JPS6133190A - 新規セフエム化合物,その製造法およびその用途 - Google Patents
新規セフエム化合物,その製造法およびその用途Info
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- JPS6133190A JPS6133190A JP60153152A JP15315285A JPS6133190A JP S6133190 A JPS6133190 A JP S6133190A JP 60153152 A JP60153152 A JP 60153152A JP 15315285 A JP15315285 A JP 15315285A JP S6133190 A JPS6133190 A JP S6133190A
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- cephem
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/30—Against vector-borne diseases, e.g. mosquito-borne, fly-borne, tick-borne or waterborne diseases whose impact is exacerbated by climate change
Landscapes
- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
東東上ム]月遣1
この発明は新規セブエム化合物および医薬として許容さ
れるその塩類に関するものである。さらに詳細にはこの
発明は抗菌活性を有する新規セフェム化合物および医薬
として許容されるその塩類、その製造法、およびそれを
含有する医薬組成物に関するものである。
れるその塩類に関するものである。さらに詳細にはこの
発明は抗菌活性を有する新規セフェム化合物および医薬
として許容されるその塩類、その製造法、およびそれを
含有する医薬組成物に関するものである。
すなわち、この発明の一つの目的は、多くの病原菌に対
して高い活性を有する新規セフェム化合物および医薬と
して許容されるその塩類を提供することにある。
して高い活性を有する新規セフェム化合物および医薬と
して許容されるその塩類を提供することにある。
この発明のもう一つの目的は、新規セフェム化合物およ
び医薬として許容されるそ゛の塩類の製造法を提供する
ことにある。
び医薬として許容されるそ゛の塩類の製造法を提供する
ことにある。
この発明のさらにもう一つの目的は、有効成分として前
記の新規セフェム化合物および医薬として許容されるそ
の塩類を含有する医薬組成物を提供することにある。
記の新規セフェム化合物および医薬として許容されるそ
の塩類を含有する医薬組成物を提供することにある。
この発明のさらにもう一つの別の目的は9人お−よび動
物の病原菌感染症治療法を提供することにある。
物の病原菌感染症治療法を提供することにある。
明が 決しようとする 点
従来、数多くのセファロスポリン系抗生物質が知られて
いるが、抗菌力、抗菌スペクトル等において必ずしも満
足されるものではなく、この発明はさらに優れた新規な
セファロスポリン化合物の創製を企図したものである。
いるが、抗菌力、抗菌スペクトル等において必ずしも満
足されるものではなく、この発明はさらに優れた新規な
セファロスポリン化合物の創製を企図したものである。
4 点を 決するための手段
目的とする新規セフェム化合物および医薬として許容さ
れるその塩は新規化合物であり2次の一般式(I)で示
すことができる。
れるその塩は新規化合物であり2次の一般式(I)で示
すことができる。
[式中 R1はアミノ基またはアシルアミノ基。
R1はピリジル基または複素環部分が適当な置換基を有
していてもよい複素環(低級)アルキル基。
していてもよい複素環(低級)アルキル基。
R8はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基をそ
れぞれ意味する]および医薬として許容されるその塩。
れぞれ意味する]および医薬として許容されるその塩。
この発明の新規セブエム化合物(I)は例えば下記の反
応式で示される種々の製造法により製造することができ
る。
応式で示される種々の製造法により製造することができ
る。
1遺隻↓
R3
(l ff1l
またはそのアミノ基における
反応性誘導体またはその塩
またはその塩
(I c)
またはその塩
またはその塩
またはその塩
またはその塩
製造法4
またはその塩
またはその塩
またはその塩 またはその塩
J
またはその塩
またはその塩
J
(I fi)
またはその塩
製造法7
↑
またはその塩
またはその塩
(式中 R1,R1およびRsはそれぞれ前と同じ意味
であり。
であり。
R1はアシルアミノ基。
Y、は酸残基。
R1は低級アルキル基。
RLは保護されたアミノ基を有するアシルアミノ基。
RLはアミノ基を有するアシルアミノ基。
R;は保護されたカルボキシ基。
Y、は酸残基をそれぞれ意味する)。
この発明の出発原料中、化合物(V)のあるものは新規
化合物であり、下記の反応式で示きれる製造法により製
造することができる。
化合物であり、下記の反応式で示きれる製造法により製
造することができる。
またはそのアミノ基 またはその反応性誘における
反応性誘導 導体またはそり塩体またはその塩 (Vl夏り またはその塩 ↓■ (夏X) ↓0 またはその塩 (式中、RsおよびY、はそれぞれ前と同じ意味。
反応性誘導 導体またはそり塩体またはその塩 (Vl夏り またはその塩 ↓■ (夏X) ↓0 またはその塩 (式中、RsおよびY、はそれぞれ前と同じ意味。
R4は低級アルカノイル基を意味する)。
目的化合物(1)の医薬として許容される好適な塩類は
慣用の無毒性塩類であり、その例として。
慣用の無毒性塩類であり、その例として。
例えばリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩等のアル
カリ金属塩1例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等の
アルカリ土金属塩、アンモニウム塩等の無機塩基との塩
:例えばトリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩
、エタノールアミン塩、トリエタノールアミン塩、ジシ
クロl−キシルアミン塩、N、N’−ジベンジルエチレ
ンジアミン塩等の有機アミンとの塩等の有機塩基との塩
;例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無
機酸付加塩;例えばギ酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸
塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベ
ンゼンスルホン酸塩、p−トルエンスルホン酸塩等の有
機カルボン酸付加塩または有機スルホン酸付加塩:例え
ばアルギニン、アスパラギン酸、グルタミン酸等の塩基
性アミノ酸または酸性アミノ酸との塩;分子間第四級塩
または分子内第四級塩等が挙げられる。前記の分子間第
四級塩は、化合物(I)のR1の複素環基が例えばピリ
ジル基等のように窒素原子を含む場合に形成することが
でき、好適な分子間第四級塩としては例えば1−メチル
ピリジニウムメチル硫酸塩、1−エチルピリジニウムエ
チル硫酸塩等の1−低級アル本ルビリジニウム低級アル
キル硫酸塩1例えば1−メチルピリジニウム沃化物等の
1−低級アルキルピリジニウムハロゲン化物等が挙げら
れる。前記の分子内第四級塩は、化合物(I)のR2の
複素環基が例えばピリジル基等のように窒素原子を含み
かつRsがカルボキシ基である場合に形成することがで
き、好適な分子内第四級塩としては例えば1−メチルピ
リジニウムカルボキシレート、1−エチルピリジニウム
カルボキシレート。
カリ金属塩1例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等の
アルカリ土金属塩、アンモニウム塩等の無機塩基との塩
:例えばトリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩
、エタノールアミン塩、トリエタノールアミン塩、ジシ
クロl−キシルアミン塩、N、N’−ジベンジルエチレ
ンジアミン塩等の有機アミンとの塩等の有機塩基との塩
;例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無
機酸付加塩;例えばギ酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸
塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベ
ンゼンスルホン酸塩、p−トルエンスルホン酸塩等の有
機カルボン酸付加塩または有機スルホン酸付加塩:例え
ばアルギニン、アスパラギン酸、グルタミン酸等の塩基
性アミノ酸または酸性アミノ酸との塩;分子間第四級塩
または分子内第四級塩等が挙げられる。前記の分子間第
四級塩は、化合物(I)のR1の複素環基が例えばピリ
ジル基等のように窒素原子を含む場合に形成することが
でき、好適な分子間第四級塩としては例えば1−メチル
ピリジニウムメチル硫酸塩、1−エチルピリジニウムエ
チル硫酸塩等の1−低級アル本ルビリジニウム低級アル
キル硫酸塩1例えば1−メチルピリジニウム沃化物等の
1−低級アルキルピリジニウムハロゲン化物等が挙げら
れる。前記の分子内第四級塩は、化合物(I)のR2の
複素環基が例えばピリジル基等のように窒素原子を含み
かつRsがカルボキシ基である場合に形成することがで
き、好適な分子内第四級塩としては例えば1−メチルピ
リジニウムカルボキシレート、1−エチルピリジニウム
カルボキシレート。
1−プロビルピリジニウム力ルポキシレート、1−イソ
ブロピルビリジニウム力ルポキシレート。
ブロピルビリジニウム力ルポキシレート。
1−ブチルピリジニウムカルボキシレート等の1−低級
アルキルピリジニウムカルボキシレート等が挙げられる
。
アルキルピリジニウムカルボキシレート等が挙げられる
。
この明細書の以上および以下の記載において。
この発明の範囲内に包含される種々の定義の好適な例示
および説明を以下詳細に述べる。
および説明を以下詳細に述べる。
「低級、とは、特記しない限り、炭素原子1〜6個を意
味するものとする。
味するものとする。
r高級」とは、特記しない限り2次素原子7〜20個を
意味するものとする。
意味するものとする。
「アシルアミ7基」、「保護されたアミノ基を有するア
シルアミノ基ツおよび「アミノ基を有するアシルアミノ
基、の好適な「アシル、部分としてはカルバモイル基、
脂肪族アシル基および芳香族アシル基と称される芳香環
を含むアシル基または複素環アシル基と称きれる複素環
を含むアシル−基が挙げられる。
シルアミノ基ツおよび「アミノ基を有するアシルアミノ
基、の好適な「アシル、部分としてはカルバモイル基、
脂肪族アシル基および芳香族アシル基と称される芳香環
を含むアシル基または複素環アシル基と称きれる複素環
を含むアシル−基が挙げられる。
アシル基の好適な例を例示すると下記のとおりである。
例えばホルミル、アセチル、スクシニル、ヘキサノイル
、ヘプタノイル、バレリル、ステアコイル等の低級また
は高級アルカノイル基;例えばメトキシカルボニル、エ
トキシカルボニル、第三級ブトキシカルボニル、第三級
ペンチルオキシカルボニル、ヘプチルオキシカルボニル
等の低級または高級アルコキシカルボニル基;例えばメ
シル、エタンスルホニ、ル等の低級または高級アルカン
スルホニル基; イ列えばメトキシスルホニル、エトキシスルホニル等の
低級または高級アルコキシスルホニル基等のような脂肪
族アシル基; 例えばベンゾイル、トルオイル、ナフトイル等のアロイ
ル基; 例えばフェニルアセチル、フェニルプロピオニル等のフ
ェニル(低級)アルカノイルのようなアル(低級)アル
カノイル基; 例えばフエノキシ力ルボニJし、ナブチルオキシ力ルポ
ニル等のアリールオキシカルボニル基;例えばフェノキ
シアセチル、フェノキシプロピオニル等のアリールオキ
シ(低級)アルカノイル基;例えばフェニルグリオキシ
ロイル、ナフチルグリオキシロイル等のアリールグリオ
キシロイル基;例えばベンゼンスルホニル、トシル等の
アレーンスルホニル等のような芳香族アシル基;例えば
テノイル、フロイル、ニッチノイル等の複素環カルボニ
ル基; 例えばチェニルアセチル、チアゾリルアセチル。
、ヘプタノイル、バレリル、ステアコイル等の低級また
は高級アルカノイル基;例えばメトキシカルボニル、エ
トキシカルボニル、第三級ブトキシカルボニル、第三級
ペンチルオキシカルボニル、ヘプチルオキシカルボニル
等の低級または高級アルコキシカルボニル基;例えばメ
シル、エタンスルホニ、ル等の低級または高級アルカン
スルホニル基; イ列えばメトキシスルホニル、エトキシスルホニル等の
低級または高級アルコキシスルホニル基等のような脂肪
族アシル基; 例えばベンゾイル、トルオイル、ナフトイル等のアロイ
ル基; 例えばフェニルアセチル、フェニルプロピオニル等のフ
ェニル(低級)アルカノイルのようなアル(低級)アル
カノイル基; 例えばフエノキシ力ルボニJし、ナブチルオキシ力ルポ
ニル等のアリールオキシカルボニル基;例えばフェノキ
シアセチル、フェノキシプロピオニル等のアリールオキ
シ(低級)アルカノイル基;例えばフェニルグリオキシ
ロイル、ナフチルグリオキシロイル等のアリールグリオ
キシロイル基;例えばベンゼンスルホニル、トシル等の
アレーンスルホニル等のような芳香族アシル基;例えば
テノイル、フロイル、ニッチノイル等の複素環カルボニ
ル基; 例えばチェニルアセチル、チアゾリルアセチル。
チアジアゾリルアセチル、テトラゾリルアセチル等の複
素環(低級)アルカノイル基:例えばチアゾリルグリオ
キシロイル、チェニルグリオキシロイル等の複素環グリ
オキシロイル基等のような複素環アシル基であって、前
記「複素環カルボニル基」、「複索環(低級)アルカノ
イル基」および「複素環グリオキシロイル基」の複素環
部分が。
素環(低級)アルカノイル基:例えばチアゾリルグリオ
キシロイル、チェニルグリオキシロイル等の複素環グリ
オキシロイル基等のような複素環アシル基であって、前
記「複素環カルボニル基」、「複索環(低級)アルカノ
イル基」および「複素環グリオキシロイル基」の複素環
部分が。
さらに詳細には酸素原子、イ才つ原子、窒素原子等のよ
うなペテロ原子を少なくとも1個含む飽和または不飽和
単環または多環複素環基を意味する。
うなペテロ原子を少なくとも1個含む飽和または不飽和
単環または多環複素環基を意味する。
これらの中で特に好ましい複素環基としては。
窒素原子1〜4個を含む不飽和3〜8員、さらに好まし
くは5または6員複素単環基、その例として、ピロリル
、ピロリニル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジルお
よびそのN−オキシト、ジヒドロピリジル、ピリミジル
、ピラジニル、ピリダジニル、例えば4H−1,2,4
−トリアゾリル。
くは5または6員複素単環基、その例として、ピロリル
、ピロリニル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジルお
よびそのN−オキシト、ジヒドロピリジル、ピリミジル
、ピラジニル、ピリダジニル、例えば4H−1,2,4
−トリアゾリル。
IH−1,2,3−トリアゾリル、2H−1,2,3−
トリアゾリル等のトリアゾリル、例えばIH−テトラゾ
リル、2H−テトラゾリル等のテトラゾリル等; 窒素原子1〜4個を含む飽和3〜8員、さらに好ましく
は5または6員複素単環基2例えばピロリジニル1.イ
ミダゾリジニル、ピペリジノ、ピペラジニル等; 窒素原子1〜4個を含む不飽和縮合複素環基2例えばイ
ンドリル、イソインドリル、イントリジニル、ベンズイ
ミダゾリル、キノリル、イソキノリル、インダゾリル、
ベンゾトリアゾリル等;酸素原子1〜2個および窒素原
子1〜3個を含む不飽和3〜8員、さらに好ましくは5
または6員複素単環基、その例として、オキサシリル、
インオキサシリル、例えば1.2.4−オキサジアゾリ
ル、1.3.4−オキサジアゾリル、1.2.5−オキ
サジアゾリル等のオキサジアゾリル等;酸素原子1〜2
個および窒素原子1〜3個を含む飽和3〜8員、さらに
好ましくは5または6員複素単環基9例えばモルホリニ
ル、シトノニル等;酸素原子1〜2個および窒素原子1
〜3個を含む不飽和縮合複素環基9例えばベンズオキサ
シリル、ベンズオキサジアゾリル等; イ才つ原子1〜2個および窒素原子1〜3個を含む不飽
和3〜8員さらに好ましくは5または6員複素単環基、
その例として、チアゾリル、イソチアゾリル、例えば1
.2.3−チアジアゾリル。
トリアゾリル等のトリアゾリル、例えばIH−テトラゾ
リル、2H−テトラゾリル等のテトラゾリル等; 窒素原子1〜4個を含む飽和3〜8員、さらに好ましく
は5または6員複素単環基2例えばピロリジニル1.イ
ミダゾリジニル、ピペリジノ、ピペラジニル等; 窒素原子1〜4個を含む不飽和縮合複素環基2例えばイ
ンドリル、イソインドリル、イントリジニル、ベンズイ
ミダゾリル、キノリル、イソキノリル、インダゾリル、
ベンゾトリアゾリル等;酸素原子1〜2個および窒素原
子1〜3個を含む不飽和3〜8員、さらに好ましくは5
または6員複素単環基、その例として、オキサシリル、
インオキサシリル、例えば1.2.4−オキサジアゾリ
ル、1.3.4−オキサジアゾリル、1.2.5−オキ
サジアゾリル等のオキサジアゾリル等;酸素原子1〜2
個および窒素原子1〜3個を含む飽和3〜8員、さらに
好ましくは5または6員複素単環基9例えばモルホリニ
ル、シトノニル等;酸素原子1〜2個および窒素原子1
〜3個を含む不飽和縮合複素環基9例えばベンズオキサ
シリル、ベンズオキサジアゾリル等; イ才つ原子1〜2個および窒素原子1〜3個を含む不飽
和3〜8員さらに好ましくは5または6員複素単環基、
その例として、チアゾリル、イソチアゾリル、例えば1
.2.3−チアジアゾリル。
1.2.4−チアジアゾリル、1.3.4−チアジアゾ
リル、1,2.5−チアジアゾリル等のチアジアゾリル
、ジヒドロチアジニル等; イ才つ原子1〜2個および窒素原子1〜3個を含む飽和
3〜8員さらに好ましくは5または6員複素単環基1例
えばチアゾリジニル等; イオウ原子1〜2個を含む不飽和3〜8員さらに好まし
くは5または6員複素単環基9例えばチェニル、ジヒド
ロチイニル、ジヒドロチイニル等童 イオウ原子1〜2個および窒素原子1〜3個を含む不飽
和縮合複素環基1例えばベンゾチアゾリル、ベンゾチア
ジアゾリル等; 酸素原子1個を含む不飽和3〜B員、さらに好ましくは
5または6員複素単環基2例えばフリル等; 酸素原子1個およびイオウ原子1〜2個を含む不飽和3
〜8員、さらに好ましくは5または6員複素単環基2例
えばジヒドロオキサチイニル等;イ才つ原子1〜2個を
含む不飽和縮合複素環基。
リル、1,2.5−チアジアゾリル等のチアジアゾリル
、ジヒドロチアジニル等; イ才つ原子1〜2個および窒素原子1〜3個を含む飽和
3〜8員さらに好ましくは5または6員複素単環基1例
えばチアゾリジニル等; イオウ原子1〜2個を含む不飽和3〜8員さらに好まし
くは5または6員複素単環基9例えばチェニル、ジヒド
ロチイニル、ジヒドロチイニル等童 イオウ原子1〜2個および窒素原子1〜3個を含む不飽
