JPWO2012176694A1 - ネガ型感光性樹脂組成物、パターン形成方法、硬化膜、絶縁膜、カラーフィルタ、及び表示装置 - Google Patents
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Abstract
Description
しかし、特許文献1のように密着増強剤としてアミン系シランカップリング剤を含有させた場合には、基板との密着性は向上するものの、パターン形成に必要な露光量が増加してしまうという問題があった。
これに対して上記式(1)で表される化合物は、R6及びR7が水酸基となることはないため、環化反応は生じず、良好な微小パターニング特性を得ることが可能である。
なお、上記式(1)で表される化合物は、電磁波照射又は加熱により塩基を発生するため、塩基発生剤としても機能する。また、上記式(1)で表される化合物は、ネガ型感光性樹脂組成物中に配合されると基板への密着性を高める効果を奏するため、密着増強剤としても機能する。
<式(1)で表される化合物>
本発明に係るネガ型感光性樹脂組成物は、下記式(1)で表される化合物を含有するものである。以下ではまず、式(1)で表される化合物について説明し、次いで、ネガ型感光性樹脂組成物について説明する。
R1及びR2における有機基としては、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられる。この有機基は、該有機基中にヘテロ原子等の炭化水素基以外の結合や置換基を含んでいてもよい。また、この有機基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。
この有機基は、通常は1価であるが、環状構造を形成する場合等には、2価以上の有機基となり得る。
耐熱性の観点から、R1及びR2の有機基中の炭化水素基以外の結合としては、エーテル結合、チオエーテル結合、カルボニル結合、チオカルボニル結合、エステル結合、アミド結合、ウレタン結合、イミノ結合(−N=C(−R)−、−C(=NR)−:Rは水素原子又は1価の有機基を示す)、カーボネート結合、スルホニル結合、スルフィニル結合が好ましい。
R1及びR2の有機基中の炭化水素基以外の置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シアノ基、イソシアノ基、シアナト基、イソシアナト基、チオシアナト基、イソチオシアナト基、シリル基、シラノール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、チオカルバモイル基、ニトロ基、ニトロソ基、カルボキシル基、カルボキシラート基、アシル基、アシルオキシ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、ヒドロキシイミノ基、アルキルエーテル基、アルケニルエーテル基、アルキルチオエーテル基、アルケニルチオエーテル基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基が好ましい。
R3における有機基としては、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、アラルキル基等から1個の水素原子を除いた基が挙げられる。この有機基は、該有機基中に置換基を含んでいてもよい。置換基としては、R1及びR2において例示したものが挙げられる。また、この有機基は、直鎖状、分岐鎖状のいずれでもよい。
R4及びR5における有機基としては、R1及びR2において例示したものが挙げられる。この有機基は、R1及びR2の場合と同様に、該有機基中にヘテロ原子等の炭化水素基以外の結合や置換基を含んでいてもよい。また、この有機基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。
R6、R7、R8、及びR9における有機基としては、R1及びR2において例示したものが挙げられる。この有機基は、R1及びR2の場合と同様に、該有機基中にヘテロ原子等の炭化水素基以外の結合や置換基を含んでいてもよい。また、この有機基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。
また、R6、R7、R8、及びR9としては、それらの2つ以上が結合して、R6、R7、R8、及びR9が結合しているベンゼン環の原子を共有してナフタレン、アントラセン、フェナントレン、インデン等の縮合環を形成している場合も、吸収波長が長波長化する点から好ましい。
より好ましくは、R6、R7、R8、及びR9の全てが水素原子であるか、又はR6、R7、R8、及びR9のいずれか1つがニトロ基であり、残り3つが水素原子である。
R10における有機基としては、R1及びR2において例示したものが挙げられる。この有機基は、R1及びR2の場合と同様に、該有機基中にヘテロ原子等の炭化水素基以外の結合や置換基を含んでいてもよい。また、この有機基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。
上記式(1)で表される化合物は、ベンゼン環のパラ位に−OR10基を有するため、有機溶剤への溶解性が良好である。
なお、この化合物は、後述する実施例のようにして合成することが可能である。
本発明に係るネガ型感光性樹脂組成物としては、従来公知のネガ型感光性樹脂組成物に上記式(1)で表される化合物を添加したものを、特に制限されずに用いることができる。以下、本発明に係るネガ型感光性樹脂組成物の具体例について詳細に説明する。
なお、以下の具体例に限定されるものではないが、ネガ型感光性樹脂組成物は、上記式(1)で表される化合物、アルカリ可溶性樹脂、光重合開始剤、及び有機溶剤を有することが好ましい。必要に応じて光重合性モノマーを用いてもよい。
アルカリ可溶性樹脂としては、カルド構造を有する樹脂、フェノール性水酸基を有する樹脂、ポリイミド樹脂、及びエポキシ樹脂よりなる群から選択される樹脂を含有することが好ましい。光重合開始剤、有機溶剤、光重合性モノマーの詳細についても、後述する第1〜7の態様のネガ型感光性樹脂組成物において説明する。
第1の態様のネガ型感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂、光重合性モノマー、光重合開始剤、上記式(1)で表される化合物、及び有機溶剤を含有する。
なお、本明細書においてアルカリ可溶性樹脂とは、樹脂濃度20質量%の樹脂溶液(溶媒:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)により、膜厚1μmの樹脂膜を基板上に形成し、2.38質量%のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)水溶液に1分間浸漬した際に、膜厚0.01μm以上溶解するものをいう。
また、上記式(a−1)中、mは、0〜20の整数を示す。
なお、本明細書において、「(メタ)アクリル酸」は、アクリル酸とメタクリル酸との両方を意味する。同様に、「(メタ)アクリレート」は、アクリレートとメタクリレートとの両方を意味する。
単官能モノマーとしては、(メタ)アクリルアミド、メチロール(メタ)アクリルアミド、メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、エトキシメチル(メタ)アクリルアミド、プロポキシメチル(メタ)アクリルアミド、ブトキシメトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリル酸、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、クロトン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、tert−ブチルアクリルアミドスルホン酸、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−フェノキシ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロピルフタレート、グリセリンモノ(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノ(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、フタル酸誘導体のハーフ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの単官能モノマーは、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。
C.I.ピグメントオレンジ1(以下、「C.I.ピグメントオレンジ」は同様であり、番号のみを記載する。)、5、13、14、16、17、24、34、36、38、40、43、46、49、51、55、59、61、63、64、71、73;
C.I.ピグメントバイオレット1(以下、「C.I.ピグメントバイオレット」は同様であり、番号のみを記載する。)、19、23、29、30、32、36、37、38、39、40、50;
C.I.ピグメントレッド1(以下、「C.I.ピグメントレッド」は同様であり、番号のみを記載する。)、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、14、15、16、17、18、19、21、22、23、30、31、32、37、38、40、41、42、48:1、48:2、48:3、48:4、49:1、49:2、50:1、52:1、53:1、57、57:1、57:2、58:2、58:4、60:1、63:1、63:2、64:1、81:1、83、88、90:1、97、101、102、104、105、106、108、112、113、114、122、123、144、146、149、150、151、155、166、168、170、171、172、174、175、176、177、178、179、180、185、187、188、190、192、193、194、202、206、207、208、209、215、216、217、220、223、224、226、227、228、240、242、243、245、254、255、264、265;
C.I.ピグメントブルー1(以下、「C.I.ピグメントブルー」は同様であり、番号のみを記載する。)、2、15、15:3、15:4、15:6、16、22、60、64、66;
C.I.ピグメントグリーン7、C.I.ピグメントグリーン36、C.I.ピグメントグリーン37;
C.I.ピグメントブラウン23、C.I.ピグメントブラウン25、C.I.ピグメントブラウン26、C.I.ピグメントブラウン28;
C.I.ピグメントブラック1、C.I.ピグメントブラック7。
特に、第1の態様のネガ型感光性樹脂組成物を使用してブラックマトリクスを形成する場合には、ブラックマトリクスの膜厚1μm当たりのOD値が4以上となるように、ネガ型感光性樹脂組成物における遮光剤の量を調整することが好ましい。ブラックマトリクスにおける膜厚1μm当たりのOD値が4以上あれば、液晶表示ディスプレイのブラックマトリクスに用いた場合に、十分な表示コントラストを得ることができる。
この場合、さらに光重合開始剤を含有すると、上記式(1)で表される化合物からの塩基の発生が促進されるため好ましい。すなわち、電磁波照射によって光重合開始剤からラジカルが発生すると、このラジカルによって上記式(1)で表される化合物が攻撃され、塩基の発生が促進される。また、上記式(1)で表される化合物から発生した塩基がラジカルを補足することにより、塩基発生反応の平衡が移動し、さらに塩基を発生するようになる。さらに、上記式(1)で表される化合物から発生した塩基とラジカル発生後の化合物とが反応し、塩基発生がさらに促進される。
第2の態様のネガ型感光性樹脂組成物は、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂、酸架橋性物質、光酸発生剤、上記式(1)で表される化合物、及び有機溶剤を含有する。
ポリヒドロキシスチレン系樹脂は、ヒドロキシスチレンに由来する構成単位を少なくとも有する。
ここで「ヒドロキシスチレン」とは、ヒドロキシスチレン、及びヒドロキシスチレンのα位に結合する水素原子がハロゲン原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基等の他の置換基に置換されたもの、並びにそれらの誘導体のヒドロキシスチレン誘導体(モノマー)を含む概念とする。
「ヒドロキシスチレン誘導体」は、少なくともベンゼン環とこれに結合する水酸基とが維持されており、例えば、ヒドロキシスチレンのα位に結合する水素原子が、ハロゲン原子、炭素数1〜5のアルキル基、ハロゲン化アルキル基等の他の置換基に置換されたもの、並びにヒドロキシスチレンの水酸基が結合したベンゼン環に、さらに炭素数1〜5のアルキル基が結合したものや、この水酸基が結合したベンゼン環に、さらに1〜2個の水酸基が結合したもの(このとき、水酸基の数の合計は2〜3である。)等を包含するものとする。
ハロゲン原子としては、塩素原子、フッ素原子、臭素原子等が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
なお、「ヒドロキシスチレンのα位」とは、特に断りがない限り、ベンゼン環が結合している炭素原子のことをいう。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
ハロゲン化アルキル基としては、上述した炭素数1〜5のアルキル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置換されたものである。この中でも、水素原子の全部がフッ素原子で置換されたものが好ましい。また、直鎖状又は分岐鎖状のフッ素化アルキル基が好ましく、トリフルオロメチル基、ヘキサフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基等がより好ましく、トリフルオロメチル基(−CF3)が最も好ましい。
Rb1としては、水素原子又はメチル基が好ましく、水素原子がより好ましい。
qは0〜2の整数である。これらの中でも0又は1であることが好ましく、工業上は特に0であることが好ましい。
Rb2の置換位置は、qが1である場合にはオルト位、メタ位、パラ位のいずれでもよく、さらに、qが2の場合には任意の置換位置を組み合わせることができる。
pは1〜3の整数であり、好ましくは1である。
水酸基の置換位置は、pが1である場合にはオルト位、メタ位、パラ位のいずれでもよいが、容易に入手可能で低価格であることからパラ位が好ましい。さらに、pが2又は3の場合には任意の置換位置を組み合わせることができる。
ここで「スチレンに由来する構成単位」とは、スチレン及びスチレン誘導体(但し、ヒドロキシスチレンは含まない。)のエチレン性二重結合が開裂してなる構成単位を包含するものとする。
「スチレン誘導体」は、スチレンのα位に結合する水素原子が、ハロゲン原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基等の他の置換基に置換されたもの、並びにスチレンのフェニル基の水素原子が、炭素数1〜5のアルキル基等の置換基に置換されているもの等を包含するものとする。
ハロゲン原子としては、塩素原子、フッ素原子、臭素原子等が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
なお、「スチレンのα位」とは、特に断りがない限り、ベンゼン環が結合している炭素原子のことをいう。
qは0〜2の整数である。これらの中でも0又は1であることが好ましく、工業上は特に0であることが好ましい。
Rb2の置換位置は、qが1である場合にはオルト位、メタ位、パラ位のいずれでもよく、さらに、qが2の場合には任意の置換位置を組み合わせることができる。
これらのフェノール類の中でも、m−クレゾール、p−クレゾールが好ましく、m−クレゾールとp−クレゾールとを併用することがより好ましい。この場合、両者の配合割合を調整することにより、感度等の諸特性を調整することができる。
