JP5071803B2 - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
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Description
本発明の感光性樹脂組成物で用いられる光塩基発生剤は、光の照射により、脱炭酸反応を伴うことなく塩基のアミン化合物を発生することを特徴とする。具体的には、本発明の感光性樹脂組成物で用いられる光塩基発生剤は、下記一般式(1)で表される。
本発明で用いられる塩基反応性樹脂としては、上記光塩基発生剤から生ずるアミン化合物と反応するものであればよく、特に限定されない。従来公知のレジスト組成物や光硬化樹脂に利用されている塩基反応性樹脂が用いられる。以下、本発明の感光性樹脂組成物に用いられる塩基反応性樹脂の例を、化学式(a1)〜(a10)に示す。
本発明のパターン形成方法は、上述した光塩基発生剤と、塩基反応性樹脂と、を含む感光性樹脂組成物を用いることを特徴とする。例えば、この感光性樹脂組成物を有機溶媒に溶解して塗布液を作製し、この塗布液を基板等の支持体上に塗布し、乾燥して塗膜を形成する。次いで、この塗膜に対してパターン露光を行い、塩基を発生させる。続いて、加熱処理を行い、塩基反応性樹脂の反応を進行させる。反応終了後、露光部と未露光部とで溶解度に差が生じる溶媒(現像液)中に浸漬して現像を行うことにより、所定形状の硬化樹脂パターンが得られる。
o−ヒドロキシ−trans−桂皮酸1.8g、シクロヘキシルアミン0.99g、縮合剤の1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(以下、EDC)2.1gを、溶媒のTHF中に溶解させ、室温で15時間、反応させた。反応終了後、クロロホルムで希釈し、有機層を希塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒除去し、クロロホルムで再結晶することにより、白色結晶を得た。収率は46%であり、得られた白色結晶の融点(分解点)はDSC測定の結果、240〜241℃で非常に高温であったことから、高温耐性に優れたものであると考えられた。得られた白色結晶の同定は、1H−NMR、IR、UV、元素分析により行った。
IR(KBr,cm−1):3300(νO−H)、3100,2900,2850(νC−H)、1650(νCO−NH)、1550(νC−H)。
λmax(nm):270(methanol)。
C15H19NO2としての計算値=C:73.4%,H:7.81%,N:5.71%、分析値=C:73.5%,H:8.00%,N:5.70%。
o−ヒドロキシ−trans−桂皮酸3.6g、1,3−ジ−4−ピペリジルプロパン2.0g、縮合剤のEDC2.1gを、THF/ジクロロメタン混合溶媒中に溶解させ、室温で15時間、反応させた。反応終了後、クロロホルムで希釈し、有機層を希塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒除去し、クロロホルムで再結晶することにより、白色結晶を得た。収率は11%であった。得られた白色結晶の融点(分解点)はDSC測定の結果、241℃で非常に高温であったことから、高温耐性に優れたものであると考えられた。得られた白色結晶の同定は、1H−NMR、IRにより行った。
13C−NMR(75MHz,DMSO−d6)δ(ppm)=27.86,30.40,39.34,40.40(CH2)、116.97(CH)、120.69,121.76,123.16,129.73,131.79,137.44(ArH)、157.84(CH)、169.25(C=O)。
IR(KBr,cm−1):3400(νO−H)、2900,2850(νC−H)、1630(νCO−NH)、1560(νC−H)。
C31H38N2O4としての計算値=C:74.07%,H:7.62%,N:5.57%、分析値=C:74.13%,H:7.58%,N:5.30%。
o−ヒドロキシ−trans−桂皮酸2.1g、ヘキサメチレンジアミン1.2g、縮合剤のEDC4.3gを、溶媒のDMF中に溶解させ、室温で24時間、反応させた。反応終了後、クロロホルムで希釈し、有機層を希塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒除去し、クロロホルムで再結晶することにより、白色結晶を得た。収率は16%であり、得られた白色結晶の融点(分解点)はDSC測定の結果、220℃で非常に高温であったことから、高温耐性に優れたものであると考えられた。得られた白色結晶の同定は、1H−NMR、13C−NMR、IR、元素分析により行った。
