
は、平坦・平滑になるものの汚染などの問題があり、試
料調整の十分な管理が必要となってしまう。
【０００９】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
であり、その目的とするところは、分析面が十分に平坦
平滑でなくとも、分析精度が低下しない蛍光Ｘ線分析装
置及び蛍光Ｘ線分析方法を提供することにある。
であり、その目的とするところは、分析面が十分に平坦
平滑でなくとも、分析精度が低下しない蛍光Ｘ線分析装
置及び蛍光Ｘ線分析方法を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１に記載の発明は、試料の分析面の形状の測
定に基づいて、前記試料の蛍光Ｘ線分析を行う蛍光Ｘ線
分析装置であって、前記試料の蛍光Ｘ線強度を検出する
検出手段と、前記試料の分析面の形状を測定する分析面
形状測定手段と、前記分析面形状測定手段での測定結果
に基づき、前記蛍光Ｘ線強度を補正演算する補正演算手
段と、を含むことを特徴としている。
に、請求項１に記載の発明は、試料の分析面の形状の測
定に基づいて、前記試料の蛍光Ｘ線分析を行う蛍光Ｘ線
分析装置であって、前記試料の蛍光Ｘ線強度を検出する
検出手段と、前記試料の分析面の形状を測定する分析面
形状測定手段と、前記分析面形状測定手段での測定結果
に基づき、前記蛍光Ｘ線強度を補正演算する補正演算手
段と、を含むことを特徴としている。
【００１１】また、請求項２に記載の発明は、試料の分
析面の形状の測定に基づいて、前記試料の蛍光Ｘ線分析
を行う蛍光Ｘ線分析装置であって、前記試料の蛍光Ｘ線
強度を検出する検出手段と、前記試料の分析の基準とな
る基準面に対する分析面の高さ変位を測定する分析面形
状測定手段と、予め設定された前記分析面の高さと前記
蛍光Ｘ線強度との相関関係を定義した相関テーブルを格
納した格納手段と、前記相関テーブルと、前記分析面形
状測定手段での測定結果に基づき、前記蛍光Ｘ線強度を
補正する補正演算手段と、を含むことを特徴としてい
る。
析面の形状の測定に基づいて、前記試料の蛍光Ｘ線分析
を行う蛍光Ｘ線分析装置であって、前記試料の蛍光Ｘ線
強度を検出する検出手段と、前記試料の分析の基準とな
る基準面に対する分析面の高さ変位を測定する分析面形
状測定手段と、予め設定された前記分析面の高さと前記
蛍光Ｘ線強度との相関関係を定義した相関テーブルを格
納した格納手段と、前記相関テーブルと、前記分析面形
状測定手段での測定結果に基づき、前記蛍光Ｘ線強度を
補正する補正演算手段と、を含むことを特徴としてい
る。
【００１２】また、請求項３に記載の発明は、前記補正
演算手段にて算出された補正Ｘ線強度に基づき、前記試
料の含有量を算出する含有量算出手段をさらに有するこ
とを特徴としている。
演算手段にて算出された補正Ｘ線強度に基づき、前記試
料の含有量を算出する含有量算出手段をさらに有するこ
とを特徴としている。
【００１３】また、請求項４に記載の発明は、前記含有
量算出手段にて算出された算出結果を表示する表示手段
と、前記算出結果に基づき、前記表示手段に算出結果を
表示制御するデータ処理手段と、をさらに有することを
特徴としている。
量算出手段にて算出された算出結果を表示する表示手段
と、前記算出結果に基づき、前記表示手段に算出結果を
表示制御するデータ処理手段と、をさらに有することを
特徴としている。
【００１４】また、請求項５に記載の発明は、前記格納
手段の前記相関テーブルの各数値を設定入力するための
操作入力手段をさらに有し、前記データ処理手段は、前
記操作入力手段の操作入力に基づき、前記相関テーブル
の各数値を更新制御することを特徴としている。
手段の前記相関テーブルの各数値を設定入力するための
操作入力手段をさらに有し、前記データ処理手段は、前
記操作入力手段の操作入力に基づき、前記相関テーブル
の各数値を更新制御することを特徴としている。
【００１５】また、請求項６に記載の発明は、前記含有
量算出手段にて算出された算出結果を記録する記録手段
をさらに有し、前記データ処理手段は、前記算出結果に
基づき、前記記録手段の記録動作を制御することを特徴
としている。
量算出手段にて算出された算出結果を記録する記録手段
をさらに有し、前記データ処理手段は、前記算出結果に
基づき、前記記録手段の記録動作を制御することを特徴
としている。
【００１６】また、請求項７に記載の発明は、前記補正
演算手段は、前記相関テーブルに基づき、Ｘ線強度の変
化を算出する第１の算出手段と、前記第１の算出手段の
算出結果と、前記蛍光Ｘ線強度とに基づき、前記基準面
に相当する蛍光Ｘ線強度に換算する第２の算出手段と、
を含むことを特徴としている。
演算手段は、前記相関テーブルに基づき、Ｘ線強度の変
化を算出する第１の算出手段と、前記第１の算出手段の
算出結果と、前記蛍光Ｘ線強度とに基づき、前記基準面
に相当する蛍光Ｘ線強度に換算する第２の算出手段と、
を含むことを特徴としている。
【００１７】また、請求項８に記載の発明は、前記格納
手段の相関テーブルは、試料の中心から所定の径位置で
の前記分析面の高さに対するＸ線強度の第１相関テーブ
ルを含むものであることを特徴としている。
手段の相関テーブルは、試料の中心から所定の径位置で
の前記分析面の高さに対するＸ線強度の第１相関テーブ
ルを含むものであることを特徴としている。
【００１８】また、請求項９に記載の発明は、前記格納
手段の相関テーブルは、複数の異なる前記径位置での各
々の前記相関テーブルを含むことを特徴としている。
手段の相関テーブルは、複数の異なる前記径位置での各