これらの酸架橋性物質は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。
また、上記以外にも、下記式(c−3)で表される化合物が挙げられる。
Rc5としては芳香族性化合物基であることが特に好ましく、このような芳香族性化合物基としては、フェニル基、ナフチル基等の芳香族炭化水素基や、フリル基、チエニル基等の複素環基等が挙げられる。これらは環上に適当な置換基、例えばハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基等を1個以上有していてもよい。また、Rc6としては炭素数1〜6のアルキル基が特に好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が挙げられる。また、rは1〜3の整数が好ましく、1又は2がより好ましい。
これらの光酸発生剤は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。
これらの化合物は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。
有機溶剤の含有量は、第2の態様のネガ型感光性樹脂組成物の固形分濃度が1〜50質量%となる量が好ましく、5〜30質量%となる量がより好ましい。
第3の態様のネガ型感光性樹脂組成物は、感光性ポリイミド前駆体、光重合性モノマー、光重合開始剤、上記式(1)で表される化合物、及び有機溶剤を含有する。
この脂肪族ジアミンを用いる場合、その配合量は、全ジアミンのうち20モル%以下であることが、現像時の膨潤が少なく、また形成される膜の耐熱性等の点から好ましい。
光重合性モノマーの含有量は、感光性ポリイミド前駆体100質量部に対して5〜100質量部であることが好ましく、5〜40質量部であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、感度、現像性、解像性のバランスがとりやすい傾向がある。
光重合開始剤の含有量は、感光性ポリイミド前駆体100質量部に対して0.01〜40質量部であることが好ましい。上記の範囲とすることにより、十分な耐熱性、耐薬品性を得ることができ、また塗膜形成能を向上させ、硬化不良を抑制することができる。
有機溶剤の含有量は、第3の態様のネガ型感光性樹脂組成物の固形分濃度が1〜50質量%となる量が好ましく、5〜30質量%となる量がより好ましい。
第4の態様のネガ型感光性樹脂組成物は、ポリイミド前駆体、上記式(1)で表される化合物、及び有機溶剤を含有する。
ポリイミド前駆体としては、Re3及びRe4が水素原子であるようなポリアミック酸が、アルカリ現像性の点から好適に用いられる。
これらの酸二無水物は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。
これらのジアミンは、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。
有機溶剤の含有量は、第4の態様のネガ型感光性樹脂組成物の固形分濃度が1〜50質量%となる量が好ましく、5〜30質量%となる量がより好ましい。
第5の態様のネガ型感光性樹脂組成物は、エポキシ樹脂、上記式(1)で表される化合物、及び有機溶剤を含有する。
市販されているエポキシ樹脂製品としては、例えばジャパンエポキシレジン社製のJERコート828、1001、801N、806、807、152、604、630、871、YX8000、YX8034、YX4000、DIC社製のエピクロン830、EXA835LV、HP4032D、HP820、株式会社ADEKA製のEP4100シリーズ、EP4000シリーズ、EPUシリーズ、ダイセル社製のセロキサイドシリーズ(2021、2021P、2083、2085、3000等)、エポリードシリーズ、EHPEシリーズ、新日鐵化学社製のYDシリーズ、YDFシリーズ、YDCNシリーズ、YDBシリーズ、フェノキシ樹脂(ビスフェノール類とエピクロルヒドリンより合成されるポリヒドロキシポリエーテルで両末端にエポキシ基を有する;YPシリーズ等)、ナガセケムテックス社製のデナコールシリーズ、共栄社化学社製のエポライトシリーズ等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
これらのエポキシ樹脂は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。
有機溶剤の含有量は、第5の態様のネガ型感光性樹脂組成物の固形分濃度が1〜50質量%となる量が好ましく、5〜30質量%となる量がより好ましい。
第6の態様のネガ型感光性樹脂組成物は、エポキシ基含有ポリカルボン酸樹脂、光酸発生剤、上記式(1)で表される化合物、及び有機溶剤を含有する。
光酸発生剤の含有量は、第6の態様のネガ型感光性樹脂組成物の固形分に対して0.5〜30質量%であることが好ましく、1〜20質量%であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、ネガ型感光性樹脂組成物の硬化性が良好になる。
充填剤の含有量は、第6の態様のネガ型感光性樹脂組成物の固形分に対して60質量%以下であることが好ましく、5〜40質量%であることがより好ましい。
有機溶剤の含有量は、第6の態様のネガ型感光性樹脂組成物の固形分濃度が1〜50質量%となる量が好ましく、5〜30質量%となる量がより好ましい。
本発明に係るネガ型感光性樹脂組成物は、上記の各成分を撹拌機で混合することにより調製される。なお、調製されたネガ型感光性樹脂組成物が均一なものとなるよう、メンブランフィルタ等を用いて濾過してもよい。
本発明に係るパターン形成方法は、本発明に係るネガ型感光性樹脂組成物を用いて塗膜又は成形体を形成し、該塗膜又は成形体に対して所定パターン状に電磁波を照射し、現像するものである。
本発明に係る硬化膜、絶縁膜、及びカラーフィルタは、本発明に係るネガ型感光性樹脂組成物を用いて形成されたものである。
例えば、着色剤を含有しないネガ型感光性樹脂組成物を用いて塗膜を形成し、該塗膜に対して電磁波を照射及び/又は加熱することにより、透明な硬化膜や絶縁膜を得ることができる。このような硬化膜、絶縁膜は、例えば液晶表示ディスプレイや有機ELディスプレイ等の平坦化膜として、あるいは層間絶縁膜として用いられる。
なお、この硬化膜、絶縁膜は、パターン化されたものであってもよい。上記のように、塗膜に対して所定パターン状に電磁波を照射し、現像することにより、パターン化された硬化膜、絶縁膜を得ることができる。パターン化された硬化膜は、例えば液晶表示ディスプレイや有機ELディスプレイ等のスペーサ、隔壁として用いられる。
また、着色剤を含有するネガ型感光性樹脂組成物(特に第1の態様のネガ型感光性樹脂組成物)を用いて塗膜を形成し、該塗膜に対して所定パターン状に電磁波を照射し、現像することにより、例えば液晶表示ディスプレイのカラーフィルタの画素やブラックマトリクスを形成することもできる。
本発明に係る表示装置は、このような硬化膜、絶縁膜、カラーフィルタを備えるものである。表示装置としては、液晶表示ディスプレイや有機ELディスプレイ等が挙げられる。
上記式(1)で表される化合物としては、下記式で表される化合物1〜20を準備した。この化合物1〜20の合成法を下記に示す。また、比較のため、下記式で表される比較化合物1〜11を準備した。
3−(4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド5.90g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、ジエチルアミン2.41ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO3水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物1(4.65g,20mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は67%であった。
