JPS633867B2 - - Google Patents

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JPS633867B2
JPS633867B2 JP52026368A JP2636877A JPS633867B2 JP S633867 B2 JPS633867 B2 JP S633867B2 JP 52026368 A JP52026368 A JP 52026368A JP 2636877 A JP2636877 A JP 2636877A JP S633867 B2 JPS633867 B2 JP S633867B2
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JP
Japan
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thiazol
acid
reaction
amino
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JP52026368A
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Takashi Kamya
Kunihiko Tanaka
Yoshiharu Nakai
Kazuo Sakane
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Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Publication of JPS633867B2 publication Critical patent/JPS633867B2/ja
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Description

【発明の詳細な説明】
この発明は抗菌性物質として有用な一般式 （式中、R1はアミノ基、アルキルアミノ基、
保護されたアミノ基、保護されたアルキルアミノ
基またはヒドロキシ基、R2は水素、アルカノイ
ルオキシ基、カルバモイルオキシ基、あるいはア
ルキル基が置換していてもよいチアジアゾリルチ
オ、オキサジアゾリルチオ、テトラゾリルチオ又
はトリアゾリルチオ基、 R3はカルボキシ基、またはR2とR3が結合して
基−COO−、R4は水素またはハロゲンをそれぞ
れ意味する） で示される３，７−ジ置換−３−セフエム−４−
カルボン酸化合物およびその塩類およびそれらの
製造法に関するものである。 この発明の目的化合物（）は新規化合物であ
り、例えば、下記に示す方法１〜３により製造す
ることができる。 〔式中、R1，R2，R3およびR4は前と同じ意
味、R1′は保護されたアミノ基または保護された
アルキルアミノ基、R1″はアミノ基またはアルキ
ルアミノ基、R2′はアルキル基が置換していても
よいチアジアゾリルチオ、オキサジアゾリルチ
オ、テトラゾリルチオ又はトリアゾリルチオ基、
Ｙは式−R2′（式中、R2′は前と同じ意味）で示さ
れる基に変り得る基をそれぞれ意味する〕 この発明の原料化合物は、例えば、下記に示す
製造法(1)〜(3)により製造することができる。 （式中、R1，R1′，R1″，R3，R4およびＹは前
と同じ意味、R4′はハロゲン、Ｚは保護されたカ
ルボキシ基をそれぞれ意味する） この発明の目的化合物（）および（ａ）〜
（ｃ）および原料化合物（），（ａ），（
ｂ），（ｇ）〜（ｍ），（），（）〜（）お
よび（）は互変異性体を包含する。即ち、これ
らの目的化合物および原料化合物中の式
【式】（式中R4は前と同じ意味、ただし R1はアミノ基、アルキルアミノ基、保護された
アミノ基またはヒドロキシ基を意味する）で示さ
れる基が式
【式】（式中、R1およびR4 は前と同じ意味）で示される基である場合には、
この基はその互変異性体である式
【式】 （式中R4は前と同じ意味、R1aはイミノ基、アル
キルイミノ基、保護されたイミノ基またはオキソ
基を意味する）で表わすこともできる。即ち、こ
れらの基は平衡関係にあり、下記の平衡式で示す
ことができる。 （式中、R1，R1aおよびR4は前と同じ意味） 上記したようなアミノもしくはヒドロキシ化合
物と、対応するイミノもしくはオキソ化合物との
互変異性体は周知であり、両者が相互に変換で
き、実質的に同じ化合物として扱い得ることも当
業者に周知である。この明細書の説明および特許
請求の範囲では、これらの目的化合物および原料
化合物を、便宜的に互変異性体の一方の表現方法
である式
【式】（式中R1およびR4は前 と同じ意味）で示したが、これに限定されるもの
ではなく、他方の互変異性体もこの発明の範囲に
包含されるものである。 この発明の目的化合物（）の塩類としては、
例えば、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ
金属塩、カルシウム塩、マグネシウム塩等のアル
カリ土類金属塩、アンモニウム塩等の無機塩基と
の塩、トリメチルアミン塩、トリエチルアミン
塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシクロヘキシル
アミン塩、Ｎ，N′−ジベンジルエチレンジアミ
ン塩等の有機塩基との塩、酢酸塩、マレイン酸
塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンス
ルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩等の有機酸と
の塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等
の無機酸との塩、アルギニン塩、アスパラギン酸
塩、グルタミン酸塩等のアミノ酸との塩等が挙げ
られる。 次に上記一般式の定義について説明する。 アルキルアミノ基および保護されたアルキルア
ミノ基におけるアルキル部分としては、直鎖状ま
たは分枝鎖状のアルキル基、例えばメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル等が挙げられ、好ましくは低級アル
キル基が挙げられる。 保護されたアミノ基および保護されたアルキル
アミノ基における保護基としては、後記した様な
アシル基、ベンジル基等の様な慣用されるアミノ
保護基が挙げられる。 前記のアシル基としては、例えばカルバモイル
基、チオカルバモイル基、脂肪族アシル基、芳香
環または複素環を含むアシル基が挙げられ、さら
に詳細には、ホルミル、アセチル、プロピオニ
ル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバ
レリル、オキサリル、サクシニル、ピバロイル等
のアルカノイル基、メトキシカルボニル、エトキ
シカルボニル、プロポキシカルボニル、１−シク
ロプロピルエトキシカルボニル、イソプロポキシ
カルボニル、ブトキシカルボニル、第３級ブトキ
シカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、第３
級ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカ
ルボニル等のアルコキシカルボニル基、メシル、
エタンスルホニル、プロパンスルホニル、イソプ
ロパンスルホニル、ブタンスルホニル等のアルカ
ンスルホニル基、ベンゼンスルホニル、トルエン
スルホニル等のアレーンスルホニル基、ベンゾイ
ル、トルオイル、ナフトイル、フタロイル、イン
ダンカルボニル等のアロイル基、フエニルアセチ
ル、フエニルプロピオニル等のアラルカノイル
基、ベンジルオキシカルボニル、フエネチルオキ
シカルボニル等のアラルコキシカルボニル基が挙
げられ、これらの基は、例えば塩素、臭素、沃
素、弗素を含むハロゲン、シアノ、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル等のアルキ
ル基、ビニル、アリル等のアルケニル基等の適当
な置換分を１個以上有していてもよい。 上記したアシル基の好ましい例としては、例え
ばカルバモイル、メチルカルバモイル、エチルカ
ルバモイル、プロピルカルバモイル、イソプロピ
ルカルバモイル等の低級アルキルカルバモイル
基、メチルチオカルバモイル、エチルチオカルバ
モイル、プロピルチオカルバモイル、イソプロピ
ルチオカルバモイル等の低級アルキルチオカルバ
モイル基、ホルミル、アセチル、プロピオニル、
ブチリル、イソブチリル、バレリル、ピバロイル
等の低級アルカノイル基、トリクロロアセチル、
トリフルオロアセチル等のトリハロ低級アルカノ
イル基、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、プロポキシカルボニル、１−シクロプロピル
エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニ
ル、ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボ
ニル、第３級ペンチルオキシカルボニル、ヘキシ
ルオキシカルボニル等の低級アルコキシカルボニ
ル基、メシル、エタンスルホニル、プロパンスル
ホニル、イソプロパンスルホニル、ブタンスルホ
ニル等の低級アルカンスルホニル基、ベンゼンス
ルホニル、トルエンスルホニル等のアレーンスル
ホニル基が挙げられる。 アルカノイルオキシ基におけるアルカノイル部
分としては、ホルミル、アセチル、プロピオニ
ル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバ
レリル、オキサリル、サクシニル、ピバロイル等
のアルカノイル基が挙げられる。 チアジアゾリルチオ基としては、１，２，４−
チアジアゾリルチオ、１，３，４−チアジアゾリ
ルチオ、１，２，５−チアジアゾリルチオ等が挙
げられる。 オキサジアゾリルチオ基としては、１，２，４
−オキサジアゾリルチオ、１，３，４−オキサジ
アゾリルチオ、１，２，５−オキサジアゾリルチ
オ等が挙げられる。 テトラゾリルチオ基としては、1H−テトラゾ
リルチオ、2H−テトラゾリルチオ等が挙げられ
る。 トリアゾリルチオ基としては、4H−１，２，
４−トリアゾリルチオ、1H−１，２，３−トリ
アゾリルチオ、2H−１，２，３−トリアゾリル
チオ等が挙げられる。 これらのチアジアゾリルチオ基、オキサジアゾ
リルチオ基、テトラゾリルチオ基およびトリアゾ
リルチオ基は例えばメチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、
シクロペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル等の
アルキル基を有していてもよい。 保護されたカルボキシ基としては、エステルが
挙げられ、エステルとしては、例えばメチルエス
テル、エチルエステル、プロピルエステル、イソ
プロピルエステル、ブチルエステル、イソブチル
エステル、第３級ブチルエステル、ペンチルエス
テル、ヘキシルエステル、１−シクロプロピルエ
チルエステル等のアルキルエステル、２−ヨード
エチルエステル、２，２，２−トリクロロエチル
エステル等のモノ（もしくはジもしくはトリ）ハ
ロアルキルエステル、アセトキシメチルエステ
ル、プロピオニルオキシメチルエステル、ブチリ
ルオキシメチルエステル、バレリルオキシメチル
エステル、ピバロイルオキシメチルエステル、２
−アセトキシエチルエステル、２−プロピオニル
オキシエチルエステル等のアルカノイルオキシア
ルキルエステル、メシルメチルエステル、エタン
スルホニルエチルエステル等のアルカンスルホニ
ルアルキルエステル等の１個以上の適当な置換分
を有するアルキルエステル、ビニルエステル、ア
リルエステル等のアルケニルエステル、エチニル
エステル、プロピニルエステル等のアルキニルエ
ステル、ベンジルエステル、４−メトキシベンジ
ルエステル、４−ニトロベンジルエステル、フエ
ネチルエステル、トリチルエステル、ジフエニル
メチルエステル、ビス（メトキシフエニル）メチ
ルエステル、３，４−ジメトキシベンジルエステ
ル、４−ヒドロキシ−３，５−ジ第３級ブチルベ
ンジルエステル等の１個以上の適当な置換基を有
していてもよいアラルキルエステル、フエニルエ
ステル、トリルエステル、第３級ブチルフエニル