々の前記相関テーブルを含むことを特徴としている。
【００１９】また、請求項１０に記載の発明は、前記格
納手段の相関テーブルは、複数の異なる成分元素での各
々の前記相関テーブルを含むことを特徴としている。
納手段の相関テーブルは、複数の異なる成分元素での各
々の前記相関テーブルを含むことを特徴としている。
【００２０】また、請求項１１に記載の発明は、試料に
対する分析面の形状の測定に基づいて、前記試料の蛍光
Ｘ線分析を行う蛍光Ｘ線分析方法であって、前記分析面
の形状を三次元の数値データとして測定するステップ
と、前記数値データを変数とする補正係数に基づき、蛍
光Ｘ線強度を補正するステップと、を含むことを特徴と
している。
対する分析面の形状の測定に基づいて、前記試料の蛍光
Ｘ線分析を行う蛍光Ｘ線分析方法であって、前記分析面
の形状を三次元の数値データとして測定するステップ
と、前記数値データを変数とする補正係数に基づき、蛍
光Ｘ線強度を補正するステップと、を含むことを特徴と
している。
【００２１】また、請求項１２に記載の発明は、試料に
対する分析面の形状の測定に基づいて、前記試料の蛍光
Ｘ線分析を行う蛍光Ｘ線分析方法であって、前記分析面
の高さを、光学式又は触針式の測定装置にて測定するス
テップと、前記試料の第１の蛍光Ｘ線強度を測定するス
テップと、前記高さと、前記高さに対応する既知の補正
係数と、に基づき、前記第１の蛍光Ｘ線強度を、第２の
蛍光Ｘ線強度に補正するステップと、を含むことを特徴
としている。
対する分析面の形状の測定に基づいて、前記試料の蛍光
Ｘ線分析を行う蛍光Ｘ線分析方法であって、前記分析面
の高さを、光学式又は触針式の測定装置にて測定するス
テップと、前記試料の第１の蛍光Ｘ線強度を測定するス
テップと、前記高さと、前記高さに対応する既知の補正
係数と、に基づき、前記第１の蛍光Ｘ線強度を、第２の
蛍光Ｘ線強度に補正するステップと、を含むことを特徴
としている。
【００２２】また、請求項１３に記載の発明は、前記第
２の蛍光Ｘ線強度に基づき、前記試料の含有量を算出す
るステップをさらに有することを特徴としている。
２の蛍光Ｘ線強度に基づき、前記試料の含有量を算出す
るステップをさらに有することを特徴としている。
【００２３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
の一例について、図面を参照して具体的に説明する。
の一例について、図面を参照して具体的に説明する。
【００２４】（概略説明）先ず、本発明の全体の概略構
成について、図１を参照して説明する。図１は、本発明
を実施する際に使用される蛍光Ｘ線分析装置の一例の構
成を概略的に示す機能ブロック図である。
成について、図１を参照して説明する。図１は、本発明
を実施する際に使用される蛍光Ｘ線分析装置の一例の構
成を概略的に示す機能ブロック図である。
【００２５】本例では、蛍光Ｘ線分析装置１０と、この
分析結果を出力処理するためのデータ処理装置３０と、
を含んで構成されている。
分析結果を出力処理するためのデータ処理装置３０と、
を含んで構成されている。
【００２６】蛍光Ｘ線分析装置１０は、図１に示すよう
に、支持台に支持される試料１２と、この試料１２に照
射される励起Ｘ線を発生するＸ線発生手段１４と、照射
された励起Ｘ線によって試料１２から発生する蛍光Ｘ線
の強度をこの強度に比例した電気信号（パルス）に変換
するためのＸ線検出手段１６と、前記Ｘ線検出手段１６
からのパルスを増幅し、特定の波高範囲のパルスを選別
してその数を計数することにより蛍光Ｘ線強度を算出す
る蛍光Ｘ線算出手段１８と、前記試料の分析面形状を測
定するための分析面形状測定手段２０と、各種データが
格納される格納手段である記憶手段２２と、この記憶手
段２２に格納されたデータと、前記分析面形状測定手段
２０からの測定結果と、に基づき、蛍光Ｘ線強度の補正
係数（補正関数）を算出する第１の算出手段である補正
係数算出手段２４と、この補正係数算出手段２４での補
正係数と、前記蛍光Ｘ線算出手段１８での蛍光Ｘ線強度
と、に基づき、補正Ｘ線強度を算出する第２の算出手段
である補正Ｘ線強度算出手段２６と、この補正Ｘ線強度
算出手段２６での補正Ｘ線強度に基づき、定量計算を行
う（試料の含有量を算出する）定量演算手段（含有量算
出手段）２８と、を含んで構成される。
に、支持台に支持される試料１２と、この試料１２に照
射される励起Ｘ線を発生するＸ線発生手段１４と、照射
された励起Ｘ線によって試料１２から発生する蛍光Ｘ線
の強度をこの強度に比例した電気信号（パルス）に変換
するためのＸ線検出手段１６と、前記Ｘ線検出手段１６
からのパルスを増幅し、特定の波高範囲のパルスを選別
してその数を計数することにより蛍光Ｘ線強度を算出す
る蛍光Ｘ線算出手段１８と、前記試料の分析面形状を測
定するための分析面形状測定手段２０と、各種データが
格納される格納手段である記憶手段２２と、この記憶手
段２２に格納されたデータと、前記分析面形状測定手段
２０からの測定結果と、に基づき、蛍光Ｘ線強度の補正
係数（補正関数）を算出する第１の算出手段である補正
係数算出手段２４と、この補正係数算出手段２４での補
正係数と、前記蛍光Ｘ線算出手段１８での蛍光Ｘ線強度
と、に基づき、補正Ｘ線強度を算出する第２の算出手段
である補正Ｘ線強度算出手段２６と、この補正Ｘ線強度
算出手段２６での補正Ｘ線強度に基づき、定量計算を行
う（試料の含有量を算出する）定量演算手段（含有量算
出手段）２８と、を含んで構成される。
【００２７】なお、本例では、補正係数算出手段２４と
補正Ｘ線強度算出手段２６とで本発明の補正演算手段を
