JPH08127572A - 反応性基含有型ハロゲン置換メチルオキサジアゾール化合物 - Google Patents
反応性基含有型ハロゲン置換メチルオキサジアゾール化合物Info
- Publication number
- JPH08127572A JPH08127572A JP7040262A JP4026295A JPH08127572A JP H08127572 A JPH08127572 A JP H08127572A JP 7040262 A JP7040262 A JP 7040262A JP 4026295 A JP4026295 A JP 4026295A JP H08127572 A JPH08127572 A JP H08127572A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- formula
- substituted
- carbon atoms
- halogen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
Abstract
ゲン置換メチルオキサジアゾール)化合物の、新規な合
成中間体を提供する。 【構成】 下記式(I)で表される反応性基含有型ハロ
ゲン置換メチルオキサジアゾール化合物。 〔式中、R1は−OH、−CO2H、−Clなど、R2
及びR3は水素、C1〜10アルキル基、C1〜10ア
ルコキシ基など、R4及びR5は水素、C1〜10アル
キル基又は置換基を有してもよいフェニル基、X、Y及
びZは水素又はハロゲン、nは1〜10の整数を示す〕
Description
版、フォトレジスト、プルーフ等の記録材料等の分野に
有用な、光により遊離基を生成する化合物の、新規な合
成中間体に関するものである。更に詳しくは、新規な反
応性基含有型ハロゲン置換メチルオキサジアゾール化合
物に関するものである。
成する化合物(遊離基生成剤)はグラフィックアーツ、
感光性記録材料の分野でよく知られている。それらは光
重合性組成物中の光ラジカル重合開始剤、遊離基写真組
成物中の光活性剤および光で生じる酸により触媒される
反応の光開始剤として広く用いられている。そのような
遊離基生成剤を用いて印刷、複製、複写およびの他の記
録材料系で有用な種々の感光性材料が作られている。
外から可視光領域にある、ハロゲン遊離基生成剤とし
て、ビス(トリハロメチル)−s−トリアジン化合物が
提案されている.例えば米国特許第3,954,475
号、同第3,987,037号、同第4,189,32
3号および特開昭62−58241号等に詳しい。これ
らの化合物は、近紫外から可視光領域に感光波長がある
ものの、露光による分解物が薄黄色に着色しやすく、さ
らに、光ラジカル重合開始剤又はその分解物が記録層に
残存する系では、明所保存時に、これらの曝光による分
解により黄色に着色するという問題がある。このような
問題に対し、本発明者らは感光性ビス(ハロゲン置換メ
チルオキサジアゾール)化合物が良好な性能を示すこと
を見出している。このような感光性ビス(ハロゲン置換
メチルオキサジアゾール)化合物は化学修飾可能な基
(ここでは反応性基と定義)を含有するハロゲン置換メ
チルオキサジアゾール化合物を2分子連結させる(ビス
化する)ことにより容易に得られるが、これまでに知ら
れていない新規な化合物である。
より遊離基を生成する感光性ビス(ハロゲン置換メチル
オキサジアゾール)化合物の、新規な合成中間体を提供
することである。
般式(I)で表される反応性基含有型ハロゲン置換メチ
ルオキサジアゾール化合物により達成された。 一般式(I)
2R6、−CO2H、−CO2R6、−CO2M、−CO
2M’1/2、−Cl、−Br又は−Iを表し、nは1〜1
0の整数を表す。R2及びR3は、それぞれ同一でも異な
ってもよく、水素原子、炭素原子数1〜10のアルキル
基、炭素原子数1〜10のアルコキシ基、炭素原子数2
〜10のアシルオキシ基又はハロゲン原子を、R4及び
R5は、それぞれ同一でも異なってもよく、水素原子、
炭素原子数1〜10のアルキル基又は炭素原子数6〜1
2の置換基を有していてもよいフェニル基を、X,Y,
およびZはそれぞれ同一でも異なってもよく、水素原子
又はハロゲン原子を表す。但しX,Y,およびZは同時
に水素原子を表さない。R6は炭素原子数1〜10の置
換基を有していてもよいアルキル基又は炭素原子数6〜
12の置換基を有していてもよいフェニル基を表す。M
は1価の金属原子、M’は2価の金属原子を表す。
H、−OCOR6、−OSO2R6、−CO2H、−CO2
R6、−CO2M、−CO2M’1/2、−Cl及び−Brが
挙げられ、nは1〜6の整数が好ましく、さらに好まし
いR1は−OH、−OCOR6、−CO2H、−CO
2R6、−CO2M、−CO2M’1/2、−Cl及び−Br
が挙げられる。
異なってもよく、水素原子、炭素原子数1〜5のアルキ
ル基、炭素原子数1〜5のアルコキシ基、炭素原子数2
〜5のアシルオキシ基、塩素原子及び臭素原子が挙げら
れる。
異なってもよく、水素原子、炭素原子数1〜5のアルキ
ル基及びフェニル基が挙げられる。
としてCCl3、CBr3及びCHCl2 が挙げられる。
ル基、ハロゲン原子で置換された炭素原子数1〜8のア
ルキル基、フェニル基及びp−トリル基が挙げられる。
さらに好ましいMはナトリウム、カリウムが挙げられ
る。