13C−NMR(75MHz,DMSO−d6)δ(ppm)=27.86,30.40,39.34,40.40(CH2)、116.97(CH)、120.69,121.76,123.16,129.73,131.79,137.44(ArH)、157.84(CH)、169.25(C=O)。
IR(KBr,cm−1):3330(νN−H)、3080(νO−H)、2940(νC−H)、2880(νC−H)、1650(νC=O)、860(νC−N)。
C24H28N2O4としての計算値=C:70.58%,H:6.91%,N:6.86%、分析値=C:69.87%,H:6.75%,N:7.04%。
o−ヒドロキシ−trans−桂皮酸2.1g、1,3−ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン1.7mL、縮合剤のEDC4.3gを、溶媒のDMF中に溶解させ、室温で24時間、反応させた。反応終了後、クロロホルムで希釈し、有機層を希塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒除去し、クロロホルムで再結晶することにより、白色結晶を得た。収率は31%であり、得られた白色結晶の融点(分解点)はDSC測定の結果、226℃で非常に高温であったことから、高温耐性に優れたものであると考えられた。得られた白色結晶の同定は、1H−NMR、29Si−NMR、IR、元素分析により行った。
29Si−NMR(99MHz,DMSO−d6)δ(ppm)=−8.44。
IR(KBr,cm−1):3330(νN−H)、3080(νO−H)、2950(νC−H)、2870(νC−H)、1650(νC=O)、1400(νSi−CH3)、1100(νSi−O−Si)、880(νC−N)。
C24H28N2O4としての計算値=C:61.89%,H:7.64%,N:5.25%、分析値=C:62.19%,H:7.46%,N:5.18%。
合成例1で得られた光塩基発生剤について、溶液中における光分解挙動に関する検討を行った。具体的には、先ず、合成例1で得られた光塩基発生剤を、濃度が3.7×10−5mol/lとなるようにメタノール中に溶解させた溶液を調製した。次いで、調製した溶液に対して、254nmの光を照射した後、溶液のUVスペクトル測定を実施した。光の照射量を段階的に変化させたときのUVスペクトルの変化を図1に示した。
合成例1で得られた光塩基発生剤について、固体中における光分解挙動に関する検討を行った。具体的には、ポリグリシジルメタクリレート(PGMA)に対して、合成例1で得られた光塩基発生剤を20質量%含むTHF溶液を調製し、Siウエハ上にキャストした。これを、100℃のホットプレートで1分、プリベークすることにより、厚さ0.8μmの膜を得た。得られた膜に対して、254nmの光を照射した後、膜のUVスペクトル測定を実施した。光の照射量を段階的に変化させたときのUVスペクトルの変化を図2に示した。
合成例1、3、及び4で得られた各光塩基発生剤について、各種溶剤に対する溶解性を調べた。具体的には、光塩基発生剤0.01gに対して、1ml未満の溶剤で容易に溶解できるものを++、1〜5mlの溶剤で溶解できるものを+、5〜10mlの溶剤にわずかに溶解するものを−、10mlを超える溶剤量でも溶解できないものを−−として評価した。その結果を表1に示す。表1に示されるように、合成例1、3、及び4で得られた各光塩基発生剤のうち、合成例4で得られた光塩基発生剤IVが特に溶解性に優れており、様々なアプリケーションへの応用が可能であることが分かった。
PGMAに対して、合成例1で得られた光塩基発生剤を20質量%含むTHF溶液を調製し、Siウエハ上に3000rpmで30秒、スピンキャストした。これを、100℃のホットプレートで1分、プリベークすることにより、厚さ0.8μm〜1.0μmの未硬化膜を得た。得られた未硬化膜の一部にマスクを配置し、マスク上から254nmの光を60J/cm2照射した。照射後、マスクを除去し、140℃で所定時間、加熱処理を行った。加熱時間は、2.5分、5分、7.5分の3水準とした。このときの露光部分のIRスペクトル(800〜1100cm−1)を図3に示した。また、900cm−1付近におけるエポキシ基由来のピーク面積比と加熱時間との関係を図4に示した。
実施例1と同様の操作を行い、実施例1と同様の未硬化膜を得た。得られた未硬化膜の一部にマスクを配置し、マスク上から254nmの光を所定量、照射した。次いで、THFで30秒、現像処理して得られた膜の厚さを測定し、感度評価を行った。感度評価は、加熱温度依存性と加熱時間依存性の観点から行った。加熱温度依存性については、加熱時間を10分に固定し、加熱温度を100℃、120℃、140℃の3水準で行った。また、加熱時間依存性については、加熱温度を120℃に固定し、5分、10分、15分の3水準で行った。その結果を図5、6に示した。
合成例1で得られた光塩基発生剤の代わりに合成例2で得られた光塩基発生剤を用い、THF溶液の代わりに1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール(以下、HFIPという)を用いた以外は、実施例2と同様の操作を行い、未硬化膜を得た。得られた未硬化膜に対して、実施例2と同様に、一部にマスクを介した露光、現像処理を行い、感度評価を行った。その結果を図7、8に示した。
PGMA(Mw=28000、Mw/Mn=3.4)モノマーユニットに対して、合成例1〜4で得られた各光塩基発生剤I〜IVを各6.3mol%配合したHFIP溶液をそれぞれ調製し、Siウエハ上に3000rpmで30秒、スピンキャストした。これらを、100℃のホットプレートで1分、プリベークすることにより、厚さ0.7μmの未硬化膜を得た。得られた未硬化膜の一部にマスクを配置し、マスク上から254nm又は365nmの光を照射した。次いで、マスクを除去し、100℃で15分間、加熱処理を行った後、THFによる30秒間の現像処理を実施した。
PGMA(Mw=28000、Mw/Mn=3.4)モノマーユニットに対して、合成例4で得られた光塩基発生剤IVを6.3mol%、塩基増殖剤(BA)の1,3−ビス[1−(9−フルオレニルメトキシカルボニル)−4−ピペリジル]プロパンを所定量配合したHFIP溶液を調製し、Siウエハ上に3000rpmで30秒、スピンキャストした。これを、100℃のホットプレートで1分、プリベークすることにより、厚さ0.6μmの未硬化膜を得た。得られた未硬化膜の一部にマスクを配置し、マスク上から365nmの光を照射した。次いで、マスクを除去し、100℃で所定時間、加熱処理を行った後、THFによる30秒間の現像処理を実施した。
ポリメタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(以下、PMASという)0.1gと、PMASに対して30質量%の光塩基発生剤IV(2.5×10−4mol)、又は従来型の光塩基発生剤であるオルトニトロベンジルエステル(2.5×10−4mol)をTHF1.5gに溶解させた。この溶液をそれぞれガラス基板上に2滴滴下し、60℃のホットプレートで1分間プリベークし、ガラス基板で蓋をし、隙間をテフロン(登録商標)シートで塞いで膜を作製した。それぞれの膜に、Hg−Xeランプを用いて400秒間、光照射し、気泡発生の有無を調べた。光照射後の外観を図15(従来型)及び図16(光塩基発生材IV)に示した。
Claims (6)
- 塩基反応性樹脂と、下記一般式(1)で表される光塩基発生剤と、を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。
- 前記一般式(1)において、Zが下記一般式(z1)で表される基であることを特徴とする請求項1記載の感光性樹脂組成物。
- 前記一般式(1)において、Zが下記一般式(z2)で表される基であることを特徴とする請求項1記載の感光性樹脂組成物。
- 前記一般式(1)で表される光塩基発生剤が、下記化学式(II)、下記化学式(III)、又は下記化学式(IV)で表されるものであることを特徴とする請求項1記載の感光性樹脂組成物。
- 前記塩基反応性樹脂が、エポキシ樹脂、含ケイ素樹脂、及びポリアミド酸樹脂よりなる群から選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする請求項1から4いずれか記載の感光性樹脂組成物。
- 請求項1から5いずれか記載の感光性樹脂組成物を支持体上に塗布し、乾燥させてから所定のパターン露光をした後、加熱処理して現像することにより、所定形状の硬化樹脂パターンを得ることを特徴とするパターン形成方法。
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