構成している。また、Ｘ線検出手段１６と蛍光Ｘ線強度
算出手段１８とで本発明の検出手段を構成している。
補正Ｘ線強度算出手段２６とで本発明の補正演算手段を
構成している。また、Ｘ線検出手段１６と蛍光Ｘ線強度
算出手段１８とで本発明の検出手段を構成している。
【００２８】分析面形状測定手段２０は、図３に示す試
料１２の基準面Ａからの高さを検出する、図１に示す分
析面高さ検出手段２０ａを含む。
料１２の基準面Ａからの高さを検出する、図１に示す分
析面高さ検出手段２０ａを含む。
【００２９】記憶手段２２は、前記分析面高さの平均高
さと、Ｘ線強度との相関関係を定義した相関テーブルで
ある平均高さ−Ｘ線強度相関テーブル２２ａ等を有す
る。
さと、Ｘ線強度との相関関係を定義した相関テーブルで
ある平均高さ−Ｘ線強度相関テーブル２２ａ等を有す
る。
【００３０】より詳細には、図４に示すように、平均高
さ−Ｘ線強度相関テーブル２２ａ、平均高さ−Ｘ線強度
変化率相関テーブル２２ｂ、等を含む。
さ−Ｘ線強度相関テーブル２２ａ、平均高さ−Ｘ線強度
変化率相関テーブル２２ｂ、等を含む。
【００３１】なお、本例では、上記テーブルとして分析
面の「平均高さ」を一例として挙げたが、「平均高さ」
に限定されるものではない。すなわち、分析面の「高
さ」であってもよく、さらには、この「高さ」に限定さ
れずに分析面の３次元的な「形状」であってもよい。
面の「平均高さ」を一例として挙げたが、「平均高さ」
に限定されるものではない。すなわち、分析面の「高
さ」であってもよく、さらには、この「高さ」に限定さ
れずに分析面の３次元的な「形状」であってもよい。
【００３２】平均高さ−Ｘ線強度相関テーブルは、図３
に示す試料１２の中心線Ｃより直径が約１０ｍｍ（φ１
０）の範囲内における平均的な分析面高さＺ１の変化に
対する、Ｘ線強度の変化の相関を示した、試料１２の主
成分元素例えばＰｂ（鉛）等に関する第１のテーブルを
含む。
に示す試料１２の中心線Ｃより直径が約１０ｍｍ（φ１
０）の範囲内における平均的な分析面高さＺ１の変化に
対する、Ｘ線強度の変化の相関を示した、試料１２の主
成分元素例えばＰｂ（鉛）等に関する第１のテーブルを
含む。
【００３３】さらに、φ１０について、試料１２の他の
複数の主成分元素例えばＺｎ（亜鉛）、Ｔｉ（チタ
ン）、Ｚｒ（ジルコニウム）、Ｓｒ（ストロンチウ
ム）、Ｎｂ（ニオブ）等に関する各テーブルが格納され
ている。また、φ１５、φ２０、φ２３、φ２５、φ２
６についても各々上記各種主成分元素Ｐｂ、Ｚｎ、Ｔ
ｉ、Ｚｒ、Ｓｒ、Ｎｂ等に関する各テーブルが格納され
ている。
複数の主成分元素例えばＺｎ（亜鉛）、Ｔｉ（チタ
ン）、Ｚｒ（ジルコニウム）、Ｓｒ（ストロンチウ
ム）、Ｎｂ（ニオブ）等に関する各テーブルが格納され
ている。また、φ１５、φ２０、φ２３、φ２５、φ２
６についても各々上記各種主成分元素Ｐｂ、Ｚｎ、Ｔ
ｉ、Ｚｒ、Ｓｒ、Ｎｂ等に関する各テーブルが格納され
ている。
【００３４】以上があるタイプの機種のＸ線蛍光分析装
置Ａについてのデータである。結果として平均高さ−Ｘ
線強度変化率相関テーブルは、装置が検出可能な元素の
テーブルを形成している。
置Ａについてのデータである。結果として平均高さ−Ｘ
線強度変化率相関テーブルは、装置が検出可能な元素の
テーブルを形成している。
【００３５】前記データ処理装置３０は、測定結果や各
種の分析データ、記憶手段２２内のデータ等を表示する
ための表示手段３６と、各種データの操作入力や操作指
示を行うための操作入力手段３２と、測定結果等を印字
記録出力するための記録手段３４と、これらの制御を司
るデータ処理手段３８と、を含んで構成される。
種の分析データ、記憶手段２２内のデータ等を表示する
ための表示手段３６と、各種データの操作入力や操作指
示を行うための操作入力手段３２と、測定結果等を印字
記録出力するための記録手段３４と、これらの制御を司
るデータ処理手段３８と、を含んで構成される。
【００３６】（機械的構成）ここで、上述の蛍光Ｘ線分
析装置１０の機械的構成について、図２及び図３を用い
て説明する。
析装置１０の機械的構成について、図２及び図３を用い
て説明する。
【００３７】蛍光Ｘ線分析装置１０は、図２に示すよう
に、試料１２を支持する支持台と、この支持台を支持す
るとともに弾性変形により基準面に弾性圧着する弾性部
材１３と、前記試料１２の分析面を所定の範囲にマスク
するマスク部材１５と、これらマスク部材１５・弾性部
材１３・支持台を支持固定する筒状の筺体と、前記筺体
と対向して配置されるＸ線発生手段であるＸ線管１４
と、を含んで構成される。
に、試料１２を支持する支持台と、この支持台を支持す
るとともに弾性変形により基準面に弾性圧着する弾性部
材１３と、前記試料１２の分析面を所定の範囲にマスク
するマスク部材１５と、これらマスク部材１５・弾性部
材１３・支持台を支持固定する筒状の筺体と、前記筺体
と対向して配置されるＸ線発生手段であるＸ線管１４
と、を含んで構成される。
【００３８】前記試料１２は、たとえばガラスビード作
製皿にて形成されるものであり、図３にて誇張して示す
ように、分析面が平坦ではない。
製皿にて形成されるものであり、図３にて誇張して示す
ように、分析面が平坦ではない。
【００３９】そして、マスク部材１５の底面位置を基準
面Ａとして、この基準面Ａからの高さを測定することに
より、分析面の形状を３次元の数値データとし、この数
値データと強度変化の補正係数からＸ線強度の補正を行
う。
面Ａとして、この基準面Ａからの高さを測定することに
より、分析面の形状を３次元の数値データとし、この数