一般式(II)〜(VI)で表されるの化合物が好まし
い。 一般式(II)
表される基の具体例を以下に示す。
ロゲン置換メチルオキサジアゾール化合物の例を示す。
ただし本発明は以下の化合物に限定するものではない。
置換メチルオキサジアゾール化合物は以下の式A、式B
又は式Cの方法により合成できる。
シンナモイル−N’−ハロアセチルヒドラジン化合物を
公知の方法で閉環させオキサジアゾール環を形成させる
ものである。式B及びCは反応性基を含有するハロゲン
置換メチルオキサジアゾールの反応性基を加水分解する
ことにより新たな反応性基へと導くものである。原料と
なるハロメチル置換オキサジアゾールは、米国特許明細
書4,212,970号、特開昭55−24113号、
特開平2−1884号などに記載の方法で容易に得られ
る。また、式B及びCの加水分解反応は公知の合成反応
で容易に得られる。
ロゲン置換メチルオキサジアゾール化合物は、感光性で
あり、光重合性組成物中の光ラジカル重合開始剤として
用いる場合に有用である。また、光重合性組成物中の光
ラジカル重合開始剤として特に有用な感光性ビス(ハロ
ゲン置換メチルオキサジアゾール)化合物の前駆体とし
て用いることができる。この場合、反応性基含有型ハロ
ゲン置換メチルオキサジアゾール化合物の反応性基と反
応するような2価の化合物(例えば、ジハロアルカン、
アルキレンジカルボン酸ハライド、アルキレンジカルボ
ン酸、アルキレンジオール、アルキレンジイソシアナー
ト、アリーレンジカルボン酸ハライドなど)と公知の方
法で容易にビス化することができる。
ロゲン置換メチルオキサジアゾール化合物を光重合性組
成物中に用いる場合、光重合性組成物は、エチレン性不
飽和結合を有する重合可能な化合物と光ラジカル重合開
始剤と、必要とするならば結合剤と、さらに必要とする
ならば増感剤とから構成され、特に感光性印刷版の感光
層、カラープルーフ、フォトレジスト等に有用である。
これに限定されるものではない。
ルヒドラジン化合物4.1gとオキシ塩化りん4.63
gを105℃で2時間撹拌した。反応混合物を氷水にあ
け、析出した結晶を濾過した。結晶をメタノールで再結
晶し、化合物−6を3.10g得た。 m.p.=73〜75℃。 式D
ルヒドラジン化合物5.13gとオキシ塩化りん4.6
3gを105℃で2時間撹拌した。反応混合物を氷水に
あけ、析出した結晶を濾過した。結晶をメタノール、ア
セトンで洗浄し、化合物−13を4.12g得た。 m.p.=147℃。 式E
下、ナトリウムメトキシド(28%メタノール溶液)
1.93gを滴下し、室温で1時間撹拌した。反応混合
物を氷水にあけ、析出した結晶を濾過した。結晶をn−
ヘキサン−アセトニトリルで再結晶し、化合物−1を
3.20g得た。 m.p.=119〜120℃。
ルヒドラジン化合物4.24gとオキシ塩化りん4.6
3gを105℃で2時間撹拌した。反応混合物を氷水に
あけ、析出した結晶を濾過した。結晶をエタノールで再
結晶し化合物7を3.07g得た。 m.p.=102〜103℃。 式F
下、ナトリウムメトキシド(28%メタノール溶液)
1.93gを滴下し、室温で1時間撹拌した。反応混合
物を氷水にあけ、析出した結晶を濾過した。結晶をn−
ヘキサン−アセトニトリルで再結晶し、化合物−2を
3.31g得た。 m.p.=74〜76℃。
ルヒドラジン化合物4.40gとオキシ塩化りん4.6
3gを105℃で2時間撹拌した。反応混合物を氷水に
あけ、析出した結晶を濾過した。結晶をカラムクロマト
グラフィーで精製し、化合物−50を3.29g得た。 m.p.=93〜95℃。 式G
ルヒドラジン化合物4.15gとオキシ塩化りん4.6
3gを105℃で2時間撹拌した。反応混合物を氷水に
あけ、析出した結晶を濾過した。結晶をメタノールで再
結晶し、化合物−64を3.37g得た。 m.p.=158℃。 式H
ルヒドラジン化合物4.25gとオキシ塩化りん4.6
0gを105℃で2時間撹拌した。反応混合物を氷水に
あけ、析出した結晶を濾過した。結晶を酢酸エチル−メ
タノールで再結晶し、化合物−61を2.45g得た。 m.p.=123℃。 式I
液へ、氷冷下、ナトリウムメトキシド(28%メタノー
ル溶液)2.89gを滴下し、0℃で1時間撹拌した。
反応混合物を希塩酸にあけ酸性とし、析出した結晶を濾
過し、化合物−58を3.08g得た。 m.p.=169℃。
冷下、ナトリウムメトキシド(28%メタノール溶液)
2.89gを滴下し、0℃で1時間撹拌した。反応混合
物にアセトニトリルを加え、結晶を濾過した。結晶を水
−メタノールで再結晶し、化合物−62を2.48g得
た。 m.p.=244℃。
下、水酸化カリウム0.67gの水溶液を滴下し、0℃
で1時間撹拌した。反応混合物にアセトニトリルを加
え、結晶を濾過した。結晶を水−メタノールで再結晶
し、化合物−63を2.59g得た。 m.p.=233℃。
ルヒドラジン化合物4.25gとオキシ塩化りん4.6
0gを105℃で2時間撹拌した。反応混合物を氷水に
あけ、析出した結晶を濾過した。結晶を酢酸エチル−メ
タノールで再結晶し、化合物−89を2.42g得た。 m.p.=92〜95℃ 式J
へ、氷冷下、ナトリウムメトキシド(28%メタノール
溶液)2.89gを滴下し、0℃で1時間撹拌した。反
応混合物を希塩酸にあけ酸性とし、析出した結晶を濾過
し、化合物−86を2.28g得た。 m.p.=183〜185℃