3−(4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド5.90g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、アニリン3.07ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO3水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物2(6.31g,25mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は83%であった。
3−(3−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド5.90g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、イミダゾール2.25ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO3水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物3(3.41g,15mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は50%であった。
3−(4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド5.90g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、モルホリン2.25ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO3水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物4(3.41g,15mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は50%であった。
4−メトキシ桂皮酸p−ニトロフェニルエステル10.78g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、モルホリン2.25ml(当量比1.1)を加え、室温で4時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO3水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物4(6.62g,15mmol)を得た。桂皮酸フェニルエステル基準の収率は97%であった。
3−(2−ニトロ−4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド7.25g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、イミダゾール2.25ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO3水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物5(4.08g,15mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は50%であった。
3−(3−ニトロ−4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド7.25g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、イミダゾール2.25ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO3水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物6(4.08g,15mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は50%であった。
2−メチル−3−(2−ニトロ−4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド7.67g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、イミダゾール2.25ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO3水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物7(4.29g,15mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は50%であった。
2−メチル−3−(3−ニトロ−4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド7.67g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、イミダゾール2.25ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO3水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物8(3.41g,15mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は50%であった。
3−(2−ニトロ−4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド7.25g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、ジエチルアミン2.41ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO3水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物9(5.55g,20mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は67%であった。
3−(3−ニトロ−4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド7.25g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、ジエチルアミン2.41ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO3水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物9(5.55g,20mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は67%であった。
2−メチル−3−(2−ニトロ−4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド7.67g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、ジエチルアミン2.41ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO3水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物11(5.83g,20mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は67%であった。