値データと強度変化の補正係数からＸ線強度の補正を行
う。
【００４０】（蛍光Ｘ線分析装置Ａ〜Ｄ）図５から図８
には、複数例えば４台の多元素同時型Ｘ線分析装置にお
いて、分析面の高さが変化したときに蛍光Ｘ線強度がど
う変化するかを示した図を開示している。
には、複数例えば４台の多元素同時型Ｘ線分析装置にお
いて、分析面の高さが変化したときに蛍光Ｘ線強度がど
う変化するかを示した図を開示している。
【００４１】ここで言う分析面の高さとは、図３に示す
分析用試料ホルダーの試料マスクと分析試料１２が接す
る面の高さを基準面の高さとし、分析面がどれだけ高い
のかを（正の高さ）、あるいは低いのか（負の高さ）を
示すものである。
分析用試料ホルダーの試料マスクと分析試料１２が接す
る面の高さを基準面の高さとし、分析面がどれだけ高い
のかを（正の高さ）、あるいは低いのか（負の高さ）を
示すものである。
【００４２】図５〜図８で明らかなように、装置毎、元
素毎に分析面高さが変化すると、蛍光Ｘ線強度も変化す
る。
素毎に分析面高さが変化すると、蛍光Ｘ線強度も変化す
る。
【００４３】例えば、図５に示す特性を示す装置Ａで
は、元素Ｐｂのみが異なる特性を示している。図６に示
す特性を示す装置Ｂでは、元素Ｂａ、Ｓｉ等が異なる特
性を示している。
は、元素Ｐｂのみが異なる特性を示している。図６に示
す特性を示す装置Ｂでは、元素Ｂａ、Ｓｉ等が異なる特
性を示している。
【００４４】図７に示す特性を示す装置Ｃでは、分析面
高さが８００μｍ以上で一部の元素で特性がやや異なる
ものの、全ての元素がほぼ同一の特性を示している。
高さが８００μｍ以上で一部の元素で特性がやや異なる
ものの、全ての元素がほぼ同一の特性を示している。
【００４５】図８に示す特性を示す装置Ｄでは、全ての
元素がほぼ同一の特性を示ししている。
元素がほぼ同一の特性を示ししている。
【００４６】いづれの装置でも分析面高さが変化すると
蛍光Ｘ線強度が変化している。
蛍光Ｘ線強度が変化している。
【００４７】このように、各々の装置Ａ〜Ｄは、各々元
素毎に分析面高さに対する蛍光Ｘ線強度の変化率は異な
るが、同じ装置の同じ元素の測定では元素の含有量が異
なっても高さの変化に対する蛍光Ｘ線強度の変化率は一
定である。
素毎に分析面高さに対する蛍光Ｘ線強度の変化率は異な
るが、同じ装置の同じ元素の測定では元素の含有量が異
なっても高さの変化に対する蛍光Ｘ線強度の変化率は一
定である。
【００４８】図９は、ＺｒＯ２の含有量の異なる試料に
おいて、分析面高さと蛍光Ｘ線強度の変化率との関係を
示す図である。
おいて、分析面高さと蛍光Ｘ線強度の変化率との関係を
示す図である。
【００４９】ＺｒＯ２の含有量の異なる試料でも、分析
面高さに対する蛍光Ｘ線強度の変化率は一定であり、基
準面での強度に補正できることとなる。
面高さに対する蛍光Ｘ線強度の変化率は一定であり、基
準面での強度に補正できることとなる。
【００５０】ここで、図１０、図１１は、同じ粉末試料
から２個のガラスビード作製皿を使い、各々連続して作
製した試料（ガラスビード）の分析面の断面形状を示し
たものである。
から２個のガラスビード作製皿を使い、各々連続して作
製した試料（ガラスビード）の分析面の断面形状を示し
たものである。
【００５１】例えば皿Ａにおいては、ビード位置と基準
面からの高さ（分析面高さ）との関係は、試料の中心領
域にて凸状に形成され、この凸状の頂部では、略平面に
形成される。
面からの高さ（分析面高さ）との関係は、試料の中心領
域にて凸状に形成され、この凸状の頂部では、略平面に
形成される。
【００５２】ここで、皿Ａにて作製された複数例えば４
つの試料のうち、分析面高さのバラツキは、高さが約１
２０μｍ前後〜１６０μｍ前後のオーダーとなってい
る。このように、同一の皿Ａにて作製された複数例えば
４個の試料においても分析面高さにバラツキが存在す
る。
つの試料のうち、分析面高さのバラツキは、高さが約１
２０μｍ前後〜１６０μｍ前後のオーダーとなってい
る。このように、同一の皿Ａにて作製された複数例えば
４個の試料においても分析面高さにバラツキが存在す
る。
【００５３】同様に、図１１に示すように、皿Ｂにて作
製された複数例えば４つの試料においては、分析面高さ
のバラツキは、上述の皿Ａの場合に比して広くなってい
る。
製された複数例えば４つの試料においては、分析面高さ
のバラツキは、上述の皿Ａの場合に比して広くなってい
る。
【００５４】以上のように、同じ作製皿を用いても分析
面形状は異なる。この分析面形状は曲線で構成されてお
り、この場合の分析面高さは分析面内のある領域の平均
高さを指すことにする。
面形状は異なる。この分析面形状は曲線で構成されてお
り、この場合の分析面高さは分析面内のある領域の平均
高さを指すことにする。
【００５５】図１２〜図１７は、同一の粉末試料から、
複数例えば６個のガラスビード作製皿を用いて、複数例
えば１０個の試料（ガラスビード）を作製し、分析面の
中心からの領域別に、平均高さと蛍光Ｘ線強度の関係を
示したものである。
複数例えば６個のガラスビード作製皿を用いて、複数例
えば１０個の試料（ガラスビード）を作製し、分析面の
中心からの領域別に、平均高さと蛍光Ｘ線強度の関係を
示したものである。
【００５６】例えば図１２では、Ｐｂにおける平均高さ
とＸ線強度との相関を示し、特に中心からφ１０ｍｍの
領域での高さを示している。
とＸ線強度との相関を示し、特に中心からφ１０ｍｍの
領域での高さを示している。
【００５７】ここで、この領域での特性に基づき、分析
面平均高さＸと測定Ｘ線強度から補正Ｘ線強度を算出す