ゲン置換メチルオキサジアゾール化合物は、感光性の保
護膜、印刷版、フォトレジスト、プルーフ等の記録材料
等の分野に有用な、光により遊離基を生成する化合物
の、新規な合成中間体である。
Claims (2)
- 【請求項1】 下記一般式(I)で表されることを特徴
とする反応性基含有型ハロゲン置換メチルオキサジアゾ
ール化合物。 一般式(I) 【化1】 式中R1は−OH、−OCOR6、−OSO2R6、−CO
2H、−CO2R6、−CO2M、−CO2M’1/2、−C
l、−Br又は−Iを表し、nは1〜10の整数を表
す。R2及びR3は、それぞれ同一でも異なってもよく、
水素原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子
数1〜10のアルコキシ基、炭素原子数2〜10のアシ
ルオキシ基又はハロゲン原子を、R4及びR5は、それぞ
れ同一でも異なってもよく、水素原子、炭素原子数1〜
10のアルキル基又は炭素原子数6〜12の置換基を有
していてもよいフェニル基を、X,Y,およびZはそれ
ぞれ同一でも異なってもよく、水素原子又はハロゲン原
子を表す。但しX,Y,およびZは同時に水素原子を表
さない。R6は炭素原子数1〜10の置換基を有してい
てもよいアルキル基又は炭素原子数6〜12の置換基を
有していてもよいフェニル基を表す。Mは1価の金属原
子、M’は2価の金属原子を表す。 - 【請求項2】 CXYZがCCl3、CBr3又はCHC
l2で表されることを特徴とする請求項1に記載の化合
物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP04026295A JP3798443B2 (ja) | 1994-09-06 | 1995-02-28 | 反応性基含有型ハロゲン置換メチルオキサジアゾール化合物 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6-212793 | 1994-09-06 | ||
JP21279394 | 1994-09-06 | ||
JP04026295A JP3798443B2 (ja) | 1994-09-06 | 1995-02-28 | 反応性基含有型ハロゲン置換メチルオキサジアゾール化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08127572A true JPH08127572A (ja) | 1996-05-21 |
JP3798443B2 JP3798443B2 (ja) | 2006-07-19 |
Family
ID=26379712
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP04026295A Expired - Fee Related JP3798443B2 (ja) | 1994-09-06 | 1995-02-28 | 反応性基含有型ハロゲン置換メチルオキサジアゾール化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3798443B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012176694A1 (ja) * | 2011-06-24 | 2012-12-27 | 東京応化工業株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物、パターン形成方法、硬化膜、絶縁膜、カラーフィルタ、及び表示装置 |
JPWO2012176693A1 (ja) * | 2011-06-24 | 2015-02-23 | 東京応化工業株式会社 | 新規化合物 |
-
1995
- 1995-02-28 JP JP04026295A patent/JP3798443B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012176694A1 (ja) * | 2011-06-24 | 2012-12-27 | 東京応化工業株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物、パターン形成方法、硬化膜、絶縁膜、カラーフィルタ、及び表示装置 |
JPWO2012176694A1 (ja) * | 2011-06-24 | 2015-02-23 | 東京応化工業株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物、パターン形成方法、硬化膜、絶縁膜、カラーフィルタ、及び表示装置 |
JPWO2012176693A1 (ja) * | 2011-06-24 | 2015-02-23 | 東京応化工業株式会社 | 新規化合物 |
EP2725011A4 (en) * | 2011-06-24 | 2015-03-04 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | NEW COMPOUND |