2−メチル−3−(3−ニトロ−4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド7.67g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、ジエチルアミン2.41ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO3水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物12(5.83g,20mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は67%であった。
3−(2−ニトロ−4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド7.25g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、ピペリジン2.81ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO3水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物13(5.62g,23mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は77%であった。
3−(3−ニトロ−4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド7.25g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、ピペリジン2.81ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO3水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物14(5.62g,23mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は67%であった。
2−メチル−3−(2−ニトロ−4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド7.67g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、ピペリジン2.81ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO3水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物15(5.83g,23mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は67%であった。
2−メチル−3−(3−ニトロ−4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド7.67g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、ピペリジン2.81ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO3水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物16(5.83g,23mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は67%であった。
3−(4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド5.90g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、ピペリジン2.81ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO3水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物17(3.41g,15mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は50%であった。
2−メチル−3−(4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド6.32g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、イミダゾール2.25ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO3水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物18(3.62g,15mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は50%であった。
2−メチル−3−(4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド6.32g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、ジエチルアミン2.41ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO3水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物19(4.93g,20mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は67%であった。
2−メチル−3−(4−メトキシフェニル)アクリル酸クロリド6.32g(30mmol)を50mlの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン4.59ml(当量比1.1)、アニリン3.07ml(当量比1.1)を加え、室温にて1時間撹拌した。水50ml、飽和NaHCO3水溶液50ml、及び1N塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物20(4.29g,25mmol)を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は83%であった。
これらの化合物1〜20、比較化合物1〜10について、吸収スペクトルのピークにおける波長(λmax)、λmaxにおけるグラム吸光係数を測定した。また、化合物1〜20、比較化合物1〜10のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PM)及びシクロヘキサノン(AN)に対する溶解性を確認した。結果を下記表1に示す。
[実施例1]
以下の各成分を混合し、3−メトキシブチルアセテート(MA)/プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PM)/シクロヘキサノン(AN)=60/20/20(質量比)の混合溶剤に溶解して、固形分濃度15質量%のネガ型感光性樹脂組成物を調製した。
・アルカリ可溶性樹脂
樹脂(A−1)(固形分55%、溶剤:3−メトキシブチルアセテート)・・・310質量部
・光重合性モノマー
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)・・・65質量部
・光重合開始剤
「OXE−02」(商品名:BASF社製)・・・15質量部
・上記式(1)で表される化合物
上記化合物1・・・5質量部
・着色剤
カーボン分散液「CFブラック」(商品名:御国色素社製 固形分25% 溶剤:3−メトキシブチルアセテート)・・・1200質量部
まず、500ml四つ口フラスコ中に、ビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂(エポキシ当量235)235g、テトラメチルアンモニウムクロライド110mg、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール100mg、及びアクリル酸72.0gを仕込み、これに25ml/分の速度で空気を吹き込みながら90〜100℃で加熱溶解した。次に、溶液が白濁した状態のまま徐々に昇温し、120℃に加熱して完全溶解させた。この際、溶液は次第に透明粘稠になったが、そのまま撹拌を継続した。この間、酸価を測定し、1.0mgKOH/g未満になるまで加熱撹拌を続けた。酸価が目標値に達するまで12時間を要した。そして室温まで冷却し、無色透明で固体状の下記式(a−4)で表されるビスフェノールフルオレン型エポキシアクリレートを得た。
なお、この樹脂(A−1)は、上記式(a−1)で表される化合物に相当する。
化合物1の代わりにそれぞれ上記化合物2〜20、比較化合物1〜10を用いたほかは、実施例1と同様にしてネガ型感光性樹脂組成物を調製した。
実施例1〜20、比較例1〜10のネガ型感光性樹脂組成物を、ガラス基板(100mm×100mm)上にスピンコーターを用いて塗布し、90℃で120秒間プリベークを行い、膜厚1.0μmの塗膜を形成した。次いで、ミラープロジェクションアライナー(製品名:TME−150RTO、株式会社トプコン製)を使用し、露光ギャップを50μmとして、20μmのラインパターンの形成されたネガマスクを介して、塗膜に紫外線を照射した。露光量は、20,40,60,120mJ/cm2の4段階とした。露光後の塗膜を、26℃の0.04質量%KOH水溶液で40秒間現像後、230℃にて30分間ポストベークを行うことにより、ラインパターンを形成した。
同様に、2,5,10,20μmのラインパターンの形成されたネガマスクを介して、露光ギャップ50μmにて、塗膜に紫外線を照射した。露光量は10mJ/cm2とした。露光後の塗膜を、26℃の0.04質量%KOH水溶液で40秒間現像後、230℃にて30分間ポストベークを行うことにより、ラインパターンを形成した。
また、ラインパターンを光学顕微鏡により観察し、パターン直進性を評価した。パターン直進性は、ラインのエッジにがたつきがないものを「良好」、がたつきがあるものを「不良」として評価した。
また、ラインパターンを光学顕微鏡により観察し、パターン密着性を評価した。パターン密着性は、基板から剥がれずラインパターンが形成されたものを「良好」、基板から剥がれてラインパターンが形成されなかったものを「なし」として評価した。
さらに、現像後の未露光部における残渣の有無について評価した。
結果を下記表2〜5に示す。
特に、比較例6のネガ型感光性樹脂組成物に含有される比較化合物6は、密着増強剤として知られているアミン系シランカップリング剤であるが、10mJ/cm2という低露光量では、20μmのラインパターンも基板に密着しなかった。
また、比較例7〜10の感光性樹脂組成物に含有される比較化合物7〜10は、化合物1〜4のベンゼン環のオルト位に水酸基が結合したものであるが、20mJ/cm2という低露光量では直進性に劣るラインパターンしか形成することができなかった。また、10mJ/cm2という低露光量では、10μm以上のラインパターンしか基板に密着しなかった。
以下の各成分を混合し、3−メトキシブチルアセテート(MA)/プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PM)/シクロヘキサノン(AN)=60/20/20(質量比)の混合溶剤に溶解して、固形分濃度15質量%のネガ型感光性樹脂組成物を調製した。
・アルカリ可溶性樹脂
樹脂(A−2)(グリシジルメタクリレート/メタクリル酸/トリシクロデシルメタクリレート=72/18/10(質量比)、質量平均分子量14000)・・・66質量部
・光重合性モノマー
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)・・・33質量部
・光重合開始剤
「OXE−02」(商品名:BASF社製)・・・2質量部
・上記式(1)で表される化合物
上記化合物1・・・1質量部
化合物1の代わりにそれぞれ上記化合物2〜20、比較化合物1〜10を用いたほかは、実施例21と同様にしてネガ型感光性樹脂組成物を調製した。
実施例21〜40、比較例11〜20のネガ型感光性樹脂組成物を、ガラス基板(100mm×100mm)上にスピンコーターを用いて塗布し、90℃で120秒間プリベークを行い、膜厚1.0μmの塗膜を形成した。次いで、ミラープロジェクションアライナー(製品名:TME−150RTO、株式会社トプコン製)を使用し、露光ギャップを50μmとして、20μmのラインパターンの形成されたネガマスクを介して、塗膜に紫外線を照射した。露光量は、20,40,60,120mJ/cm2の4段階とした。露光後の塗膜を、26℃の0.04質量%KOH水溶液で40秒間現像後、230℃にて30分間ポストベークを行うことにより、ラインパターンを形成した。
同様に、2,5,10,20μmのラインパターンの形成されたネガマスクを介して、露光ギャップ50μmにて、塗膜に紫外線を照射した。露光量は20mJ/cm2とした。露光後の塗膜を、26℃の0.04質量%KOH水溶液で40秒間現像後、230℃にて30分間ポストベークを行うことにより、ラインパターンを形成した。
また、ラインパターンを光学顕微鏡により観察し、パターン密着性を評価した。パターン密着性は、基板から剥がれずラインパターンが形成されたものを「良好」、基板から剥がれてラインパターンが形成されなかったものを「なし」として評価した。
さらに、現像後の未露光部における残渣の有無について評価した。
結果を下記表6〜9に示す。
特に、比較例16のネガ型感光性樹脂組成物に含有される比較化合物6は、密着増強剤として知られているアミン系シランカップリング剤であるが、20mJ/cm2という低露光量では、20μmのラインパターンも基板に密着しなかった。
また、比較例17〜20のネガ型感光性樹脂組成物に含有される比較化合物7〜10は、化合物1〜4のベンゼン環のオルト位に水酸基が結合したものであるが、20mJ/cm2という低露光量では直進性に劣るラインパターンしか形成することができなかった。また、20mJ/cm2という低露光量では、10μm又は20μm以上のラインパターンしか基板に密着しなかった。
ポリp−ヒドロキシスチレン(質量平均分子量2500)50質量部、p−ヒドロキシスチレン/スチレン=85/15(モル比)の共重合体(質量平均分子量2500)50質量部、及びメラミン樹脂であるニカラックMW−100LM(三和ケミカル社製)15質量部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート247質量部に溶解し、これに光酸発生剤としてのα−(メチルスルホニルオキシイミノ)−1−フェニルアセトニトリル15質量部及び2,3,3’,4,4’,5’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン3.0質量部を溶解し、さらに上記化合物1を固形分中3質量%となるように添加し、ネガ型感光性樹脂組成物を調製した。
上記化合物1を固形分中8質量%となるように添加したほかは、実施例41と同様にしてネガ型感光性樹脂組成物を調製した。
上記化合物1の代わりに上記化合物3を用いたほかは、実施例41と同様にしてネガ型感光性樹脂組成物を調製した。
上記化合物3を固形分中8質量%となるように添加したほかは、実施例43と同様にしてネガ型感光性樹脂組成物を調製した。
上記化合物1の代わりに上記化合物7を用いたほかは、実施例41と同様にしてネガ型感光性樹脂組成物を調製した。
上記化合物7を固形分中8質量%となるように添加したほかは、実施例45と同様にしてネガ型感光性樹脂組成物を調製した。
上記化合物1を添加しなかったほかは、実施例41と同様にしてネガ型感光性樹脂組成物を調製した。
実施例41〜46、比較例21のネガ型感光性樹脂組成物を、スピンナーを用いて6インチシリコン基板上に塗布し、ホットプレート上で110℃にて90秒間乾燥することにより、膜厚3.0μmの塗膜を形成した。次いで、縮小投影露光装置(製品名:NSR−2005i10D、ニコン社製)を用いて、0.50,0.55,0.60,0.65,0.70μmのラインパターンの形成されたネガマスクを介して、塗膜にi線光を選択的に照射した。露光量は100mJ/cm2とした。露光後の塗膜を110℃にて90秒間加熱した後、2.38重量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で65秒間現像処理し、30秒間水でリンスした後、乾燥した。
また、ラインパターンを走査型電子顕微鏡(SEM)により観察し、パターン形状を評価した。パターン形状は、基板に対して垂直な矩形のパターンが形成されているものを「良好」、パターン上部の先細り現象や側面の波打ち現象が生じているものを「不良」として評価した。
さらに、現像後の未露光部における残渣の有無について評価した。
結果を下記表10,11に示す。
撹拌機、温度計、及び窒素導入管を備えた三口フラスコに感光性ポリイミド前駆体35.0gとN−メチルピロリドン50.0gとp−メトキシフェノール0.1g(0.08mmol)とを撹拌混合し溶解させた。次いで、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール2.0g(0.03mmol)、2−メルカプトベンゾオキサゾール1.0g(0.66mmol)、及びエチルミヒラーズケトン0.2g(0.06mmol)の感光剤と、付加重合性化合物として1,6−ヘキサンジオールジアクリレート7.0g(3.1mmol)を加え、さらに上記化合物1を固形分中3質量%となるように添加し、室温下にて一昼夜撹拌溶解後、フィルタ濾過してネガ型感光性樹脂組成物を調製した。
乾燥窒素下に100mlの乾燥N−メチルピロリドン中の15.27g(0.070mol)のピロメリット酸二無水物の撹拌溶液に1.30g(0.010mol)の2−ヒドロキシエチルメタクリレートを加えた。溶液を室温で1時間、35℃で1時間撹拌した後、室温まで冷却した。この反応溶液を100mlの乾燥N−メチルピロリドン中の8.49g(0.040mol)の3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル及び0.25g(0.001mol)の1,3−ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサンの溶液の撹拌溶液に1時間に亘り滴下添加し、室温で一夜撹拌した。その後、100mlの乾燥N−メチルピロリドン中の26.82g(0.130mol)のN,N−ジシクロヘキシルカルボジイミドの溶液を30分間に亘り、反応溶液に撹拌しながら滴下添加した。この反応溶液に対し、45.55g(0.35mol)の2−ヒドロキシエチルメタクリレートを加え、50℃で5時間、室温で一夜撹拌した。この反応混合物を50mlのアセトンで希釈し、吸引濾過により不要物を除いた濾液を2.0リットルのイオン交換水にて激しく撹拌しながら処理した。析出した固形物をイオン交換水で洗浄し、さらにメタノールで洗浄し、濾過フィルタ上で吸引乾燥し、室温にて水分含有率が1.0質量%より少なくなるまで減圧乾燥し、感光性ポリイミド前駆体を得た。
上記化合物1を固形分中8質量%となるように添加したほかは、実施例47と同様にしてネガ型感光性樹脂組成物を調製した。
上記化合物1の代わりに上記化合物3を用いたほかは、実施例47と同様にしてネガ型感光性樹脂組成物を調製した。
上記化合物3を固形分中8質量%となるように添加したほかは、実施例49と同様にしてネガ型感光性樹脂組成物を調製した。
上記化合物1の代わりに上記化合物7を用いたほかは、実施例47と同様にしてネガ型感光性樹脂組成物を調製した。
上記化合物7を固形分中8質量%となるように添加したほかは、実施例51と同様にしてネガ型感光性樹脂組成物を調製した。
上記化合物1を添加しなかったほかは、実施例47と同様にしてネガ型感光性樹脂組成物を調製した。
実施例47〜52、比較例22のネガ型感光性樹脂組成物を、6インチシリコン基板上にスピンコートした後に乾燥して、5.0±1.0μmの塗膜を形成した。次いで、ミラープロジェクションアライナー(製品名:MPA−600FA、キヤノン社製)を用いて、5.5,6.0,6.5,7.0,8.0μmのラインパターンの形成されたネガマスクを介して、塗膜に紫外線を照射した。露光量は500mJ/cm2とした。次いで、1時間遮光箱内にて放置した後、ホットプレートにて120℃で60秒間加熱した。その後、2.38質量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて、未露光部分が除去されるのに要する現像時間の1.2倍の時間にてパドル現像し、水でリンスした後、乾燥した。
また、ラインパターンを走査型電子顕微鏡(SEM)により観察し、パターン形状を評価した。パターン形状は、基板に対して垂直な矩形のパターンが形成されているものを「良好」、パターン上部の先細り現象や側面の波打ち現象が生じているものを「不良」として評価した。
さらに、現像後の未露光部における残渣の有無について評価した。
結果を下記表12,13に示す。
100質量部のポリイミド前駆体、15質量部の上記化合物1、及び843質量部のN−メチル−2−ピロリドンを混合し、ネガ型感光性樹脂組成物を調製した。
ジ(4−アミノフェニル)エーテル10.0g(50mmol)を300mLの3つ口フラスコに投入し、105.4mLの脱水されたN,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)に溶解させ、窒素気流下、氷浴で冷却しながら撹拌した。そこへ、少しずつ3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物14.7g(50mmol)を添加し、添加終了後、氷浴中で5時間撹拌し、その溶液を、脱水されたジエチルエーテルによって再沈殿し、その沈殿物を室温で減圧下、17時間乾燥し、質量平均分子量10000のポリアミド酸(ポリイミド前駆体)を白色固体として定量的に得た。
上記化合物1の代わりにそれぞれ上記化合物3,7,13、比較化合物11,2,7を用いたほかは、実施例53と同様にしてネガ型感光性樹脂組成物を調製した。
実施例53〜56、比較例23〜25のネガ型感光性樹脂組成物を、クロムめっきされたガラス基板上に最終膜厚4μmになるようにスピンコートし、80℃のホットプレート上で10分間乾燥させて塗膜を得た。次いで、ミラープロジェクションアライナー(製品名:MPA−600FA、キヤノン社製)を用いて、20μmのラインパターンの形成されたネガマスクを介して、塗膜に紫外線を照射した。露光量は、100,200,300,400,500mJ/cm2の5段階とした。露光後の塗膜を、140℃のホットプレート上で10分間加熱(露光後加熱)した後、2.38質量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液とイソプロパノールとを9:1の体積比で混合した現像液に浸漬して現像し、350℃で1時間ポストベークを行ってイミド化することにより、ラインパターンを形成した。
また、ラインパターンを光学顕微鏡により観察し、パターン直進性を評価した。パターン直進性は、ラインのエッジにがたつきがないものを「良好」、がたつきがあるものを「不良」として評価した。
さらに、現像後の未露光部における残渣の有無について評価した。
結果を下記表14,15に示す。
100質量部のエポキシ樹脂(YP50EK35(フェノキシ樹脂)、35質量%メチルエチルケトン溶液、新日鐵化学社製)及び10質量部の上記化合物1を混合し、ネガ型感光性樹脂組成物を調製した。
上記化合物1の代わりにそれぞれ上記化合物3,7,13、比較化合物11,2,7を用いたほかは、実施例57と同様にしてネガ型感光性樹脂組成物を調製した。
実施例57〜60、比較例26〜28のネガ型感光性樹脂組成物を、ガラス基板上に最終膜厚0.5μmになるようにスピンコートし、80℃のホットプレート上で15分間乾燥させて塗膜を得た。次いで、ミラープロジェクションアライナー(製品名:MPA−600FA、キヤノン社製)を用いて、20μmのラインパターンの形成されたネガマスクを介して、塗膜に紫外線を照射した。露光量は、60,70,80,90,100mJ/cm2の5段階とした。露光後の塗膜を、150℃のホットプレート上で30分間加熱(露光後加熱)した後、イソプロパノールとクロロホルムとを4:1の体積比での混合した現像液に浸漬して現像し、ラインパターンを形成した。
また、ラインパターンを光学顕微鏡により観察し、パターン直進性を評価した。パターン直進性は、ラインのエッジにがたつきがないものを「良好」、がたつきがあるものを「不良」として評価した。
さらに、現像後の未露光部における残渣の有無について評価した。
結果を下記表18,19に示す。
以下の各成分(質量部は固形分換算)を3本ロールミルで混練し、ネガ型感光性樹脂組成物を調製した。
・エポキシ基含有ポリカルボン酸樹脂
樹脂(F−1)・・・58.3質量部
・光酸発生剤
「PCI−220」(商品名:日本化薬社製)・・・4.2質量部
・上記式(1)で表される化合物
上記化合物1・・・4質量部
・増感剤
2−エチル−9,10−ジメトキシアントラセン・・・0.4質量部
・改質成分
「YX−4000」(商品名:油化シェルエポキシ社製、エポキシ化合物)・・・25.1質量部
「Cymel300」(商品名:日本サイテック社製、メラミン樹脂)・・・11.7質量部
・充填剤
「Silbond 800EST」(商品名:白石カルシウム社製、表面処理球状シリカ)・・・25.0質量部
「B−30」(商品名:堺化学工業社製、硫酸バリウム)・・・25.0質量部
「SG−2000」(商品名:日本タルク社製、タルク)・・・5.8質量部
・添加剤
「Heliogen Green」(商品名:山本通産社製、顔料)・・・1.4質量部
「BYK−354」(商品名:ビックケミー社製、レベリング剤)・・・1.6質量部
「BYK−057」(商品名:ビックケミー社製、消泡剤)・・・1.6質量部
ビフェニルジメチレン−ヒドロキシフェニレンとエピクロルヒドリンとの反応で得られたエポキシ樹脂(日本化薬社製、NC−3000PL、エポキシ当量274、軟化点57.3℃)211.2g、ジメチロールプロピオン酸72.4g、カルビトールアセテート
70.9g、トリフェニルフォスフィン0.71gを仕込み、100℃に加熱し、反応液の酸価が1mgKOH/g以下になるまで反応させた。反応時間は24時間であった。次いで、この反応液にパークミルH80(日本油脂社製、過酸化物)を0.51g仕込み、約2時間撹拌して、反応触媒であるトリフェニルフォスフィンを酸化させ不活性化させた。その後、テトラヒドロ無水フタル酸66.4g、カルビトールアセテート117.6gを仕込み、95℃で4時間反応させ、樹脂(F−1)を得た。樹脂(F−1)の酸価は70mgKOH/gであった。
上記化合物1の代わりにそれぞれ上記化合物3,7,13を用いたほかは、実施例61と同様にしてネガ型感光性樹脂組成物を調製した。
上記化合物1を配合しなかったほかは、実施例61と同様にしてネガ型感光性樹脂組成物を調製した。
樹脂(F−1)の配合量を57.9質量部とし、2−エチル−9,10−ジメトキシアントラセンの配合量を0.8質量部とし、「Cymel300」の配合量を11.6質量部としたほかは、比較例29と同様にしてネガ型感光性樹脂組成物を調製した。
樹脂(F−1)の配合量を57.0質量部とし、「PCI−220」の配合量を4.1質量部とし、2−エチル−9,10−ジメトキシアントラセンの配合量を2.1質量部とし、「Cymel300」の配合量を11.4質量部としたほかは、比較例29と同様にしてネガ型感光性樹脂組成物を調製した。
実施例61〜64、比較例29〜31のネガ型感光性樹脂組成物を、スクリーン印刷法により、100メッシュのステンレススクリーンを用いて25μmの厚さになるように、パターン形成されている銅張積層板に全面塗布し、塗膜を80℃の熱風乾燥器で30分間乾燥させた。次いで、35μm、40μm、45μm、50μm、60μmのラインパターンの形成された石英マスクを塗膜に密着させ、紫外線露光装置(製品名:EXM−1066、オーク製作所社製)を用いて、塗膜に紫外線を照射した。露光量は500mJ/cm2とした。次いで、熱風乾燥器で露光後ベーク処理を行った後、25℃の1%炭酸ナトリウム水溶液で60秒間、2kg/cm2のスプレー圧で現像し、未露光部分を溶解除去した。その後、150℃の熱風乾燥器で60分間加熱硬化を行った。
また、ラインパターンを走査型電子顕微鏡(SEM)により観察し、パターン形状を評価した。パターン形状は、矩形形状であり、テーパーや現像による食い込みがないものを「良好」、テーパーや現像による食い込みがあるものを「不良」として評価した。
さらに、現像後の未露光部における残渣の有無について評価した。
結果を下記表20,21に示す。
以下の各成分を混合し、3−メトキシブチルアセテート(MA)/シクロヘキサノン(AN)/プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PM)=20/70/10(質量比)の混合溶剤に溶解して、固形分濃度20質量%の樹脂組成物を調製した。
・アルカリ可溶性樹脂
上記樹脂(A−1)・・・4.2質量部
・上記式(1)で表される化合物
上記化合物3・・・0.57質量部
上記化合物3の配合量を0.285質量部とし、光重合開始剤として1−〔9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−エタン−1−オンオキシム−O−アセタート(商品名IRGACURE OXE 02、BASF社製)を0.285質量部配合したほかは、実施例65と同様にして樹脂組成物を調製した。
上記樹脂(A−1)の代わりに、ベンジルメタクリレート/アクリル酸=45/55(質量比)の共重合体に、15質量%の3,4−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレートを反応させて得られた樹脂(A−3)(質量平均分子量4000、分散度1.6)を用いたほかは、実施例65,66と同様にして樹脂組成物を調製した。
上記化合物3を配合しなかったほかは、実施例65〜68と同様にして樹脂組成物を調製した。
実施例65〜68、比較例32〜35の樹脂組成物を、ガラス基板(コーニング社製、Eagle−XG)上にスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレート上で100℃又は130℃にて120秒間ベークを行い、膜厚2.0μmの塗膜を形成した。次いで、この塗膜を2.38質量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液中に浸漬し、塗膜が溶解除去されるまでの時間を測定した。
結果を下記表22に示す。
Claims (11)
- 下記式(1)で表される化合物を含有するネガ型感光性樹脂組成物。
- さらに、カルド構造を有する樹脂、フェノール性水酸基を有する樹脂、ポリイミド樹脂、及びエポキシ樹脂よりなる群から選択される樹脂を含有する請求項1記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- さらに、アルカリ可溶性樹脂、光重合開始剤、及び有機溶剤を含有する請求項1記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- さらに、光重合性モノマーを含有する請求項3記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- さらに着色剤を含有する請求項3又は4記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- 前記着色剤が遮光剤である請求項5記載のネガ型感光性樹脂組成物。
- 請求項1から6のいずれか1項記載のネガ型感光性樹脂組成物を用いて塗膜又は成形体を形成し、該塗膜又は成形体に対して所定パターン状に電磁波を照射し、現像するパターン形成方法。
- 請求項1から4のいずれか1項記載のネガ型感光性樹脂組成物を用いて形成された硬化膜。
- 請求項1から4のいずれか1項記載のネガ型感光性樹脂組成物を用いて形成された絶縁膜。
- 請求項5又は6記載のネガ型感光性樹脂組成物を用いて形成されたカラーフィルタ。
- 請求項8記載の硬化膜、請求項9記載の絶縁膜、又は請求項10記載のカラーフィルタを備える表示装置。
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