エステル、キシリルエステル、メシチルエステ
ル、クメニルエステル等の１個以上の適当な置換
基を有していてもよいアリールエステルが挙げら
れる。 式−R2′で示される基に変り得る基としては、
例えば塩素、臭素等のハロゲン、アジド基、ホル
ミルオキシ、アセトキシ、プロピオニルオキシ、
ブチリルオキシ等のアルカノイルオキシ基、ベン
ゾイルオキシ、トルオイルオキシ等のアロイルオ
キシ基等のアシルオキシ基等の酸残基が挙げら
れ、好ましくはハロゲン、低級アルカノイルオキ
シ基が挙げられる。 ハロゲンとしては、塩素、臭素、沃素、弗素を
包含する。 次にこの発明の目的化合物の製造法について説
明する。 方法１について この発明の目的化合物（）またはその塩類
は、化合物（）もしくはそのアミノ基における
反応性誘導体またはそれらの塩類に、化合物
（）もしくはそのカルボキシ基における反応性
誘導体またはそれらの塩類を反応させることによ
り製造される。 化合物（）のアミノ基における反応性誘導体
としては、例えば化合物（）とカルボニル化合
物との反応により生成するシツフの塩基（イミノ
型）もしくはそのエナミン型の異性体、化合物
（）とビス（トリメチルシリル）アセトアミド
の様なシリル化合物との反応により生成するシリ
ル誘導体または化合物（）と３塩化燐、ホスゲ
ン等との反応により生成する誘導体等のアミド化
反応において慣用されるものはすべて包含され
る。また化合物（）および化合物（）の塩類
としては、そのアミノ基またはカルボキシ基にお
ける塩類が挙げられ、ここでアミノ基における塩
類としては、酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、
ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩等
の有機酸との塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸
塩、燐酸塩等の無機酸との塩等の酸塩が挙げら
れ、またカルボキシ基における塩類としては、ナ
トリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、カ
ルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金
属塩、アンモニウム塩等の無機塩基との塩、トリ
エチルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩等の
有機塩基との塩が挙げられる。 また化合物（）のカルボキシ基における反応
性誘導体としては、例えば酸ハライド、酸無水
物、活性アミド、活性エステル等が挙げられる
が、特に繁用されるものとしては酸クロリド、酸
アジド、ジアルキル燐酸混合無水物、フエニル燐
酸混合無水物、ジフエニル燐酸混合無水物、ジベ
ンジル燐酸混合無水物、ハロゲン化燐酸混合無水
物、ジアルキル亜燐酸混合無水物、亜硫酸混合無
水物、チオ硫酸混合無水物、硫酸混合無水物、ア
ルキル炭酸混合無水物、脂肪族カルボン酸（たと
えばピバリン酸、ペンタン酸、イソペンタン酸、
２−エチルブタン酸、トリクロロ酢酸）混合無水
物、芳香族カルボン酸（たとえば安息香酸）混合
無水物、対称形酸無水物等の酸無水物、イミダゾ
ール、４−置換イミダゾール、ジメチルピラゾー
ル、トリアゾール、テトラゾールなどとの酸アミ
ド、シアノメチルエステル、メトキシメチルエス
テル、ジメチルイミノメチル〔（CH3）2Ｎ＋＝CH
−〕エステル、ビニルエステル、プロパルギルエ
ステル、ｐ−ニトロフエニルエステル、２，４−
ジニトロフエニルエステル、トリクロロフエニル
エステル、ペンタクロロフエニルエステル、メシ
ルフエニルエステル、フエニルアゾフエニルエス
テル、フエニルチオエステル、ｐ−ニトロフエニ
ルチオエステル、ｐ−クレジルチオエステル、カ
ルボキシメチルチオエステル、ピラニルエステ
ル、ピリジルエステル、ピペリジルエステル、８
−キノリルチオエステル、またはＮ，Ｎ−ジメチ
ルヒドロキシルアミン、１−ヒドロキシ−２−
（1H）−ピリドン、Ｎ−ヒドロキシサクシンイミ
ド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド、１−ヒドロキ
シベンゾトリアゾール、１−ヒドロキシ−６−ク
ロロベンゾトリアゾール等の１−ヒドロキシベン
ゾトリアゾール類とのエステル等のエステル類等
が挙げられ、これらは使用する化合物（）の種
類に応じて適宜選択される。 この反応は通常水、アセトン、ジオキサン、ア
セトニトリル、クロロホルム、塩化メチレン、塩
化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、
ジメチルホルムアミド、ピリジンまたはその他の
反応に悪影響を及ぼさない一般有機溶媒等の溶媒
中で行なわれ、これらのうち、親水性の溶媒は水
と混合して使用することもできる。 この反応において化合物（）を遊離酸もしく
はその塩の状態で使用する際は、たとえばＮ，
N′−ジシクロヘキシルカルボジイミド、Ｎ−シ
クロヘキシル−N′−モルホリノエチルカルボジ
イミド、Ｎ−シクロヘキシル−N′−（４−ジエチ
ルアミノシクロヘキシル）カルボジイミド、Ｎ，
N′−ジエチルカルボジイミド、Ｎ，N′−ジイソ
プロピルカルボジイミド、Ｎ−エチル−N′−（３
−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、
Ｎ，N′−カルボニルビス（２−メチルイミダゾ
ール）、ペンタメチレンケテン−Ｎ−シクロヘキ
シルイミン、ジフエニルケテン−Ｎ−シクロヘキ
シルイミン、アルコキシアセチレン、１−アルコ
キシ−１−クロロエチレン１−（４−クロロベン
ゼンスルホニルオキシ）−６−クロロベンゾトリ
アゾールのようなスルホン酸エステル型縮合剤、
亜燐酸トリアルキルエステル、ポリ燐酸エチルエ
ステル、ポリ燐酸イソプロピルエステル、オキシ
塩化燐、３塩化燐、塩化チオニル、オキサリルク
ロリド、トリフエニルホスフイン、Ｎ−エチルベ
ンズイソキサゾリウム塩、Ｎ−エチル−５−フエ
ニルイソキサゾリウム−3′−スルホナート、その
他（クロロメチレン）ジメチルアンモニウムクロ
リドのような雑誌「化学の領域」第19巻第12号第
12〜26頁（1965年）に記載されているようなビル
スマイヤー試薬等の縮合剤の存在下に行なうのが
有利である。 また、この反応は水酸化アルカリ金属、炭酸水
素アルカリ金属、炭酸アルカリ金属、トリアルキ
リアミン、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリン、Ｎ，Ｎ
−ジアルキルベンジルアミン、アルカリ金属アル
コキサイド、ピリジン等の有機もしくは無機の塩
基の存在下に行なつてもよく、塩基もしくは前述
の縮合剤のうち液体のものは溶媒を兼ねて使用で
きる。反応温度は特に限定されないが、通常冷却
下ないしは室温で行なわれることが多い。 この反応をジメチルホルムアミドとオキシ塩化
燐の存在下に行なう場合には、ヒドロキシ基がホ
ルミルオキシ基に変ることもあるが、もちろんこ
の場合もこの発明の範囲に包含される。 方法２について この発明の目的化合物（ａ）またはその塩類
は、化合物（）またはその塩類と化合物（）
もしくはそのメルカプト基における反応性誘導体
とを反応させることにより製造される。 この発明の原料化合物（）またはその塩類
は、化合物（）もしくはそのアミノ基における
反応性誘導体またはそれらの塩類と、化合物
（）もしくはそのカルボキシ基における反応性
誘導体またはそれらの塩類とを反応させることに
よつて製造される。 この原料化合物（）を製造する反応条件は、
前記方法１で説明した化合物（）を製造する反
応条件と、実質上同じである。即ち、化合物
（）のアミノ基における反応性誘導体および塩
類としては、化合物（）のアミノ基における反
応性誘導体および塩類として例示したものと同じ
ものが挙げられ、また反応条件も方法１で使用さ
れるものと同じでよい。 化合物（）のメルカプト基における反応性誘
導体としては、例えばナトリウム塩、カリカム塩
等のアルカリ金属塩、マグネシウム塩の様なアル
カリ土類金属塩等の金属塩が挙げられる。化合物
（）と化合物（）もしくはそのメルカプト基
における反応性誘導体との反応は、例えば水、ア
セトン、クロロホルム、ニトロベンゼン、ジメチ
ルホルムアミド、メタノール、エタノール、ジメ
チルスルホキサイド等のこの反応に悪影響を及ぼ
さない溶媒もしくはそれらの混合溶媒中で行なう
と好結果を得る場合が多く、また中性付近の反応
条件で行なうのと好結果を得る場合が多い。化合
物（）および（もしくは）化合物（）を遊離
の状態で使用する場合には、この反応は、例えば
水酸化アルカリ金属、炭酸アルカリ金属、炭酸水
素アルカリ金属、トリアルキルアミン、ピリジン
等の有機もしくは無機塩基の存在下に有利に進行
する場合が多い。この反応の温度は特に限定され
ないが、通常室温〜加温下で行なわれることが多
い。 この反応およびその後処理において、保護され
たアミノ基および（もしくは）保護されたカルボ
キシ基が、それぞれ対応する遊離のアミノ基およ
び（もしくは）カルボキシ基に転じた化合物が得
られることがあるが、もちろんこれらの場合もこ
の発明の範囲に包含される。 方法３について この発明の目的化合物（ｂ）またはその塩類
は、化合物（ｃ）またはその塩類をアミノ保護
基の脱離反応に付すことにより製造される。化合
物（ｃ）の塩類としては、前記方法１において
化合物（）のカルボキシ基における塩類として
例示したものが挙げられる。 アミノ保護基の脱離反応には、加水分解、還元
等のアミノ保護基の脱離方法として慣用されるす
べての方法が包含され、例えば加水分解には酸、
塩基、ヒドラジン等を使用する方法が含まれる。
これらの方法の中、酸を使用する加水分解は最も
一般的な方法の１つであり、例えば第３級ペンチ
ルオキシカルボニル基のようなアルコキシカルボ
ニル基、置換アルコキシカルボニル基、シクロア
ルコキシカルボニル基、置換もしくは非置換アラ
ルコキシカルボニル基、トリチルの様なアラルキ
ル基、置換フエニルチオ基、置換アルキリデン
基、置換シクロアルキリデン基、置換アラルキリ
デン基等の基の脱離に適用される。また酸として
は、ぎ酸、トリフルオロ酢酸、ベンゼンスルホン
酸、ｐ−トルエンスルホン酸、塩酸等の有機およ
び無機の酸が挙げられ、これらの中、ぎ酸、トリ
フルオロ酢酸等の様に蒸留の様な慣用される方法
により容易に除去できるものが好ましい。これら
の酸は脱離されるアミノ保護基の種類に応じて適
宜選沢される。この脱離反応で酸を使用する場合
には、無溶媒下もしくは水、有機溶媒もしくはそ
れらの混合溶媒等の溶媒の存在下のいずれでも反
応を行なうことができる。 ヒドラジンを使用する加水分解は、例えばサク
シニル、フタロイル等の基の脱離に適用される。 還元的脱離方法としては、例えばトリクロロエ
トキシカルボニルの様なハロアルコキシカルボニ
ル基、ベンジルオキシカルボニルの様な置換もし
くは非置換アラルコキシカルボニル基、ピリジル
メトキシカルボニル等の基の脱離に適用される。 還元的脱離方法としては例えば水素化ほう素ナ
トリウムの様な水素化ほう素アルカリ金属による
還元方法、錫、亜鉛、鉄等の金属もしくはこれら
の金属と塩化クロム、酢酸クロム等のクロム塩化
合物と、酢酸、プロピオン酸、塩酸等の有機もし
くは無機の酸とを併用する還元方法およびラネ−
ニツケル、酸化白金、パラジウム−炭素等の慣用
される触媒を使用する接触還元方法等が挙げられ
る。 アミノ保護基がアシル基である場合には、これ
らは一般的に加水分解により脱離される。アシル
基が、例えばトリフルオロアセチル基である場合
には、単に水と接触させるだけで容易に脱離さ
れ、ハロアルコキシカルボニル基、８−キノリル
オキシカルボニル基等である場合には、銅、亜鉛
等の重金属で処理することにより脱離される。 またアミノ保護基がアシル基である場合には、
イミノハロゲン化剤、ついでイミノエーテル化剤
を作用させた後、必要に応じて加水分解すること
により脱離される。イミノハロゲン化剤として
は、例えば塩化チオニル、オキシ塩化燐、３塩化
燐、５塩化燐等が挙げられ、イミノエーテル化剤
としては、例えばメタノール、エタノール、プロ
パノール等のアルカノールの様なアルコールもし
くは金属アルコサイド類が挙げられる。 アミノ保護基の脱離反応における反応温度は特
に限定されず、例えばアミノ保護基の種類、脱離
方法の種類等に応じて適宜選択されるが、冷却下
ないし室温程度の緩和な条件で行なわれることが
多い。 この反応およびその後処理において、保護され
たカルボキシ基が対応する遊離のカルボキシ基に
転じた化合物が得られることがあるが、もちろん
これらの場合もこの発明の範囲に包含される。 次に原料化合物の製造法について説明する。 (1) （）→（），（ｉ）→（ａ）および
（ｌ）→（ｂ）の製造法 原料化合物（），（ａ）および（ｂ）は、
それぞれ対応する化合物（），（ｉ）および
（ｌ）もしくはそれらのアミノ基における反応
性誘導体またはそれらの塩類に、アミノ保護化剤
を反応させることにより製造される。 化合物（），（ｉ）および（ｌ）のアミノ
基における反応性誘導体およびそれらの塩類とし
ては、化合物（）のアミノ基における反応性誘
導体およびそれらの塩類として前記したものと同
じものが挙げられる。 アミノ保護化剤としては、例えば脂肪族、芳香
族もしくは複素環のカルボン酸（もしくはスルホ
ン酸もしくは炭酸エステルもしくはカルバミン
酸）およびそれらの相当するチオ酸およびそれら
の酸の反応性誘導体および脂肪族、芳香族もしく
は複素環のイソシアネート（もしくはチオイソシ
アネート）等を包含するアシル化剤が挙げられ、
上記酸の反応性誘導体としては、化合物（）の
カルボキシ基における反応性誘導体として例示し
たものと同様なものが挙げられる。 また上記アミノ保護化剤により、化合物（），
（ｉ）および（ｌ）のアミノ基に導入される
アミノ保護基としては、保護されたアミノ基の保
護基として前記に例示したものと同じものが挙げ
られる。 この発明の反応は、前記方法１で説明したもの
と同様な反応条件で行なわれる。 (2) （）→（ａ）および（）→（ｇ）の
製造法 原料化合物（ａ）および（ｇ）は、それぞ
れ対応する化合物（）および（）を酸化する
ことにより製造される。 酸化方法としては、２酸化セレン、例えば３価
の酢酸マンガン〔Mn（OAc）3〕、２酸化マンガ
ン、過マンガン酸カリウムの様なマンガン化合物
等を使用する方法の他、いわゆる活性メチレン基
をカルボニル基に変換する方法として慣用される
すべての方法が包含される。この反応は、例えば
水、ジオキサン、テトラヒドロフランまたはその
他のこの反応に悪影響を及ぼさない一般有機溶媒
中で行なわれることが多い。 この反応温度は特に限定されないが、加温〜加
熱下に行なわれることが多い。 (3) （ａ）→（ｂ），（ｇ）→（ｈ）およ
び（ｊ）→（ｋ）の製造法 原料化合物（ｂ），（ｈ）および（ｋ）
は、それぞれの対応する化合物（ａ），（ｇ）
および（ｊ）をカルボキシ保護基の脱離反応に
付すことにより製造される。 この脱離反応には、例えば加水分解、還元等の
カルボキシ保護基の脱離方法として慣用されるす
べての方法が適用できる。加水分解反応は、例え
ばナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、マグ
ネシウム、カルシウム等のアルカリ土類金属もし
くはそれらの水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩、トリ
メチルアミン、トリエチルアミン等のトリアルキ
ルアミン、ピコリン、１，５−ジアザビシクロ
〔４，３，０〕ノン−５−エン、１，４−ジアザ
ビシクロ〔２，２，２〕オクタン、１，８−ジア
ザビシクロ〔５，４，０〕ウンデセン−７等の有
機もしくは無機の塩基またはぎ酸、酢酸、プロピ
オン酸、塩酸、臭化水素酸、硫酸等の有機もしく
は無機の酸等の存在下に有利に進行する場合が多
い。還元方法としては、例えば亜鉛、亜鉛アマル
ガム等の金属もしくは塩化クロム、酢酸クロム等
のクロム塩化合物と、酢酸、プロピオン酸、塩酸
等の有機もしくは無機の酸とを併用する還元、白
金線、白金海綿、白金黒、コロイド白金等の白金
触媒、パラジウム海綿、パラジウム黒、酸化パラ
ジウム、パルジウム−硫酸バリウム、パラジウム
−炭酸バリウム、パラジウム−炭素、パラジウム
−シリカゲル、コロイドパラジウム等のパラジウ
ム触媒もしくは還元ニツケル、酸化ニツケル、ラ
ネ−ニツケル、うるしばらニツケル等のニツケル
触媒等の慣用される触媒を使用する還元方法等が
挙げられる。この脱離反応の温度は特に限定され
ず、カルボキシ保護基の種類、脱離方法の種類等
により適宜選択される。 (4) （ａ）→（ｉ）の製造法 原料化合物（ｉ）またはその塩類は、化合物
（ａ）をアミノ保護基の脱離反応に付すことに
より製造される。 この反応は、前記方法３において説明した条件
が適用できる。 (5) （ａ）→（ｊ）の製造法 原料化合物（ｊ）は、化合物（ａ）にハロ
ゲン化剤を反応させることにより製造される。 ハロゲン化剤としては、例えば塩素、臭素等の
ハロゲン、トリクロロイソシアヌル酸のようなト
リハロイソシアヌル酸、Ｎ−クロロサクシンイミ
ド、Ｎ−ブロモサクシンイミド等のＮ−ハロサク
シンイミド等が挙げられる。 この反応は例えばジメチルホルムアミド、ジオ
キサン、酢酸等の他この反応に悪影響を及ぼさな
い溶媒中で行なわれることが多い。 この反応温度は特に限定されないが、加温ない
し加熱下に行なわれることが多い。 (6) （）→（ｍ）の製造法 原料化合物（ｍ）は、化合物（）にグリオ
キシル酸を反応させることにより製造される。 この反応は、例えば水、アセトン、ジオキサ
ン、アセトニトリル、塩化メチレン、ジメチルホ
ルムアミド等の他この反応に悪影響を及ぼさない
溶媒中で行なわれることが多い。またこの反応
は、例えば水酸化アルカリ金属、炭酸アルカリ金
属、炭酸水素アルカリ金属等の塩基の存在下に行
なわれることが多い。 この反応の温度は特に限定されないが、加温な
いし加熱下に行なわれることが多い。 (7) （ｍ）→（ｌ）の製造法 原料化合物（ｌ）は、化合物（ｍ）を酸化
することにより製造される。 酸化方法としては、例えば２酸化マンガンを使
用する方法の他ヒドロキシメチレン基をカルボニ
ル基に変換する方法として慣用されるすべての方
法が包含される。この反応は、例えば水、ジオキ
サン、テトラヒドロフランまたはその他のこの反
応に悪影響を及ぼさない一般有機溶媒中で行なわ
れることが多い。 反応温度は特に限定されないが、加温ないし加
熱下に行なわれることが多い。 前記したこの発明における互変異性体は、各工
程の反応中および（または）それらの反応の後処
理中に相互に別の異性体に変ることがあるが、も
ちろんこれらの場合もこの発明の範囲に包含され
る。 この発明において、目的化合物（）が、４位
に遊離のカルボキシ基を有するか、または（およ
び）７位の置換基中に遊離のアミノ基を有する等
の場合の様に遊離の状態で得られる場合には、必
要に応じて常法により前記した様な塩類に導いて
もよい。 この発明の目的化合物（）およびその塩類
は、すべて新規化合物であり、抗菌性物質として
有用である。 次にこの発明の目的化合物（）の中、下記の
数個の化合物のエシエリヒア・コリ324に対する
試験管内抗菌作用のデータを示す。試験は寒天平
板希釈法で行ない、各試験菌の増殖が起こらなく
なる最小発育阻止濃度（MIC）を確察し、記録
した。 試験化合物および結果： (1) ３−（１−メチル−1H−テトラゾール−５−
イル）チオメチル−７−〔２−（２−アミノ−
１，３−チアゾール−４−イル）グリオキシル
アミド〕−３−セフエム−４−カルボン酸：
0.05（μｇ／ml） (2) ３−（１，３，４−チアジアゾール−２−イ
ル）チオメチル−７−〔２−（２−アミノ−１，
３−チアゾール−４−イル）グリオキシルアミ
ド〕−３−セフエム−４−カルボン酸：0.05（μ
ｇ／ml） (3) ３−（５−メチル−１，３，４−チアジアゾ
ール−２−イル）チオメチル−７−〔２−（２−
アミノ−１，３−チアゾール−４−イル）グリ
オキシルアミド〕−３−セフエム−４−カルボ
ン酸：0.05（μｇ／ml） (4) ３−（５−メチル−１，３，４−オキサジア
ゾール−２−イル）チオメチル−７−〔２−（２
−アミノ−１，３−チアゾール−４−イル）グ
リオキシルアミド〕−３−セフエム−４−カル
ボン酸：0.05（μｇ／ml） (5) ３−（４−メチル−4H−１，２，４−トリア
ゾール−３−イル）チオメチル−７−〔２−（２
−アミノ−１，３−チアゾール−４−イル）グ
リオキシルアミド〕−３−セフエム−４−カル
ボン酸：0.05（μｇ／ml） この発明の目的化合物（）を医薬として用い
る場合は、医薬上許容される塩の形で使用しても
よい。 この発明の目的化合物（）およびその医薬上
許容される塩は、その有効かつ非毒性量を含有す
る組成物の形で投与される。この組成物は医薬の
製剤において慣用されている無機もしくは有機の
あるいは固体または液体の製剤用担体とともに、
経口または非経口投与に適した剤形で使用され
る。この場合の経口剤としては、錠剤、カプセル
剤、トローチ剤、散剤等の固体製剤あるいはシロ
ツプ剤等の液剤が挙げられ、非経口剤としては注
射剤、坐剤等が挙げられる。これら各種の製剤は
当業界周知の方法で製造することができる。 次にこの発明を実施例により説明する。 原料化合物の製造 (1) (a) ２−（２−アミノ−１，３−チアゾール
−４−イル）酢酸エチルエステル（14ｇ）を
ピリジン（40ｇ）および塩化メチレン（300
ml）の混液に溶かした液に、クロロ義酸第３
級ペンチルエステル（0.35モル）を含むジエ
チルエーテル溶液（70ml）を、−20℃に冷却
撹拌下10分間を要して加え、同温度で２時間
撹拌後、０℃でさらに30分間撹拌する。反応
後、反応混合物を水（200ml）中に注入し、
有機層を分取する。有機層を2N塩酸、水、
５％炭酸水素ナトリウム水溶液ついで水で順
次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を
留去すると、暗かつ色油状の２−（２−第３
級ペンチルオキシカルボニルアミノ−１，３
−チアゾール−４−イル）酢酸エチルエステ
ル（12ｇ）を得る。 IR（液膜）：1667，1660（CO）cm-1 NMRδCDCl3 ppn：3.75（2H，ｓ）、6.75（1H，ｓ） (b) ２酸化セレン（0.11ｇ）をジオキサン
（2.5ml）および水（0.1ml）に溶かした液に、
２−（２−第３級ペンチルオキシカルボニル
アミノ−１，３−チアゾール−４−イル）酢
酸エチルエステル（0.3ｇ）およびジオキサ
ン（2.5ml）を、110℃に加熱撹拌下に加え、
同温度で30分間撹拌する。さらに、２酸化セ
レン（0.055ｇ）を反応液に加え、同温度で
1.5時間撹拌する。反応後、反応液をデカン
テーシヨンにより分取し、残留物を少量のジ
オキサンで洗浄し、両者の液を合した後、溶
媒を留去する。残留物を酢酸エチルに溶解
し、水洗後溶媒を留去すると、かつ色油状の
２−（２−第３級ペンチルオキシカルボニル
アミノ−１，３−チアゾール−４−イル）グ
リオキシル酸エチルエステル（0.22ｇ）を得
る。 IR（液膜）：1720，1690（CO）cm-1 NMR δCDCl3 ppn：8.3（1H，ｓ） (c) ２−（２−第３級ペンチルオキシカルボニ
ルアミノ−１，３−チアゾール−４−イル）
グリオキシル酸エチルエステル（2.8ｇ）お
よびエタノール（10ml）の混合物を、水酸化
ナトリウム（0.54ｇ）を水（20ml）に溶かし
た液と混合し、室温で１時間撹拌する。反応
液から少量のエタノールを留去し、残留物を
ジエチルエーテルで洗浄後、水層を分取す
る。水層に酢酸エチルを加え、10％塩酸でPH
１〜２に調節後酢酸エチル層を分取する。酢
酸エチル層を塩化ナトリウム飽和水溶液で洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、活性炭で
処理後、溶媒を留去すると、黄かつ色粉末状
の２−（２−第３級ペンチルオキシカルボニ
ルアミノ−１，３−チアゾール−４−イル）
グリオキシル酸（1.75ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：1730，1680（CO）cm-1 NMR δd6 ppn−ジメチルスルホキサイド：8.4
（1H，ｓ） (2) (a) ２酸化セレン（0.33ｇ）、ジオキサン
（15ml）および水（0.3ml）を110℃に加熱撹
拌することにより得られた溶液に、２−（２
−オキソ−２，３−ジヒドロ−１，３−チア
ゾール−４−イル）酢酸エチルエステル
（0.56ｇ）を加え、110℃で30分間撹拌する。
反応後、液体を分取し、残留物を少量のジオ
キサンで洗浄し、両者の液体を合した後、溶
媒を留去する。残留物に酢酸エチルを加え、
硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を留去する
と、固体の２−（２−オキソ−２，３−ジヒ
ドロ−１，３−チアゾール−４−イル）グリ
オキシル酸エチルエステル（0.55ｇ）を得
る。 IR（ヌジヨール）：1720，1630−1680（CO）
cm-1 NMR δCDCl3 ppn：7.96（1H，ｓ） (b) ２−（２−オキソ−２，３−ジヒドロ−１，
３−チアゾール−４−イル）グリオキシル酸
エチルエステル（1.45ｇ）および1N水酸化
ナトリウム水溶液（21ml）の混合物を室温で
30分間放置する。反応後、反応混合物をジエ
チルエーテルで洗浄し、10％塩酸でPH１に調
節する。析出物を取し、水およびジエチル
エーテルで洗浄後乾燥すると、粉末状の２−
（２−オキソ−２，３−ジヒドロ−１，３−
チアゾール−４−イル）グリオキシル酸
（0.30ｇ）を得る。一方、液を酢酸エチル
で抽出後溶媒を留去すると、さらに同じ目的
化合物（0.40ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：1740，1660，1620（CO）
cm-1 (3) (a) ２−（２−アミノ−１，３−チアゾール
−４−イル）酢酸エチルエステル（40ｇ）お
よびピリジン（200ml）の混合物を窒素気流
中40℃で撹拌し、ついでこれに、プロパンス
ルホニルクロライド（61.3ｇ）および塩化メ
チレン（100ml）の混合物を２時間を要して
滴下後、同温度で２時間撹拌する。反応後、
ピリジンおよび塩化メチレンを留去し、残留
物を酢酸エチルに溶解する。水、1/2Ｎ塩酸
ついで水で順次洗浄し、乾燥後、溶媒を留去
する。残留物を酢酸エチルおよびジエチルエ
ーテルの混液で洗浄後乾燥すると、mp140−
142℃の２−（２−プロパンスルホニルアミノ
−１，３−チアゾール−４−イル）酢酸エチ
ルエステル（16.4ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：1740（CO）cm-1 NMR δd6 ppn−ジメチルスルホキサイド：
3.62（2H，ｓ）、6.56（1H，ｓ） (b) ２酸化セレン（6.2ｇ）、ジオキサン（320
ml）および水（6.4ml）を50−60℃で撹拌す
ることにより得られた溶液に、２−（２−プ
ロパンスルホニルアミノ−１，３−チアゾー
ル−４−イル）酢酸エチルエステル（16.3
ｇ）を加え、１時間加熱還流する。ついでこ
れに、２酸化セレン（0.6ｇ）を加え、30分
間加熱還流後、さらに２酸化セレン（0.3ｇ）
を加え、30分間加熱還流する。反応後、反応
液を過し、ジオキサンを留去する。残留物
を加熱下に酢酸エチルに溶解し、活性炭処理
後溶媒を留去する。残留物を少量の酢酸エチ
ル、ついでジエチルエーテルで順次洗浄し、
乾燥すると、mp132−134℃の２−（２−プロ
パンスルホニルアミノ−１，３−チアゾール
−４−イル）グリオキシル酸エチルエステル
（12.5ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：1690，1725（CO）cm-1 NMR δd6 ppn−アセトン：8.3（1H，ｓ） (c) ２−（２−プロパンスルホニルアミノ−１，
３−チアゾール−４−イル）グリオキシル酸
エチルエステル（12.0ｇ）および1N水酸化
ナトリウム水溶液（93ml）の混合物を氷冷下
１時間撹拌する。反応後、1N塩酸（93ml）
を加え、塩化ナトリウム飽和下に酢酸エチル
で抽出する。抽出液を塩化ナトリウム飽和水
溶液で洗浄し、乾燥後溶媒を留去する。残留
物をジエチルエーテル中で洗浄し、取後乾
燥すると、mp148−150℃の２−（２−プロパ
ンスルホニルアミノ−１，３−チアゾール−
４−イル）グリオキシル酸（7.3ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：1685，1720（CO）cm-1 NMR δd6 ppn−アセトン：8.3（1H，ｓ） (4) (a) ２−（２−アミノ−１，３−チアゾール
−４−イル）酢酸エチルエステル（5.6ｇ）、
メシルクロライド（6.9ｇ）、ピリジン（15
ml）および塩化メチレン（45ml）の混合物を
５時間加熱還流する。反応後、反応液を濃縮
し、残留物を氷水（150ml）中に注入後撹拌
する。析出物を取し、水およびジエチルエ
ーテルで順次洗浄後乾燥すると、淡かつ色粉
末状の２−（２−メシルアミノ−１，３−チ
アゾール−４−イル）酢酸エチルエステル
（6.3ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：1730（CO）cm-1 NMR δd6 ppn−ジメチルスルホキサイド：
2.95（3H，ｓ）、3.73（2H，ｓ）、6.7（1H，
ｓ） (b) ２酸化セレン（0.22ｇ）、ジオキサン（10
ml）および水（0.2ml）の混合物を110℃で10
分間撹拌することにより得られた溶液に、２
−（２−メシルアミノ−１，３−チアゾール
−４−イル）酢酸エチルエステル（0.53ｇ）
を加え、１時間加熱還流する。反応後、反応
混合物を活性炭処理後、析出物を取し、乾
燥すると、mp222−225℃、白色結晶の２−
（２−メシルアミノ−１，３−チアゾール−
４−イル）グリオキシル酸エチルエステル
（0.22ｇ）を得る。一方、液を濃縮し、残
留物を水およびジエチルエーテルで順次洗浄
後乾燥すると、さらに同じ目的化合物（0.12
ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：1685，1720（CO）cm-1 NMR δd6 ppn−ジメチルスルホキサイド：
3.05（3H，ｓ）、8.36（1H，ｓ） (5) (a) ２−（２−メチルアミノ−１，３−チア
ゾール−４−イル）酢酸エチルエステル（８
ｇ）をピリジン（80ml）および塩化メチレン
（40ml）の混液に溶かした液に、クロロ義酸
第３級ペンチルエステルを−25〜−20℃に冷
却撹拌下に２時間を要して滴下後、同温度で
30分間撹拌する。反応後、反応液を水（200
ml）中に注入し、酢酸エチル（300ml）で抽
出する。抽出液を2N塩酸、水、５％炭酸水
素ナトリウム水溶液ついで水の順序で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去
すると油状の２−〔２−（Ｎ−メチル−Ｎ−第
３級ペンチルオキシカルボニルアミノ）−１，
３−チアゾール−４−イル〕酢酸エチルエス
テル（14.5ｇ）を得る。 NMR δCDCl3 ppn：0.92（3H，ｔ，Ｊ＝８Hz）、
1.25（3H，ｔ，ｊ＝８Hz）、1.52（6H，
ｓ）、1.9（2H，ｑ，Ｊ＝８Hz）、3.55
（3H，ｓ）、3.7（2H，ｓ）、4.17（2H，
ｑ，Ｊ＝８Hz）、6.75（1H，ｓ） (b) ２酸化セレン（0.452ｇ）、ジオキサン（９
ml）および水（0.36ml）の混合物を110℃で
加熱還流することにより得られた溶液に、２
−〔２−（Ｎ−メチル−Ｎ−第３級ペンチルオ
キシカルボニルアミノ）−１，３−チアゾー
ル−４−イル〕酢酸エチルエステル（1.07
ｇ）をジオキサン（９ml）に溶かした液を加
え、同温度で4.5時間撹拌する。反応後、反
応液を過し、液から減圧下にジオキサン
を留去する。残留物に水および酢酸エチルを
撹拌下に加え、酢酸エチル層を分取する。酢
酸エチル層を硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮
すると油状の２−〔２−（Ｎ−メチル−Ｎ−第
３級ペンチルオキシカルボニルアミノ）−１，
３−チアゾール−４−イル〕グリオキシル酸
エチルエステル（0.45ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：1730，1690cm-1 NMR δCDCl3 ppn：0.95（3H，ｔ，Ｊ＝８Hz）、1.4
（3H，ｔ，Ｊ＝８Hz）、1.53（6H，ｓ）、
1.9（2H，ｑ，Ｊ＝８Hz）、3.6（3H，ｓ）、
4.42（2H，ｑ，Ｊ＝８Hz）、8.17（1H，
ｓ） (c) ２−〔２−（Ｎ−メチル−Ｎ−第３級ペンチ
ルオキシカルボニルアミノ）−１，３−チア
ゾール−４−イル〕グリオキシル酸エチルエ
ステル（3.1ｇ）をエタノール（40ml）に溶
かした液に、1N水酸化ナトリウム水溶液
（14.2ml）を氷冷撹拌下に加え、30分間同温
度で撹拌する。反応後、エタノールを減圧下
20℃以下で留去し、残留物に水（50ml）を加
え、ついで酢酸エチルを積層後2N塩酸でPH
３に調節する。酢酸エチル層を分取し、水洗
し、硫酸マグネシウムで乾燥後活性炭処理を
する。酢酸エチル層から溶媒を留去すると、
固体の２−〔２−（Ｎ−メチル−Ｎ−第３級ペ
ンチルオキシカルボニルアミノ）−１，３−
チアゾール−４−イル〕グリオキシル酸
（2.4ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：1743，1700，1650cm-1 NMRδCDCl3 ppn：0.92（3H，ｔ，Ｊ＝８Hz）、1.54
（6H，ｓ）、1.84（2H，ｑ，Ｊ＝８Hz）、
3.6（3H，ｓ）、8.54（1H，ｓ） (6) (a) ２−（２−ホルミルアミノ−１，３−チ
アゾール−４−イル）グリオキシル酸エチル
エステル（6.9ｇ）をジメチルホルムアミド
（40ml）にけんだくした液を60℃に加熱する
と溶液となる。この溶液に、トリクロロイソ
シアヌル酸（2.8ｇ）をジメチルホルムアミ
ド（10ml）に溶かした液を同温で撹拌下、15
分間を要して滴下後同温度で１時間撹拌す
る。反応後、反応液を氷水中に注入し、析出
物を取し、水洗後乾燥すると、mp151−
153℃の２−（２−ホルミルアミノ−５−クロ
ロ−１，３−チアゾール−４−イル）グリオ
キシル酸エチルエステル（7.1ｇ）を得る。
一方残りの液を酢酸エチルで抽出し、抽出
液を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒
を留去すると、さらに同一目的化合物（0.75
ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3150，1740，1675（幅広
い）cm-1 NMR δd6 ppn−ジメチルスルホキサイド：
1.33（3H，ｔ，Ｊ＝13Hz）、4.40，4.57
（2H，ABq，Ｊ＝13Hz）、8.67（1H，
ｓ）、12.9−13.2（1H，ｍ） (b) ２−（２−ホルミルアミノ−５−クロロ−
１，３−チアゾール−４−イル）グリオキシ
ル酸エチルエステル（1.3ｇ）を1N水酸化カ
リウム水溶液（10ml）に室温撹拌下に溶解
後、同温度で５分間撹拌する。反応後、反応
液を氷冷後10％塩酸でPH１に調節する。析出
物を取し、水洗後乾燥するとmp148−152
℃（分解）の２−（２−ホルミルアミノ−５
−クロロ−１，３−チアゾール−４−イル）
グリオキシル酸（0.91ｇ）を得る。一方、残
りの液と洗液を合し、酢酸エチルで抽出
し、抽出液を水洗し、硫酸マグネシウムで乾
燥後溶媒を留去すると、さらに同一目的化合
物（0.23ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：3130，2400−3000，1735，
1670，1640cm-1 (7) (a) 無水酢酸（384ml）に、義酸（169.2ml）
を35℃以下に冷却下15〜20分間を要して滴下
後、55〜60℃で１時間撹拌する。ついでこれ
に、２−（２−アミノ−１，３−チアゾール
−４−イル）酢酸エチルエステル（506ｇ）
を氷冷撹拌下に15〜20分間を要して加えた
後、同温度で１時間撹拌する。反応後、溶媒
を留去し、残留物にジイソプロピルエーテル
（2500ml）を加えた後、１時間室温で撹拌す
る。析出物を取し、ジイソプロピルエーテ
ルで洗浄後乾燥すると、mp125−126℃の２
−（２−ホルミルアミノ−１，３−チアゾー
ル−４−イル）酢酸エチルエステル（451.6
ｇ）を得る。一方、残りの液を濃縮し、残
留物をジイソプロピルエーテル（500ml）で
洗浄後乾燥すると、さらに同一目的化合物
（78.5ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：1737，1700cm-1 NMR δCDCl3 ppn：1.25（3H，ｔ，Ｊ＝８Hz）、3.7
（2H，ｓ）、4.18（2H，ｑ，ｊ＝８Hz）、
6.9（1H，ｓ）、8.7（1H，ｓ） (b)−(i) ２−（２−ホルミルアミノ−１，３−
チアゾール−４−イル）酢酸エチルエステル
（250ｇ）を前記(5)，(b)と同様に処理すると、
２−（２−ホルミルアミノ−１，３−チアゾ
ール−４−イル）グリオキシル酸エチルエス
テル（140.5ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：1738，1653cm-1 NMR δd6 ppn−ジメチルスルホキサイド：
1.34（3H，ｔ，Ｊ＝８Hz）、4.38（2H，
ｑ，ｊ＝８Hz）、8.52（1H，ｓ）、8.57
（1H，ｓ） (b)−(ii) 酢酸マンガン・４水和物（120ｇ）、酢
酸（1000ml）および無水酢酸（100ml）の混
合物を130〜135℃の油浴中で20分間撹拌し、
ついでこれに過マンガン酸カリウム（20ｇ）
を105〜110℃に加熱撹拌下、５分間を要して
加えた後、130〜135℃で30分間撹拌する。つ
いでこれを室温まで冷却し、２−（２−ホル
ミルアミノ−１，３−チアゾール−４−イ
ル）酢酸エチルエステル（53.5ｇ）を加えた
後、38〜40℃で空気を毎分6000mlの速度で導
入しながら15時間撹拌する。反応後、析出物
を取し、酢酸ついで水で順次洗浄後乾燥す
ると、mp232−233℃（分解）の２−（２−ホ
ルミルアミノ−１，３−チアゾール−４−イ
ル）グリオキシル酸エチルエステル（41.5
ｇ）を得る。 (c) ２−（２−ホルミルアミノ−１，３−チア
ゾール−４−イル）グリオキシル酸エチルエ
ステル（281ｇ）を前記(5)，(c)と同様に処理
すると、mp133−136℃（分解）の２−（２−
ホルミルアミノ−１，３−チアゾール−４−
イル）グリオキシル酸（234ｇ）を得る。 NMR δNaDCO3 ppn：8.27（1H，ｓ）、8.6（1H，ｓ） (8) (a) ２−（２−ホルミルアミノ−１，３−チ
アゾール−４−イル）グリオキシル酸エチル
エステル（31.3ｇ）をエタノール（600ml）
にけんだくした液に、オキシ塩化燐（41.9
ｇ）を氷冷撹拌下に滴下後、50℃で30分間撹
拌する。反応後、溶媒を留去し、残留物をジ
エチルエーテルで洗浄後乾燥すると、mp263
−264℃（分解）の２−（２−アミノ−１，３
−チアゾール−４−イル）グリオキシル酸エ
チルエステル塩酸塩を定量的に得る。 IR（ヌジヨール）：1748，1697cm-1 (b) ２−（２−アミノ−１，３−チアゾール−
４−イル）グリオキシル酸エチルエステル塩
酸塩（30ｇ）を水（150ml）に溶かした液を
活性炭処理後、炭酸水素ナトリウム（10.7
ｇ）で室温撹拌下に中和する。析出物を取
し、水洗後乾燥すると、mp186−187℃（分
解）の２−（２−アミノ−１，３−チアゾー
ル−４−イル）グリオキシル酸エチルエステ
ル（21.8ｇ）を得る。 (c) ２−（２−アミノ−１，３−チアゾール−
４−イル）グリオキシル酸エチルエステル
（20ｇ）およびエチルイソチオシアネート
（73ｇ）の混合物を90〜95℃で５時間撹拌す
る。反応後、反応混合物にジエチルエーテル
を加える。析出物を取し、ジエチルエーテ
ルで洗浄後乾燥すると、mp121−123℃の２
−〔２−〔３−（メチル）チオウレイド〕−１，
３−チアゾール−４−イル）グリオキシル酸
エチルエステル（21.3ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：1730，1683cm-1 NMR δd6 ppn−ジメチルスルホキサイド：
1.38（3H，ｔ，Ｊ＝７Hz）、3.05（3H，
ｓ）、4.43（2H，ｑ，Ｊ＝７Hz）、8.33
（1H，ｓ） (d) ２−〔２−〔３−（メチル）チオウレイド〕−
１，３−チアゾール−４−イル〕グリオキシ
ル酸エチルエステル（21ｇ）、エタノール
（200ml）および水（100ml）の混合物に、1N
水酸化ナトリウム水溶液（154ml）を氷冷撹
拌下に加えた後10分間同温度で撹拌する。反
応液を1N塩酸（154ml）で中和し、析出物を
取し、水洗後乾燥すると、mp＞250℃の２
−〔２−〔３−（メチル）チオウレイド〕−１，
３−チアゾール−４−イル〕グリオキシル酸
（17.8ｇ）を得る。 NMR δd6 ppn−ジメチルスルホキサイド：
3.01（3H，ｓ）、8.25（1H，ｓ） (9) ２−アミノ−１，３−チアゾール（36.3ｇ）
グリオキシル酸・１水和物（50ｇ）および1N
水酸化ナトリウム（543ml）の混合物を90〜93
℃で1.5時間撹拌する。反応後、反応混合物を
活性炭処理後、濃塩酸でPH３に調節し、氷室で
一夜放置する。析出物を取し、水洗後乾燥す
ると、mp140−200℃（分解）の２−ヒドロキ
シ−２−（２−アミノ−１，３−チアゾール−
５−イル）酢酸・１水和物（48.1ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：1622−1642cm-1 NMR δDCl ppn：5.65（1H，ｄ，Ｊ＝1.2Hz）、7.35
（1H，ｓ） (10) ２−ヒドロキシ−２−（２−アミノ−１，３
−チアゾール−５−イル）酢酸（0.92ｇ）およ
び水（10ml）の混合物を10％水酸化ナトリウム
水溶液でPH７〜7.5に調節し、ついでこれに２
酸化マンガン（1.74ｇ）を加えた後、50〜60℃
で５時間撹拌する。反応後、２酸化マンガンを
取し、これを少量の水で洗浄する。液およ
び洗液を合し、濃塩酸でPH１に調節後氷冷下に
15分間撹拌する。析出物を取し、水洗後乾燥
するとmp185−250℃（分解）の２−（２−アミ
ノ−１，３−チアゾール−５−イル）グリオキ
シル酸（0.53ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：1690，1650cm-1 NMR δd6 ppn−ジメチルスルホキサイド：8.25
（1H，ｓ） (11) ２−（２−アミノ−１，３−チアゾール−５
−イル）グリオキシル酸（３ｇ）を前記(7)，(a)
と同様に処理すると、mp180−210℃の２−（２
−ホルミルアミノ−１，３−チアゾール−５−
イル）グリオキシル酸（3.15ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：1712，1689，1665cm-1 NMR δd6 ppn−ジメチルスルホキサイド：8.22
（1H，ｓ）、8.67（1H，ｓ） (12) (a) ２−（２−アミノ−１，３−チアゾール
−４−イル）酢酸エチルエステル（100ｇ）
を前記(7)，(a)と同様に処理すると、mp154−
155℃の２−（２−ホルミルアミノ−１，３−
チアゾール−４−イル）酢酸メチルエステル
（109.9ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：1733，1680cm-1 NMR δd6 ppn−ジメチルスルホキサイド：
3.72（3H，ｓ）、3.89（2H，ｓ）、7.01
（1H，ｓ）、8.45（1H，ｓ） (b) ２−（２−ホルミルアミノ−１，３−チア
ゾール−４−イル）酢酸メチルエステル（60
ｇ）を前記(7)，(b)−(ii)と同様に処理すると、
mp223−225℃（分解）の２−（２−ホルミル
アミノ−１，３−チアゾール−４−イル）グ
リオキシル酸メチルエステル（27.1ｇ）を得
る。 NMR δd6 ppn−ジメチルスルホキサイド：
3.95（3H，ｓ）、8.2（1H，ｓ）、8.3（1H，
ｓ） (c) ２−（２−ホルミルアミノ−１，３−チア
ゾール−４−イル）グリオキシル酸メチルエ
ステルを前記(7)，(c)と同様に処理すると、
mp133−136℃（分解）の２−（２−ホルミル
アミノ−１，３−チアゾール−４−イル）グ
リオキシル酸を得る。 実施例 １ ジメチルホルムアミド（2.25ｇ）にオキシ塩化
燐（2.36ｇ）を氷冷撹拌下に滴下し、40℃で30分
間撹拌後、これに酢酸エチル（50ml）を加え、−
20℃に冷却する。ついでこれに、２−（２−第３
級ペンチルオキシカルボニルアミノ−１，３−チ
アゾール−４−イル）グリオキシル酸（４ｇ）を
−20〜−10℃に冷却撹拌下に５分間を要して徐々
に加えた後同温度で40分間撹拌する。こうして得
られた混合物を、３−（５−メチル−１，３，４
−チアジアゾール−２−イル）チオメチル−７−
アミノ−３−セフエム−４−カルボン酸（5.3
ｇ）、ビス（トリメチルシリル）アセトアミド
（15.4ml）および酢酸エチル（100ml）を室温で30
分間撹拌後−40℃に冷却することにより得られた
溶液に加え、同温度で40分間撹拌後、さらに−５
〜０℃で30分間撹拌する。反応混合物を５％炭酸
水素ナトリウム水溶液中に注入し、水層を分取
し、残りの酢酸エチル層を５％炭酸水素ナトリウ
ム水溶液で２回抽出する。こうして得られた水層
を合し、酢酸エチルで洗浄後、酢酸エチル（100
ml）を加えた後、10％塩酸で氷冷撹拌下に水層の
PH値を２に調節する。過後、酢酸エチル層を分
取し、残りの水層を酢酸エチルで２回抽出後、酢
酸エチル層を合す。酢酸エチル層を塩化ナトリウ
ム飽和水溶液ついで水で順次洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥後、溶媒を留去する。残留物をジエ
チルエーテル中で粉末化し、取し、ジエチルエ
ーテルで洗浄後、乾燥すると、３−（５−メチル
−１，３，４−チアジアゾール−２−イル）チオ
メチル−７−〔２−（２−第３級ペンチルオキシカ
ルボニルアミノ−１，３−チアゾール−４−イ
ル）グリオキシルアミド〕−３−セフエム−４−
カルボン酸（3.79ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：1782（β−ラクタム）cm-1 NMR δd6 ppn−ジメチルスルホキサイド：2.7
（3H，ｓ）、3.57−3.85（2H，broad ｓ）、
4.2，4.57（2H，ABq，Ｊ＝14Hz）、5.2
（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz）、5.77（1H，ｄ，
Ｊ＝５Hz）、8.4（1H，ｓ） 実施例 ２ ジメチルホルムアミド（2.24ｇ）にオキシ塩化
燐（2.36ｇ）を氷冷撹拌下に滴下し、40℃で30分
間撹拌後、これに酢酸エチル（40ml）を加え、撹
拌下に−20〜−15℃に冷却する。ついでこれに、
２−（２−第３級ペンチルオキシカルボニルアミ
ノ−１，３−チアゾール−４−イル）グリオキシ
ル酸（４ｇ）を同温度で加えた後同温度で30分間
撹拌する。こうして得られた混合物を、ビス（ト
リメチルシリル）アセトアミド（15ml）、３−
（１，３，４−チアジアゾール−２−イル）チオ
メチル−７−アミノ−３−セフエム−４−カルボ
ン酸（6.35ｇ）および酢酸エチル（50ml）を室温
で10分間撹拌し、ジメチルホルムアミド（６ml）
を加えて撹拌下に−40℃に冷却することにより得
られた溶液に加え、同温度で30分間撹拌後、さら
に−20℃で30分間撹拌する。反応混合物を５％炭
酸水素ナトリウム水溶液中に注入し、水層を分取
し、酢酸エチルで洗浄後、析出物を取する。
取物をアセトンおよび水の混液で洗浄し、洗液を
酢酸エチルで抽出し、抽出液を塩化ナトリウム水
溶液ついで水で順次洗浄する。一方析出物を取
後の液に酢酸エチルを加え、PH１〜２に調節
後、酢酸エチル層を分取する。こうして得られた
酢酸エチル層を、先に得られた酢酸エチル抽出液
と合し、水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥し、活
性炭処理後溶媒を留去する。残留物をジエチルエ
ーテル中で粉末化し、取後乾燥すると、黄かつ
色、粉末状の３−（１，３，４−チアジアゾール
−２−イル）チオメチル−７−〔２−（２−第３級
ペンチルオキシカルボニルアミノ−１，３−チア
ゾール−４−イル）グリオキシルアミド〕−３−
セフエム−４−カルボン酸（3.2ｇ）を得る。 NMR δd6 ppn−ジメチルスルホキサイド：3.57，
3.87（2H，ABq，Ｊ＝15Hz）、3.67，4.27
（2H，ABq，Ｊ＝16Hz）、5.17（1H，ｄ，
Ｊ＝５Hz）、5.77（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz）、
8.33（1H，ｓ）、9.53（1H，ｓ） 実施例 ３ ジメチルホルムアミド（９ｇ）にオキシ塩化燐
（10.3ｇ）を氷冷撹拌下に20分間を要して滴下し、
40℃で30分間撹拌後、これに酢酸エチル（140ml）
を加え、撹拌下に−20℃に冷却する。ついでこれ
に、２−（２−第３級ペンチルオキシカルボニル
アミノ−１，３−チアゾール−４−イル）グリオ
キシル酸（16ｇ）を加えた後、−20〜−15℃で30
分間撹拌する。こうして得られた混合物を７−ア
ミノセフアロスポラン酸（18.2ｇ）、ビス（トリ
メチルシリル）アセトアミド（56ml）および酢酸
エチル（220ml）を室温で30分間撹拌後−40℃に
冷却することにより得られた溶液に、一度に加
え、−50〜−40℃で１時間ついで−25〜−20℃で
１時間それぞれ撹拌する。反応後、反応混合物を
５％炭酸水素ナトリウム水溶液（800ml）中に注
入後水層を分取する。水層を10％塩酸でPH２に調
節し、酢酸エチルで抽出する。抽出液を水洗し、
硫酸マグネシウムで乾燥し、活性炭処理後、溶媒
を留去する。残留物をジエチルエーテル（100ml）
およびジイソプロピルエーテル（200ml）混液中
で粉末化し、取後乾燥すると、粉末状の７−
〔２−（２−第３級ペンチルオキシカルボニルアミ
ノ−１，３−チアゾール−４−イル）グリオキシ
ルアミド〕セフアロスポラン酸（23.1ｇ）を得
る。 IR（ヌジヨール）：1783（β−ラクタム）cm-1 NMR δd6 ppn−ジメチルスルホキサイド：2.17
（3H，ｓ）、3.4−3.9（2H，ｍ）、4.8，
5.17（2H，ABq，Ｊ＝13Hz）、5.25（1H，
ｄ，Ｊ＝５Hz）、5.9（1H，ｄ，Ｊ＝５
Hz）、8.45（1H，ｓ） 実施例 ４ ジメチルホルムアミド（3.74ｇ）にオキシ塩化
燐（6.46ｇ）を氷冷撹拌下に５分間を要して滴下
し、40℃で30分間撹拌後、これに酢酸エチル
（120ml）撹拌下に加え、撹拌下に−20℃に冷却す
る。ついでこれに、２−（２−オキソ−２，３−
ジヒドロ−１，３−チアゾール−４−イル）グリ
オキシル酸（6.05ｇ）を一度に加え、ついでジメ
チルホルムアミド（55ml）を−20℃に冷却下に10
分間を要して加えた後、同温度で40分間撹拌す
る。こうして得られた混合物を、３−（１−メチ
ル−1H−テトラゾール−５−イル）チオメチル
−７−アミノ−３−セフエム−４−カルボン酸
（10.5ｇ）、ビス（トリメチルシリル）アセトアミ
ド（35ml）および酢酸エチル（150ml）から実施
例１と同様にして製した氷冷溶液に、−50〜−40
℃で冷却撹拌下に加えた後、−40℃、ついで−20
℃でそれぞれ30分間撹拌する。反応後、反応混合
物を５％炭酸水素ナトリウム水溶液（250ml）中
に注入し、水層を分取する。水層を酢酸エチルで
洗浄し、塩酸でPH１に調節後酢酸エチルで抽出す
る。抽出液を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥
し、活性炭処理後溶媒を留去する。残留物をジエ
チルエーテル中で粉末化し、取後乾燥すると、
淡黄色粉末状の３−（１−メチル−1H−テトラゾ
ール−５−イル）チオメチル−７−〔２−（２−オ
キソ−２，３−ジヒドロ−１，３−チアゾール−
４−イル）グリオキシルアミド〕−３−セフエム
−４−カルボン酸（9.2ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：1762（β−ラクタム）cm-1 NMR δd6 ppn−ジメチルスルホキサイド：3.74
（2H，broad ｓ）、3.94（3H，ｓ）、4.25，
4.5（2H，ABq，Ｊ＝14Hz）、5.18（1H，
ｄ，Ｊ＝５Hz）、5.73（1H，dd，Ｊ＝5.6
Hz）、7.97（1H，ｓ） 実施例 ５ ジメチルホルムアミド（1.5ｇ）にオキシ塩化
燐（4.16ｇ）を氷冷撹拌下に滴下し、40℃で30分
間撹拌後、これに酢酸エチル（20ml）を撹拌下に
加え、撹拌下に−20〜−10℃に冷却する。ついで
これに、２−（２−プロパンスルホニルアミノ−
１，３−チアゾール−４−イル）グリオキシル酸
（６ｇ）、酢酸エチル（60ml）およびジメチルホル
ムアミド（４ml）の混合物を−20〜−10℃に冷却
撹拌下、10分間を要して滴下後、同温度で40分間
撹拌する。こうして得られた混合物を、３−（１
−メチル−1H−テトラゾール−５−イル）チオ
メチル−７−アミノ−３−セフエム−４−カルボ
ン酸（7.8ｇ）、ビス（トリメチルシリル）アセト
アミド（22.9ml）および酢酸エチル（156ml）か
ら実施例１と同様に処理することにより得られた
冷却溶液に、−40℃に冷却撹拌下に５分間を要し
て滴下後、同温度で30分間ついで−５〜０℃で１
時間それぞれ撹拌する。反応後、反応混合物を５
％炭酸水素ナトリウム水溶液（150ml）中に注入
し、水層を分取後、残りの酢酸エチル層を５％炭
酸水素ナトリウム水溶液で抽出する。こうして得
られた水層を合し、酢酸エチルで洗浄し、酢酸エ
チルを加え、10％塩酸でPH２に調節後、過す
る。酢酸エチル層を分取し、残りの水層をさらに
酢酸エチルで抽出後、酢酸エチル層を合す。つい
でこれを水洗し、乾燥後、溶媒を留去する。残留
物をジエチルエーテル中で粉末化し、取後乾燥
すると、mp150℃（分解）の３−（１−メチル−
1H−テトラゾール−５−イル）チオメチル−７
−〔２−（２−プロパンスルホニルアミノ−１，３
−チアゾール−４−イル）グリオキシルアミド〕
−３−セフエム−４−カルボン酸（11ｇ）を得
る。 IR（ヌジヨール）：1780（β−ラクタム）cm-1 NMR δd6 ppn−ジメチルスルホキサイド：3.73
（2H，broad ｓ）、3.95（3H，ｓ）、4.2，
4.45（2H，ABq，Ｊ＝13Hz）、5.15（1H，
ｄ，Ｊ＝５Hz）、5.7（1H，dd，Ｊ＝4.5
Hz）、8.25（1H，ｓ） 実施例 ６ ３−（１−メチル−1H−テトラゾール−５−イ
ル）チオメチル−７−アミノ−３−セフエム−４
−カルボン酸（1.46ｇ）、トリエチルアミン
（0.9292ｇ）およびジメチルアニリン（0.713ｇ）
を塩化メチレン（30ml）にけんだくした液を、室
温で20分間撹拌する。ついでこれに、トリメチル
シリルクロライド（1.043ｇ）を塩化メチレン
（10ml）に溶かした液を氷冷下に５分間を要して
加え、室温で２時間撹拌後−25℃に冷却する。一
方、２−（２−ホルミルアミノ−１，３−チアゾ
ール−４−イル）グリオキシル酸（0.969ｇ）、塩
化チオニル（0.697ｇ）およびジメチルホルムア
ミド（0.214ｇ）を塩化メチレン（12ml）にけん
だくした液を４時間撹拌後、これに先に得られた
冷却混合物を−25〜−20℃に冷却下に12分間を要
して加える。ついでこれを同温度で30分間ついで
−20〜−10℃で30分間それぞれ撹拌する。反応
後、反応混合物を水（100ml）に加え、室温で30
分間撹拌する。白色析出物を取後乾燥すると、
暗かつ色粉末状の３−（１−メチル−1H−テトラ
ゾール−５−イル）チオメチル−７−〔２−（２−
ホルミルアミノ−１，３−チアゾール−４−イ
ル）グリオキシルアミド〕−３−セフエム−４−
カルボン酸を得る。 IR（ヌジヨール）：1782（β−ラクタム）cm-1 NMR δd6 ppn−ジメチルスルホキサイド：3.78
（2H，broad ｓ）、4.0（3H，ｓ）、4.4
（2H，broad ｓ）、5.22（1H，ｄ，Ｊ＝
５Hz）、5.8（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz）、8.52
（1H，ｓ）、8.62（1H，ｓ） 同様にして次の化合物を得る。 (1) ３−（１−メチル−1H−テトラゾール−５−
イル）チオメチル−７−〔２−（２−ホルミルア
ミノ−１，３−チアゾール−５−イル）グリオ
キシルアミド〕−３−セフエム−４−カルボン
酸。 IR（ヌジヨール）：1778（β−ラクタム）cm-1 (2) ７−〔２−（２−ホルミルアミノ−１，３−チ
アゾール−４−イル）グリオキシルアミド〕セ
フアロスポラン酸、mp145℃。 IR（ヌジヨール）：1780（β−ラクタム）cm-1 (3) ３−カルバモイルオキシメチル−７−〔２−
（２−ホルミルアミノ−１，３−チアゾール−
４−イル）グリオキシルアミド〕−３−セフエ
ム−４−カルボン酸。 IR（ヌジヨール）：1770（β−ラクタム）cm-1 (4) ３−（１−メチル−1H−テトラゾール−５−
イル）チオメチル−７−〔２−（２−（メチル）
チオカルバモイルアミノ−１，３−チアゾール
−４−イル〕グリオキシルアミド〕−３−セフ
エム−４−カルボン酸、148℃（しゆう縮）、
160℃（ぼう張）、200℃（分解）。 IR（ヌジヨール）：1780（β−ラクタム）cm-1 (5) ３−（５−メチル−１，３，４−チアジアゾ
ール−２−イル）チオメチル−７−〔２−（２−
ホルミルアミノ−１，３−チアゾール−４−イ
ル）グリオキシルアミド〕−３−セフエム−４
−カルボン酸。 IR（ヌジヨール）：1780（β−ラクタム）cm-1 (6) ３−（１，３，４−チアジアゾール−２−イ
ル）チオメチル−７−〔２−（２−ホルミルアミ
ノ−１，３−チアゾール−４−イル）グリオキ
シルアミド〕−３−セフエム−４−カルボン酸。 IR（ヌジヨール）：1775（β−ラクタム）cm-1 (7) ３−（１−メチル−1H−テトラゾール−５−
イル）チオメチル−７−〔２−〔２−（Ｎ−メチ
ル−Ｎ−第３級ペンチルオキシカルボニルアミ
ノ）−１，３−チアゾール−４−イル〕グリオ
キシルアミド〕−３−セフエム−４−カルボン
酸、粉末。 IR（ヌジヨール）：1790（β−ラクタム）cm-1 (8) ３−（１−メチル−1H−テトラゾール−５−
イル）チオメチル−７−〔２−（２−ホルミルア
ミノ−５−クロロ−１，３−チアゾール−４−
イル）グリオキシルアミド〕−３−セフエム−
４−カルボン酸、粉末、mp148−155℃（分
解）。 IR（ヌジヨール）：3200，1780，1680（broad）、
1550，1290，1180，1110cm-1 (9) ３−メチル−７−〔２−（２−ホルミルアミノ
−１，３−チアゾール−４−イル）グリオキシ
ルアミド〕−３−セフエム−４−カルボン酸、
mp180℃（210℃で炭化）。 (10) ３−（１−メチル−1H−テトラゾール−５−
イル）チオメチル−７−〔２−（２−アミノ−
１，３−チアゾール−４−イル）グリオキシル
アミド〕−３−セフエム−４−カルボン酸、
mp147−160℃（分解）。 (11) ３−（５−メチル−１，３，４−チアジアゾ
ール−２−イル）チオメチル−７−〔２−（２−
アミノ−１，３−チアゾール−４−イル）グリ
オキシルアミド〕−３−セフエム−４−カルボ
ン酸、mp156−160℃（分解）。 (12) ３−（５−メチル−１，３，４−オキサジア
ゾール−２−イル）チオメチル−７−〔２−（２
−アミノ−１，３−チアゾール−４−イル）グ
リオキシルアミド〕−３−セフエム−４−カル
ボン酸。 IR（ヌジヨール）：1775（β−ラクタム）cm-1 (13) ３−（４−メチル−4H−１，２，４−トリ
アゾール−３−イル）チオメチル−７−〔２−
（２−アミノ−１，３−チアゾール−４−イル）
グリオキシルアミド〕−３−セフエム−４−カ
ルボン酸。 IR（ヌジヨール）：1775（β−ラクタム）cm-1 (14) ３−（１，３，４−チアジアゾール−２−
イル）チオメチル−７−〔２−（２−アミノ−
１，３−チアゾール−４−イル）グリオキシル
アミド〕−３−セフエム−４−カルボン酸・塩
酸塩、粉末。 IR（ヌジヨール）：1778（β−ラクタム）cm-1 (15) ３−カルバモイルオキシメチル−７−〔２
−（２−アミノ−１，３−チアゾール−４−イ
ル）グリオキシルアミド〕−３−セフエム−４
−カルボン酸・塩酸塩、粉末。 (16) ３−メチル−７−〔２−（２−アミノ−１，
３−チアゾール−４−イル）グリオキシルアミ
ド〕−３−セフエム−４−カルボン酸・塩酸塩、
dp＞250℃。 (17) ６−〔２−（２−アミノ−１，３−チアゾー