US9244346B2 (en) | 2011-06-24 | 2016-01-26 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Negative-type photosensitive resin composition, pattern forming method, cured film, insulating film, color filter, and display device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3798443B2 (ja) | 2006-07-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4212970A (en) | 2-Halomethyl-5-vinyl-1,3,4-oxadiazole compounds | |
JPH11322707A (ja) | ポリ(ジスルホニルジアゾメタン)化合物 | |
US4339522A (en) | Ultra-violet lithographic resist composition and process | |
JPH09301948A (ja) | グリオキシム系エステル、その製法および用途 | |
JPS62115440A (ja) | ホトレジスト組成物およびt−置換オルガノメチルビニルアリ−ルエ−テル材料 | |
JPH1135552A (ja) | 新規なジアゾメタン化合物 | |
JPH0225493A (ja) | アルケニルホスホン酸エステルおよびアルケニルホスフイン酸エルテル、その製法並びに当該化合物を含有する放射線重合性混合物および記録材料 | |
US4624908A (en) | Deep ultra-violet lithographic resist composition and process of using | |
JPH0219849A (ja) | 感放射線混合物及びレリーフパターン作製方法 | |
HU205104B (en) | Process for producing thioxanthone derivatives and photopolymerizable compositions comprising such compounds | |
JP2578839B2 (ja) | 置換トリアジン誘導体、それらの製造法及び用途 | |
KR940001555B1 (ko) | 가시방사선 감광성 조성물 | |
US4207107A (en) | Novel ortho-quinone diazide photoresist sensitizers | |
JPH08127572A (ja) | 反応性基含有型ハロゲン置換メチルオキサジアゾール化合物 | |
JPS60221403A (ja) | 重合性樹脂組成物 | |
JPH024782A (ja) | 芳香族化合物、その製法および該化合物からなる感光性混合物中の光開始剤 | |
JPH03148257A (ja) | 光重合開始剤として有用な新規スルホニウム塩 | |
US5773192A (en) | Organic silicon compound, resist, thermal polymerization composition and photopolymerization composition | |
CA1112246A (en) | Bis-azidophthalic acid derivatives | |
JPS5939441B2 (ja) | 光不溶化性ポリビニルアルコ−ル誘導体の製造方法 | |
JP3798442B2 (ja) | 感光性ビス(ハロゲン置換メチルオキサジアゾール)化合物 | |
US4619885A (en) | Photopolymerizable composition comprising a 1,3,10-triazaanthracen-4-one as the photoinitiator | |
JPS6027673B2 (ja) | 新規な2↓−ハロメチル↓−5↓−ビニル↓−1,3,4↓−オキサジアゾ−ル化合物 | |
JPH06211758A (ja) | ベンゾフェノン誘導体 | |
JPS60239473A (ja) | 2−トリハロメチル−5−フエニル1,3,4−オキサジアゾ−ル化合物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060418 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060418 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060420 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090428 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090428 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090428 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100428 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110428 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |