JPH09301948A

JPH09301948A - グリオキシム系エステル、その製法および用途

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Publication number: JPH09301948A
Application number: JP8113473A
Authority: JP
Inventors: Atsushi Tomioka; 淳富岡; Haruki Ozaki; 晴喜尾崎
Original assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 1996-05-08
Filing date: 1996-05-08
Publication date: 1997-11-25
Anticipated expiration: 2016-05-08
Also published as: JP3879139B2

Abstract

(57)【要約】【課題】酸の作用により開裂しうる保護基を有するア
ルカリ可溶性樹脂を含有するレジスト組成物の酸発生剤
として使用できる化合物を提供し、これを用いて諸性能
に優れるレジスト組成物を提供する。【解決手段】式（Ｉ）で示されるグリオキシム系エス
テル。式中、Ｑ¹およびＱ²は互いに独立に、水素、アルキ
ル、シクロアルキル、アリールもしくはヘテロアリール
を表すか、またはＱ¹とＱ²が結合して環を形成する。
式（Ｉ）のエステルは、対応するグリオキシム系Ｎ−Ｏ
Ｈ体を、１０−カンファースルホニルハライドと反応さ
せることにより、製造できる。式（Ｉ）のエステルを酸
発生剤として用い、酸の作用により開裂しうる保護基を
有するアルカリ可溶性樹脂と配合して、レジスト組成物
が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、新規なグリオキシ
ム系エステル、それの製造方法およびそれのレジスト分
野への適用に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、半導体集積回路の高集積化に伴っ
て、クォーターミクロンのパターン形成が要求されるよ
うになっている。特に、フッ化クリプトン(KrF) やフッ
化アルゴン(ArF) からのエキシマーレーザーを利用する
リソグラフィーは、６４MDRAMおよび２５６MDRAM の製
造を可能とすることから、注目されている。従来、リソ
グラフィープロセスには、主として近紫外線が使われて
いたが、光源の変更に伴い、レジストには、従来からの
耐熱性、残膜率、プロファイルなどの諸性能に加えて、
新たに次のような性能も要求されるようになっている。ａ）KrF やArF エキシマーレーザー光源に対して高感度
であること、およびｂ）高解像度であること。

【０００３】このような状況のもとで、酸触媒の化学増
幅効果を利用した、いわゆる化学増幅型レジストが提案
されている。化学増幅型レジストは、放射線照射により
酸発生剤から発生した酸を触媒とする反応によって、露
光部のアルカリ現像液に対する溶解性を発現させるもの
であり、これによってポジ型レジストが得られる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】化学増幅型レジストに
おいては、露光によって発生した酸が、露光後の熱処理
(post exposure bake : 以下、ＰＥＢと略すことがあ
る）によって拡散し、樹脂等の保護基を脱離させるとと
もに、酸を再生成することにより、高感度を実現してい
るが、一層の高感度化が望まれており、また解像度の向
上も望まれている。さらに、このような化学増幅型レジ
ストには、露光からＰＥＢまでの放置時間によって性能
が大きく変化する、いわゆるタイム・ディレイ(time de
lay)効果がある。こうしたタイム・ディレイ効果によ
り、解像度が低下するとともに、現像後のパターンに膜
張り現象（Ｔ−シェープ化）や小パターン倒れなど、プ
ロファイルの悪化が起こり、寸法の再現性が損なわれる
ことになる。

【０００５】本発明の目的は、酸の作用により開裂しう
る保護基を有するアルカリ可溶性樹脂を含有するレジス
ト組成物の酸発生剤として用いた場合に優れた効果を発
揮する新規な化合物を製造し、提供することにある。

【０００６】本発明の別の目的は、かかる化合物を用い
て、耐熱性、残膜率、塗布性などの諸性能を高い水準に
維持しつつ、感度、解像度およびプロファイルが改良さ
れ、またタイム・ディレイ効果も小さいレジスト組成物
を提供することにある。

【０００７】本発明者らは、かかる目的を達成すべく鋭
意研究を行った結果、グリオキシム系の新規な化合物を
見出し、そしてこの化合物を、酸の作用により開裂しう
る保護基を有するアルカリ可溶性樹脂とともに配合した
レジスト組成物が優れた性能を発揮することを併せて見
出し、本発明を完成した。