るためには、例えば以下のような（式１）にて算出する
ことができる。 補正Ｘ線強度＝測定Ｘ線強度＋（１Ｅ―０５）Ｘ2−０．０２７９Ｘ ・・・・・・・・・・・・・・（式１） ここで、（１Ｅ―０５）は、１×１０-5を意味する。例
えば、平均高さＸが１６９μｍであれば、補正Ｘ線強度
＝４９９．５４＋０．００００１×１６９2−０．０２
７９×１６９≒４５９．１１となる。この計算結果が図
１８に開示されている。
面平均高さＸと測定Ｘ線強度から補正Ｘ線強度を算出す
るためには、例えば以下のような（式１）にて算出する
ことができる。 補正Ｘ線強度＝測定Ｘ線強度＋（１Ｅ―０５）Ｘ2−０．０２７９Ｘ ・・・・・・・・・・・・・・（式１） ここで、（１Ｅ―０５）は、１×１０-5を意味する。例
えば、平均高さＸが１６９μｍであれば、補正Ｘ線強度
＝４９９．５４＋０．００００１×１６９2−０．０２
７９×１６９≒４５９．１１となる。この計算結果が図
１８に開示されている。
【００５８】同様に、図１３では、φ１５ｍｍの領域で
の特性を示しており、この場合の補正Ｘ線強度を算出す
るためには、以下のような（式２）にて算出することが
できる。 補正Ｘ線強度＝測定Ｘ線強度＋（２Ｅ―０５）Ｘ2−０．０３１２Ｘ ・・・・・・・・・・・・・（式２） 同様に、図１４では、φ２０ｍｍの領域での特性を示し
ており、この場合の補正Ｘ線強度を算出するためには、
以下のような（式３）にて算出することができる。 補正Ｘ線強度＝測定Ｘ線強度＋（２Ｅ―０５）Ｘ2−０．０３７３Ｘ ・・・・・・・・・・・・・（式３） 同様に、図１５では、φ２３ｍの領域での特性を示して
おり、この場合の補正Ｘ線強度を算出するためには、以
下のような（式４）にて算出することができる。 補正Ｘ線強度＝測定Ｘ線強度＋（３Ｅ―０５）Ｘ2−０．０４２８Ｘ ・・・・・・・・・・・・・（式４） 同様に、図１６では、φ２５ｍｍの領域での特性を示し
ており、この場合の補正Ｘ線強度を算出するためには、
以下のような（式５）にて算出することができる。 補正Ｘ線強度＝測定Ｘ線強度＋（４Ｅ―０５）Ｘ2−０．０４７Ｘ ・・・・・・・・・・・・・（式５） 同様に、図１７では、φ２６ｍｍの領域での特性を示し
ており、この場合の補正Ｘ線強度を算出するためには、
以下のような（式６）にて算出することができる。 補正Ｘ線強度＝測定Ｘ線強度＋（４Ｅ―０５）Ｘ2−０．０４９８Ｘ ・・・・・・・・・・・・・（式６） このように、いずれの領域の平均高さを用いても、平均
高さと蛍光Ｘ線強度との相関関係は、図１２〜図１７中
の各数式にて表せるような状態にある。
の特性を示しており、この場合の補正Ｘ線強度を算出す
るためには、以下のような（式２）にて算出することが
できる。 補正Ｘ線強度＝測定Ｘ線強度＋（２Ｅ―０５）Ｘ2−０．０３１２Ｘ ・・・・・・・・・・・・・（式２） 同様に、図１４では、φ２０ｍｍの領域での特性を示し
ており、この場合の補正Ｘ線強度を算出するためには、
以下のような（式３）にて算出することができる。 補正Ｘ線強度＝測定Ｘ線強度＋（２Ｅ―０５）Ｘ2−０．０３７３Ｘ ・・・・・・・・・・・・・（式３） 同様に、図１５では、φ２３ｍの領域での特性を示して
おり、この場合の補正Ｘ線強度を算出するためには、以
下のような（式４）にて算出することができる。 補正Ｘ線強度＝測定Ｘ線強度＋（３Ｅ―０５）Ｘ2−０．０４２８Ｘ ・・・・・・・・・・・・・（式４） 同様に、図１６では、φ２５ｍｍの領域での特性を示し
ており、この場合の補正Ｘ線強度を算出するためには、
以下のような（式５）にて算出することができる。 補正Ｘ線強度＝測定Ｘ線強度＋（４Ｅ―０５）Ｘ2−０．０４７Ｘ ・・・・・・・・・・・・・（式５） 同様に、図１７では、φ２６ｍｍの領域での特性を示し
ており、この場合の補正Ｘ線強度を算出するためには、
以下のような（式６）にて算出することができる。 補正Ｘ線強度＝測定Ｘ線強度＋（４Ｅ―０５）Ｘ2−０．０４９８Ｘ ・・・・・・・・・・・・・（式６） このように、いずれの領域の平均高さを用いても、平均
高さと蛍光Ｘ線強度との相関関係は、図１２〜図１７中
の各数式にて表せるような状態にある。
【００５９】基準面の高さでの強度（補正Ｘ線強度）
は、分析面の平均高さと測定強度から補正計算すること
ができる。
は、分析面の平均高さと測定強度から補正計算すること
ができる。
【００６０】なお、上述の各特性は、上述したように各
々テーブルとして記憶手段に格納されることとなり、補
正計算に利用されることとなる。
々テーブルとして記憶手段に格納されることとなり、補
正計算に利用されることとなる。
【００６１】図１８には、補正Ｘ線強度に基づいて算出
された補正強度と、実際に測定される「生強度」とを比
較するための各種のデータが開示されている。
された補正強度と、実際に測定される「生強度」とを比
較するための各種のデータが開示されている。
【００６２】なお、同図において、Ａｖは、平均を示
し、Ｒは最大最小差を示し、ＳＤは標準偏差を各々示
す。
し、Ｒは最大最小差を示し、ＳＤは標準偏差を各々示
す。
【００６３】この例では、異なる白金皿で作製した１０
個のガラスビードのＰｂの測定蛍光Ｘ線強度と補正蛍光
Ｘ線強度のバラツキを示している。
個のガラスビードのＰｂの測定蛍光Ｘ線強度と補正蛍光
Ｘ線強度のバラツキを示している。
【００６４】この図１８から明らかなように、補正強度
のほうがバラツキが少なく、補正された蛍光Ｘ線強度か
ら分析値を計算するため、分析精度が改善されることが
わかる。
のほうがバラツキが少なく、補正された蛍光Ｘ線強度か
ら分析値を計算するため、分析精度が改善されることが
わかる。
【００６５】図１９〜図２４は、上記１０個の試料（ガ
ラスビード）に含まれる例えば６元素の蛍光Ｘ線強度と
平均高さとの関係を示したものである。
ラスビード）に含まれる例えば６元素の蛍光Ｘ線強度と
平均高さとの関係を示したものである。
【００６６】これらは、領域がφ１０ｍｍのとなる場合
の各元素における、平均高さ−Ｘ線強度特性である。
の各元素における、平均高さ−Ｘ線強度特性である。
【００６７】例えば図１９では、Ｐｂにおける平均高さ
とＸ線強度との相関を示し、特に中心からφ１０ｍｍの
領域での高さを示している。
とＸ線強度との相関を示し、特に中心からφ１０ｍｍの
領域での高さを示している。
【００６８】ここで、この領域での特性に基づき、分析
面平均高さＸから補正Ｘ線強度を算出するためには、例
えば以下のような（式７）にて算出することができる。 補正Ｘ線強度＝測定Ｘ線強度＋（１Ｅ―０５）Ｘ2−０．０２７９Ｘ ・・・・・・・・・・・・・・（式７） 同様に、図２０では、Ｚｎの特性を示しており、この場
合の補正Ｘ線強度を算出するためには、以下のような
（式８）にて算出することができる。 補正Ｘ線強度＝測定Ｘ線強度＋（５Ｅ―０７）Ｘ2−０．００１Ｘ ・・・・・・・・・・・・・（式８） 同様に、図２１では、Ｔｉの特性を示しており、この場
合の補正Ｘ線強度を算出するためには、以下のような
（式９）にて算出することができる。 補正Ｘ線強度＝測定Ｘ線強度―（１Ｅ―０７）Ｘ2−０．０００４Ｘ ・・・・・・・・・・・・・（式９） 同様に、図２２では、Ｚｒの特性を示しており、この場
合の補正Ｘ線強度を算出するためには、以下のような
（式１０）にて算出することができる。 補正Ｘ線強度＝測定Ｘ線強度＋（３Ｅ―０６）Ｘ2−０．００７８Ｘ ・・・・・・・・・・・・（式１０） 同様に、図２３では、Ｓｒの特性を示しており、この場
合の補正Ｘ線強度を算出するためには、以下のような
（式１１）にて算出することができる。 補正Ｘ線強度＝測定Ｘ線強度＋（２Ｅ―０６）Ｘ2−０．００３５Ｘ ・・・・・・・・・・・・・（式１１） 図１９〜図２３までのＰｂ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｒ
は、各々パターンは異なるが、高さの影響を受け、蛍光
Ｘ線強度が変化する。このような場合は、基準面高さで
の補正強度を計算し、濃度への計算を行うと効果的であ
る。
面平均高さＸから補正Ｘ線強度を算出するためには、例
えば以下のような（式７）にて算出することができる。 補正Ｘ線強度＝測定Ｘ線強度＋（１Ｅ―０５）Ｘ2−０．０２７９Ｘ ・・・・・・・・・・・・・・（式７） 同様に、図２０では、Ｚｎの特性を示しており、この場
合の補正Ｘ線強度を算出するためには、以下のような
（式８）にて算出することができる。 補正Ｘ線強度＝測定Ｘ線強度＋（５Ｅ―０７）Ｘ2−０．００１Ｘ ・・・・・・・・・・・・・（式８） 同様に、図２１では、Ｔｉの特性を示しており、この場
合の補正Ｘ線強度を算出するためには、以下のような
（式９）にて算出することができる。 補正Ｘ線強度＝測定Ｘ線強度―（１Ｅ―０７）Ｘ2−０．０００４Ｘ ・・・・・・・・・・・・・（式９） 同様に、図２２では、Ｚｒの特性を示しており、この場
合の補正Ｘ線強度を算出するためには、以下のような
（式１０）にて算出することができる。 補正Ｘ線強度＝測定Ｘ線強度＋（３Ｅ―０６）Ｘ2−０．００７８Ｘ ・・・・・・・・・・・・（式１０） 同様に、図２３では、Ｓｒの特性を示しており、この場
合の補正Ｘ線強度を算出するためには、以下のような
（式１１）にて算出することができる。 補正Ｘ線強度＝測定Ｘ線強度＋（２Ｅ―０６）Ｘ2−０．００３５Ｘ ・・・・・・・・・・・・・（式１１） 図１９〜図２３までのＰｂ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｒ
は、各々パターンは異なるが、高さの影響を受け、蛍光
Ｘ線強度が変化する。このような場合は、基準面高さで
の補正強度を計算し、濃度への計算を行うと効果的であ
る。
【００６９】一方、図２４のＮｂのように、平均高さが
変化しても蛍光Ｘ線強度がほとんど変化しない場合は補
正計算を行わなくてもよい。それぞれの元素毎に補正計
算の計算式や計算の有無を予め、調べておけばよい。
変化しても蛍光Ｘ線強度がほとんど変化しない場合は補
正計算を行わなくてもよい。それぞれの元素毎に補正計
算の計算式や計算の有無を予め、調べておけばよい。
【００７０】さらに、図２５には、従来の蛍光Ｘ線分析
装置により算出された分析値と、本例での分析結果とを
比較するための各種データが開示されている。
装置により算出された分析値と、本例での分析結果とを
比較するための各種データが開示されている。
【００７１】同図から明らかなように、補正強度で分析
値を算出したほうがばらつきが改善している。
値を算出したほうがばらつきが改善している。
【００７２】（処理について）次に、上述のような構成
の蛍光Ｘ線分析装置における蛍光Ｘ線分析の処理につい
て図２６を参照しつつ説明する。
の蛍光Ｘ線分析装置における蛍光Ｘ線分析の処理につい
て図２６を参照しつつ説明する。
【００７３】先ず、図２６に示すように、分析試料をホ
ルダーに装着する（ステップ、以下「Ｓ」１０１）。次
に、分析試料の形状、特に、基準面からの高さを測定す
る（Ｓ１０２）。そして、蛍光Ｘ線強度を測定する（Ｓ
１０３）。
ルダーに装着する（ステップ、以下「Ｓ」１０１）。次
に、分析試料の形状、特に、基準面からの高さを測定す
る（Ｓ１０２）。そして、蛍光Ｘ線強度を測定する（Ｓ
１０３）。
【００７４】次いで、形状の数値データにより、蛍光Ｘ
線強度の補正演算を行う（Ｓ１０４）。そして、補正し
た蛍光Ｘ線強度に基づき、定量計算を行う。すなわち、
含有量の算出を行う（Ｓ１０５）。
線強度の補正演算を行う（Ｓ１０４）。そして、補正し
た蛍光Ｘ線強度に基づき、定量計算を行う。すなわち、
含有量の算出を行う（Ｓ１０５）。
【００７５】このように算出された算出結果を、記録手
段に出力することにより結果報告を行う（Ｓ１０６）。
段に出力することにより結果報告を行う（Ｓ１０６）。
【００７６】以上のように本実施の形態によれば、分析
面の形状のデータからＸ線強度の補正を行うことで分析
精度を高めることができる。これにより、従来のような
分析面の加工によって生じる分析面の形状のバラツキが
生じたり、平坦、平滑でない分析面が形成されたとして
も、既知のデータに基づき補正できるので、分析精度を
高めることができる。
面の形状のデータからＸ線強度の補正を行うことで分析
精度を高めることができる。これにより、従来のような
分析面の加工によって生じる分析面の形状のバラツキが
生じたり、平坦、平滑でない分析面が形成されたとして
も、既知のデータに基づき補正できるので、分析精度を
高めることができる。
【００７７】なお、本発明にかかる装置と方法は、その
いくつかの特定の実施の形態に従って説明してきたが、
当業者は本発明の主旨および範囲から逸脱することなく
本発明の本文に記述した実施の形態に対して種々の変形
が可能である。例えば、各種データを格納した記憶手段
は、操作入力に基づき、常時更新できる構成であっても
よい。
いくつかの特定の実施の形態に従って説明してきたが、
当業者は本発明の主旨および範囲から逸脱することなく
本発明の本文に記述した実施の形態に対して種々の変形
が可能である。例えば、各種データを格納した記憶手段
は、操作入力に基づき、常時更新できる構成であっても
よい。
【００７８】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、分
析面の形状のデータからＸ線強度の補正を行うことで分
析精度を高めることができる。これにより、従来のよう
な分析面の加工によって生じる分析面の形状のバラツキ
が生じたり、平坦、平滑でない分析面が形成されたとし
ても、既知のデータに基づき補正できるので、分析精度
を高めることができる。
析面の形状のデータからＸ線強度の補正を行うことで分
析精度を高めることができる。これにより、従来のよう
な分析面の加工によって生じる分析面の形状のバラツキ
が生じたり、平坦、平滑でない分析面が形成されたとし
ても、既知のデータに基づき補正できるので、分析精度
を高めることができる。
【図１】本発明の蛍光Ｘ線分析装置の全体の概略構成の
一例を示す機能ブロック図ある。
一例を示す機能ブロック図ある。
【図２】図１の蛍光Ｘ線分析装置を示す外観図である。
【図３】図１の蛍光Ｘ線分析装置にて測定される試料の
部分を一部を誇張して表した説明図である。
部分を一部を誇張して表した説明図である。
【図４】図１の蛍光Ｘ線分析装置に格納されるテーブル
の一例を示す説明図である。
の一例を示す説明図である。
【図５】分析面平均高さと蛍光Ｘ線強度の変化率との関
係を示す特性図である。
係を示す特性図である。
【図６】分析面平均高さと蛍光Ｘ線強度の変化率との関
係を示す特性図である。
係を示す特性図である。
【図７】分析面平均高さと蛍光Ｘ線強度の変化率との関
係を示す特性図である。
係を示す特性図である。
【図８】分析面平均高さと蛍光Ｘ線強度の変化率との関
係を示す特性図である。
係を示す特性図である。
【図９】分析面高さとＸ線強度の変化率との関係を示す
特性図である。
特性図である。
【図１０】皿Ａで鋳込まれたガラスビードの断面形状を
示す説明図である。
示す説明図である。
【図１１】皿Ｂで鋳込まれたガラスビードの断面形状を
示す説明図である。
示す説明図である。
【図１２】平均高さとＸ線強度との関係を示す特性図で
ある。
ある。
【図１３】平均高さとＸ線強度との関係を示す特性図で
ある。
ある。
【図１４】平均高さとＸ線強度との関係を示す特性図で
ある。
ある。
【図１５】平均高さとＸ線強度との関係を示す特性図で
ある。
ある。
【図１６】平均高さとＸ線強度との関係を示す特性図で
ある。
ある。
【図１７】平均高さとＸ線強度との関係を示す特性図で
ある。
ある。
【図１８】測定Ｘ線強度と補正後のＸ線強度との比較を
説明するための説明図である。
説明するための説明図である。
【図１９】平均高さとＸ線強度との関係を示す特性図で
ある。
ある。
【図２０】平均高さとＸ線強度との関係を示す特性図で
ある。
ある。
【図２１】平均高さとＸ線強度との関係を示す特性図で
ある。
ある。
【図２２】平均高さとＸ線強度との関係を示す特性図で
ある。
ある。
【図２３】平均高さとＸ線強度との関係を示す特性図で
ある。
ある。
【図２４】平均高さとＸ線強度との関係を示す特性図で
ある。
ある。
【図２５】測定算出された分析値と、補正された分析値
との比較を説明するための説明図である。
との比較を説明するための説明図である。
【図２６】図１の蛍光Ｘ線分析装置の処理の一例を示す
フローチャートである。
フローチャートである。
１０ 蛍光Ｘ線分析装置 １２ 試料 １４ Ｘ線発生手段 １６ Ｘ線検出手段 １８ 蛍光Ｘ線強度算出手段 ２０ 分析面形状測定手段 ２２ 記憶手段 ２２ａ 平均高さ−Ｘ線強度相関テーブル ２６ 補正Ｘ線強度算出手段 ２８ 定量演算手段 ３０ データ処理装置 ３２ 操作入力手段 ３４ 記録手段 ３６ 表示手段 ３８ データ処理手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2F067 AA07 AA23 FF13 HH04 JJ03 KK01 TT01 UU33 2G001 AA01 BA04 CA01 EA03 FA06 FA14 GA08 HA01 JA13 KA01 MA04 RA03
Claims (13)
- 【請求項１】 試料の分析面の形状の測定に基づいて、
前記試料の蛍光Ｘ線分析を行う蛍光Ｘ線分析装置であっ
て、 前記試料の蛍光Ｘ線強度を検出する検出手段と、 前記試料の分析面の形状を測定する分析面形状測定手段
と、 前記分析面形状測定手段での測定結果に基づき、前記蛍
光Ｘ線強度を補正演算する補正演算手段と、 を含むことを特徴とする蛍光Ｘ線分析装置。 - 【請求項２】 試料の分析面の形状の測定に基づいて、
前記試料の蛍光Ｘ線分析を行う蛍光Ｘ線分析装置であっ
て、 前記試料の蛍光Ｘ線強度を検出する検出手段と、 前記試料の分析の基準となる基準面に対する分析面の高
さ変位を測定する分析面形状測定手段と、 予め設定された前記分析面の高さと前記蛍光Ｘ線強度と
の相関関係を定義した相関テーブルを格納した格納手段
と、 前記相関テーブルと、前記分析面形状測定手段での測定
結果に基づき、前記蛍光Ｘ線強度を補正する補正演算手
段と、 を含むことを特徴とする蛍光Ｘ線分析装置。 - 【請求項３】 前記補正演算手段にて算出された補正Ｘ
線強度に基づき、前記試料の含有量を算出する含有量算
出手段をさらに有することを特徴とする請求項１又は請
求項２に記載の蛍光Ｘ線分析装置。 - 【請求項４】 前記含有量算出手段にて算出された算出
結果を表示する表示手段と、 前記算出結果に基づき、前記表示手段に算出結果を表示
制御するデータ処理手段と、 をさらに有することを特徴とする請求項１乃至請求項３
のいずれか一項に記載の蛍光Ｘ線分析装置。 - 【請求項５】 前記格納手段の前記相関テーブルの各数
値を設定入力するための操作入力手段をさらに有し、 前記データ処理手段は、前記操作入力手段の操作入力に
基づき、前記相関テーブルの各数値を更新制御すること
を特徴とする請求項４に記載の蛍光Ｘ線分析装置。 - 【請求項６】 前記含有量算出手段にて算出された算出
結果を記録する記録手段をさらに有し、 前記データ処理手段は、前記算出結果に基づき、前記記
録手段の記録動作を制御することを特徴とする請求項４
又は請求項５に記載の蛍光Ｘ線分析装置。 - 【請求項７】 前記補正演算手段は、前記相関テーブル
に基づき、Ｘ線強度の変化を算出する第１の算出手段
と、 前記第１の算出手段の算出結果と、前記蛍光Ｘ線強度と
に基づき、前記基準面に相当する蛍光Ｘ線強度に換算す
る第２の算出手段と、 を含むことを特徴とする請求項２乃至請求項６のいずれ
か一項に記載の蛍光Ｘ線分析装置。 - 【請求項８】 前記格納手段の相関テーブルは、試料の
中心から所定の径位置までの前記分析面の高さに対する
Ｘ線強度の第１相関テーブルを含むものであることを特
徴とする請求項２に記載の蛍光Ｘ線分析装置。 - 【請求項９】 前記格納手段の相関テーブルは、複数の
異なる前記径位置までの各々の前記相関テーブルを含む
ことを特徴とする請求項８に記載の蛍光Ｘ線分析装置。 - 【請求項１０】 前記格納手段の相関テーブルは、複数
の異なる成分元素での各々の前記相関テーブルを含むこ
とを特徴とする請求項８に記載の蛍光Ｘ線分析装置。 - 【請求項１１】 試料に対する分析面の形状の測定に基
づいて、前記試料の蛍光Ｘ線分析を行う蛍光Ｘ線分析方
法であって、 前記分析面の形状を三次元の数値データとして測定する
ステップと、 前記数値データを変数とする補正係数に基づき、蛍光Ｘ
線強度を補正するステップと、 を含むことを特徴とする蛍光Ｘ線分析方法。 - 【請求項１２】 試料に対する分析面の形状の測定に基
づいて、前記試料の蛍光Ｘ線分析を行う蛍光Ｘ線分析方
法であって、 前記分析面の高さを、光学式又は触針式の測定装置にて
測定するステップと、 前記試料の第１の蛍光Ｘ線強度を測定するステップと、 前記高さと、前記高さに対応する既知の補正係数と、に
基づき、前記第１の蛍光Ｘ線強度を、第２の蛍光Ｘ線強
度に補正するステップと、 を含むことを特徴とする蛍光Ｘ線分析方法。 - 【請求項１３】 前記第２の蛍光Ｘ線強度に基づき、前
記試料の含有量を算出するステップをさらに有すること
を特徴とする請求項１２に記載の蛍光Ｘ線分析方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000273020A JP3677442B2 (ja) | 2000-09-08 | 2000-09-08 | 蛍光ｘ線分析装置 |
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|---|---|---|---|
| JP2000273020A JP3677442B2 (ja) | 2000-09-08 | 2000-09-08 | 蛍光ｘ線分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002082075A true JP2002082075A (ja) | 2002-03-22 |
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ID=18759039
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