ル−４−イル）グリオキシルアミド〕−5a，６
−ジヒドロ−3H，7H−アゼト〔２，１−ｂ〕
フロ〔３，４−ｄ〕〔１，３〕チアジン−１，
７−（4H）−ジオン・塩酸塩。 IR（ヌジヨール）：1786（β−ラクタム）cm-1 (18) ３−（１−メチル−1H−テトラゾール−５
−イル）チオメチル−７−〔２−（２−アミノ−
１，３−チアゾール−５−イル）グリオキシル
アミド〕−３−セフエム−４−カルボン酸・塩
酸塩、mp140−160℃（分解）。 (19) ３−（１−メチル−1H−テトラゾール−５
−イル）チオメチル−７−〔２−（２−メチルア
ミノ−１，３−チアゾール−４−イル）グリオ
キシルアミド〕−３−セフエム−４−カルボン
酸、mp146−155℃（分解）。 実施例 ７ ３−（１−メチル−1H−テトラゾール−５−イ
ル）チオメチル−７−〔２−（２−第３級ペンチル
オキシカルボニルアミノ−１，３−チアゾール−
４−イル）グリオキシルアミド〕−３−セフエム
−４−カルボン酸（1.8ｇ）および98−100％義酸
（40ml）の混合物を５時間放置する。反応後、義
酸を減圧下に留去する。残渣を５％炭酸水素ナト
リウム水溶液に溶解する。この溶液を酢酸でPH６
とし、次いでPH5.0の酢酸緩衝液を溶出溶媒とし
てアルミナカラムクロマトグラフイーに付す。目
的化合物を含む溶出液を10％塩酸でPH３とし、酢
酸エチルで２回洗浄する。水層をアンバーライト
XAD−４（ロームアンドハース社製）を用いてカ
ラムクロマトグラフイーに付し、カラムを水洗
後、20％メタノール水溶液、50％メタノール水溶
液、70％メタノール水溶液の順に溶出する。目的
化合物を含む溶出液を集め、メタノールを減圧下
に留去する。残留する水溶液を凍結乾燥すると、
３−（１−メチル−1H−テトラゾール−５−イ
ル）チオメチル−７−〔２−（２−アミノ−１，３
−チアゾール−４−イル）グリオキシルアミド〕
−３−セフエム−４−カルボン酸（0.32ｇ）を得
る。mp147−160℃（分解）。 IR（ヌジヨール）：1770（β−ラクタム）cm-1 NMR δd6 ppn−ジメチルスルホキサイド：3.73
（2H，broad ｓ）、3.95（3H，ｓ）、4.2，
4.5（2H，ABq，Ｊ＝15Hz）、5.15（1H，
ｄ，Ｊ＝５Hz）、5.75（1H，ｄ，Ｊ＝５
Hz）、7.8（1H，ｓ） 実施例 ８ ３−（５−メチル−１，３，４−チアジアゾー
ル−２−イル）チオメチル−７−〔２−（２−第３
級ペンチルオキシカルボニルアミノ−１，３−チ
アゾール−４−イル）グリオキシルアミド〕−３
−セフエム−４−カルボン酸（8.56ｇ）を義酸
（180ml）に溶解した溶液を室温で5.5時間撹拌す
る。反応後、反応液を実施例７と同様に後処理す
ると、３−（５−メチル−１，３，４−チアジア
ゾール−２−イル）チオメチル−７−〔２−（２−
アミノ−１，３−チアゾール−４−イル）グリオ
キシルアミド〕−３−セフエム−４−カルボン酸
（2.6ｇ）を得る。mp156−160℃（分解）。 実施例 ９ ７−〔２−（２−ホルミルアミノ−１，３−チア
ゾール−４−イル）グリオキシルアミド〕セフア
ロスポラン酸（30ｇ）およびメタノール（500ml）
の混合物に氷冷撹拌下30分間を要してオキシ塩化
リン（22.2ｇ）を滴下し、次いで同温度で2.25時
間撹拌する。混合物をジエチルエーテル（2500
ml）に注入し、室温で１時間撹拌する。析出物を
取し、次いで乾燥すると、６−〔２−（２−アミ
ノ−１，３−チアゾール−４−イル）グリオキシ
ルアミド〕−5a，６−ジヒドロ−3H，7H−アゼ
ト〔２，１−ｂ〕フロ〔３，４−ｄ〕〔１，３〕
チアジン−１，７−（4H）ジオン塩酸塩（24.2
ｇ）を得る。 IR（ヌジヨール）：1786（β−ラクタム）cm-1 NMR δd6 ppn−ジメチルスルホキサイド：3.84
（2H，broad ｓ）、5.07（2H，ｓ）、5.25
（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz）、5.83（1H，ｄ，
Ｊ＝５Hz）、8.32（1H，ｓ） 実施例 10 ３−（１−メチル−1H−テトラゾール−５−イ
ル）チオメチル−７−〔２−（２−ホルミルアミノ
−１，３−チアゾール−４−イル）グリオキシル
アミド〕−３−セフエム−４−カルボン酸（24.8
ｇ）およびメタノール（500ml）の混合物に、５
−10℃に冷却撹拌下15分間を要してオキシ塩化り
ん（16.4ｇ）を滴下し、次いで同温度で2.5時間
撹拌する。反応液から減圧下に3/4量のメタノー
ルを留去し、残渣をジエチルエーテルで粉末化す
る。この粉末を取し、乾燥すると、３−（１−
メチル−1H−テトラゾール−５−イル）チオメ
チル−７−〔２−（２−アミノ−１，３−チアゾー
ル−４−イル）グリオキシルアミド〕−３−セフ
エム−４−カルボン酸塩酸塩を得る。 IR（ヌジヨール）：1778（β−ラクタム）cm-1 NMR δd6 ppn−ジメチルスルホキサイド：3.7
（2H，broad ｓ）、4.0（3H，ｓ）、4.37
（2H，broad ｓ）、5.23（1H，ｄ，Ｊ＝
５Hz）、5.75（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz）、8.27
（1H，ｓ）、8.35（1H，ｓ） 同様にして次の化合物を得る。 (1) ３−（５−メチル−１，３，４−オキサジア
ゾール−２−イル）チオメチル−７−〔２−（２
−アミノ−１，３−チアゾール−４−イル）グ
リオキシルアミド〕−３−セフエム−４−カル
ボン酸。 IR（ヌジヨール）：1775（β−ラクタム）cm-1 (2) ３−（４−メチル−4H−１，２，４−トリア
ゾール−３−イル）チオメチル−７−〔２−（２
−アミノ−１，３−チアゾール−４−イル）グ
リオキシルアミド〕−３−セフエム−４−カル
ボン酸。 IR（ヌジヨール）：1775（β−ラクタム）cm-1 (3) ３−メチル−７−〔２−（２−アミノ−１，３
−チアゾール−４−イル）グリオキシルアミ
ド〕−３−セフエム−４−カルボン酸塩酸塩、
dp＞250℃。 IR（ヌジヨール）：1780（β−ラクタム）cm-1 (4) ３−カルバモイルオキシメチル−７−〔２−
（２−アミノ−１，３−チアゾール−４−イル）
グリオキシルアミド〕−３−セフエム−４−カ
ルボン酸塩酸塩、粉末。 (5) ３−（５−メチル−１，３，４−チアジアゾ
ール−２−イル）チオメチル−７−〔２−（２−
アミノ−１，３−チアゾール−４−イル）グリ
オキシルアミド〕−３−セフエム−４−カルボ
ン酸塩酸塩、粉末。 IR（ヌジヨール）：1760−1780（broad，β−ラ
クタム）cm-1 (6) ３−（１，３，４−チアジアゾール−２−イ
ル）チオメチル−７−〔２−（２−アミノ−１，
３−チアゾール−４−イル）グリオキシルアミ
ド〕−３−セフエム−４−カルボン酸塩酸塩、
粉末。 IR（ヌジヨール）：1778（β−ラクタム）cm-1 (7) ３−（１−メチル−1H−テトラゾール−５−
イル）チオメチル−７−〔２−（２−アミノ−
１，３−チアゾール−５−イル）グリオキシル
アミド〕−３−セフエム−４−カルボン酸塩酸
塩、mp140−160℃（分解）。 IR（ヌジヨール）：1778（β−ラクタム）cm-1 (8) ３−（１−メチル−1H−テトラゾール−５−
イル）チオメチル−７−〔２−（２−メチルアミ
ノ−１，３−チアゾール−４−イル）グリオキ
シルアミド〕−３−セフエム−４−カルボン酸、
mp146−155℃（分解）。 IR（ヌジヨール）：1798（β−ラクタム）cm-1 実施例 11 ７−〔２−（２−第３級ペンチルオキシカルボニ
ルアミノ−１，３−チアゾール−４−イル）グリ
オキシルアミド〕セフアロスポラン酸（389mg）、
５−メチル−１，３，４−オキサジアゾール−２
−チオール（116.3mg）および炭酸水素ナトリウ
ム（119.4mg）をPH5.2りん酸緩衝液（15ml）に溶
解した溶液を10％塩酸でPH5.2としたのち60−63
℃で７時間撹拌する。反応後、反応液に酢酸エチ
ルを加え、2N塩酸でPH4.5としたのち水層を分離
する。この水層に酢酸エチルを加え、2N塩酸で
PH1.5としたのち水層を分離する。この水層を1N
水酸化ナトリウム水溶液でPH３とし冷所で一夜放
置する。析出物を取し、乾燥すると、３−（５
−メチル−１，３，４−オキサジアゾール−２−
イル）チオメチル−７−〔２−（２−アミノ−１，
３−チアゾール−４−イル）グリオキシルアミ
ド〕−３−セフエム−４−カルボン酸（30mg）を
得る。一方、液をカラムクロマトグラフイーに
付すと、さらに同じ目的化合物（65mg）を得る。 IR（ヌジヨール）：1775（β−ラクタム）cm-1 NMR δd6 ppn−ジメチルスルホキサイド：3.7
（2H，broad ｓ）、4.2，4.45（2H，
ABq，Ｊ＝14Hz）、5.2（1H，ｄ，Ｊ＝５
Hz）、5.75（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz） 実施例 12 ７−〔２−（２−第３級ペンチルオキシカルボニ
ルアミノ−１，３−チアゾール−４−イル）グリ
オキシルアミド〕セフアロスポラン酸（378mg）、
４−メチル−4H−１，２，４−トリアゾール−
３−チオール（115.2mg）、炭酸水素ナトリウム
（119.4mg）およびPH5.2りん酸緩衝液（15ml）の
混合物を60−63℃で６時間撹拌する。反応後、反
応液を常法により後処理すると、３−（４−メチ
ル−4H−１，２，４−トリアゾール−３−イル）
チオメチル−７−〔２−（２−アミノ−１，３−チ
アゾール−４−イル）グリオキシルアミド〕−３
−セフエム−４−カルボン酸（160mg）を得る。 IR（ヌジヨール）：1775（β−ラクタム）cm-1 同様にして次の化合物を得る。 (1) ３−（１−メチル−1H−テトラゾール−５−
イル）チオメチル−７−〔２−（２−オキソ−
２，３−ジヒドロ−１，３−チアゾール−４−
イル）グリオキシルアミド〕−３−セフエム−
４−カルボン酸、淡黄色粉末。 (2) ３−（１−メチル−1H−テトラゾール−５−
イル）チオメチル−７−〔２−（２−プロパンス
ルホニルアミノ−１，３−チアゾール−４−イ
ル）グリオキシルアミド〕−３−セフエム−４
−カルボン酸、mp150℃（分解）。 (3) ３−（１−メチル−1H−テトラゾール−５−
イル）チオメチル−７−〔２−（２−アミノ−
１，３−チアゾール−４−イル）グリオキシル
アミド〕−３−セフエム−４−カルボン酸、
mp147−160℃（分解）。 (4) ３−（５−メチル−１，３，４−チアジアゾ
ール−２−イル）チオメチル−７−〔２−（２−
アミノ−１，３−チアゾール−４−イル）グリ
オキシルアミド〕−３−セフエム−４−カルボ
ン酸、mp156−160℃（分解）。 (5) ３−（１，３，４−チアジアゾール−２−イ
ル）チオメチル−７−〔２−（２−アミノ−１，
３−チアジアゾール−４−イル）グリオキシル
アミド〕−３−セフエム−４−カルボン酸・塩
酸塩、粉末。 IR（ヌジヨール）：1778（β−ラクタム）cm-1 (6) ３−（１−メチル−1H−テトラゾール−５−
イル）チオメチル−７−〔２−（２−アミノ−
１，３−チアゾール−５−イル）グリオキシル
アミド〕−３−セフエム−４−カルボン酸・塩
酸塩、mp140−160℃（分解）。 (7) ３−（１−メチル−1H−テトラゾール−５−
イル）チオメチル−７−〔２−（２−メチルアミ
ノ−１，３−チアゾール−４−イル）グリオキ
シルアミド〕−３−セフエム−４−カルボン酸、
mp146−155℃（分解）。 (8) ３−（１−メチル−1H−テトラゾール−５−
イル）チオメチル−７−〔２−〔２−（メチル）
チオカルバモイルアミノ−１，３−チアゾール
−４−イル）グリオキシルアミド〕−３−セフ
エム−４−カルボン酸、148℃（しゆう縮）、
160℃（ぼう張）、200℃（分解）。 IR（ヌジヨール）：1780（β−ラクタム）cm-1

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 （式中、R1はアミノ基、アルキルアミノ基、
    保護されたアミノ基、保護されたアルキルアミノ
    基またはヒドロキシ基、R2は水素、アルカノイ
    ルオキシ基、カルバモイルオキシ基、あるいはア
    ルキル基が置換していてもよいチアジアゾリルチ
    オ、オキサジアゾリルチオ、テトラゾリルチオ又
    はトリアゾリルチオ基、 R3はカルボキシ基、またはR2とR3が結合して
    基−COO−、R4は水素またはハロゲンをそれぞ
    れ意味する） で示される３，７−ジ置換−３−セフエム−４−
    カルボン酸化合物およびその塩類。 ２ 一般式 （式中、R2は水素、アルカノイルオキシ基、
    カルバモイルオキシ基、あるいはアルキル基が置
    換していてもよいチアジアゾリルチオ、オキサジ
    アゾリルチオ、テトラゾリルチオ又はトリアゾリ
    ルチオ基、 R3はカルボキシ基、またはR2とR3が結合して
    基−COO−をそれぞれ意味する） で示される化合物もしくはそのアミノ基における
    反応性誘導体またはそれらの塩類に、一般式 （式中、R1はアミノ基、アルキルアミノ基、
    保護されたアミノ基、保護されたアルキルアミノ
    基またはヒドロキシ基、R4は水素またはハロゲ
    ンをそれぞれ意味する） で示される化合物もしくはそのカルボキシ基にお
    ける反応性誘導体またはそれらの塩類を反応させ
    て、一般式 （式中、R1，R2，R3およびR4はそれぞれ前と
    同じ意味） で示される化合物またはその塩類を得ることを特
    徴とする、３，７−ジ置換−３−セフエム−４−
    カルボン酸化合物またはその塩類の製造法。
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Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2714880A1 (de) * 1977-04-02 1978-10-26 Hoechst Ag Cephemderivate und verfahren zu ihrer herstellung
US4370326A (en) * 1977-09-13 1983-01-25 Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. Cephem compounds and composition
FR2387235A1 (fr) * 1978-01-23 1978-11-10 Fujisawa Pharmaceutical Co Procede de preparation de composes d'acide 3,7-disubstitue-3-cephem-4-carboxylique et nouveaux produits ainsi obtenus, ayant une forte activite antibacterienne
DE2822861A1 (de) * 1978-05-26 1979-11-29 Hoechst Ag Cephemderivate und verfahren zu ihrer herstellung
EP0021688B1 (en) * 1979-06-07 1983-07-13 Yamanouchi Pharmaceutical Co., Ltd. 7-(thiazolylpropionamido) cephalosporins, their preparation, and pharmaceutical compositions containing them
JPS55164690A (en) * 1979-06-07 1980-12-22 Yamanouchi Pharmaceut Co Ltd 7- 2- 2-aminothiazole-4-yl 3-hydroxypropionamide cephalosporin compound and its preparation
US4409214A (en) * 1979-11-19 1983-10-11 Fujisawa Pharmaceutical, Co., Ltd. 7-Acylamino-3-vinylcephalosporanic acid derivatives and processes for the preparation thereof
DE3006888A1 (de) * 1980-02-23 1981-09-10 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Cephalosporinderivate und verfahren zu ihrer herstellung
NZ198350A (en) * 1980-09-25 1985-02-28 Toyama Chemical Co Ltd Cephalosporins and intermediates;pharmaceutical compositions
JPS5821682A (ja) * 1981-07-31 1983-02-08 Sankyo Co Ltd セファロスポリン誘導体
JPS5877886A (ja) * 1981-11-02 1983-05-11 Toyama Chem Co Ltd 新規セフアロスポリン類
US4704457A (en) * 1982-06-21 1987-11-03 E. R. Squibb & Sons, Inc. Process for the preparation of (3S)-3-[[[2-(protected amino)-4-thiazolyl]-oxoacetyl]amino]-2-oxo-1-azetidinesulfonic acid and 4-substituted derivatives thereof
FR2533216A1 (fr) * 1982-09-22 1984-03-23 Toyama Chemical Co Ltd Nouvelles cephalosporines, et leurs sels
JPS59164785A (ja) * 1983-03-10 1984-09-17 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The ２−（２−アミノ−５−チアゾリル）−２−ヒドロキシ酢酸エステル及びその製造法
AT381944B (de) * 1984-04-10 1986-12-10 Biochemie Gmbh Verfahren zur herstellung von cephalosporinantibiotika
AT397963B (de) * 1985-03-29 1994-08-25 Shionogi & Co Verfahren zur herstellung von neuen 7 beta-(2-(2- amino-4-thiazolyl)-alkenoylamimo)-3-cephem-4- carbonsäureestern
AU580855B2 (en) * 1985-03-29 1989-02-02 Shionogi & Co., Ltd. Alkeneamidocephalosporin esters
DE3809561A1 (de) * 1988-03-22 1989-10-05 Hoechst Ag Ester der 7-(2-(2-aminothiazol-4-yl)-2-(z)- hydroxyiminoacetamido)-3-methoxymethyl-3-cephem-4-carbonsaeure, verfahren zu ihrer herstellung und sie enthaltende pharmazeutische zubereitungen
MX2009009918A (es) 2007-03-23 2009-10-19 Basilea Pharmaceutica Ag Medicamentos combinados para el tratamiento de infecciones bacterianas.
US11655246B2 (en) 2017-11-30 2023-05-23 Step Pharma S.A.S. Aminothiazole compounds as inhibitors of CTPS1
EP3717465A1 (en) 2017-11-30 2020-10-07 Step Pharma S.A.S. Compounds
BR112021005986A2 (pt) 2018-10-23 2021-06-29 Step Pharma S.A.S. derivados de aminopirimidina como inibidores de ctps1
US20230086703A1 (en) * 2019-06-04 2023-03-23 Step Pharma S.A.S. N-(4-(5-chloropyridin-3-yl)phenyl)-2-(2-(cyclopropanesulfonamido)pyrimidin-4-yl) butanamide derivatives and related compounds as human CTPS1 inhibitors for the treatment of proliferative diseases

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1208014A (en) * 1967-03-23 1970-10-07 Glaxo Lab Ltd Cephalosporins

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1399086A (en) 1971-05-14 1975-06-25 Glaxo Lab Ltd Cephalosporin compounds
US4093803A (en) * 1971-05-14 1978-06-06 Glaxo Laboratories Limited 7β-[2-Etherified oximino-2-(thienyl-, furyl- or pyridylacetamido)] cephalosporins
JPS5537555B2 (ja) * 1973-10-24 1980-09-29
NZ176206A (en) 1973-12-25 1978-03-06 Takeda Chemical Industries Ltd Cephalosporins
JPS5119765A (en) * 1974-08-09 1976-02-17 Takeda Chemical Industries Ltd Aminochiazoorujudotaino seizoho
DK154939C (da) * 1974-12-19 1989-06-12 Takeda Chemical Industries Ltd Analogifremgangsmaade til fremstilling af thiazolylacetamido-cephemforbindelser eller farmaceutisk acceptable salte eller estere deraf
FR2342733A1 (fr) * 1976-01-14 1977-09-30 Roussel Uclaf Derives de l'acide 7-amino thiazolyl acetamido cephalosporanique, leur procede de preparation et leur application comme medicaments
JPS603314B2 (ja) * 1976-08-31 1985-01-26 武田薬品工業株式会社 セフアロスポリン誘導体およびその製造法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1208014A (en) * 1967-03-23 1970-10-07 Glaxo Lab Ltd Cephalosporins

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Publication number Publication date
FR2343747A1 (fr) 1977-10-07
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NL7702548A (nl) 1977-09-13
FR2343747B1 (ja) 1983-08-26

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