【０００８】

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、次式
（Ｉ）で示されるグリオキシム系エステルを提供するも
のである。

【０００９】

【００１０】式中、Ｑ¹およびＱ²は互いに独立に、水
素、アルキル、シクロアルキル、アリールもしくはヘテ
ロアリールを表すか、またはＱ¹とＱ²が結合して環を
形成する。

【００１１】式（Ｉ）で示されるグリオキシム系エステ
ルは、式（II）

【００１２】

【００１３】（式中、Ｑ¹およびＱ²は前記の意味を表
す）で示されるグリオキシム系化合物と１０−カンファ
ースルホニルハライドとを、塩基性触媒の存在下で反応
させることにより、製造することができる。

【００１４】また本発明は、式（Ｉ）のグリオキシム系
エステルを有効成分とする酸発生剤を提供し、さらに
は、この酸発生剤を、酸の作用により開裂しうる保護基
を有するアルカリ可溶性樹脂とともに配合してなるレジ
スト組成物をも提供する。

【００１５】

【発明の実施の形態】式（Ｉ）において、Ｑ¹およびＱ
²は互いに独立に、水素、アルキル、シクロアルキル、
アリールもしくはヘテロアリールであるか、またはＱ¹
とＱ²が結合して環を形成する。アルキルは、炭素数１
〜２０程度であることができ、なかでも炭素数１〜１２
程度のものが好ましく、例えば、メチル、エチル、プロ
ピルなどが挙げられる。シクロアルキルは、炭素数３〜
７程度であることができ、なかでも炭素数５〜７程度の
ものが好ましく、例えば、シクロペンチル、シクロヘキ
シル、シクロヘプチルなどが挙げられる。アリールは、
炭素数６〜１８程度であることができ、なかでも炭素数
６〜１４程度のものが好ましく、例えば、フェニル、ト
リル、キシリルなどが挙げられる。またヘテロアリール
は、酸素、窒素、イオウのようなヘテロ環原子を１個、
２個または３個含有する炭素数３〜２０程度であること
ができ、なかでも炭素数３〜１２程度が好ましい。Ｑ¹
とＱ²が結合して環を形成する場合、Ｑ¹とＱ²の炭素
数の合計は、２〜５程度がよい。この場合、Ｑ¹、Ｑ²
およびそれらが結合する２個の炭素原子の間で、シクロ
アルカン環を形成するのが一般的であり、このシクロア
ルカン環からは、さらにアルキルなどが枝分かれしてい
てもよい。

【００１６】式（Ｉ）で示されるエステルは、式（II）
で示されるグリオキシム系化合物と１０−カンファース
ルホニルハライドとの反応により、製造することができ
る。ここで用いる１０−カンファースルホニルハライド
は、光学活性体でもラセミ体でも構わない。１０−カン
ファースルホニルハライドを構成するハロゲンは、フッ
素、塩素、臭素、ヨウ素などであることができる。ま
た、式（II）のグリオキシム系化合物としては、例え
ば、グリオキシム、ジメチルグリオキシム、ベンジルジ
オキシム（別名：ジフェニルグリオキシム）、ニオキシ
ム（別名：シクロヘキサン−１，２−ジオンジオキシ
ム）などが挙げられる。

【００１７】この反応において、１０−カンファースル
ホニルハライドは、式（II）のグリオキシム系化合物に
対し、一般には０.7〜１.5のモル比、好ましくは１.1〜
１.2のモル比で用いられる。このモル比が０.7未満にな
ると、未反応の原料グリオキシム系化合物が、またモル
比が１.5を越えると、未反応の１０−カンファースルホ
ニルハライドがそれぞれ多量に残るため、反応後の精製
が難しくなる。この反応は塩基性触媒の存在下で行わ
れ、塩基性触媒としては、トリエチルアミンのような脂
肪族アミン類、ピリジンのような環状アミン類、炭酸水
素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのような
無機塩基類などが挙げられるが、なかでもトリエチルア
ミンやピリジンなどの有機アミン類が好ましく用いられ
る。

【００１８】式（II）のグリオキシム系化合物と１０−
カンファースルホニルハライドとの反応は、極性溶媒中
で行うのが好ましい。ここで用いる極性溶媒としては、
アセトン、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、
１，３−ジオキソラン、ジメチルホルムアミド、アセト
ニトリル、γ−ブチロラクトン、ジメチルスルホキシド
のような親水性溶媒の一種または二種以上、ジクロロメ
タンやクロロホルムのような疎水性溶媒の一種または二
種以上、イオン交換水や蒸留水を包含する水などが挙げ
られる。極性溶媒は、反応原料である式（II）のグリオ
キシム系化合物と１０−カンファースルホニルハライド
の合計に対し、２〜１０重量倍、さらには４〜８重量倍
の範囲で用いるのが好ましい。溶媒の量があまり多いと
反応時間が長くなり、またその量があまり少ないと溶解
度の制限や攪拌動力の問題が生じやすい。

【００１９】この反応は、通常２０〜５０℃の範囲の温
度で行われる。温度があまり高いと副反応が起こりやす
くなり、また温度があまり低いと反応時間が長くなる。
反応時間は、通常０.5〜５時間程度である。

【００２０】反応終了後は、必要に応じて精製すること
ができる。例えば、反応後の生成物を、水への溶解度が
９ｇ／１００ｇ以下である溶媒に溶解し、水洗分液を行
って金属含量を低減させておくのが好ましい。水への溶
解度が９ｇ／１００ｇ以下とは、２０℃の水１００ｇに
溶ける最大量が９ｇ以下であることを意味する。この溶
媒は特に、水への溶解度が５ｇ／１００ｇ以下であるの
が好ましい。このような溶媒としては、例えば、トルエ
ン、酢酸エチル、塩化メチレン、ｎ−ヘプタンなどが挙
げられる。

【００２１】また、反応により生成した、あるいは上記
のようにして金属分の低減を図った式（Ｉ）のエステル
は、適当な溶媒から晶析させることができる。ここで用
いる晶析溶媒としては、例えば、四塩化炭素やクロロホ
ルムのようなハロゲン化炭化水素類単独、またはそれを
主体とする混合溶媒、ｎ−ヘプタンやｎ−ヘキサン、シ
クロヘキサンのような脂肪族または脂環式炭化水素と、
ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
との混合溶媒などが挙げられる。晶析温度は、４０℃以
下、さらには２５℃以下が好ましい。

【００２２】かくして得られるグリオキシム系エステル
は、式（Ｉ）から明らかなように不斉炭素を有し、光学
活性体またはラセミ体であることができる。式（Ｉ）の
エステルとして、具体的には例えば、次のような化合物
が挙げられる。

【００２３】Ｏ，Ｏ′−ビス（１０−カンファースルホ
ニル）グリオキシム、Ｏ，Ｏ′−ビス（１０−カンファ
ースルホニル）ジメチルグリオキシム、Ｏ，Ｏ′−ビス
（１０−カンファースルホニル）ジフェニルグリオキシ
ム、Ｏ，Ｏ′−ビス（１０−カンファースルホニル）ニ
オキシム（次式の構造を有する）

【００２４】

【００２５】式（Ｉ）のグリオキシム系エステルは、レ
ジスト用の酸発生剤、とりわけ、酸の作用により開裂し
うる保護基を有するアルカリ可溶性樹脂を含有するレジ
スト組成物に用いられる酸発生剤として、有用である。

【００２６】レジスト組成物を構成するアルカリ可溶性
樹脂は、酸の作用により開裂しうる保護基を有する。そ
のベースポリマーとしては、フェノール性水酸基を有す
るものや、カルボキシル基を有するものが好ましい。具
体的には、フェノールノボラック樹脂；クレゾールノボ
ラック樹脂；キシレノールノボラック樹脂；ビニルフェ
ノール樹脂；イソプロペニルフェノール樹脂；ビニルフ
ェノールと、（メタ）アクリル酸もしくはその誘導体、
アクリロニトリル、スチレンもしくはその誘導体などと
の共重合体；イソプロペニルフェノールと、（メタ）ア
クリル酸もしくはその誘導体、アクリロニトリル、スチ
レンもしくはその誘導体などとの共重合体；スチレンも
しくはその誘導体と、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、
アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン
酸、アクリロニトリルなどとの共重合体；これらのポリ
マー鎖中にケイ素を含む化合物が導入された樹脂などを
挙げることができる。

【００２７】これらのベースポリマーにおける水酸基ま
たはカルボキシル基の少なくとも一部を、酸の作用によ
り開裂しうる保護基で修飾したもの、すなわち、水酸基
またはカルボキシル基中の水素原子の少なくとも一部
を、こうした保護基で置換したものが、本発明のレジス
ト組成物におけるアルカリ可溶性樹脂となりうる。保護
基としては、以下の構造のものが好ましい。

【００２８】

【００２９】式中、ｎは４〜６の整数を表し；Ｒ¹、Ｒ
⁴、Ｒ⁷およびＲ¹¹は互いに独立に、直鎖状アルキル、
分枝状アルキル、環状アルキル、アルケニル、アリール
またはアラルキルを表し；Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ
⁹、Ｒ¹⁰およびＲ¹²は互いに独立に、水素、直鎖状アル
キル、分枝状アルキル、環状アルキル、アルケニル、ア
リールまたはアラルキルを表し；Ｒ⁸は、水素、直鎖状
アルキル、分枝状アルキル、環状アルキル、アルケニ
ル、アリール、アラルキルまたはアルコキシを表し；Ｒ
¹³は、水素、直鎖状アルキル、分枝状アルキル、環状ア
ルキル、アルケニル、アリールもしくはアラルキルを
表し、Ｒ¹⁴は、直鎖状アルキル、分枝状アルキル、環状
アルキル、アルケニル、アリールもしくはアラルキルを
表すか、またはＲ¹³とＲ¹⁴が結合して炭素数３〜６の非
分枝アルキレンを形成する。

【００３０】ここで、直鎖状アルキルとしては、例えば
炭素数１〜５のものが挙げられ、分枝状アルキルとして
は、例えば炭素数３〜８のものが挙げられ、環状アルキ
ルとしては、例えば炭素数５〜１６のものが挙げられ、
これはシクロアルキルの他、シクロアルキルアルキルで
あってもよく、アルケニルとしては、例えば炭素数２〜
７のものが挙げられ、アリールとしては、例えば、フェ
ニル、トリル、キシリルなど、炭素数６〜１６のものが
挙げられ、アラルキルとしては、例えば、ベンジル、モ
ノまたはジメチルベンジル、フェネチルなど、炭素数７
〜１６のものが挙げられ、またアルコキシとしては、例
えば炭素数１〜５のものが挙げられる。これらの基は置
換基を有していてもよく、例えば、直鎖状アルキル、分
枝状アルキルまたはアルケニルに置換してもよい基とし
ては、ハロゲンなどが挙げられ、環状アルキルを構成す
るシクロアルカン環に置換してもよい基としては、ハロ
ゲンなどが挙げられ、アリールまたはアラルキルを構成
するベンゼン環などの芳香環に置換してもよい基として
は、ハロゲンやニトロなどが挙げられる。またもちろ
ん、ここでいうシクロアルカン環や芳香環には、上記炭
素数の範囲内でアルキルなどの炭化水素基が結合してい
てもよい。

【００３１】本発明のレジスト組成物は、以上説明した
アルカリ可溶性樹脂および酸発生剤を含有するものであ
るが、その他必要に応じて、電子供与体、溶解阻止剤、
増感剤、染料、接着性向上剤、塩基性物質など、この分
野で使用されている通常の添加物を含有することもでき
る。またレジスト組成物は、全固形分重量を基準に、ア
ルカリ可溶性樹脂が４０〜９５重量％の範囲、酸発生剤
が０.1〜２０重量％の範囲で配合されているのが好まし
い。

【００３２】本発明のレジスト組成物は、通常、全固形
分濃度が１０〜５０重量％となるよう、上記各成分を溶
剤に混合してレジスト液が調製され、シリコンウェハー
などの基体上に塗布される。ここで用いる溶剤は、各成
分を溶解するものであればよく、この分野で通常用いら
れているものであることができる。例えば、エチルセロ
ソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロ
ピレングリコールモノエチルエーテルアセテートのよう
なグリコールエーテルエステル類、エチルセロソルブ、
メチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジ
エチレングリコールジメチルエーテルのようなグリコー
ルモノまたはジエーテル類、乳酸エチル、酢酸ブチル、
ピルビン酸エチルのようなエステル類、２−ヘプタノ
ン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンのよう
なケトン類、キシレンのような芳香族炭化水素類などが
挙げられる。これらの溶剤は、それぞれ単独で、また
は２種以上組み合わせて用いることができる。

【００３３】

【実施例】次に実施例を挙げて、本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例によってなんら
限定されるものではない。例中、含有量ないし使用量を
表す％および部は、特にことわらないかぎり重量基準で
ある。

【００３４】合成例１２００mlの四つ口フラスコに、ニオキシム２.8６ｇ、
（＋）−１０−カンファースルホニルクロリド１０.4４
ｇ、およびアセトン６６.4５ｇを仕込み、２５℃で３０
分間攪拌したあと、トリエチルアミン４.2９ｇを１０分
かけて滴下した。滴下終了後、３時間攪拌し、次に酢酸
０.7５ｇおよびトリエチルアミン１.0１ｇを添加し、さ
らに１時間攪拌したあと、反応マスを濾過した。濾過物
をアセトン２０ｇで洗浄し、この濾液および洗液を合わ
せて、そこへ酢酸エチル１８０ｇおよびトルエン１４０
ｇを加え、次に４００ｇの蒸留水で２回洗浄した。その
後、１.7１ｇの酢酸ナトリウムを２００ｇの蒸留水に溶
かした水溶液を有機層に加えて洗浄し、さらにこの有機
層を２００ｇの蒸留水で４回洗浄した。有機層を濃縮
し、得られた濃縮物１３.1８ｇにトルエン１３ｇおよび
ｎ−ヘキサン７.2７ｇを加えて、析出した固体を濾別し
た。このウェットケーキを室温で一昼夜減圧乾燥して、
３.1６ｇのＯ，Ｏ′−ビス（１０−カンファースルホニ
ル）ニオキシムを得た。

【００３５】質量分析：ＳＩＭＳ（ＦＡＢ）５７１（Ｍ＋Ｈ)⁺ ¹ Ｈ−ＮＭＲ（ジメチルスルホキシド） δ(ppm) ：0.8
1 (s, 6H); 1.01 (s, 6H); 1.39-1.47 (m, 2H);1.54-1.
64 (m, 2H); 1.71 (brs, 4H);1.92-2.01 (m, 4H); 2.06
-2.10 (m, 2H);2.16-2.25 (m, 2H); 2.31-2.41 (m, 2
H);2.78-2.83 (m, 4H); 3.48-3.74 (m, 4H).

【００３６】適用例１特開平 5-181279 号公報に記載の方法により得られ、ポ
リ（ｐ−ビニルフェノール）中の水酸基のうち２６モル
％がtert−ブトキシカルボニルメチルエーテル化された
ポリマー１３.5部、Ｏ，Ｏ′−ビス（１０−カンファー
スルホニル）ニオキシム１.0部、電子供与体として２−
ヒドロキシカルバゾール０.2７部、および塩基性物質と
して２，６−ジイソプロピルアニリン０.0５４部を、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート６２
部に混合溶解し、孔径０.2μm のフッ素樹脂製フィルタ
ーで濾過して、レジスト液とした。

【００３７】常法により洗浄したシリコンウェハーに、
スピンコーターを用いて上記レジスト液を回転塗布し、
乾燥後の膜厚が０.5３９μm のレジスト膜を形成させ
た。次いで、このシリコンウェハーをホットプレート上
にて、１００℃で９０秒間プリベークした。プリベーク
後の塗膜を、パターンを有するクロムマスクを介して、
２４８nmの露光波長を有する KrFエキシマーレーザース
テッパー〔（株）ニコン製の "NSR-1755 EX8A"、NA=0.4
5 〕を用いて露光した。露光後のウェハーを、ホットプ
レート上にて１００℃で９０秒間加熱して、ＰＥＢを行
った。これを、テトラメチルアンモニウムハイドロオキ
サイドの２.3８％水溶液で現像して、ポジ型パターンを
得た。得られたポジ型パターンにつき、以下のようにし
て評価し、それぞれの結果を得た。

【００３８】感度：０.3μm ラインアンドスペースの
断面を走査型電子顕微鏡で観察し、ベストフォーカスに
おけるラインアンドスペースが１：１になる露光量から
感度（実効感度）を求めたところ、６０mJ／cm²であっ
た。

【００３９】解像度：実効感度の露光量において膜減
りなく分離する最小のラインアンドスペースの幅から解
像度を求めたところ、０.2６μm であった。

【００４０】プロファイル：実効感度の露光量におけ
る０.3μm ラインアンドスペースの断面形状を走査型電
子顕微鏡で観察したところ、パターンがほぼ垂直に切れ
ており、パターントップの平坦部も明瞭に観察された。

【００４１】小パターン倒れ：露光後１時間放置し、
次いでＰＥＢを行った試料につき、レジストパターンの
倒れ具合を観察したところ、パターン倒れは認められな
かった。

【００４２】適用例２適用例１におけるポリ（ｐ−ビニルフェノール）中の水
酸基のうち２６モル％がtert−ブトキシカルボニルメチ
ルエーテル化されたポリマーに代え、ポリ（ｐ−ビニル
フェノール）中の水酸基のうち２３モル％がtert−ブト
キシカルボニルメチルエーテル化されたポリマーを同量
用い、レジスト液の回転塗布、乾燥後の膜厚が０.6５３
μm であった以外は、適用例１と同様に操作して、ポジ
型パターンを得た。得られたポジ型パターンにつき、適
用例１と同様の方法で、感度、解像度およびプロファイ
ルを評価し、結果を表１に示した。

【００４３】比較例１適用例２におけるＯ，Ｏ′−ビス（１０−カンファース
ルホニル）ニオキシムに代え、ビス（シクロヘキシルス
ルホニル）ジアゾメタンを同量用いた以外は、適用例２
と同様に操作して、ポジ型パターンを得た。得られたポ
ジ型パターンにつき、適用例１と同様の方法で、感度、
解像度およびプロファイルを評価し、結果を表１に示し
た。

【００４４】

【表１】 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 例 No. 感度解像度プロファイル^* ──────────────────────── 適用例２ 40 mJ/cm² 0.28μm Ａ比較例１ 228 mJ/cm² 0.29μm Ｂ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━

【００４５】（表１の脚注）^* プロファイルＡ：裾部に若干の広がりが認められる以
外は、ほぼ垂直に切れており、パターントップの平坦部
も明瞭プロファイルＢ：裾広がりの山型で、パターントップの
平坦部なし

【００４６】

【発明の効果】本発明のグリオキシム系エステルは、レ
ジスト用の酸発生剤、特に、酸の作用により開裂しうる
保護基を有するアルカリ可溶性樹脂を含むレジスト用の
酸発生剤として有用である。そして、この化合物を酸発
生剤として用いたレジスト組成物は、耐熱性、残膜率、
塗布性などの諸性能が高い水準に維持され、また感度、
解像度およびプロファイルに優れ、タイム・ディレイ効
果も抑制される。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】式（Ｉ）（式中、Ｑ¹およびＱ²は互いに独立に、水素、アルキ
ル、シクロアルキル、アリールもしくはヘテロアリール
を表すか、またはＱ¹とＱ²が結合して環を形成する）
で示されるグリオキシム系エステル。
【請求項２】Ｏ，Ｏ′−（１０−カンファースルホニ
ル）ニオキシムである請求項１記載のエステル。
【請求項３】式（II）（式中、Ｑ¹およびＱ²は請求項１記載の意味を表す）
で示されるグリオキシム系化合物と１０−カンファース
ルホニルハライドとを、塩基性触媒の存在下で反応させ
ることを特徴とする、請求項１記載のグリオキシム系エ
ステルの製造方法。
【請求項４】請求項１または２記載のエステルを有効成
分とする酸発生剤。
【請求項５】酸の作用により開裂しうる保護基を有する
アルカリ可溶性樹脂、および請求項４記載の酸発生剤を
含有することを特徴とするレジスト組成物。