和縮合複素環基1例えばベンゾチアゾリル、ベンゾチア
ジアゾリル等; 酸素原子1個を含む不飽和3〜B員、さらに好ましくは
5または6員複素単環基2例えばフリル等; 酸素原子1個およびイオウ原子1〜2個を含む不飽和3
〜8員、さらに好ましくは5または6員複素単環基2例
えばジヒドロオキサチイニル等;イ才つ原子1〜2個を
含む不飽和縮合複素環基。
例えばベンゾチェニル、ベンYジチイニル等;酸素原子
1個およびイ才つ原子1〜2個を含む不飽和縮合複素環
基1例えばベンズオキサチイニル等のような複素環基が
挙げられる。
1個およびイ才つ原子1〜2個を含む不飽和縮合複素環
基1例えばベンズオキサチイニル等のような複素環基が
挙げられる。
上記複素環基については下記の点に留意すべきである。
すなわち、複素環基が置換基としてその分子内にアミノ
基または保護きれたアミノ基を有するチアゾリル基また
はチアジアゾリル基セある場合、チアゾリル基またはチ
アジアゾリル基には、チアゾール環またはチアジアゾー
ル環の特異的挙動に起因する互変異性体が含まれる。す
なわち例えば、これらのアミノチアゾリル基もしくは保
護されたアミノチアゾリル基、またはアミノチアジアゾ
リル基もしくは保護されたアミノチアジアゾリル基は式
: (式中 R3はアミノ基または保護されたアミノ基。
基または保護きれたアミノ基を有するチアゾリル基また
はチアジアゾリル基セある場合、チアゾリル基またはチ
アジアゾリル基には、チアゾール環またはチアジアゾー
ル環の特異的挙動に起因する互変異性体が含まれる。す
なわち例えば、これらのアミノチアゾリル基もしくは保
護されたアミノチアゾリル基、またはアミノチアジアゾ
リル基もしくは保護されたアミノチアジアゾリル基は式
: (式中 R3はアミノ基または保護されたアミノ基。
2はCHまたはNをそれぞれ意味する)で示されるが2
式(A)で示される基は式: (式中、R6および2はそれぞれ前と同じ意味)でも、
またその互変異性の式: (式中、2は前と同じ意味であり。
式(A)で示される基は式: (式中、R6および2はそれぞれ前と同じ意味)でも、
またその互変異性の式: (式中、2は前と同じ意味であり。
R8゛はイミノ基または保護されたイミノ基を意味する
)でも示すことができる。゛ すなわち1式(A′)および(A″′)で示される両方
の基は次の平衡式: %式%() (式中、R’、ZおよびR1′はそれぞれ前と同じ意味
)で示されうる互変異性平衡の状態にある。
)でも示すことができる。゛ すなわち1式(A′)および(A″′)で示される両方
の基は次の平衡式: %式%() (式中、R’、ZおよびR1′はそれぞれ前と同じ意味
)で示されうる互変異性平衡の状態にある。
上記2−アミノチアゾール化合物と2−イミノチアゾリ
ン化合物との間、および5−アミノチアジアゾール化合
物と5−イミノチアシアプリン化合物との間のこれらの
互変異性の型は、当業界では周知のことであり、互変異
性体の両者が平衡関係にあり、互いに変化しうる状態に
あることは当業者には明白なことであり、従ってそのよ
うな異性体は化合物自体の同じ範哨に包含きれるものと
解される。すなわち、互変異性の両方の形はいずれも明
白にこの発明の範囲内に包含される。この明細書におい
ては、そのような互変異性体の基を含む目的化合物およ
び原料化合物は便宜上それらの表現の一つ、すなわち、
2−アミン(または保護されたアミン)チアゾリルまた
は5−アミノ(または保護されたアミン)チアジアゾリ
ルおよび式: を用いて示すことにする。
ン化合物との間、および5−アミノチアジアゾール化合
物と5−イミノチアシアプリン化合物との間のこれらの
互変異性の型は、当業界では周知のことであり、互変異
性体の両者が平衡関係にあり、互いに変化しうる状態に
あることは当業者には明白なことであり、従ってそのよ
うな異性体は化合物自体の同じ範哨に包含きれるものと
解される。すなわち、互変異性の両方の形はいずれも明
白にこの発明の範囲内に包含される。この明細書におい
ては、そのような互変異性体の基を含む目的化合物およ
び原料化合物は便宜上それらの表現の一つ、すなわち、
2−アミン(または保護されたアミン)チアゾリルまた
は5−アミノ(または保護されたアミン)チアジアゾリ
ルおよび式: を用いて示すことにする。
前記アシル部分は1例えばメチル、エチル等の低級アル
キル基: 例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ等の低級アルコ
キシ基: 例えばメチルチオ、エチルチオ等の低級アルキルチオ基
; 例えばメチルアミノ等の低級アルキルアミノ基;例えば
シクロペンチル、シクロヘキシル等のシクロ(低級)ア
ルキル基; イ列えばシクロへキセニル、シクロへキサジェニル等の
シクロ(低級)アルケニル基;ハロゲン;アミノ基:保
護きれたアミノ基;ヒドロキシ基;保護きれたヒドロキ
シ基;シアノ基;ニトロ基;カルボキシ基;保護された
カルボキシ基;スルホ基;スルファモイル基;イミノ基
;オキソ基;例えばアミノメチル、アミノエチル等のア
ミン(低級)アルキル基: カルバモイル才キシ基; 式:=N−OR’(式中、R1は水素または適当な置換
基を有していてもよい有機基を意味する)で示きれる基
等のような1〜10個の同一または異なる適当な置換基
を有していてもよい。
キル基: 例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ等の低級アルコ
キシ基: 例えばメチルチオ、エチルチオ等の低級アルキルチオ基
; 例えばメチルアミノ等の低級アルキルアミノ基;例えば
シクロペンチル、シクロヘキシル等のシクロ(低級)ア
ルキル基; イ列えばシクロへキセニル、シクロへキサジェニル等の
シクロ(低級)アルケニル基;ハロゲン;アミノ基:保
護きれたアミノ基;ヒドロキシ基;保護きれたヒドロキ
シ基;シアノ基;ニトロ基;カルボキシ基;保護された
カルボキシ基;スルホ基;スルファモイル基;イミノ基
;オキソ基;例えばアミノメチル、アミノエチル等のア
ミン(低級)アルキル基: カルバモイル才キシ基; 式:=N−OR’(式中、R1は水素または適当な置換
基を有していてもよい有機基を意味する)で示きれる基
等のような1〜10個の同一または異なる適当な置換基
を有していてもよい。
この点に関連して、アシル部分が式: =N−OR’(
式中、R6は前と同じ意味)で示される基を置換基とし
て有する場合、二重結合の存在に起因する幾何異性体(
シン異性体およびアンチ異性体)が存在する。例えばシ
ン異性体は式:で示され、る基を有する一つの幾何異性
体を意味し、これに対応するアンチ異性体は式:%式% で示される基を有する別の幾何異性体を意味する。
式中、R6は前と同じ意味)で示される基を置換基とし
て有する場合、二重結合の存在に起因する幾何異性体(
シン異性体およびアンチ異性体)が存在する。例えばシ
ン異性体は式:で示され、る基を有する一つの幾何異性
体を意味し、これに対応するアンチ異性体は式:%式% で示される基を有する別の幾何異性体を意味する。
「適当な置換基を有していてもよい複素環(低級)アル
キル基」の好適な1複素環基」としては前記のものを挙
げることができる。
キル基」の好適な1複素環基」としては前記のものを挙
げることができる。
1適当な置換基を有していてもよい複素環(低級)アル
キル基」の好適な1置換基」としては。
キル基」の好適な1置換基」としては。
例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、第三級ブチル、ペンチル、ヘキシル等
の低級アルキル等が挙げられる。
ル、イソブチル、第三級ブチル、ペンチル、ヘキシル等
の低級アルキル等が挙げられる。
好適な「保護きれたカルボキシ基、としては。
下記のような1エステル化されたカルボキシ基」が挙げ
られる。
られる。
エステル化されたカルボキシ基のエステル部分の好適な
例としては1例えばメチルエステル、エチルエステル、
プロピルエステル、イソプロピルエステル、ブチルエス
テル、イソブチルエステル、第三級ブチルエステル、ペ
ンチルエステル。
例としては1例えばメチルエステル、エチルエステル、
プロピルエステル、イソプロピルエステル、ブチルエス
テル、イソブチルエステル、第三級ブチルエステル、ペ
ンチルエステル。
ヘキシルエステル、1−シクロプロピルエチルエステル
等の、少なくとも1個の適当な置換基を有していてもよ
い低級アルキルエステル、その例として1例えばアセト
キシメチルエステル、プロピオニルオキシメチルエステ
ル、ブチリルオキシメチルエステル、バレリルオキシメ
チルエステル。
等の、少なくとも1個の適当な置換基を有していてもよ
い低級アルキルエステル、その例として1例えばアセト
キシメチルエステル、プロピオニルオキシメチルエステ
ル、ブチリルオキシメチルエステル、バレリルオキシメ
チルエステル。
ピバロイルオキシメチルエステル、ヘキサノイルオキシ
メチルエステル、1(または2)−アセトキシエチルエ
ステル、1(または2または3)−アセトキシプロピル
エステル、1(または2または3または4)−アセトキ
シブチルエステル、1(または2)−プロピオニルオキ
シエチルエステル、1(または2または3)−プロピオ
ニルオキシプロビルエステル、1(または2)−ブチリ
ルオキシエチルエステル、1(または2)−イソブチリ
ルオキシエチルエステル、1(または2)−ピバロイル
オキシエチルエステル、1(または2)−ヘキサノイル
オキシエチルエステル、イソブチリルオキシメチルエス
テル、2−エチルブチリルオキシメチルエステル、3.
3−ジメチルブチリルオキシメチルエステル、1(また
は2)−ペンタノイルオキシエチルエステル等の低級ア
ルカノイルオキシ(低級)アルキルエステル、例えば2
−メシルエチルエステル等の低級アルカンスルホニル(
低級)アルキルエステル、例えば2−ヨードエチルエス
テル、2,2.2−トリクロロエチルエステル等のモノ
(またはジまたはトリ)−ハロ(低級)アルキルエステ
ル、例えばメトキシカルボニルオキシメチルエステル ボニルオキシメチルエステル、2−メトキシカルボニル
オキシエチルエステル、1−エトキシカルボニルオキシ
エチルエステル、1−イソプロポキシカルボニルオキシ
エチルエステル等の低級アルコキシカルボニルオキシ(
低級)アルキルエステル、ブタリジリデン(低級)アル
キルエステル。
メチルエステル、1(または2)−アセトキシエチルエ
ステル、1(または2または3)−アセトキシプロピル
エステル、1(または2または3または4)−アセトキ
シブチルエステル、1(または2)−プロピオニルオキ
シエチルエステル、1(または2または3)−プロピオ
ニルオキシプロビルエステル、1(または2)−ブチリ
ルオキシエチルエステル、1(または2)−イソブチリ
ルオキシエチルエステル、1(または2)−ピバロイル
オキシエチルエステル、1(または2)−ヘキサノイル
オキシエチルエステル、イソブチリルオキシメチルエス
テル、2−エチルブチリルオキシメチルエステル、3.
3−ジメチルブチリルオキシメチルエステル、1(また
は2)−ペンタノイルオキシエチルエステル等の低級ア
ルカノイルオキシ(低級)アルキルエステル、例えば2
−メシルエチルエステル等の低級アルカンスルホニル(
低級)アルキルエステル、例えば2−ヨードエチルエス
テル、2,2.2−トリクロロエチルエステル等のモノ
(またはジまたはトリ)−ハロ(低級)アルキルエステ
ル、例えばメトキシカルボニルオキシメチルエステル ボニルオキシメチルエステル、2−メトキシカルボニル
オキシエチルエステル、1−エトキシカルボニルオキシ
エチルエステル、1−イソプロポキシカルボニルオキシ
エチルエステル等の低級アルコキシカルボニルオキシ(
低級)アルキルエステル、ブタリジリデン(低級)アル
キルエステル。
または例えば(5−メチル−2−オキソ−1.3−ジオ
キソ−ルー4−イル)メチルエステル。
キソ−ルー4−イル)メチルエステル。
(5−エチル−2−オキソ−1.3−ジオキソ−ルー4
−イル)メチルエステル、(5−プロピル−2−オキソ
−1.3−ジオキソ−ルー4−イル)エチルエステル等
の( 5 −fffi級741L.− 2−才キソー1
.3−ジオキソ−ルー4−イル)(低級)アルキルエス
テル; 例えばビニルエステル、アリルエステル等の低級アルケ
ニルエステル; 例エバエチニルエステル、プロピニルエステル等の低級
アルキニルエステル; 例えばベンジルエステル、4−メトキシベンジルエステ
ル、4−ニトロベンジルエステル、フェネチルエステル
、トリチルエステル、ベンズヒドリルエステル、ビス(
メトキシフェニル)メチルエステル、3.4−ジメトキ
シベンジルエステル。
−イル)メチルエステル、(5−プロピル−2−オキソ
−1.3−ジオキソ−ルー4−イル)エチルエステル等
の( 5 −fffi級741L.− 2−才キソー1
.3−ジオキソ−ルー4−イル)(低級)アルキルエス
テル; 例えばビニルエステル、アリルエステル等の低級アルケ
ニルエステル; 例エバエチニルエステル、プロピニルエステル等の低級
アルキニルエステル; 例えばベンジルエステル、4−メトキシベンジルエステ
ル、4−ニトロベンジルエステル、フェネチルエステル
、トリチルエステル、ベンズヒドリルエステル、ビス(
メトキシフェニル)メチルエステル、3.4−ジメトキ
シベンジルエステル。
4−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三級ブチルベンジルエ
ステル等の少なくとも1個の適当な置換基を有していて
もよいモノ(またはジまたはトリ)フェニル(低級)ア
ルキルエステルのような,少なくとも1個の適当な置換
基を有していてもよいアル(低級)アルキルエステル; 例エバフェニルエステル、4−クロロフェニルエステル
、トリルエステル、第三級フチルフェニルエステル,キ
シリルエステル、メシチルエステル、クメニルエステル
等の少なくとも1個の置換基を有していてもよいアリー
ルエステル等のようなものが挙げられる。
ステル等の少なくとも1個の適当な置換基を有していて
もよいモノ(またはジまたはトリ)フェニル(低級)ア
ルキルエステルのような,少なくとも1個の適当な置換
基を有していてもよいアル(低級)アルキルエステル; 例エバフェニルエステル、4−クロロフェニルエステル
、トリルエステル、第三級フチルフェニルエステル,キ
シリルエステル、メシチルエステル、クメニルエステル
等の少なくとも1個の置換基を有していてもよいアリー
ルエステル等のようなものが挙げられる。
r適当な置換基を有していてもよい複素環(低級)アル
キル基」の好適な「低級アルキル基」としては、メチル
、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチ
ル、第三級ブチル、ペンチル、ヘキシル等が挙げられる
。
キル基」の好適な「低級アルキル基」としては、メチル
、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチ
ル、第三級ブチル、ペンチル、ヘキシル等が挙げられる
。
好適な「保護されたアミノ基」および「保護されたアミ
ノ基を有するアシルアミノ基」の好適な「保護されたア
ミノ部分」としては、「アシル」部分が前記のようなも
のであるアシルアミノ;ホスホノアミノ、保護されたホ
スホノアミノ;ベンジルアミノ、フェネチルアミノ、ト
リチルアミノのようなアル(低級)アルキルアミノ;等
が挙げられる。
ノ基を有するアシルアミノ基」の好適な「保護されたア
ミノ部分」としては、「アシル」部分が前記のようなも
のであるアシルアミノ;ホスホノアミノ、保護されたホ
スホノアミノ;ベンジルアミノ、フェネチルアミノ、ト
リチルアミノのようなアル(低級)アルキルアミノ;等
が挙げられる。
好適な「酸残基」としては、アシルオキシ基。
ハロゲン例えばフッ素、塩素、臭素または沃素等が挙げ
られ、′アシルオキシ基」のアシル部分については前に
例示したものを参照すればよい。
られ、′アシルオキシ基」のアシル部分については前に
例示したものを参照すればよい。
好適な「低級アルカノイル基」としては、ホルミル、ア
セチル、プロピオニル等が挙げられる。
セチル、プロピオニル等が挙げられる。
好適な「適当な置換基を有していてもよい有機基」とし
ては1例え・ばメチル、エチル、プロピル等の低級アル
キル基9例えばビニル、アリル、2−ブテニル等の低級
アルケニル基9例えばエチニル、2−プロピニル等の低
級アルキニル基2例え、ばシクロプロピル、シクロブチ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシル等のシクロ(低級
)アルキル基2例えばシクロブテニル、シクロペンテニ
ル。
ては1例え・ばメチル、エチル、プロピル等の低級アル
キル基9例えばビニル、アリル、2−ブテニル等の低級
アルケニル基9例えばエチニル、2−プロピニル等の低
級アルキニル基2例え、ばシクロプロピル、シクロブチ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシル等のシクロ(低級
)アルキル基2例えばシクロブテニル、シクロペンテニ
ル。
シクロへキセニル等のシクロ(4Uill)アルケニル
基9例えばベンジル、フェネチル等のフェニル(低級)
アルキル基のようなアル(低級)アルキル基1例えばカ
ルボキシメチル、1−力ルボキシエチル、カルボキシプ
ロピル等のカルボキシ(低級)アルキル基1例えばモノ
(またはジまたはトリ)フェニル(低級)アルコキシカ
ルボニルメチル等のエステル化諮れたカルボキシ(低級
)アルキル基のような保護されたカルボキシ(低級)ア
ルキル基1例えばヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル
等のヒドロキシ(低級)アルキル基1例えばカルボキシ
ビニル、カルボキシアリル、カルボキシ−2−ブテニル
等のカルボキシ(低級)アルケニル基、保護きれたカル
ボキシ(低級)アルケニル基等が挙げられる。
基9例えばベンジル、フェネチル等のフェニル(低級)
アルキル基のようなアル(低級)アルキル基1例えばカ
ルボキシメチル、1−力ルボキシエチル、カルボキシプ
ロピル等のカルボキシ(低級)アルキル基1例えばモノ
(またはジまたはトリ)フェニル(低級)アルコキシカ
ルボニルメチル等のエステル化諮れたカルボキシ(低級
)アルキル基のような保護されたカルボキシ(低級)ア
ルキル基1例えばヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル
等のヒドロキシ(低級)アルキル基1例えばカルボキシ
ビニル、カルボキシアリル、カルボキシ−2−ブテニル
等のカルボキシ(低級)アルケニル基、保護きれたカル
ボキシ(低級)アルケニル基等が挙げられる。
目的化合物(I)の好ましい実施態様は下記のとおりで
ある。
ある。
R1の好ましい実施態様はアミノ基、低級アルカノイル
アミノ基、低級アルコキシイミノ基を有するアミノチア
ジアゾリル(低級)アルカノイルアミノ基、低級アルケ
ニルオキシイミノ基を有するアミノチアジアゾリル(低
級)アルカノイルアミノ基、低級アルキニルオキシイミ
ノ基を有するアミノチアジアゾリル(低級)アルカノイ
ルアミノ基、カルボキシ(低級)アルコキシイミノ基を
有するアミノチアジアゾリル(低級)アルカノイルアミ
ノ基、シクロ(低級)アルケニルオキシイミノ基を有す
るアミノチアジアゾリル(低級)アルカノイルアミノ基
、シクロ(低級)アルコキシイミノ基を有するアミノチ
アジアゾリル(低級)アルカノイルアミノ基、ヒドロキ
シイミノ基を有するアミノチアジアゾリル(低級)アル
カノイルアミ7基、低級アルコキシイミノ基を有する保
護されたアミノチアゾリル(低級)アルカノイルアミノ
基[さらに好ましくは低級アルコキシイミノ基を有する
アシルアミノチアゾリル(低級)アルカノイルアミノ基
、最も好ましくは低級アルコキシイミノ基を有する低級
アルカノイルアミノチアゾリル(低級)アルカノイルア
ミノ基コ、低級アルフキジイミノ基を有するアミノチア
ゾリル(低級)アルカノイルアミノ基、低級アルケニル
オキシイミノ基を有する保護されたアミノチアゾリル(
低級)アルカノイルアミノ基、[さらに好ましくは低級
アルケニルオキシイミノ基を有するアシルアミノチアゾ
リル(低級)アルカノイルアミノ基、最も好ましくは低
級アルケニルオキシイミノを九倉す六部錫γル自ノIル
アミノチアゾリル(低級)アルカノイルアミノ基]、低
級アルケニルオキシイミノ基を有するアミノチアゾリル
(低級)アルカノイルアミノ基、低級アルキニルオキシ
イミノ基を有する保護されたアミノチアゾリル(低級)
アルカノイルアミノ基[さらに好ましくは低級アルキニ
ルオキシイミノ基を有するアシルアミノチアゾリル(低
級)アルカノイルアミノ基、最も好ましくは低級アルキ
ニルオキシイミノ基を有する低級アルカノイルアミノチ
アゾリル(低級)アルカノイルアミノ基]、低級アルキ
ニルオキンイミノ基を有するアミノチアゾリル(低級)
アルカノイルアミノ基、保護されたカルボキシ(低級)
アルコキシイミノ基を有する保護されたアミノチアゾリ
ル(低級)アルカノイルアミノ基[さらに好ましくはエ
ステル化されたカルボキシ(低級)アルコキシイミノ基
を有するアシフレアミノチアゾリル(低級)アルカノイ
ルアミノ基。
アミノ基、低級アルコキシイミノ基を有するアミノチア
ジアゾリル(低級)アルカノイルアミノ基、低級アルケ
ニルオキシイミノ基を有するアミノチアジアゾリル(低
級)アルカノイルアミノ基、低級アルキニルオキシイミ
ノ基を有するアミノチアジアゾリル(低級)アルカノイ
ルアミノ基、カルボキシ(低級)アルコキシイミノ基を
有するアミノチアジアゾリル(低級)アルカノイルアミ
ノ基、シクロ(低級)アルケニルオキシイミノ基を有す
るアミノチアジアゾリル(低級)アルカノイルアミノ基
、シクロ(低級)アルコキシイミノ基を有するアミノチ
アジアゾリル(低級)アルカノイルアミノ基、ヒドロキ
シイミノ基を有するアミノチアジアゾリル(低級)アル
カノイルアミ7基、低級アルコキシイミノ基を有する保
護されたアミノチアゾリル(低級)アルカノイルアミノ
基[さらに好ましくは低級アルコキシイミノ基を有する
アシルアミノチアゾリル(低級)アルカノイルアミノ基
、最も好ましくは低級アルコキシイミノ基を有する低級
アルカノイルアミノチアゾリル(低級)アルカノイルア
ミノ基コ、低級アルフキジイミノ基を有するアミノチア
ゾリル(低級)アルカノイルアミノ基、低級アルケニル
オキシイミノ基を有する保護されたアミノチアゾリル(
低級)アルカノイルアミノ基、[さらに好ましくは低級
アルケニルオキシイミノ基を有するアシルアミノチアゾ
リル(低級)アルカノイルアミノ基、最も好ましくは低
級アルケニルオキシイミノを九倉す六部錫γル自ノIル
アミノチアゾリル(低級)アルカノイルアミノ基]、低
級アルケニルオキシイミノ基を有するアミノチアゾリル
(低級)アルカノイルアミノ基、低級アルキニルオキシ
イミノ基を有する保護されたアミノチアゾリル(低級)
アルカノイルアミノ基[さらに好ましくは低級アルキニ
ルオキシイミノ基を有するアシルアミノチアゾリル(低
級)アルカノイルアミノ基、最も好ましくは低級アルキ
ニルオキシイミノ基を有する低級アルカノイルアミノチ
アゾリル(低級)アルカノイルアミノ基]、低級アルキ
ニルオキンイミノ基を有するアミノチアゾリル(低級)
アルカノイルアミノ基、保護されたカルボキシ(低級)
アルコキシイミノ基を有する保護されたアミノチアゾリ
ル(低級)アルカノイルアミノ基[さらに好ましくはエ
ステル化されたカルボキシ(低級)アルコキシイミノ基
を有するアシフレアミノチアゾリル(低級)アルカノイ
ルアミノ基。
最も好ましくはモノ(またはジまたはトリ)フェニル(
低級)アルコキシカルボニル(低級)アルコキシイミノ
基を有する低級アルカノイルアミノチアゾリル(低級)
アルカノイルアミノ基]、保護きれたカルボキシ(低級
)アルコキシイミノ基を有するアミノチアゾリル(低級
)アルカノイルアミノ基[さらに好ましくはエステル化
きれたカルボキシ(低級)アルコキシイミノ基を有する
アミノチアゾリル(低i)アルカノイルアミノ基。
低級)アルコキシカルボニル(低級)アルコキシイミノ
基を有する低級アルカノイルアミノチアゾリル(低級)
アルカノイルアミノ基]、保護きれたカルボキシ(低級
)アルコキシイミノ基を有するアミノチアゾリル(低級
)アルカノイルアミノ基[さらに好ましくはエステル化
きれたカルボキシ(低級)アルコキシイミノ基を有する
アミノチアゾリル(低i)アルカノイルアミノ基。
最も好ましくはモノ(またはジまたはトリ)フェニル(
低級)アルコキシカルボニル(低級)アルコキシイミノ
基を有するアミノチアゾリル(低級)アルカノイルアミ
ノ基]、カルボキシ(低級)アルコキシイミノ基を有す
るアミノチアゾリル(低級)アルカノイルアミノ基、シ
クロ(低級)アルケニルオキシイミノ基を有する保護さ
れたアミノチアゾリル(低級)アルカノイルアミノ基[
さらに好ましくはシクロ(低級)アルケニルオキシイミ
ノ基を有するアシルアミノチアゾリル(低級)アルカノ
イルアミノ基、最も好ましくはシクロ(低級)アルケニ
ルオキシイミノ基を有する低級アルカノイルアミノチア
ゾリル(低級)アルカノイルアミノ基]、シクロ(低級
)アルケニルオキシイミノ基を有するアミノチアゾリル
(低級)アルカノイルアミノ基、または保護されたアミ
ノ基を有するヒドロキシフェニル(低級)アルカノイル
アミノ基[さらに好ましくはアシルアミノ基を有するヒ
ドロキシフェニル(低級)アルカノイルアミノ基、最も
好ましくはジオキソ基および低級アルキル基で置換され
たピペラジニルカルボニルアミノ基を有するヒドロキシ
フェニル(低級)アルカノイルアミノ基、]; R′の好ましい実施態様はピリジル基または複素環(低
級)アルキル基、[さらに好ましくはピリジルメチル基
]; R3の好ましい実施態様はカルボキシ基または保護され
たカルボキシ基、[さらに好ましくはエステル化された
カルボキシ基、最も好ましくはモノ(またはジまたはト
リ)フェニル(低級)アルコ・キシカルボニル基または
低級アルカノイルオキシ(低級)アルフキジカルボニル
基]である。
低級)アルコキシカルボニル(低級)アルコキシイミノ
基を有するアミノチアゾリル(低級)アルカノイルアミ
ノ基]、カルボキシ(低級)アルコキシイミノ基を有す
るアミノチアゾリル(低級)アルカノイルアミノ基、シ
クロ(低級)アルケニルオキシイミノ基を有する保護さ
れたアミノチアゾリル(低級)アルカノイルアミノ基[
さらに好ましくはシクロ(低級)アルケニルオキシイミ
ノ基を有するアシルアミノチアゾリル(低級)アルカノ
イルアミノ基、最も好ましくはシクロ(低級)アルケニ
ルオキシイミノ基を有する低級アルカノイルアミノチア
ゾリル(低級)アルカノイルアミノ基]、シクロ(低級
)アルケニルオキシイミノ基を有するアミノチアゾリル
(低級)アルカノイルアミノ基、または保護されたアミ
ノ基を有するヒドロキシフェニル(低級)アルカノイル
アミノ基[さらに好ましくはアシルアミノ基を有するヒ
ドロキシフェニル(低級)アルカノイルアミノ基、最も
好ましくはジオキソ基および低級アルキル基で置換され
たピペラジニルカルボニルアミノ基を有するヒドロキシ
フェニル(低級)アルカノイルアミノ基、]; R′の好ましい実施態様はピリジル基または複素環(低
級)アルキル基、[さらに好ましくはピリジルメチル基
]; R3の好ましい実施態様はカルボキシ基または保護され
たカルボキシ基、[さらに好ましくはエステル化された
カルボキシ基、最も好ましくはモノ(またはジまたはト
リ)フェニル(低級)アルコ・キシカルボニル基または
低級アルカノイルオキシ(低級)アルフキジカルボニル
基]である。
目的化合物(I)の好適な分子内または分子間第四級塩
としては、7−[2−(2−保護されたアミノチアゾー
ル−4−イル)−2−低級アルコキシイミノアセトアミ
ド]−3−(1−低級アルキルー3−ピリジニオチオ)
−3−セフェム−4−カルボン酸モノ(またはジまたは
トリ)フェニル(低級)アルキル・ハロゲン(1,7−
[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−低級
アルコキシイミノアセトアミド]−3−(1−低級アル
キルー3−ピリジニオチオ)−3−セフェム−4−カル
ボン酸モノ(またはジまたはトリ)フェニル(低級)ア
ルキル・ハロゲン化物、7−[2−(2−保護されたア
ミノチアゾール−4−イル)−2−保護されたカルボキ
シ(低級)アルコキシイミノアセトアミド]−3−(1
−低級アルキルー3−ピリジニオチオ)−3−セフェム
−4−カルボン酸モノ(またはジまたはトリ)フェニル
(低級)アルキル・ハロゲン化物、7−[2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)−2−保護されたカルボキ
シ(低級)アルコキシイミノアセトアミトコ−3−(1
−低級アルキルー3−ピリジニオチオ)−3−セフェム
−4−カルボン酸モノ(またはジまたはトリ)フェニル
低級アルキル・ハロゲン化物、7−[2−(5−アミノ
−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2−低級
アルコキシイミノアセトアミトコー3−[1−低級アル
キルー3−ピリジニオチオ)−3−セフェム−4−カル
ボン酸モノ(またはジまたはトリ)フェニル(低級)ア
ルキル・ハロゲン化物。
としては、7−[2−(2−保護されたアミノチアゾー
ル−4−イル)−2−低級アルコキシイミノアセトアミ
ド]−3−(1−低級アルキルー3−ピリジニオチオ)
−3−セフェム−4−カルボン酸モノ(またはジまたは
トリ)フェニル(低級)アルキル・ハロゲン(1,7−
[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−低級
アルコキシイミノアセトアミド]−3−(1−低級アル
キルー3−ピリジニオチオ)−3−セフェム−4−カル
ボン酸モノ(またはジまたはトリ)フェニル(低級)ア
ルキル・ハロゲン化物、7−[2−(2−保護されたア
ミノチアゾール−4−イル)−2−保護されたカルボキ
シ(低級)アルコキシイミノアセトアミド]−3−(1
−低級アルキルー3−ピリジニオチオ)−3−セフェム
−4−カルボン酸モノ(またはジまたはトリ)フェニル
(低級)アルキル・ハロゲン化物、7−[2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)−2−保護されたカルボキ
シ(低級)アルコキシイミノアセトアミトコ−3−(1
−低級アルキルー3−ピリジニオチオ)−3−セフェム
−4−カルボン酸モノ(またはジまたはトリ)フェニル
低級アルキル・ハロゲン化物、7−[2−(5−アミノ
−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2−低級
アルコキシイミノアセトアミトコー3−[1−低級アル
キルー3−ピリジニオチオ)−3−セフェム−4−カル
ボン酸モノ(またはジまたはトリ)フェニル(低級)ア
ルキル・ハロゲン化物。
7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2−低級アルケニルオキシイミノアセト
アミド]−3−(1−低級アルキルー3−ピリジニオチ
オ)−3−セフェム−4−カルボン酸モノ(またはジま
たはトリ)フェニル低級アルキル・ハロゲン化物、7−
[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−低級
アルコキシイミノアセトアミド]−3−(1−低級アル
キルー3−ピリジニオチオ)−3−セフェム−4−カル
ボキシレート、?−[2−(2−アミノチアゾール−4
−イル)−2−カルボキシ(低級)アルコキシイミノア
セトアミド]−3−(1−低級アルキルー3−ピリジニ
オチオ)−3−セフェム−4−カルボキシレート、7−
[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3
−イル)−2−(低級アルコキシイミノ)アセトアミド
]−3−(1−低級アルキルー3−ピリジニオチオ)−
3−セフェム−4−カルボキシレート、7−[2−(5
−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−
2−(低級アルケニルオキシイミノ)アセトアミド]−
3−(1−低級アルキルー3−ピリジニオチオ)−3−
セフェム−4−カルボキシレート、7−[2−(2−保
護されたアミノチアゾール−4−イル)−2−低級アル
コキシイミノアセトアミド]−3−[1−低級アルキル
−3−ピリジニオ(低級)アルキルチオ]−3−セフェ
ム−4−カルボン酸モノ(またはジまたはトリ)フェニ
ル(低級)アルキル番ハロゲン化物、7−[2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−低級アルコキシイ
ミノアセトアミド]−3−[1−低級アルキルー3−ピ
リジニオ(低級)アルキルチオツー3−セフェム−4−
カルボン酸モノ(またはジまたはトリ)フェニル(低級
)アルキル・ハロゲン化物、7−[2−(2−保護され
たアミノチアゾール−4−イル)−2−保護されたカル
ボキシ(低級)アルコキシイミノアセトアミド]−3−
[1−低級アルキルー3−ピリジニオ(低級)アルキル
チオ−1−3−セフェム−4−カルボン酸モノ(または
ジまたはトリ)フェニル(低級)アルキル・ハロゲン(
I[,7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−保護されたカルボキシ(低級)アルコキシイミノ
アセトアミド]−3−[1−低級アルキルー3−ピリジ
ニオ(イ氏級)アルキルチオコー3−セフェムニ4−カ
ルボン酸モノ(またはジまたはトリ)フェニル(低級)
アルキル・ハロゲン化物、7−[2−(5−アミノ−1
,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2−低級アル
コキシイミノアセトアミド]−3−[1−低級アルキル
ー3−ピリジニオ(低級)アルキルチオ]−3−セフェ
ム−4−カルボン酸モノ(またはジまたはトリ)フェニ
ル(低級)アルキル・ハロゲン化物、7−[2−(5−
アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2
−低級アルケニルオキシイミノアセトアミド]−3−[
1−低級アルキルー3−ピリジニオ(低級)アルキルチ
オツー3−セフェム−4−カルボン酸モノ(またはジま
たはトリ)フェニル(低級)アルキル・ハロゲン化物、
7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
低級アルコキシイミノアセトアミド]−3−[1−4級
アルキル−3−ピリジニオ(低級)アルキルチオ]−3
−セフェム−4−力Jレボキシレート、7− [2−(
2−アミノチアゾール−4−イル)−2−カルボキシ(
低級)アルコキシイミノアセトアミド]−3−[1−低
級アルキルー3−ピリジニオ(低級)アルキルチオ]−
3−セフェム−4−カルボキシレート、?−[2−(5
−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−
2−低級アルコキシイミノアセトアミド]−3−[1−
低級アルキルー3−ピリジニオ(低級)アルキルチオ]
−3−セフェム−4−カルボキシレート。
−3−イル)−2−低級アルケニルオキシイミノアセト
アミド]−3−(1−低級アルキルー3−ピリジニオチ
オ)−3−セフェム−4−カルボン酸モノ(またはジま
たはトリ)フェニル低級アルキル・ハロゲン化物、7−
[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−低級
アルコキシイミノアセトアミド]−3−(1−低級アル
キルー3−ピリジニオチオ)−3−セフェム−4−カル
ボキシレート、?−[2−(2−アミノチアゾール−4
−イル)−2−カルボキシ(低級)アルコキシイミノア
セトアミド]−3−(1−低級アルキルー3−ピリジニ
オチオ)−3−セフェム−4−カルボキシレート、7−
[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3
−イル)−2−(低級アルコキシイミノ)アセトアミド
]−3−(1−低級アルキルー3−ピリジニオチオ)−
3−セフェム−4−カルボキシレート、7−[2−(5
−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−
2−(低級アルケニルオキシイミノ)アセトアミド]−
3−(1−低級アルキルー3−ピリジニオチオ)−3−
セフェム−4−カルボキシレート、7−[2−(2−保
護されたアミノチアゾール−4−イル)−2−低級アル
コキシイミノアセトアミド]−3−[1−低級アルキル
−3−ピリジニオ(低級)アルキルチオ]−3−セフェ
ム−4−カルボン酸モノ(またはジまたはトリ)フェニ
ル(低級)アルキル番ハロゲン化物、7−[2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2−低級アルコキシイ
ミノアセトアミド]−3−[1−低級アルキルー3−ピ
リジニオ(低級)アルキルチオツー3−セフェム−4−
カルボン酸モノ(またはジまたはトリ)フェニル(低級
)アルキル・ハロゲン化物、7−[2−(2−保護され
たアミノチアゾール−4−イル)−2−保護されたカル
ボキシ(低級)アルコキシイミノアセトアミド]−3−
[1−低級アルキルー3−ピリジニオ(低級)アルキル
チオ−1−3−セフェム−4−カルボン酸モノ(または
ジまたはトリ)フェニル(低級)アルキル・ハロゲン(
I[,7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−保護されたカルボキシ(低級)アルコキシイミノ
アセトアミド]−3−[1−低級アルキルー3−ピリジ
ニオ(イ氏級)アルキルチオコー3−セフェムニ4−カ
ルボン酸モノ(またはジまたはトリ)フェニル(低級)
アルキル・ハロゲン化物、7−[2−(5−アミノ−1
,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2−低級アル
コキシイミノアセトアミド]−3−[1−低級アルキル
ー3−ピリジニオ(低級)アルキルチオ]−3−セフェ
ム−4−カルボン酸モノ(またはジまたはトリ)フェニ
ル(低級)アルキル・ハロゲン化物、7−[2−(5−
アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2
−低級アルケニルオキシイミノアセトアミド]−3−[
1−低級アルキルー3−ピリジニオ(低級)アルキルチ
オツー3−セフェム−4−カルボン酸モノ(またはジま
たはトリ)フェニル(低級)アルキル・ハロゲン化物、
7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
低級アルコキシイミノアセトアミド]−3−[1−4級
アルキル−3−ピリジニオ(低級)アルキルチオ]−3
−セフェム−4−力Jレボキシレート、7− [2−(
2−アミノチアゾール−4−イル)−2−カルボキシ(
低級)アルコキシイミノアセトアミド]−3−[1−低
級アルキルー3−ピリジニオ(低級)アルキルチオ]−
3−セフェム−4−カルボキシレート、?−[2−(5
−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−
2−低級アルコキシイミノアセトアミド]−3−[1−
低級アルキルー3−ピリジニオ(低級)アルキルチオ]
−3−セフェム−4−カルボキシレート。
7−[2−(5−アミノ)−1,2,4−チアジアゾー
ル−3−イル)−2−低級アルケニルオキシイミノ)ア
セトアミド] −3−[’l−低級アルキルー3−ピリ
ジニオ(低級)アルキルチオコー3−セフェム−4−カ
ルボキシレート等が挙げられる。
ル−3−イル)−2−低級アルケニルオキシイミノ)ア
セトアミド] −3−[’l−低級アルキルー3−ピリ
ジニオ(低級)アルキルチオコー3−セフェム−4−カ
ルボキシレート等が挙げられる。
この発明の目的化合物の製造法を以下詳細に説明する。
1遣迭ユ
目的化合物(Ib)またはその塩は、化合物(Ia)ま
たはそのアミノ基における反応性誘導体またはその塩を
アシル化反応に付すことにより製造することができる。
たはそのアミノ基における反応性誘導体またはその塩を
アシル化反応に付すことにより製造することができる。
化合物(Ig>のアミノ基における好適な反応性誘導体
としては、化合物(Ia)とアルデヒド、ケトン等のよ
うなカルボニル化合物との反応によって生成するシッフ
の塩基型イミノ基またはそのエナミン型互変異性体;化
合物(Ia)とビス(トリメチルシリル)アセトアミド
、モノ(トリメチルシリル)アセトアミド、ビス(トリ
メチルシリル)尿素等のようなシリル化合物との反応に
よって生成するシリル誘導体;化合物(La)と三塩化
燐またはホスゲンとの反応によって生成する誘導体等が
挙げられる。
としては、化合物(Ia)とアルデヒド、ケトン等のよ
うなカルボニル化合物との反応によって生成するシッフ
の塩基型イミノ基またはそのエナミン型互変異性体;化
合物(Ia)とビス(トリメチルシリル)アセトアミド
、モノ(トリメチルシリル)アセトアミド、ビス(トリ
メチルシリル)尿素等のようなシリル化合物との反応に
よって生成するシリル誘導体;化合物(La)と三塩化
燐またはホスゲンとの反応によって生成する誘導体等が
挙げられる。
このアシル化反応に使用される好適なアシル化剤として
は慣用のアシル化剤が挙げられ。
は慣用のアシル化剤が挙げられ。
一般式: R’−0H(XI)(式中、R7はアシル基
を意味する)で示されうるもの、またはその反応性誘導
体またはその塩である。
を意味する)で示されうるもの、またはその反応性誘導
体またはその塩である。
化合物(Ia)および(Ib)の好適な塩類としては、
化合物(I)について例示したようなものを挙げること
ができる。
化合物(I)について例示したようなものを挙げること
ができる。
化合物(xl)の好適な塩としては、無機塩基との塩、
その例として2例えばナトリウム塩、カリウム塩等のア
ルカリ金属塩9例えばカルシウム塩。
その例として2例えばナトリウム塩、カリウム塩等のア
ルカリ金属塩9例えばカルシウム塩。
マグネシウム塩等のアルカリ土金属塩、アンモニウム塩
;有機塩基との塩、その例として9例えばトリエチルア
ミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、エタノールアミン塩
、トリエタノールアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩
、N、N’−ジベンジルエチレンジアミン塩等の有機ア
ミン塩等;例えば塩酸塩、臭化水素酸°塩、硫酸塩、燐
酸塩等の無機酸付加塩;例えばギ酸塩、酢酸塩、トリフ
ルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホ
ン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p−トルエンスルホン
酸塩等の有機カルボン酸または有機スルホン酸付加塩;
例えばアルギニン、アスパラギン酸、グルタミン酸等の
塩基性または酸性アミノ酸との塩;等のような塩基との
塩または酸付加塩が挙げられる。
;有機塩基との塩、その例として9例えばトリエチルア
ミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、エタノールアミン塩
、トリエタノールアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩
、N、N’−ジベンジルエチレンジアミン塩等の有機ア
ミン塩等;例えば塩酸塩、臭化水素酸°塩、硫酸塩、燐
酸塩等の無機酸付加塩;例えばギ酸塩、酢酸塩、トリフ
ルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホ
ン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p−トルエンスルホン
酸塩等の有機カルボン酸または有機スルホン酸付加塩;
例えばアルギニン、アスパラギン酸、グルタミン酸等の
塩基性または酸性アミノ酸との塩;等のような塩基との
塩または酸付加塩が挙げられる。
化合物(xl)の好適な反応性誘導体としては、酸ハロ
ゲン化物、酸アジド、酸無水物、活性化アミド、活性化
エステル等が挙げられる。その好適な例は酸塩化物;酸
アジド;例えばジアルキル燐酸、フェニル燐酸、ジフェ
ニル燐酸、ジベンジル燐酸、ハロゲン化燐酸等の置換さ
れた燐酸、ジアルキル亜燐酸、亜硫酸、チオ硫酸、硫酸
1例えばメタンスルホン酸等のスルホン酸、アルキル炭
酸9例えばピバリン酸、ペンタン酸、イソペンタン酸、
2−エチル酪酸またはトリクロロ酢酸等の脂肪族カルボ
ン酸または例えば安息香酸等の芳香族カルボン酸δよう
な酸との混合酸無水物;対称酸無水物;イミダゾール、
4−置換イミダゾール、ジメチルピラゾール、トリアゾ
ールまたはテトラゾールとの活性化アミド;または例え
ばシアンメチルエステルごメトキシメチルエステル、ジ
メチルイミノメチルエステル[(cHs)*N−c)I
−]エステル、ビニルエステル、プロパルギルエステル
、p−ニトロフェニルエステル、2.4−ジニトロフェ
ニルエステル、トリクロロフェニルエステル、ペンタク
ロロフェニルエステル、メシルフェニルエステル、フェ
ニルアゾフェニルエステル、フェニルチオエステル、p
−ニトロフェニルチオエステル、p−クレジルチオエス
テル、カルボキンメチルチオエステル、ピラニルエステ
ル。
ゲン化物、酸アジド、酸無水物、活性化アミド、活性化
エステル等が挙げられる。その好適な例は酸塩化物;酸
アジド;例えばジアルキル燐酸、フェニル燐酸、ジフェ
ニル燐酸、ジベンジル燐酸、ハロゲン化燐酸等の置換さ
れた燐酸、ジアルキル亜燐酸、亜硫酸、チオ硫酸、硫酸
1例えばメタンスルホン酸等のスルホン酸、アルキル炭
酸9例えばピバリン酸、ペンタン酸、イソペンタン酸、
2−エチル酪酸またはトリクロロ酢酸等の脂肪族カルボ
ン酸または例えば安息香酸等の芳香族カルボン酸δよう
な酸との混合酸無水物;対称酸無水物;イミダゾール、
4−置換イミダゾール、ジメチルピラゾール、トリアゾ
ールまたはテトラゾールとの活性化アミド;または例え
ばシアンメチルエステルごメトキシメチルエステル、ジ
メチルイミノメチルエステル[(cHs)*N−c)I
−]エステル、ビニルエステル、プロパルギルエステル
、p−ニトロフェニルエステル、2.4−ジニトロフェ
ニルエステル、トリクロロフェニルエステル、ペンタク
ロロフェニルエステル、メシルフェニルエステル、フェ
ニルアゾフェニルエステル、フェニルチオエステル、p
−ニトロフェニルチオエステル、p−クレジルチオエス
テル、カルボキンメチルチオエステル、ピラニルエステ
ル。
ピリジルエステル、ピペリジルエステル、8−キノリル
チオエステル等の活性化エステル、または例えばN、N
−ジメチルヒドロキシルアミン、1−ヒドロキシ−2−
(IH)−ピリドン、N−ヒドロキシスクシンイミド、
N−ヒドロキシフタルイミド、1−ヒドロキシ−6−ク
ロロ−IH−ベンゾトリアゾール等のN−ヒドロキシ化
合物とのエステル等が挙げられる。これらの反応性誘導
体は使用すべき化合物(XI)の種類に応じてそれらの
中から任意に選択することができる。
チオエステル等の活性化エステル、または例えばN、N
−ジメチルヒドロキシルアミン、1−ヒドロキシ−2−
(IH)−ピリドン、N−ヒドロキシスクシンイミド、
N−ヒドロキシフタルイミド、1−ヒドロキシ−6−ク
ロロ−IH−ベンゾトリアゾール等のN−ヒドロキシ化
合物とのエステル等が挙げられる。これらの反応性誘導
体は使用すべき化合物(XI)の種類に応じてそれらの
中から任意に選択することができる。
反応は通常、水2例えばメタノール、エタノール等のア
ルコール、アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、ク
ロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒド
ロフラン、酢酸エチル。
ルコール、アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、ク
ロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒド
ロフラン、酢酸エチル。
N、N−ジメチルホルムアミド、ピリジンのような慣用
の溶媒中で行なわれるが1反応に悪影響を及ぼさない溶
媒であればその他のいかなる溶媒中でも反応を行なうこ
とができる。これらの慣用の溶媒は水と混合して使用し
てもよい。
の溶媒中で行なわれるが1反応に悪影響を及ぼさない溶
媒であればその他のいかなる溶媒中でも反応を行なうこ
とができる。これらの慣用の溶媒は水と混合して使用し
てもよい。
化合物(xl)を遊離酸の形またはその塩の形で反応に
使用する場合、N、N’−ジシクロへキシルカルボジイ
ミド;N−シクロへキシル−N゛−モルホリノエチルカ
ルボジイミド二N−シクロへキシル−N゛−(4−ジエ
チルアミノシクロヘキシル)カルボジイミド、N、N’
−ジエチルカルボジイミド FAN−エチル−N’−(3−ジメチルアミノプロピル
)カルボジイミド;N、N−カルボニルビスケテン−N
−シクロヘキシルイミン;ジフェニルケテン−N−シク
ロヘキシルイミン;エトキシアセチレン;′1ーアルフ
キシー1ークロロエチレン;亜燐酸トリアルキル;ポリ
燐酸エチル:ポリ燐酸イソプロピル;オキシ塩化燐(塩
化ホスホリル);三塩化燐;塩化チオニル;塩化オキザ
リル;トリフェニルホスフィン;2−エチル−7−ヒド
ロキシベンズイソオキサゾリウム塩;2−エチル−5−
(m−スルホフェニル)イソオキサゾリウムヒドロキシ
ド分子内塩;1−(p−クロロベンゼンスルホニルオキ
シ)−6−クロロ−IH−ベンゾトリアゾール、N.N
−ジメチルホルムアミドと塩化チオニル、ホスゲン、ク
ロロギ酸トリクロロメチル、オキシ塩化燐等との反応に
よって調製したいわゆるビルスマイヤー試薬;等のよう
な常用の縮合剤の存在下に反応を行うのが好ましい。
使用する場合、N、N’−ジシクロへキシルカルボジイ
ミド;N−シクロへキシル−N゛−モルホリノエチルカ
ルボジイミド二N−シクロへキシル−N゛−(4−ジエ
チルアミノシクロヘキシル)カルボジイミド、N、N’
−ジエチルカルボジイミド FAN−エチル−N’−(3−ジメチルアミノプロピル
)カルボジイミド;N、N−カルボニルビスケテン−N
−シクロヘキシルイミン;ジフェニルケテン−N−シク
ロヘキシルイミン;エトキシアセチレン;′1ーアルフ
キシー1ークロロエチレン;亜燐酸トリアルキル;ポリ
燐酸エチル:ポリ燐酸イソプロピル;オキシ塩化燐(塩
化ホスホリル);三塩化燐;塩化チオニル;塩化オキザ
リル;トリフェニルホスフィン;2−エチル−7−ヒド
ロキシベンズイソオキサゾリウム塩;2−エチル−5−
(m−スルホフェニル)イソオキサゾリウムヒドロキシ
ド分子内塩;1−(p−クロロベンゼンスルホニルオキ
シ)−6−クロロ−IH−ベンゾトリアゾール、N.N
−ジメチルホルムアミドと塩化チオニル、ホスゲン、ク
ロロギ酸トリクロロメチル、オキシ塩化燐等との反応に
よって調製したいわゆるビルスマイヤー試薬;等のよう
な常用の縮合剤の存在下に反応を行うのが好ましい。
この反応はまたアルカリ金属炭酸水素塩,トリ(低級)
アルキルアミン、ピリジン、N−(低級)アルキルモル
ホリン、N,N−ジ(低級)アルキルベンジルアミン等
のような無機塩基または有機塩基の存在下に行ってもよ
い。
アルキルアミン、ピリジン、N−(低級)アルキルモル
ホリン、N,N−ジ(低級)アルキルベンジルアミン等
のような無機塩基または有機塩基の存在下に行ってもよ
い。
反応温度は特に限定されず,通常は冷却下または常温で
反応が行われる。
反応が行われる。
艶点豊遣
目的化合物(Id)またはその塩は,化合物( I c
)またはその塩に化合物(I[)を作用させることによ
り製造することができる。
)またはその塩に化合物(I[)を作用させることによ
り製造することができる。
化合物(Ic)の好適な塩は,化合物(xl)について
例示したものを参照すればよい。
例示したものを参照すればよい。
化合物(Id>の好適な塩は,化合物(I)について例
示したものを参照すればよい。
示したものを参照すればよい。
反応は通常,水,アセトン、テトラヒドロフラン、エタ
ノール、エーテル+N+N ’/メチルホルムアミド
のような溶媒中で行われるが,反応に悪影響を及ぼさな
い溶媒であれば,その他のいかなる溶媒中でも反応を行
うことができる。
ノール、エーテル+N+N ’/メチルホルムアミド
のような溶媒中で行われるが,反応に悪影響を及ぼさな
い溶媒であれば,その他のいかなる溶媒中でも反応を行
うことができる。
反応温度は特に限定されず,通常冷却下ないし加熱下に
反応が行われる。
反応が行われる。
R”がカルボキシ基である化合物(Id)が常法によっ
て,すなわち、化合物<Id)を塩基で処理することに
よってその分子内第四級塩に変化する場合もこの発明の
範囲内に包含される。
て,すなわち、化合物<Id)を塩基で処理することに
よってその分子内第四級塩に変化する場合もこの発明の
範囲内に包含される。
製造法3
目的化合物(If)またはその塩は,化合物( I e
)またはその塩をアミン保護基の脱離反応に付すことに
より製造することができる。
)またはその塩をアミン保護基の脱離反応に付すことに
より製造することができる。
化合物(Ie)および(If)の好適な塩は,化合物(
I)について例示したものを参照すればよい。
I)について例示したものを参照すればよい。
この脱離反応は,加水分解;還元;保護基がアシル基で
ある化合物(Ie)をイミノハロゲン化剤。
ある化合物(Ie)をイミノハロゲン化剤。
次いでイミノエーテル化剤と反応させ,必要に応じて生
成物を加水分解に付すことによる方法等のような常法に
従って行われる.加水分解には酸または塩基またはヒド
ラジンを使用する方法等が含まれる.これらの方法は脱
離すべき保護基の種類によって選択すればよい。
成物を加水分解に付すことによる方法等のような常法に
従って行われる.加水分解には酸または塩基またはヒド
ラジンを使用する方法等が含まれる.これらの方法は脱
離すべき保護基の種類によって選択すればよい。
これらの方法の中で酸を使用する加水分解は。
例えば第三級ペンチルオキシカルボニル、第三級ブトキ
シカルボニル等の置換されたまたは非置換アルコキシカ
ルボニル基,例えばホルミル等のアルカノイル基,シク
ロアルコキシカルボニル基。
シカルボニル等の置換されたまたは非置換アルコキシカ
ルボニル基,例えばホルミル等のアルカノイル基,シク
ロアルコキシカルボニル基。
例えばベンジルオキシカルボニル、置換されたベンジル
オキシカルボニル等の置換されたまたは非置換アラルコ
キシカルボニル基,例えばベンジル、トリチル等のアル
(低級)アルキル基等のような保護基の脱離に共通した
好ましい方法の一つである。
オキシカルボニル等の置換されたまたは非置換アラルコ
キシカルボニル基,例えばベンジル、トリチル等のアル
(低級)アルキル基等のような保護基の脱離に共通した
好ましい方法の一つである。
好適な酸としては有機酸または無機酸,例えハ,キ酸,
トリフルオロ酢酸,ベンゼンスルホン酸,p−トルエン
スルホン酸,塩酸等が挙げられ,さらに好ましい酸は,
例えばギ酸,トリフルオロ酢酸,塩酸等である。反応に
適した酸は脱離すべき保護基の種類によって選択すれば
よい.脱離反応を酸で行う場合,溶媒の存在下または溶
媒なしで反応を行うことができる。好適な溶媒としては
9例えばメタノール、エタノール、テトラヒドロフラン
等の有機溶媒、水またはそれらの混合物が挙げられる。
トリフルオロ酢酸,ベンゼンスルホン酸,p−トルエン
スルホン酸,塩酸等が挙げられ,さらに好ましい酸は,
例えばギ酸,トリフルオロ酢酸,塩酸等である。反応に
適した酸は脱離すべき保護基の種類によって選択すれば
よい.脱離反応を酸で行う場合,溶媒の存在下または溶
媒なしで反応を行うことができる。好適な溶媒としては
9例えばメタノール、エタノール、テトラヒドロフラン
等の有機溶媒、水またはそれらの混合物が挙げられる。
トリフルオロ酢酸を使用する場合、脱離反応をアニソー
ルの存在下に行うのが好ましい。
ルの存在下に行うのが好ましい。
ヒドラジンを使用する加水分解は保護基9例えばスクシ
ニル、フタロイルの脱−に一般的に適用される。
ニル、フタロイルの脱−に一般的に適用される。
塩基による加水分解はアシル基の脱離、その例を挙げる
と1例えばジクロロアセチル、トリフルオロアセチル等
のハロアルカノイル基等の脱離に適用するのが好ましい
。好適な塩基の例としては2例えば水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物2例えば水酸
化マグネシウム、水酸化カルシウム等のアルカリ土金属
水酸化物2例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
セシウム等のアルカリ金属炭酸塩1例えば炭酸マグネシ
ウム、炭酸カルシウム等のアルカリ土金属炭酸塩9例え
ば炭酸水素ナトリウム、*酸水素カリウム等のアルカリ
金属炭酸水素塩9例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウム
等のアルカリ金属酢酸塩2例えば燐酸マグネシウム、燐
酸カルシウム等のアルカリ土金属燐酸塩9例えば燐酸水
素ニナトリウム、燐酸水素二カリウム等のアルカリ金属
燐酸水素塩等のような無機塩基1例えばトリメチルアミ
ン、トリエチルアミン等のトリアルキルアミン、ピコリ
ン、N−メチルピロリジン、N−メチルモルホリン、1
.5−ジアザビシクロ[4゜3.0]ノン−5−エン、
、、1.’、 4−ジアザビシクロ[2,2,2コオ
クタン−1,5−ジアザビシクロ[5,4,0]]ウン
デセンー5のような有機塩基が挙げられる。塩基を使用
する加水分解はしばしば水、慣用の有機溶媒またはそれ
らの混合物中で行われる。
と1例えばジクロロアセチル、トリフルオロアセチル等
のハロアルカノイル基等の脱離に適用するのが好ましい
。好適な塩基の例としては2例えば水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物2例えば水酸
化マグネシウム、水酸化カルシウム等のアルカリ土金属
水酸化物2例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
セシウム等のアルカリ金属炭酸塩1例えば炭酸マグネシ
ウム、炭酸カルシウム等のアルカリ土金属炭酸塩9例え
ば炭酸水素ナトリウム、*酸水素カリウム等のアルカリ
金属炭酸水素塩9例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウム
等のアルカリ金属酢酸塩2例えば燐酸マグネシウム、燐
酸カルシウム等のアルカリ土金属燐酸塩9例えば燐酸水
素ニナトリウム、燐酸水素二カリウム等のアルカリ金属
燐酸水素塩等のような無機塩基1例えばトリメチルアミ
ン、トリエチルアミン等のトリアルキルアミン、ピコリ
ン、N−メチルピロリジン、N−メチルモルホリン、1
.5−ジアザビシクロ[4゜3.0]ノン−5−エン、
、、1.’、 4−ジアザビシクロ[2,2,2コオ
クタン−1,5−ジアザビシクロ[5,4,0]]ウン
デセンー5のような有機塩基が挙げられる。塩基を使用
する加水分解はしばしば水、慣用の有機溶媒またはそれ
らの混合物中で行われる。
保護基中アシル基は通常、前記加水分解法またはその他
の慣用の加水分解法によって脱離することができる。ア
シル基がハロゲン置換アルコキシカルボニル基または8
−キノリルオキシカルボニル基である場合には、これら
は銅、亜鉛等のような重金属処理によって脱離きれる。
の慣用の加水分解法によって脱離することができる。ア
シル基がハロゲン置換アルコキシカルボニル基または8
−キノリルオキシカルボニル基である場合には、これら
は銅、亜鉛等のような重金属処理によって脱離きれる。
還元による脱離は通常、保護基、その例を挙げると1例
えばトリクロロエトキシカルボニル等のハロアルコキシ
カルボニル基1例えばベンジルオキシカルボニル基、置
換されたベンジルオキシカルボニル基等の置換されたま
たは非置換アラルコキシカルボニル基、2−ピリジルメ
トキシカルボニル基等の脱離に適用される。
えばトリクロロエトキシカルボニル等のハロアルコキシ
カルボニル基1例えばベンジルオキシカルボニル基、置
換されたベンジルオキシカルボニル基等の置換されたま
たは非置換アラルコキシカルボニル基、2−ピリジルメ
トキシカルボニル基等の脱離に適用される。
好適な還元法の例を挙げると2例えば水素化ホウ素ナト
リウム等の水素化ホウ素アルカリ金属による還元等であ
る。
リウム等の水素化ホウ素アルカリ金属による還元等であ
る。
反応温度は特に限定されず、アミン保護基の種類および
前記脱離法の種類によって適宜選択すればよいが、この
反応は冷却下、常温または若干加温する程度の温和な条
件下に行うのが好ましい。
前記脱離法の種類によって適宜選択すればよいが、この
反応は冷却下、常温または若干加温する程度の温和な条
件下に行うのが好ましい。
1産迭1
目的化合物(Ih)またはその塩は、化合物(I g)
またはその塩をカルボキシ保護基の脱離反応に付すこと
により製造することができる。
またはその塩をカルボキシ保護基の脱離反応に付すこと
により製造することができる。
化合物(Ig>および(Ih)の好適な塩としては。
化合物(I)について例示したものを挙げることができ
る。
る。
この反応は加水分解、還元等のような慣用の方法によっ
て行われる。
て行われる。
保護基がエステルである場合には、加水分解によって保
護基を脱離することができる。加水分解は塩基またはル
イス酸を含む酸の存在下に行うのが好ましい。好適な塩
基としては2例えばナトリウム、カリウム等のアルカリ
金属1例えばマグネシワム、カルシウム等のアルカリ土
金属、それらの金属の水酸化物または炭酸塩または炭酸
水素塩2例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン等
のトリアルキルアミン、ピリジン、ピコリン。
護基を脱離することができる。加水分解は塩基またはル
イス酸を含む酸の存在下に行うのが好ましい。好適な塩
基としては2例えばナトリウム、カリウム等のアルカリ
金属1例えばマグネシワム、カルシウム等のアルカリ土
金属、それらの金属の水酸化物または炭酸塩または炭酸
水素塩2例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン等
のトリアルキルアミン、ピリジン、ピコリン。
1.5−ジアザビシクロ[4,3,0]]ノンー5−エ
ン1.4−ジアザビシクロ[2,2,21オクタン、1
.8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデセン−7等
のような無機塩基および有機塩基が挙げられる。好適な
酸としては1例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリク
ロロ酢酸、トリフルオ、口酢酸等の有機酸、および1例
えば塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機酸が挙げられる。
ン1.4−ジアザビシクロ[2,2,21オクタン、1
.8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデセン−7等
のような無機塩基および有機塩基が挙げられる。好適な
酸としては1例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリク
ロロ酢酸、トリフルオ、口酢酸等の有機酸、および1例
えば塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機酸が挙げられる。
例えばトリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等のトリハロ
酢酸等のようなルイス酸を使用する脱離は2例えばアニ
ソール、フェノール等の陽イオン捕捉剤の存在下に行う
のが好ましい。
酢酸等のようなルイス酸を使用する脱離は2例えばアニ
ソール、フェノール等の陽イオン捕捉剤の存在下に行う
のが好ましい。
反応は通常、水1例えばメタノール、エタノール等のア
ルコール、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、それら
の混合物のような溶媒中で行われるが1反応に悪影響を
及ぼきない溶媒であれば。
ルコール、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、それら
の混合物のような溶媒中で行われるが1反応に悪影響を
及ぼきない溶媒であれば。
その他のいかなる溶媒中でも反応を行うことができる。
液状の塩基または酸も溶媒として使用することができる
。
。
反応温度は特に限定されず2通常は冷却下ないし加温下
に反応が行われる。
に反応が行われる。
還元は4−ニトロベンジル、2−ヨードエチル、2.2
.2−トリクロロエチル等のような保護基の脱離に適用
するのが好ましい。脱離反応に適用できる還元法の例と
しては1例えば亜鉛、亜鉛アマルガム等の金属または例
えば塩化第一クロム、酢酸第一クロム等のクロム化合物
の塩と2例えば酢酸、プロピオン酸、塩酸等の有機酸ま
たは無機酸との組合わせを用いる還元;および例えばパ
ラジウム−炭素等の慣用の金属触媒の存在下における接
触還元常法が挙げられる。この反応中またはこの反応の
後処理工程で R1の保護されたカルボキシ(低級)ア
ルコキシイミノ基またはシクロ(低級)アルケニルオキ
シイミノ基が、それぞれカルボキシ(低級)アルコキシ
イミノ基またはヒドロキシイミノ基に変化する場合もこ
の発明の範囲内に包含される。
.2−トリクロロエチル等のような保護基の脱離に適用
するのが好ましい。脱離反応に適用できる還元法の例と
しては1例えば亜鉛、亜鉛アマルガム等の金属または例
えば塩化第一クロム、酢酸第一クロム等のクロム化合物
の塩と2例えば酢酸、プロピオン酸、塩酸等の有機酸ま
たは無機酸との組合わせを用いる還元;および例えばパ
ラジウム−炭素等の慣用の金属触媒の存在下における接
触還元常法が挙げられる。この反応中またはこの反応の
後処理工程で R1の保護されたカルボキシ(低級)ア
ルコキシイミノ基またはシクロ(低級)アルケニルオキ
シイミノ基が、それぞれカルボキシ(低級)アルコキシ
イミノ基またはヒドロキシイミノ基に変化する場合もこ
の発明の範囲内に包含される。
さらに、化合物(Ih)を慣用の処理方法1例えば塩基
で処理することにより1分子間第四級塩の形の化合物(
Ih)がその分子内第四級塩に変化する場合もこの発明
の範囲内に包含される。
で処理することにより1分子間第四級塩の形の化合物(
Ih)がその分子内第四級塩に変化する場合もこの発明
の範囲内に包含される。
製造法5
目的化合物(1)またはその塩は、化合物(I[[)ま
たはその塩に化合物(IV)またはその塩を作用きせる
ことにより製造することができる。
たはその塩に化合物(IV)またはその塩を作用きせる
ことにより製造することができる。
化合物(III)の好適な塩としては、化合物(XI)
について例示したようなものを挙げることができる。
について例示したようなものを挙げることができる。
化合物(IV)の好適な塩としては、化合物(I)につ
いて例示したようなものおよび銀塩を挙げることができ
る。
いて例示したようなものおよび銀塩を挙げることができ
る。
この反応は沃化ナトリウム、チオシアン酸ナトリウム等
の存在下に行ってもよい。
の存在下に行ってもよい。
反応は通常、水、アセトン、クロロホルム、ニトロベン
ゼン、塩化メチレン、塩化−1−チレン、7セトニトリ
ル、N、N−ジメチルホルムアミド。
ゼン、塩化メチレン、塩化−1−チレン、7セトニトリ
ル、N、N−ジメチルホルムアミド。
メタノール、エタノール、エーテル、テトラヒドロフラ
ンのような溶媒中で行われるが2反応に悪影響を及ぼさ
ない溶媒であればその他のいかなる慣用の溶媒中でも反
応を行うことができる。
ンのような溶媒中で行われるが2反応に悪影響を及ぼさ
ない溶媒であればその他のいかなる慣用の溶媒中でも反
応を行うことができる。
アミノ基および/またはカルボキシ基を有する化合物(
I)をこの反応に使用する場合、予め化合物(I)をビ
ス(トリメチルシリル)アセトアミド、モノ(トリメチ
ルシリル)アセトアミド、ビス(トリメチルシリル)尿
素等のシリル化合物で処理しておくのが好ましい。
I)をこの反応に使用する場合、予め化合物(I)をビ
ス(トリメチルシリル)アセトアミド、モノ(トリメチ
ルシリル)アセトアミド、ビス(トリメチルシリル)尿
素等のシリル化合物で処理しておくのが好ましい。
化合物(IV)を遊離の形で反応に使用する場合。
塩基1例えば、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属次
酸塩、アルカリ金属次酸水素塩9例えばナトリウムメト
キシド、ナトリウムエトキシド等のアルカリ金属アルコ
キシド、トリアルキルアミン、ピリジン等のような有機
塩基または無機塩基の存在下に、望ましくは中性付近の
条件で反応を行うのが好ましい。
酸塩、アルカリ金属次酸水素塩9例えばナトリウムメト
キシド、ナトリウムエトキシド等のアルカリ金属アルコ
キシド、トリアルキルアミン、ピリジン等のような有機
塩基または無機塩基の存在下に、望ましくは中性付近の
条件で反応を行うのが好ましい。
反応温度は特に限定されず2通常は冷却下、常温または
加温下に反応が行なわれる。
加温下に反応が行なわれる。
製造法6
化合物(Ia)またはその塩は、化合物(Ib)または
その塩を脱アシル反応に付すことにより製造することが
できる。
その塩を脱アシル反応に付すことにより製造することが
できる。
この反応は前記!1Lu−と同様にして行なうことがで
きる。
きる。
製造法7
化合物(Ii)またはそ−の塩は、化合物(V)または
その塩を還元することにより製造することができる。
その塩を還元することにより製造することができる。
化合物(V)の好適な塩については、化合物(1)につ
いて例示したものを参照すればよい。
いて例示したものを参照すればよい。
↑
この還元は、−8−の−S−への変換に適用される常法
2例えば三塩化燐を使用する方法、塩化第一スズと塩化
アセチルとの組合わせによる方法7例えば沃化ナトリウ
ム等のアルカリ金属沃化物と例えば無水トリプルオロ酢
酸等の無水トリハロ酢酸との組合わせによる方法等によ
って行うことができる。
2例えば三塩化燐を使用する方法、塩化第一スズと塩化
アセチルとの組合わせによる方法7例えば沃化ナトリウ
ム等のアルカリ金属沃化物と例えば無水トリプルオロ酢
酸等の無水トリハロ酢酸との組合わせによる方法等によ
って行うことができる。
この還元は通常、アセトン、ジオキサン、アセトニトリ
ル、ジメチルホルムアミド、ベンゼン。
ル、ジメチルホルムアミド、ベンゼン。
ヘキサン、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン
、テトラヒドロフラン、酢酸エチルのような溶媒中で行
われるが1反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、そ
の他のいかなる溶媒中でも反応を行うことができる。
、テトラヒドロフラン、酢酸エチルのような溶媒中で行
われるが1反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、そ
の他のいかなる溶媒中でも反応を行うことができる。
反応温度は特に限定きれず9通常は冷却下または常温で
反応が行われる。
反応が行われる。
製1」わに■
化合物(■)またはその塩は、化合物(Vl)またはア
ミノ基におけるその反応性誘導体またはその塩に、化合
物く■)またはその反応性誘導体またはその塩を作用さ
せることにより製造することができる。
ミノ基におけるその反応性誘導体またはその塩に、化合
物く■)またはその反応性誘導体またはその塩を作用さ
せることにより製造することができる。
化合物(Vl)の好適な塩としては、化合物(XI)に
ついて例示したものを参照すればよい。
ついて例示したものを参照すればよい。
化合物(■)および化合物(■)の好適な塩としては9
例えばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩2
例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土金
属塩、アンモニウム塩9例えばトリエチルアミン塩、ピ
リジン塩、ピコリン塩。
例えばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩2
例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土金
属塩、アンモニウム塩9例えばトリエチルアミン塩、ピ
リジン塩、ピコリン塩。
エタノールアミン塩、トリエチルアミン塩、ジシクロヘ
キシルアミン塩、N、N’−ジベンジルエチレンジアミ
ン塩等の有機アミン塩等のような有機塩基との塩または
無機塩基との塩が挙げられる。
キシルアミン塩、N、N’−ジベンジルエチレンジアミ
ン塩等の有機アミン塩等のような有機塩基との塩または
無機塩基との塩が挙げられる。
化合物(VI)のアミノ基における好適な反応性誘導体
および化合物(■)の好適な反応性誘導体については、
化合物(Ia)および化合物(XI)について例示した
ものをそれぞれ参照すればよい。
および化合物(■)の好適な反応性誘導体については、
化合物(Ia)および化合物(XI)について例示した
ものをそれぞれ参照すればよい。
この反応は前記Wと同様にして行うことができる。
製」」L(1少
化合物(IX)またはその塩は、化合物(■)またはそ
の塩を酸化剤と反応させることにより製造することがで
きる。
の塩を酸化剤と反応させることにより製造することがで
きる。
好適な酸化剤としてはm−クロロ過安息香酸等が挙げら
れる。
れる。
この酸化反応は通常1例えばメタノール、エタノール等
のアルコール、塩化メチレン、テトラヒドロフランのよ
うな溶媒中で行われるが1反応に悪影響を及ぼさない溶
媒であればその他のいかなる溶媒中でも反応を行うこと
ができる。
のアルコール、塩化メチレン、テトラヒドロフランのよ
うな溶媒中で行われるが1反応に悪影響を及ぼさない溶
媒であればその他のいかなる溶媒中でも反応を行うこと
ができる。
反応温度は特に限定きれないが9通常は冷却下または常
温で反応が行われる。
温で反応が行われる。
化合物(IX)の好適な塩としては、化合物(■)およ
び(■)について例示したようなものを挙げることがで
きる。
び(■)について例示したようなものを挙げることがで
きる。
1盟蒸人二1
化合物(X)またはその塩は、化合物(IX)またはそ
の塩を酸化反応に付すことにより製造することができる
。
の塩を酸化反応に付すことにより製造することができる
。
化合物(X)の好適な塩については、化合物(■)およ
び(■)について例示したものを参照すればよい。
び(■)について例示したものを参照すればよい。
酸化法としてはオゾン分解1例えば過沃素酸ナトリウム
、過沃素酸カリウム等のアルカリ金属過沃素酸塩と四酸
化オスミウムとの組合わせを用いる方法等が挙げられる
。
、過沃素酸カリウム等のアルカリ金属過沃素酸塩と四酸
化オスミウムとの組合わせを用いる方法等が挙げられる
。
反応は通常、水、塩化メチレン、例えばメタノール、エ
タノール等のアルコール、酸mエチル、テトラヒドロフ
ラン等のような反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒中
で行われる。
タノール等のアルコール、酸mエチル、テトラヒドロフ
ラン等のような反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒中
で行われる。
反応温度は特に限定きれず2通常は冷却下に反応が行わ
れる。
れる。
製造法A−■
化合物(V)またはその塩は、化合物(X)またはその
塩をヒドロキシ基の酸残基への転換反応に付すことによ
り製造することができる。
塩をヒドロキシ基の酸残基への転換反応に付すことによ
り製造することができる。
この反応に好適な試薬としては2例えば塩化メシル、臭
化メシル、塩化エタンスルホニル、臭化エタンスルホニ
ル等の低級アルカンスルホニルハロゲン化物2例えば塩
化ベンゼンスルホニル、臭化ベンゼンスルホニル、塩化
トシル、臭化トシル等のアレーンスルホニルハロゲン化
物等;例えば塩化チオニル、臭化チオニル等のチオニル
ハロゲン化物;例えば三塩化燐、三臭化燐等の燐−トリ
ハロゲン化物等のような酸ハロゲン化物が挙げられる。
化メシル、塩化エタンスルホニル、臭化エタンスルホニ
ル等の低級アルカンスルホニルハロゲン化物2例えば塩
化ベンゼンスルホニル、臭化ベンゼンスルホニル、塩化
トシル、臭化トシル等のアレーンスルホニルハロゲン化
物等;例えば塩化チオニル、臭化チオニル等のチオニル
ハロゲン化物;例えば三塩化燐、三臭化燐等の燐−トリ
ハロゲン化物等のような酸ハロゲン化物が挙げられる。
この反応は通常、募jtl−で述べたよう、な塩基の存
在下に行われる。
在下に行われる。
反応は通常、N、N−ジメチルホルムアミド。
テトラヒドロフランのような溶媒中で行われるが1反応
に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、その他のいかなる
溶媒中でも反応を行うことができる。
に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、その他のいかなる
溶媒中でも反応を行うことができる。
反応温度は特に限定されず1通常は冷却下または常温で
反応が行われる。
反応が行われる。
上記製造法1〜7および製造法Aにおいては。
目的化合物は反応混合物から常法により精製9分離され
、所望の塩に導くことができる。
、所望の塩に導くことができる。
この発明の目的化合物(I)および医薬として許容され
るその塩類は、新規化合物であり、高い抗菌活性を発揮
してダラム陽性菌およびダラム陰性菌を含む広汎な病原
菌の生育を阻止し、抗菌剤として有用である。治療のた
めにこの発明による化合物は前記化合物を有効成分とし
て、経口、非経口または外用投与に適した有機もしくは
無機固体状もしくは液状賦形剤のような医薬として許容
される担体と混合して含有する常用の医薬製剤の形で使
用することができる。医薬製剤はカプセル。
るその塩類は、新規化合物であり、高い抗菌活性を発揮
してダラム陽性菌およびダラム陰性菌を含む広汎な病原
菌の生育を阻止し、抗菌剤として有用である。治療のた
めにこの発明による化合物は前記化合物を有効成分とし
て、経口、非経口または外用投与に適した有機もしくは
無機固体状もしくは液状賦形剤のような医薬として許容
される担体と混合して含有する常用の医薬製剤の形で使
用することができる。医薬製剤はカプセル。
錠剤、糖衣錠、軟膏または層剤のような固体状であって
もよいし、溶液、懸濁液またはエマルジョンのような液
状であってもよい。所望に応じて上記製剤中に、助剤、
安定剤、湿潤剤または乳化剤、緩衝液およびその他、乳
糖、フマール酸、クエン酸、酒石酸、ステアリン酸、マ
レイン酸、コハク酸、リンゴ酸、ステアリン酸マグネシ
ウム。
もよいし、溶液、懸濁液またはエマルジョンのような液
状であってもよい。所望に応じて上記製剤中に、助剤、
安定剤、湿潤剤または乳化剤、緩衝液およびその他、乳
糖、フマール酸、クエン酸、酒石酸、ステアリン酸、マ
レイン酸、コハク酸、リンゴ酸、ステアリン酸マグネシ
ウム。
白土、シュークロース、コーンスターチ、タルク、ゼラ
チン、寒天、ペクチン、落花生油、オリーブ油、カカ利
Lエチレングリコール等のような通常使用される添加剤
が含まれていてもよい。
チン、寒天、ペクチン、落花生油、オリーブ油、カカ利
Lエチレングリコール等のような通常使用される添加剤
が含まれていてもよい。
化合物の投与量は患者の年齢と条件とによって変化する
が、この発明の化合物は平均1回投与量約10mg 、
50mg 、 100mg 、 250mg 、 5
00mg 、 1000mgのうちから細菌感染症の治
療にあたり有効投与量が適宜選択される。
が、この発明の化合物は平均1回投与量約10mg 、
50mg 、 100mg 、 250mg 、 5
00mg 、 1000mgのうちから細菌感染症の治
療にあたり有効投与量が適宜選択される。
一般的には1日当り1mg〜約6000mgまたはそれ
以上の量投与してもよい。
以上の量投与してもよい。
目的化合物の有用性を示すために、この発明の代表的化
合物の抗菌活性を以下に示す。
合物の抗菌活性を以下に示す。
承沙」j口LE痕厘
(A)区麹迭
試験管内抗菌活性を下記の寒天平板倍数希釈法によって
測定した。
測定した。
試験菌株をトリブチケース・ソイ・プロス中。
−夜培養して、その−白金耳(生菌数101個/m1)
を、各濃度段階の代表的試験化合物を含むハート・イン
フュージョン寒天(HI−寒天)に画線し。
を、各濃度段階の代表的試験化合物を含むハート・イン
フュージョン寒天(HI−寒天)に画線し。
37℃で20時間培養後1判定し、最小阻止濃度(MI
C’)を[/mlで表わした。
C’)を[/mlで表わした。
(B)ス簾丈澄1
(1)?−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−メトキシイミノアセトアミド]−3−(1−メチ
ル−3−ピリジニオメチルチオ]−3−セフェム−4−
カルボキシレート(シン異性体)。
−2−メトキシイミノアセトアミド]−3−(1−メチ
ル−3−ピリジニオメチルチオ]−3−セフェム−4−
カルボキシレート(シン異性体)。
(C)胚JLL幣
MIC(犀/m1)
以下この発明を製造例および実施例により、さらに詳細
に説明するが、この発明はこれらに限定されるものでは
ない。
に説明するが、この発明はこれらに限定されるものでは
ない。
製造例1
(1)ジフェニルジアゾメタン(1,7モル)の酢酸エ
チル(2,117り溶液を、7−アミノ−3−ヒドロキ
シセフェム−4−カルボンII(186g)のジメチル
スルホキシド(1,51)中混合物に加える。混合物を
室温で32時間攪拌して濾過する。濾液に水を加えて混
合物を酢酸エチルで抽出する。
チル(2,117り溶液を、7−アミノ−3−ヒドロキ
シセフェム−4−カルボンII(186g)のジメチル
スルホキシド(1,51)中混合物に加える。混合物を
室温で32時間攪拌して濾過する。濾液に水を加えて混
合物を酢酸エチルで抽出する。
抽出液を3回水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥して濾過
し、濾液を減圧下に蒸発乾固する。残渣をジイソプロピ
ルエーテルで粉砕して、7−アミノ−3−ヒドロキシセ
フェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(223g)を
粉末として得る。
し、濾液を減圧下に蒸発乾固する。残渣をジイソプロピ
ルエーテルで粉砕して、7−アミノ−3−ヒドロキシセ
フェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(223g)を
粉末として得る。
IR(スジタール) ’ 3350.1750.1
720 am−’NMR(DMSO−ds、δ) :
2.6−3.ゑ(28劃) 、 3.8−4.3(I
H,m) 、 4.44 (IH,d、J=5Hz)
、 4.65 (IH,d。
720 am−’NMR(DMSO−ds、δ) :
2.6−3.ゑ(28劃) 、 3.8−4.3(I
H,m) 、 4.44 (IH,d、J=5Hz)
、 4.65 (IH,d。
J=6Hz) 、 5.0 (IH,d、J=5Hz)
、 6.0 (IH,d。
、 6.0 (IH,d。
J=4Hz)、 6.83 (IH,s)、7.3
7 (10H,5)(2〉ギ酸(0,4m1)および
無水酢#(1ml)を40°Cで30分間攪拌する0反
応混合物を氷−水浴中で冷却し、7−アミノ−3−ヒド
ロキシセフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(1,
0g)の塩化メチレン(30m1 )中混合物に3°C
で滴下する。
7 (10H,5)(2〉ギ酸(0,4m1)および
無水酢#(1ml)を40°Cで30分間攪拌する0反
応混合物を氷−水浴中で冷却し、7−アミノ−3−ヒド
ロキシセフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(1,
0g)の塩化メチレン(30m1 )中混合物に3°C
で滴下する。
混合物を3°Cで10分間攪拌して炭酸水素ナトリウム
5%水溶液でpH7,0に調整し、水洗後、硫酸マグネ
シウムで乾燥して溶媒を減圧下に留去する。
5%水溶液でpH7,0に調整し、水洗後、硫酸マグネ
シウムで乾燥して溶媒を減圧下に留去する。
残渣をジイソプロピルエーテルで粉砕して、7−ホルム
アミド−3−ヒドロキシセフェム−4−カルボン酸ベン
ズヒドリル(1,05g)を粉末として得る。
アミド−3−ヒドロキシセフェム−4−カルボン酸ベン
ズヒドリル(1,05g)を粉末として得る。
IR(スジ1−ル) : 3450.3300.1
770.1730 。
770.1730 。
1665 am−’
NMR(DMSO−d、、δ) : 2.6−3.2
(2H,m) 、 3.8−4.3(LH,m) 、
4.7 (IH,d、J=6Hz) 、 5.11 (
1)1.d。
(2H,m) 、 3.8−4.3(LH,m) 、
4.7 (IH,d、J=6Hz) 、 5.11 (
1)1.d。
J−4Hz> 、 5.47 (LH,dd、J=9H
z、4Hz) 。
z、4Hz) 。
6.05 (IH,d、J=4Hz) 、 6.83
(LH,s) 。
(LH,s) 。
7.37 (IOH,s) 、 8.08 (IH,s
) 、 8.93 (IH,d。
) 、 8.93 (IH,d。
J=9Hz)
(3)無水トリフルオロ酢酸(2,12m1 )の塩化
メチレン(5ml)溶液を、ジメチルスルホキシド(1
,56g )の塩化メチレン(10ml)溶液に一50
℃で滴下する。混合物を一50℃で10分間攪拌する。
メチレン(5ml)溶液を、ジメチルスルホキシド(1
,56g )の塩化メチレン(10ml)溶液に一50
℃で滴下する。混合物を一50℃で10分間攪拌する。
混合物に7−ホルムアミド−3−ヒドロキシセファム−
4−力Jレボン酸ベンズヒドリル<4.12g >の塩
化メチレン(10ml)およびジメチルスルホキシド(
1ml)溶液を加える。混合物を一50℃で30分間攪
拌し、トリエチルアミン(4ml)をこれに−50℃で
滴下する。反応混合物の温度を常温まで上昇せしめ、氷
水中に注いで塩化メチレンで抽出する。抽出液を3回水
洗して硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過して、濾液の溶
媒を減圧下に留去する。残渣をジイソプロピルエーテル
で粉砕して。
4−力Jレボン酸ベンズヒドリル<4.12g >の塩
化メチレン(10ml)およびジメチルスルホキシド(
1ml)溶液を加える。混合物を一50℃で30分間攪
拌し、トリエチルアミン(4ml)をこれに−50℃で
滴下する。反応混合物の温度を常温まで上昇せしめ、氷
水中に注いで塩化メチレンで抽出する。抽出液を3回水
洗して硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過して、濾液の溶
媒を減圧下に留去する。残渣をジイソプロピルエーテル
で粉砕して。
7−ホルムアミド−3−ヒドロキシ−3−セフェム−4
−カルボン酸ベンズヒドリル(3,42g>を粉末とし
て得る。
−カルボン酸ベンズヒドリル(3,42g>を粉末とし
て得る。
IR(スジ9−ル) ’ 3300.1760.1
660 am−’NMR(DMSO−d、、δ) ’
2.9−4.9 (2H,m) 。
660 am−’NMR(DMSO−d、、δ) ’
2.9−4.9 (2H,m) 。
5.23 (IH,d、J=5Hz> 、 5.61
(IH,dd。
(IH,dd。
J=9Hz、5Hz) 、 6.9 (IH,s) 、
7.37 (10)1.s) 。
7.37 (10)1.s) 。
8.22 (LH,s> 、 9.18 (LH,d、
J−9Hz)(4)塩化メシル(0,66m1 )およ
び炭酸カリウム(1,38g)を、7−ホルムアミド−
3−ヒドロキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズ
ヒドリル(2,05g)のN、N−ジメチルホルムアミ
ド(6ml)溶液に一30℃で加える。混合物を一30
℃で30分間攪拌する。塩化メシル(0,4m1)を混
合物に加える。反応混合物を一30℃で20分間攪拌し
、氷水中に注いで酢酸エチルで抽出する。抽出液を水洗
して硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過して濾液の溶媒を
減圧下に留去する。残渣を少量の酢酸エチルに溶解し、
混合物をシリカゲルを使用するカラムクロマトグラフィ
ーにイ寸し、ベンゼンと酢酸エチルとの混合物(1:1
)で溶出する。
J−9Hz)(4)塩化メシル(0,66m1 )およ
び炭酸カリウム(1,38g)を、7−ホルムアミド−
3−ヒドロキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズ
ヒドリル(2,05g)のN、N−ジメチルホルムアミ
ド(6ml)溶液に一30℃で加える。混合物を一30
℃で30分間攪拌する。塩化メシル(0,4m1)を混
合物に加える。反応混合物を一30℃で20分間攪拌し
、氷水中に注いで酢酸エチルで抽出する。抽出液を水洗
して硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過して濾液の溶媒を
減圧下に留去する。残渣を少量の酢酸エチルに溶解し、
混合物をシリカゲルを使用するカラムクロマトグラフィ
ーにイ寸し、ベンゼンと酢酸エチルとの混合物(1:1
)で溶出する。
溶出液の溶媒を減圧下に留去する。残渣をジイソプロピ
ルエーテルで粉砕して、7−ホルムアミド−3−メシル
オキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル
(0,85g)を得る。
ルエーテルで粉砕して、7−ホルムアミド−3−メシル
オキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル
(0,85g)を得る。
IR(ヌ九−ル) : 3290.1790.17
20.1665 cm−’NMR(DMSO−d、、
δ) ’ 3.2 (3H,s) 、 3.72 <
LH,d。
20.1665 cm−’NMR(DMSO−d、、
δ) ’ 3.2 (3H,s) 、 3.72 <
LH,d。
J=18Hz) 、 4.1 (IH,dJ48Hz)
、 5.31 (LH,d。
、 5.31 (LH,d。
J−5Hz) 、 5.9 (IH,dd、J=9Hz
、5)1z) 。
、5)1z) 。
6.92 (IH,s) 、 7.38 (IOH,s
) 、 8.17 (LH,s)。
) 、 8.17 (LH,s)。
9.14 (IH,d、J=9Hz)製造例2
(1)7−ホルムアミド−3−メチレンセファム−4−
カルボン酸ベンズヒドリル(100g)の酢酸エチル(
3,5ρ)溶液にm−クロロ過安息香酸(63,2g
)の酢酸エチル溶液を一40°Cに冷却しながら加えて
攪拌する。混合物を同温で1.5時間攪拌する。ジイソ
プロピルエーテル(3,5ρ)ヲ攪拌下に反応混合物に
加え、生成する沈殿を濾取して、1−才キソー7−ホル
ムアミド−3−メチレンセファム−4−カルボン酸ベン
ズヒドリル(80,45g )を得る。
カルボン酸ベンズヒドリル(100g)の酢酸エチル(
3,5ρ)溶液にm−クロロ過安息香酸(63,2g
)の酢酸エチル溶液を一40°Cに冷却しながら加えて
攪拌する。混合物を同温で1.5時間攪拌する。ジイソ
プロピルエーテル(3,5ρ)ヲ攪拌下に反応混合物に
加え、生成する沈殿を濾取して、1−才キソー7−ホル
ムアミド−3−メチレンセファム−4−カルボン酸ベン
ズヒドリル(80,45g )を得る。
IR(スジ3−ル) : 3360.1773.1
722.1655 。
722.1655 。
1520 cm−’
NMR(DMSO−d、、δ) : 3.67および3
.96 (2H。
.96 (2H。
ABq、J−14Hz> 、 5.06 (1)1.d
、J=5Hz> 。
、J=5Hz> 。
5.41 (LH,s) 、 5.50 (LH,s
) 、 5.73 (IH,dd。
) 、 5.73 (IH,dd。
J=5.10Hz> 、 5.84 (IH,s) 、
6.85 (IH,s) 。
6.85 (IH,s) 。
7.2−7.5 (10H,m> 、 8.15 (I
H,s) 、 8.18 (IH。
H,s) 、 8.18 (IH。
d、J40Hz)
(2)1−才キソー7−ホルムアミド−3−メチレンセ
ファム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(80g)のジ
クロロメタン(2,4iおよびメタノール(0,8iの
混合物溶液にオゾン(0,35モル)を攪拌下、−78
°Cで2時間かけて吹込む。硫化ジメチル(277m1
)を反応混合物に一78°Cで加え、a合物を1時間
攪拌する。反応混合物を4°Cに15時間維持し、溶媒
を減圧下に留去して、1−才キソー7−ホルムアミド−
3−ヒドロキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズ
ヒドリル(90,2g )を得る。
ファム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(80g)のジ
クロロメタン(2,4iおよびメタノール(0,8iの
混合物溶液にオゾン(0,35モル)を攪拌下、−78
°Cで2時間かけて吹込む。硫化ジメチル(277m1
)を反応混合物に一78°Cで加え、a合物を1時間
攪拌する。反応混合物を4°Cに15時間維持し、溶媒
を減圧下に留去して、1−才キソー7−ホルムアミド−
3−ヒドロキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズ
ヒドリル(90,2g )を得る。
IR(スジョール) ’ 3230.1765.1
678.1605 am−’NMR(DMSO−ds
、 8 ) :3.98 (2H1m> 、5.02
(IHld。
678.1605 am−’NMR(DMSO−ds
、 8 ) :3.98 (2H1m> 、5.02
(IHld。
J4)1z) 、 5.88 (IH,dd、J=4.
10Hz) 。
10Hz) 。
6.93 (IH,s) 、 7.2−7.75 (I
OH,m> 。
OH,m> 。
8.16 (LH,s) 、 8.33 (IH,d、
J=10Hz)(3)1−才キソー7−ホルムアミド−
3−ヒドロキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズ
ヒドリル(47,8g)および炭酸カリウム(20,7
3g )のN、N−ジメチルホルムアミド(150m1
)中混合物に、塩化メタンスルホニル(15,5ml
)を−50°Cで攪拌下に加え2反応混合物を一50
°C〜=20°Cで4時間攪拌する。反応混合物を酢酸
エチル(500ml)で希釈し、混合物を濾過する。濾
液を食塩水で151:冷し、硫酸マグネシウムで乾燥後
、溶媒を減圧下に留去して残渣を得る。残渣をテトラヒ
ドロフランと酢酸エチルとの熱混合物に溶解し、結晶化
させて、1−才キソー7−ホルムアミド−3−メシルオ
キシ−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(
16,95g )を得る。
J=10Hz)(3)1−才キソー7−ホルムアミド−
3−ヒドロキシ−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズ
ヒドリル(47,8g)および炭酸カリウム(20,7
3g )のN、N−ジメチルホルムアミド(150m1
)中混合物に、塩化メタンスルホニル(15,5ml
)を−50°Cで攪拌下に加え2反応混合物を一50
°C〜=20°Cで4時間攪拌する。反応混合物を酢酸
エチル(500ml)で希釈し、混合物を濾過する。濾
液を食塩水で151:冷し、硫酸マグネシウムで乾燥後
、溶媒を減圧下に留去して残渣を得る。残渣をテトラヒ
ドロフランと酢酸エチルとの熱混合物に溶解し、結晶化
させて、1−才キソー7−ホルムアミド−3−メシルオ
キシ−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(
16,95g )を得る。
IR(ヌジョール) ’ 1780.1715.1
640 am−’NMR(DMSO−de、δ) :
3.10 (31,s) 、 3.98および4.25
(2H,ABq、J−18)1z) 、 5.07
(IH,d。
640 am−’NMR(DMSO−de、δ) :
3.10 (31,s) 、 3.98および4.25
(2H,ABq、J−18)1z) 、 5.07
(IH,d。
J=5Hz) 、 6.04 (LH,dd、J=5.
10H2) 。
10H2) 。
6.95 (11,s) 、 7.25−7.55 (
IOH,m) 。
IOH,m) 。
8.15 (1)1.s) 、 8.46 (1)%、
d、 J=10Hz>(4)1−才キソー7−ホルム
アミド−3−メシルオキシ−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ベンズヒドリル(10,19g)および3−(メル
カプトメチル)ピリジン(6,7g)のN、N−ジメチ
ルホルムアミド(100ml)溶液に、N、N−ジイソ
プロピルエチルアミン(4,53m1 )を−30°C
で攪拌下に加え、混合物を一10°C〜θ℃で8時間攪
拌する。反応混合物を酢酸エチルと食塩水との混合物に
攪拌下に加える。有機層を分取して食塩水で洗浄し。
d、 J=10Hz>(4)1−才キソー7−ホルム
アミド−3−メシルオキシ−3−セフェム−4−カルボ
ン酸ベンズヒドリル(10,19g)および3−(メル
カプトメチル)ピリジン(6,7g)のN、N−ジメチ
ルホルムアミド(100ml)溶液に、N、N−ジイソ
プロピルエチルアミン(4,53m1 )を−30°C
で攪拌下に加え、混合物を一10°C〜θ℃で8時間攪
拌する。反応混合物を酢酸エチルと食塩水との混合物に
攪拌下に加える。有機層を分取して食塩水で洗浄し。
硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に留去して残
渣を得る。残渣をシリカゲルを使用するカラムクロマト
グラフィーに付し、ジクロロメタ2910〜20%メタ
ノールで溶出する。目的化合物を含む画分を合わせ、減
圧下に溶媒を留去して、1−才キソー7−ホルムアミド
−3−(3−ピリジルメチルチオ)−3−セフェム−4
−カルボン酸ベンズヒドリル(4,95g)を得る。
渣を得る。残渣をシリカゲルを使用するカラムクロマト
グラフィーに付し、ジクロロメタ2910〜20%メタ
ノールで溶出する。目的化合物を含む画分を合わせ、減
圧下に溶媒を留去して、1−才キソー7−ホルムアミド
−3−(3−ピリジルメチルチオ)−3−セフェム−4
−カルボン酸ベンズヒドリル(4,95g)を得る。
IR(スジ9−ル) : 3290.1790.1
700.1650 am−’NMR(DMSO−d、
、δ) :3.90および4.55 (2H,ABq。
700.1650 am−’NMR(DMSO−d、
、δ) :3.90および4.55 (2H,ABq。
J=18Hz)、4.15 (2H,ブロード s)
、4.98 (LH,d。
、4.98 (LH,d。
J=4Hz) 、 6.0 (IH,dd、J:8.4
Hz) 。
Hz) 。
6.88 <IH,s) 、 7.2−7.8 (12
H,m) 、 8.2 (IH。
H,m) 、 8.2 (IH。
ブロード s)、8.3−8.5 (38,m)実施
例1 7−アミノ−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェム
−4−カルボン酸ベンズヒドリル(2,85g)および
1.3−ビス(トリメチルシリル)尿素(7,36g)
のジクロロメタン(50ml)溶液に。
例1 7−アミノ−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェム
−4−カルボン酸ベンズヒドリル(2,85g)および
1.3−ビス(トリメチルシリル)尿素(7,36g)
のジクロロメタン(50ml)溶液に。
2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−
イル)−2−(エトキシイミノ)酢酸クロリド・塩酸塩
(シン異性体) (1,95g )を−40°Cで攪拌
下に加え、混合物を一り0℃〜−10”Cで4.25時
間攪拌する。酢酸エチルと水とを反応混合物に攪拌下に
加え、混合物を炭酸水素ナトリウム水溶液で中和する。
イル)−2−(エトキシイミノ)酢酸クロリド・塩酸塩
(シン異性体) (1,95g )を−40°Cで攪拌
下に加え、混合物を一り0℃〜−10”Cで4.25時
間攪拌する。酢酸エチルと水とを反応混合物に攪拌下に
加え、混合物を炭酸水素ナトリウム水溶液で中和する。
有機層を分取し1食塩水で洗浄して硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を減圧下に留去して、7−[2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2−
(エトキシイミノ)アセトアミトコ−3−(3−ピリジ
ルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリ
ル(シン異性体)(3,76g)を得る。
乾燥後、溶媒を減圧下に留去して、7−[2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2−
(エトキシイミノ)アセトアミトコ−3−(3−ピリジ
ルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリ
ル(シン異性体)(3,76g)を得る。
IR(スジコール) : 1775.1725.1
673.1606 。
673.1606 。
1520 am−’
NMR(DMSO−d、、δ ) ’ 1.20
(3H,t、、T=7Hz>、3.24および3.6
8 (21,ABq、J=17H2) 、 4.14
(2H。
(3H,t、、T=7Hz>、3.24および3.6
8 (21,ABq、J=17H2) 、 4.14
(2H。
q、J=7Hz) 、 5.28 (IH,d、J=4
)1z) 、 5.93 (IH。
)1z) 、 5.93 (IH。
dd、J=8Hz、4Hz) 、 6.92 (IH,
s) 、7.15−7.50(11H,m)、7.74
(IH,m)、8.08 (2H,プロー)−9
)。
s) 、7.15−7.50(11H,m)、7.74
(IH,m)、8.08 (2H,プロー)−9
)。
8.52 (2H,m) 、 9.60 (IH,d、
J=8Hz>実施例2 N、N−ジメチルホルムアミド(0,78m1 )およ
びオキシ塩化燐(0,93m1 )から酢酸エチル(1
0ml)中、常法によりビルスマイヤー試薬を調製する
。
J=8Hz>実施例2 N、N−ジメチルホルムアミド(0,78m1 )およ
びオキシ塩化燐(0,93m1 )から酢酸エチル(1
0ml)中、常法によりビルスマイヤー試薬を調製する
。
2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)−2−
ジフェニルメトキシカルボニルメトキシイミノ酢酸(シ
ン異性体)(3,69g)を、ビルスマイヤー試薬の酢
酸エチル中懸濁液に水冷、攪拌下に加え、混合物を同温
で30分間攪拌する。7−アミノ−3−(3−ピリジル
チオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル
(3,33g)および1.3−ビス(トリメチルシリル
)尿素(5,72g)のテトラヒドロフラン(33m1
)溶液に、上記で得る活性化酸溶液を一20°Cで加
え、混合物を同温で1.5時間攪拌する。反応混合物を
酢酸エチルと炭酸水素ナトリウム水溶液との混合物に攪
拌下に加える。有機層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に留去して残渣を
得る。残渣をシリカゲルを使用するカラムクロマトグラ
フィーに付し、ジクロロメタン−酢酸エチル(1:1)
混合物で溶出する。目的化合物を含む画分を合わせ、溶
媒を減圧下に留去して。
ジフェニルメトキシカルボニルメトキシイミノ酢酸(シ
ン異性体)(3,69g)を、ビルスマイヤー試薬の酢
酸エチル中懸濁液に水冷、攪拌下に加え、混合物を同温
で30分間攪拌する。7−アミノ−3−(3−ピリジル
チオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル
(3,33g)および1.3−ビス(トリメチルシリル
)尿素(5,72g)のテトラヒドロフラン(33m1
)溶液に、上記で得る活性化酸溶液を一20°Cで加
え、混合物を同温で1.5時間攪拌する。反応混合物を
酢酸エチルと炭酸水素ナトリウム水溶液との混合物に攪
拌下に加える。有機層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に留去して残渣を
得る。残渣をシリカゲルを使用するカラムクロマトグラ
フィーに付し、ジクロロメタン−酢酸エチル(1:1)
混合物で溶出する。目的化合物を含む画分を合わせ、溶
媒を減圧下に留去して。
7−[2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)
−2−(ジフェニルメトキシカルボニルメトキシイミノ
)アセトアミド]−3−(3−ビリジルチオ)−3−セ
フェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)
(3,27g)を得る。IR(Cutc1*) i 3
370 、178g 、 1735 、1695 、1
600゜1540 CfCff1 一1N (DMSO−ds、δ) : 3.28および
3.68 (2H。
−2−(ジフェニルメトキシカルボニルメトキシイミノ
)アセトアミド]−3−(3−ビリジルチオ)−3−セ
フェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)
(3,27g)を得る。IR(Cutc1*) i 3
370 、178g 、 1735 、1695 、1
600゜1540 CfCff1 一1N (DMSO−ds、δ) : 3.28および
3.68 (2H。
ABq、J−18Hz)、4.90 (2H,ブロー
ド s)、5.35(1)1.d、J=4Hz> 、
5.99 (IH,dd、J=8.4Hz) 。
ド s)、5.35(1)1.d、J=4Hz> 、
5.99 (IH,dd、J=8.4Hz) 。
6.90 (IH,s) 、 6.97 (IH,s)
、 7.15−7.55(22H,m)、7.79
(IH,m) 、 8.52 (IH,s) 、 8.
55(2H,m> 、 9.82 (IH,d、J=8
Hz)衷臭贋1 7−アミノ−3−(3−ピリジルメチルチオ)−3−セ
フェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(1,57g)
および1.3−ビス(トリメチルシリル)尿素(3,9
2g)のジクロロメタン(15ml)溶液に、2−(5
−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−
2−エトキシイミノ酢酸クロリド・塩酸塩(1,04g
)を−10℃で攪拌下に加え、混合物を同温で攪拌する
0反応混合物を水とジクロロメタンとの混合物に攪拌下
に加え、混合物を戻酸水素すトリウム水溶液でpH7に
調整する。
、 7.15−7.55(22H,m)、7.79
(IH,m) 、 8.52 (IH,s) 、 8.
55(2H,m> 、 9.82 (IH,d、J=8
Hz)衷臭贋1 7−アミノ−3−(3−ピリジルメチルチオ)−3−セ
フェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(1,57g)
および1.3−ビス(トリメチルシリル)尿素(3,9
2g)のジクロロメタン(15ml)溶液に、2−(5
−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−
2−エトキシイミノ酢酸クロリド・塩酸塩(1,04g
)を−10℃で攪拌下に加え、混合物を同温で攪拌する
0反応混合物を水とジクロロメタンとの混合物に攪拌下
に加え、混合物を戻酸水素すトリウム水溶液でpH7に
調整する。
有機層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を減圧下に留去して、7−[2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2−
(エトキシイミノ)アセトアミトコ−3−(3−ピリジ
ルメチルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズ
ヒドリル(シン異性体)(z、z7g)を得る。
乾燥後、溶媒を減圧下に留去して、7−[2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2−
(エトキシイミノ)アセトアミトコ−3−(3−ピリジ
ルメチルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズ
ヒドリル(シン異性体)(z、z7g)を得る。
IR(ス九−ル) : 3270.3140.17
70.1665.1605 。
70.1665.1605 。
1520 am−’
NMR(DMSO−ds、 S) ’ 1.27 (3
H,t、J=7Hz> 、 3.87(2H,ブロード
s)、4.18 (21,ブロード s)、4.2
1(2H,q、J=7Hz> 、 5.23 (IH,
d、J=4Hz) 、 5.88(1)1.dd、J=
8,4H2) 、 6.87 (LH,s) 、 7.
2−7.8(12H,m)、8.12(2)!、fロー
ド s)、8.43−8.60(2H,m) 、 9.
62 (IH,d、J=8Hz)衷m(M4 N、N−ジメチルホルムアミド(0,56m1 )およ
びオキジ塩化燐(0,66m1 )から酢酸エチル(4
ml)中、常法によりビルスマイヤー試薬を調製する。
H,t、J=7Hz> 、 3.87(2H,ブロード
s)、4.18 (21,ブロード s)、4.2
1(2H,q、J=7Hz> 、 5.23 (IH,
d、J=4Hz) 、 5.88(1)1.dd、J=
8,4H2) 、 6.87 (LH,s) 、 7.
2−7.8(12H,m)、8.12(2)!、fロー
ド s)、8.43−8.60(2H,m) 、 9.
62 (IH,d、J=8Hz)衷m(M4 N、N−ジメチルホルムアミド(0,56m1 )およ
びオキジ塩化燐(0,66m1 )から酢酸エチル(4
ml)中、常法によりビルスマイヤー試薬を調製する。
2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)−2−
メトキシイミノ酢酸(シン異性体)を、ビルスマイヤー
試薬の酢酸エチル中懸濁液に水冷。
メトキシイミノ酢酸(シン異性体)を、ビルスマイヤー
試薬の酢酸エチル中懸濁液に水冷。
攪拌下に加え、混合物を同温で30分間攪拌する。
7−アミノ−3−(4−ピリジルメチルチオ)=3−セ
フェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(2,45g)
および1.3−ビス(トリメチルシリル)尿素(4,0
9g)のテトラヒドロフラン(25ml)溶液に、上記
で得る活性化酸溶液を一30°Cで加え、混合物を一2
0℃で1時間攪拌する。反応混合物を酢酸エチルと羨酸
水素ナトリウム水溶液との混合物に攪拌下に加えて有機
層を分取し9食塩水で洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を減圧下に留去して、7−[2−(2−ホルム
アミドチアゾール−4−イル)−2−(メトキシイミノ
)アセトアミド]−3−(4−ピリジルメチルチオ)−
3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(シン異
性体) (1,97g )を得る。
フェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(2,45g)
および1.3−ビス(トリメチルシリル)尿素(4,0
9g)のテトラヒドロフラン(25ml)溶液に、上記
で得る活性化酸溶液を一30°Cで加え、混合物を一2
0℃で1時間攪拌する。反応混合物を酢酸エチルと羨酸
水素ナトリウム水溶液との混合物に攪拌下に加えて有機
層を分取し9食塩水で洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を減圧下に留去して、7−[2−(2−ホルム
アミドチアゾール−4−イル)−2−(メトキシイミノ
)アセトアミド]−3−(4−ピリジルメチルチオ)−
3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(シン異
性体) (1,97g )を得る。
IR(スジ日−ル) ’ 1782.1680.1
543 am−’NMR(DMSO−d、、8 )
i 3.78 (2H,ブロード s) 。
543 am−’NMR(DMSO−d、、8 )
i 3.78 (2H,ブロード s) 。
3.87−4.05 (2H,m) 、 3.97 (
3H,s) 。
3H,s) 。
5.28 (IH,d、J=4Hz) 、 5.85
(IH,dd、J=8゜4Hz> 、 6.89 (I
H,s) 、 7.25−7.65 (13H,m)
。
(IH,dd、J=8゜4Hz> 、 6.89 (I
H,s) 、 7.25−7.65 (13H,m)
。
8.52 (3H,m) 、 8.71 (IH,d、
J=8Hz)罠ム■I N、N−ジメチルホルムアミド(1,26m1 )およ
びオキシ塩化燐(1,50m1 )から酢酸エチル(1
0ml)中、常法によりビルスマイヤー試薬を調整する
。
J=8Hz)罠ム■I N、N−ジメチルホルムアミド(1,26m1 )およ
びオキシ塩化燐(1,50m1 )から酢酸エチル(1
0ml)中、常法によりビルスマイヤー試薬を調整する
。
2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)=2−
エトキシイミノ酢酸(シン異性体)(3,30g)をビ
ルスマイヤー試薬の酢酸エチル中懸濁液に水冷、攪拌下
に加え、混合物を同温で30分間攪拌する。7−アミノ
−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カル
ボン酸ベンズヒドリル(3,81g)および1.3−ビ
ス(トリメチルシリル)尿素(’6.54g)のテトラ
ヒドロフラン(38ml)溶液に、上記で得る活性化酸
溶液を一20℃で加え、混合物を一20℃〜−10°C
で3時間攪拌する。
エトキシイミノ酢酸(シン異性体)(3,30g)をビ
ルスマイヤー試薬の酢酸エチル中懸濁液に水冷、攪拌下
に加え、混合物を同温で30分間攪拌する。7−アミノ
−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カル
ボン酸ベンズヒドリル(3,81g)および1.3−ビ
ス(トリメチルシリル)尿素(’6.54g)のテトラ
ヒドロフラン(38ml)溶液に、上記で得る活性化酸
溶液を一20℃で加え、混合物を一20℃〜−10°C
で3時間攪拌する。
反応混合物を酢酸エチルと炭酸ナトリウム水溶液との混
合物に攪拌下に加え、有機層を分取して食塩水で洗浄し
、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に留去して
、?−[2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル
)−2−エトキシイミノアセトアミド]−3−(3−ピ
リジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒ
ドリル(シン異性体)(5,70g)を得る。
合物に攪拌下に加え、有機層を分取して食塩水で洗浄し
、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に留去して
、?−[2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル
)−2−エトキシイミノアセトアミド]−3−(3−ピ
リジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒ
ドリル(シン異性体)(5,70g)を得る。
IR(スジ1−ル) : 3150.1?80.1
725.1675 。
725.1675 。
1650 cm−’
NMR(DMSO−d、、δ) : 1.22 (3H
,t、J=7Hz> 。
,t、J=7Hz> 。
3.0−3.9 (2H,m) 、 4.14 (2H
,q、J=7)1z) 、 5.32(IH,d、J=
5)1z) 、 5.95 (IH,dd、J=8.5
Hz) 。
,q、J=7)1z) 、 5.32(IH,d、J=
5)1z) 、 5.95 (IH,dd、J=8.5
Hz) 。
6.94 (IH,s) 、 7.15−7.55 (
12H,m) 。
12H,m) 。
7.80 (IH,m) 、 8.50 (3H,m)
、 9.73 (IH,d。
、 9.73 (IH,d。
J4Hz)
裏層■1
(1)7−[2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−
イル)−2−(メトキシイミノ)アセトアミトコ−3−
(3−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸
ベンズヒドリル(シン異性体)。
イル)−2−(メトキシイミノ)アセトアミトコ−3−
(3−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸
ベンズヒドリル(シン異性体)。
IR(スジシール) ’ 1785.1730.1
690.1550 am−’NMR(DMSO−d、
、δ) : 3.3−3.6 (2H,m) 、 3.
85(3)1.s) 、 5.29 (IH,d、J=
4Hz) 、 5.90 (11,dd。
690.1550 am−’NMR(DMSO−d、
、δ) : 3.3−3.6 (2H,m) 、 3.
85(3)1.s) 、 5.29 (IH,d、J=
4Hz) 、 5.90 (11,dd。
J=8.4Hz> 、 6.90 (IH,s) 、
7.1−7.5 (12H,m)。
7.1−7.5 (12H,m)。
7.75 (LH,m) 、 8.48 (3H,m)
、 9.70 (IH,d。
、 9.70 (IH,d。
J=8Hz)
(2)7−[2−アリルオキシイミノ−2−(5−アミ
ノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセトア
ミド]−3−(3−ピリジルメチルチオ)−3−セフェ
ム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)。
ノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセトア
ミド]−3−(3−ピリジルメチルチオ)−3−セフェ
ム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)。
IR(スジシール) : 3290,3160,1
775,1675,1610゜1520 am”’ NMR(DMSO−ds、δ ) : 3.86
(2H,ブロード s)、4.18(2H,ブロード
s)、4.68 (2H,d、J=5Hz>、5.
22(IH,d、J=4Hz) 、 5.07−6.2
0 (3H,m) 、 5.87(IH,dd、J=8
.4Hz) 、 6.86 (IH,s) 、 7.1
5−7.80(12H,+n)、8.12 (2H,
ブロード s)、8.35−8.57(2H,m) 、
9.63 (IH,d、J4Hz)(3)?−[2−
(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル
)−2−(エトキシイミノ)アセトアミトコ−3−(4
−ピリジルメチルチオ)−3−セフェム−4−カルボン
酸ベンズヒドリル(シン異性体)。
775,1675,1610゜1520 am”’ NMR(DMSO−ds、δ ) : 3.86
(2H,ブロード s)、4.18(2H,ブロード
s)、4.68 (2H,d、J=5Hz>、5.
22(IH,d、J=4Hz) 、 5.07−6.2
0 (3H,m) 、 5.87(IH,dd、J=8
.4Hz) 、 6.86 (IH,s) 、 7.1
5−7.80(12H,+n)、8.12 (2H,
ブロード s)、8.35−8.57(2H,m) 、
9.63 (IH,d、J4Hz)(3)?−[2−
(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル
)−2−(エトキシイミノ)アセトアミトコ−3−(4
−ピリジルメチルチオ)−3−セフェム−4−カルボン
酸ベンズヒドリル(シン異性体)。
IR(CHICI!> ’ 1775.1695.16
00 cm−’NMR(DMSO−da、 8 ) ’
1.21 (3H,t、J=7Hz) 、3.73(
2H,m) 、 4.05−4.35 (2H,m)
、 4.14(2H,q、J=7Hz) 、 5.23
(IH,d、J4Hz) 。
00 cm−’NMR(DMSO−da、 8 ) ’
1.21 (3H,t、J=7Hz) 、3.73(
2H,m) 、 4.05−4.35 (2H,m)
、 4.14(2H,q、J=7Hz) 、 5.23
(IH,d、J4Hz) 。
5.87 (IH,dd、J=8.4Hz) 、 6.
87 (LH,s) 。
87 (LH,s) 。
7.2−7.6 (12H,m)、8.13 (2H,
m) 、 8.25(2H,m) 、 9.57 (1
)1.d、J=8Hz)(4>7−[2−アリルオキシ
イミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−3−イル)アセトアミド]−3−(3−ピリジルチ
オ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(
シン異性体)。
m) 、 8.25(2H,m) 、 9.57 (1
)1.d、J=8Hz)(4>7−[2−アリルオキシ
イミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−3−イル)アセトアミド]−3−(3−ピリジルチ
オ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(
シン異性体)。
IR(Xジ++4> ’ 1775.1673.1
608.1520 cm−’NMR(DMSO−d、
、δ) j 3.25および3.72 (2H。
608.1520 cm−’NMR(DMSO−d、
、δ) j 3.25および3.72 (2H。
ABq、J=18Hz> 、 4.67 (2H,d、
J=4.5H2) 。
J=4.5H2) 。
5.05−5.50 (3H,m) 、 5.7−6.
1 (IH,m) 。
1 (IH,m) 。
5.93 (LH,dd、J=8.4Hz) 、 6.
90 (IH,s) 。
90 (IH,s) 。
7.1−7.5 (11H,m) 、 7.72 (I
H,dt、J=8,2H2) 。
H,dt、J=8,2H2) 。
8.06 (2H,ブロード s)、8.50 (
2H,m)。
2H,m)。
9.62 (LH,d、J=8Hz)
(5)7−[2−<”5−アミノ−1,2,4−チアジ
アゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセト
アミド]−3−(3−ピリジルメチルチオ)−3−セフ
ェム−4−カルボン酸(シン異性体)。
アゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセト
アミド]−3−(3−ピリジルメチルチオ)−3−セフ
ェム−4−カルボン酸(シン異性体)。
IR(スジ9−ル) : 3250.3180.17
65.1670.1615゜1530cm−’ (6)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミトコ−3−(1−メチル−3−ピリジニオメチルチオ
)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体
)。
65.1670.1615゜1530cm−’ (6)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミトコ−3−(1−メチル−3−ピリジニオメチルチオ
)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体
)。
IR(スジョール) : 3250.1760.1
665.1600 。
665.1600 。
1510cm−’
(7)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミトコ−3−(4−ピリジルメチルチオ)−3−セフェ
ム−4−(カルボン酸(シン異性体)。
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミトコ−3−(4−ピリジルメチルチオ)−3−セフェ
ム−4−(カルボン酸(シン異性体)。
IR(ヌ九−ル) : 3280.3160.17
65.1625.1568゜1520cm−” (8)?−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミド]−3−(1−メチル−4−ピリジニオメチルチオ
)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体
)。
65.1625.1568゜1520cm−” (8)?−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミド]−3−(1−メチル−4−ピリジニオメチルチオ
)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体
)。
IR(ヌ九−ル) : 1760.1665.16
35.1600 。
35.1600 。
1515cm−’
(9)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミド]−3−(3−ピリジルチオ)=3−セフェム−4
−カルボン酸(シン異性体)。
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミド]−3−(3−ピリジルチオ)=3−セフェム−4
−カルボン酸(シン異性体)。
mp : 179°C(分解〉
IR(スジョール) j 3270.3180.1
775.1670.1615゜1530cm”’ (10)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジ
アゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセト
アミド]−3−(1−メチル−3−ピリジニオチオ)−
3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)。
775.1670.1615゜1530cm”’ (10)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジ
アゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセト
アミド]−3−(1−メチル−3−ピリジニオチオ)−
3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)。
IR(スジョール’) : 3290.1778.
.1665.1610 。
.1665.1610 。
1530cm−’
(11)7− [2−アリルオキシイミノ−2−(5−
アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセ
トアミド]−3−(3−ピリジルメチルチオ)−3−セ
フェム−4−カルボン酸(シン異性体)。
アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセ
トアミド]−3−(3−ピリジルメチルチオ)−3−セ
フェム−4−カルボン酸(シン異性体)。
IR(スジョール) : 3290.3180.17
65.1670.1615゜1530cm−’ (12)7− [2−アリルオキシイミノ−2−(5−
アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセ
トアミトコ−3−(1−メチル−3−ピリジニオメチル
チオ)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異
性体)。
65.1670.1615゜1530cm−’ (12)7− [2−アリルオキシイミノ−2−(5−
アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセ
トアミトコ−3−(1−メチル−3−ピリジニオメチル
チオ)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異
性体)。
IR(ヌジヲール) : 3280.1760.1
665.1600 。
665.1600 。
1510cm−’
(13)7− [2−アリルオキシイミノ−2−(5−
アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセ
トアミトコ−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェム
−4−カルボン酸(シン異性体)。
アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセ
トアミトコ−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェム
−4−カルボン酸(シン異性体)。
IR(ス九−ル) : 32g0.3180.17
75.1670.1608゜1525cm−’ (14)7− [2’アリルオキシイミノー2−(5−
アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセ
トアミトコ−3−(1−メチル−3−ピリジニオチオ)
−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)
。
75.1670.1608゜1525cm−’ (14)7− [2’アリルオキシイミノー2−(5−
アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセ
トアミトコ−3−(1−メチル−3−ピリジニオチオ)
−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)
。
IR(ヌジヲール) : 3300.1770.1
665.1610 。
665.1610 。
1525cm−’
(15)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(4
−ピリジルメチルチオ)−3−セフェム−4−カルボン
酸ベンズヒドリル(シン異性体)。
)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(4
−ピリジルメチルチオ)−3−セフェム−4−カルボン
酸ベンズヒドリル(シン異性体)。
IR(Xショール) : 1770.1722.1
670.1600 。
670.1600 。
1530cm−’
(16)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(メトキシイミノ)アセトアミトコ−3−(4
−ピリジルメチルチオ)−3−セフェム−4−カルボン
酸(シン異性体)。
)−2−(メトキシイミノ)アセトアミトコ−3−(4
−ピリジルメチルチオ)−3−セフェム−4−カルボン
酸(シン異性体)。
IR(スジタール) : 3300.3180.1
770.1668.1630゜1600 、1530c
m−’ <17>7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(メトキシイミノ)アセトアミトコ−3−(1
−メチル−4−ピリジニオメチルチオ)−3−セフェム
−4−カルボキシレート(シン異性体)。
770.1668.1630゜1600 、1530c
m−’ <17>7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(メトキシイミノ)アセトアミトコ−3−(1
−メチル−4−ピリジニオメチルチオ)−3−セフェム
−4−カルボキシレート(シン異性体)。
IR(スジ3−ル) : 3300.3180.1
770.1670.1643゜1600、1530cm
−’ (18)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(3
−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベン
ズヒドリル(シン異性体)。
770.1670.1643゜1600、1530cm
−’ (18)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(3
−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベン
ズヒドリル(シン異性体)。
IR(スジタール) : 3360.3140.1
768.1685゜1540cm−’ (19)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(3
−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸(シ
ン異性体)。
768.1685゜1540cm−’ (19)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(3
−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸(シ
ン異性体)。
IR(スジタール) 7 1780.1672.15
35cm−’(20)7−’[2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−2−(メトキシイミノ)アセトアミ
トコ−3−(1−メチル−3−ピリジニオチオ)−3−
セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)。
35cm−’(20)7−’[2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−2−(メトキシイミノ)アセトアミ
トコ−3−(1−メチル−3−ピリジニオチオ)−3−
セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)。
IR(スジタール) : 3320.1778.1
673.1610 。
673.1610 。
1535cm−’
(21)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(エトキシイミノ)アセトアミド]−3−(3
−ピリジルチオ)−3−セラエム−4−カルボン酸ベン
ズヒドリル(シン異性体)。
)−2−(エトキシイミノ)アセトアミド]−3−(3
−ピリジルチオ)−3−セラエム−4−カルボン酸ベン
ズヒドリル(シン異性体)。
IR(Xショール) : 1775.1725.1
670.1608 。
670.1608 。
153Qcm−’
(22)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(エトキシイミノ)アセトアミド]−3−(3
−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸(シ
ン異性体)。
)−2−(エトキシイミノ)アセトアミド]−3−(3
−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸(シ
ン異性体)。
IR(スジタール) ’ 1778.1683.1
610.1538cm−’(23)7−[2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)−2−(エトキシイミノ)
アセトアミド]−3−(、1−メチル−3−ピリジニオ
チオ)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異
性体)。
610.1538cm−’(23)7−[2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)−2−(エトキシイミノ)
アセトアミド]−3−(、1−メチル−3−ピリジニオ
チオ)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異
性体)。
IR(ス九−ル) : 3280 、 1?75.
1665.1615゜1530cm−’ (24)?−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(カルボキシメトキシイミノ)アセトアミド]
−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カル
ボン酸(シン異性体)。
1665.1615゜1530cm−’ (24)?−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(カルボキシメトキシイミノ)アセトアミド]
−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カル
ボン酸(シン異性体)。
IR(スジタール) : 3280.1775.1
673.1610゜1535cm−’ (25)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(カルボキシメトキシイミノ)アセトアミド]
−3−(1−メチル−3−ピリジニオチオ)−3−セフ
ェム−4−カルボキシレート(シン異性体)。。
673.1610゜1535cm−’ (25)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(カルボキシメトキシイミノ)アセトアミド]
−3−(1−メチル−3−ピリジニオチオ)−3−セフ
ェム−4−カルボキシレート(シン異性体)。。
IR(スジ3−ル) : 3320.1778.1
673.1610゜1535cm−’ (26)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(ジフェニルメトキシカルボニルメトキシイミ
ノ ジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リル(シン異性体)。
673.1610゜1535cm−’ (26)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(ジフェニルメトキシカルボニルメトキシイミ
ノ ジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リル(シン異性体)。
IR(スジミール’) : 3280.1?80.
1730.1680. 1610゜1530cm−’ (27)?−アミノー3−(3−ピリジルメチルチオ)
−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル。
1730.1680. 1610゜1530cm−’ (27)?−アミノー3−(3−ピリジルメチルチオ)
−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル。
IR(ス九−ル) : 1765. 1730.
1605cm−’(28)7−アミノ−3−(4−ピリ
ジルメチルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベン
ズヒドリル。
1605cm−’(28)7−アミノ−3−(4−ピリ
ジルメチルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベン
ズヒドリル。
IR(Xジ1−t) : 3430. 1762.
1730.1608゜1600cm−’ (29)7−アミノ−3−(3−ピリジルチオ)−3−
セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリJし。
1730.1608゜1600cm−’ (29)7−アミノ−3−(3−ピリジルチオ)−3−
セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリJし。
IR(ヌジa−ル) : 3670. 3410.
1780. 1730゜1615cm−’ (30) 7−ホルムアミド−3−(3−ピリジルメチ
ルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリ
ル。
1780. 1730゜1615cm−’ (30) 7−ホルムアミド−3−(3−ピリジルメチ
ルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリ
ル。
IR(ヌジ會−ル) : 1765. 1670cm
−’(31)7−ホルムアミド−3−(4−ピリジルメ
チルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リル。
−’(31)7−ホルムアミド−3−(4−ピリジルメ
チルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒド
リル。
IR(スジミール) ’ 1770. 1680.
1600cm−’(32) ?−ホルムアミドー3−
(3−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸
ベンズヒドリル。
1600cm−’(32) ?−ホルムアミドー3−
(3−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸
ベンズヒドリル。
IR(CHICII) : 3410.1785.17
28.1700゜1670cm−’ 衷Jliヱ 7−[2−アリルオキシイミノ−2−(5−アミノ−1
,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセトアミド]
−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カル
ボン酸(シン異性体)(1,04g)のN、N−ジメチ
ルホルムアミド(jml)中部濁液に、沃化メチル(1
ml)を常温で加え、混合物を同温で8.5時間攪拌す
る0反応混合物の溶媒を減圧下に留去して得る残渣をメ
タノール(12ml)に溶解し、溶液をジイソプロピル
エーテル(800ml)に滴下する。
28.1700゜1670cm−’ 衷Jliヱ 7−[2−アリルオキシイミノ−2−(5−アミノ−1
,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセトアミド]
−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カル
ボン酸(シン異性体)(1,04g)のN、N−ジメチ
ルホルムアミド(jml)中部濁液に、沃化メチル(1
ml)を常温で加え、混合物を同温で8.5時間攪拌す
る0反応混合物の溶媒を減圧下に留去して得る残渣をメ
タノール(12ml)に溶解し、溶液をジイソプロピル
エーテル(800ml)に滴下する。
生成する沈殿を濾取して、7−[2−(アリルオキシイ
ミノ)−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−3−イル)アセトアミド]−3−(1−メチル−3
−ピリジニオチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸・
沃化物(シン異性体)を得る。
ミノ)−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−3−イル)アセトアミド]−3−(1−メチル−3
−ピリジニオチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸・
沃化物(シン異性体)を得る。
沈殿を水に懸濁し、懸濁液を炭酸水素ナトリウム水溶液
でpH5に調整する。不溶物を濾去し、濾液を非イオン
吸着樹脂「ダイヤイオンHP−20J(商標、三菱化成
社製)(50ml)を使用するカラムクロマトグラフィ
ーに付す、カラムを水洗後、イソプロピルアルコール1
5%水溶液で溶出する。
でpH5に調整する。不溶物を濾去し、濾液を非イオン
吸着樹脂「ダイヤイオンHP−20J(商標、三菱化成
社製)(50ml)を使用するカラムクロマトグラフィ
ーに付す、カラムを水洗後、イソプロピルアルコール1
5%水溶液で溶出する。
目的化合物を含む溶出液を集め、イソプロピルアルコー
ルを減圧下に留去し、凍結乾燥して、7−[2−アリル
オキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジ
アゾール−3−イル)アセトアミド]−3−(1−メチ
ル−3−ピリジニオチオ)−3−セフェム−4−カルボ
キシレート(シン異性体)(0,54g)を得る。
ルを減圧下に留去し、凍結乾燥して、7−[2−アリル
オキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジ
アゾール−3−イル)アセトアミド]−3−(1−メチ
ル−3−ピリジニオチオ)−3−セフェム−4−カルボ
キシレート(シン異性体)(0,54g)を得る。
IR(X九−IL) ’ 3300. 1770.
1665. 1610゜1525c(’ NMR(DMSO−ds;δ) : 3.0−3.8
(2H,m)、 4.22(3H,s)、 4.57
(2H,d、 J=5Hz>、 5.08 (IH。
1665. 1610゜1525c(’ NMR(DMSO−ds;δ) : 3.0−3.8
(2H,m)、 4.22(3H,s)、 4.57
(2H,d、 J=5Hz>、 5.08 (IH。
d、J=5Hz)、 5.0−5.35 (2H,m)
、 5.50−6.05(2H,m)、 7.84 (
IH,dd、J=8.6Hz>、 8.00(2H,ブ
ロードs)、 8.32 (IH,d、J:8Hz
>、 8.60(IH,d、J=6Hz)、 8.7
8 (11,s)、 9.43 (IH,d。
、 5.50−6.05(2H,m)、 7.84 (
IH,dd、J=8.6Hz>、 8.00(2H,ブ
ロードs)、 8.32 (IH,d、J:8Hz
>、 8.60(IH,d、J=6Hz)、 8.7
8 (11,s)、 9.43 (IH,d。
J=7H2)
K鳳■1
7−[2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)
−2−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(4−
ピリジルメチルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸
ベンズヒドリル(シン異性体)’(0,85g )のN
、N−ジメチルホルムアミド(4ml)溶液に、沃化メ
チル(0,85m1 )を常温で加え、混合物を同温で
44時間攪拌する。反応混合物から減圧下に沃化メチル
を留去し、残渣をジイソプロピルエーテル(500m1
)に攪拌下に加える。生成する沈殿を濾取して、7−
[2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)−2
−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(1−メチ
ル−4−ピリジニオメチルチオ)−3−セフェム−4−
カルボン酸ベンズヒドリル・沃化物(シン異性体)を得
る。この化合物をメタノール(5ml)およびテトラヒ
ドロフラン(5ml)の混合物に溶解する。この溶液に
濃塩酸(0,22m1 )を30℃で加え、混合物を同
温で5時間攪拌する。反応混合物をジイソプロピルエー
テル(500m1 )にffi押下に滴下し、沈殿を濾
取して、?−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(1
−メチル−4−ピリジニオメチルチオ)−3−セフェム
−4−カルボン酸ベンズヒドリル・沃化物(シン異性体
)を得る。このようにして得られる沈殿をジクロロメタ
ン(6ml)中に懸濁し、アニソール(1,06m1
)を加える。この懸濁液にトリフルオロ酢酸(4,51
m1)を水冷下に加え、同温で1時間攪拌する0反応混
合物をジイソプロピルエーテル(600m1 )に滴下
し、生成する沈殿を濾取する。
−2−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(4−
ピリジルメチルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸
ベンズヒドリル(シン異性体)’(0,85g )のN
、N−ジメチルホルムアミド(4ml)溶液に、沃化メ
チル(0,85m1 )を常温で加え、混合物を同温で
44時間攪拌する。反応混合物から減圧下に沃化メチル
を留去し、残渣をジイソプロピルエーテル(500m1
)に攪拌下に加える。生成する沈殿を濾取して、7−
[2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)−2
−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(1−メチ
ル−4−ピリジニオメチルチオ)−3−セフェム−4−
カルボン酸ベンズヒドリル・沃化物(シン異性体)を得
る。この化合物をメタノール(5ml)およびテトラヒ
ドロフラン(5ml)の混合物に溶解する。この溶液に
濃塩酸(0,22m1 )を30℃で加え、混合物を同
温で5時間攪拌する。反応混合物をジイソプロピルエー
テル(500m1 )にffi押下に滴下し、沈殿を濾
取して、?−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(1
−メチル−4−ピリジニオメチルチオ)−3−セフェム
−4−カルボン酸ベンズヒドリル・沃化物(シン異性体
)を得る。このようにして得られる沈殿をジクロロメタ
ン(6ml)中に懸濁し、アニソール(1,06m1
)を加える。この懸濁液にトリフルオロ酢酸(4,51
m1)を水冷下に加え、同温で1時間攪拌する0反応混
合物をジイソプロピルエーテル(600m1 )に滴下
し、生成する沈殿を濾取する。
沈殿を水に懸濁し、混合物を炭酸水素ナトリウム水溶液
でpH4,5に調整する。溶液を非イオン吸着樹脂1ダ
イヤイオンHP −20J (45m1 )を使用する
カラムクロマトグラフィーに付す、カラムを水洗後、イ
ソプロピルアルコール5〜10%水溶液で溶出する。目
的化合物を含む溶出液を集め、濃縮し、凍結乾燥して、
7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(1−メチル
−4−ピリジニオメチルチオ)−3−セフェム−4−カ
ルボキシレート(シン異性体)(0,22g)を得る。
でpH4,5に調整する。溶液を非イオン吸着樹脂1ダ
イヤイオンHP −20J (45m1 )を使用する
カラムクロマトグラフィーに付す、カラムを水洗後、イ
ソプロピルアルコール5〜10%水溶液で溶出する。目
的化合物を含む溶出液を集め、濃縮し、凍結乾燥して、
7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(1−メチル
−4−ピリジニオメチルチオ)−3−セフェム−4−カ
ルボキシレート(シン異性体)(0,22g)を得る。
IR(スジミール) : 3300.3180.1
770.1670.1643 。
770.1670.1643 。
1600 、1535cm−’
NMR(DMSO−d、、δ) : 3.36 (2H
,m) 、 3.79 (3H。
,m) 、 3.79 (3H。
s) 、 4.0−4.35 (2H,m) 、 4.
21 (3H,s) 、 4.89(LH,d、J=4
1(z) 、 5.51 (IH,dd、J=8.4H
z) 。
21 (3H,s) 、 4.89(LH,d、J=4
1(z) 、 5.51 (IH,dd、J=8.4H
z) 。
6.63 (IH,S)、7.08 (21,ブロ
ード s)、7.91(21,d、J=5Hz) 、
8.66 (2H,d、J=5Hz> 、 9.37(
1)1. d、 J=8Hz) 実施例9 7−[2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)
−2−(エトキシイミノ)アセトアミド]−3−(3−
ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズ
ヒドリル(シン異性体)(2,43g)のN、N−ジメ
チルホルムアミド(13ml)溶液に、沃化メチル(2
,60m1 )を常温で加え、混合物を同温で3時間攪
拌する6反応混合物の溶媒を減圧下に留去し、残渣をメ
タノール(10ml)に溶解する。メタノール溶液をシ
イジプロピルエーテル(700m1 )に攪拌下に滴下
し、生成する沈殿を濾取して、7−[2−(2−ホルム
アミドチアゾール−4−イル)−2=(エトキシイミノ
)アセトアミド]−3−(1−メチル−3−ピリジニオ
チオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル
・沃化物(シン異性体)(3,09g)を得る。この化
合物をメタノール(12m1 )とテトラヒドロフラン
(6ml)との混合物に溶解する。この溶液に濃塩酸(
0,74m1 )を30℃で加え、混合物を同温で4時
間攪拌する。反応混合物をジイソプロピルエーテル(8
00m1 )に攪拌下に滴下し、沈殿を濾取して、7−
[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(エ
トキシイミノ)アセトアミド]−3−(1−メチル−3
−ピリジニオチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベ
ンズしドリル・沃化物(シン異性体)(3,0g)を得
る。この化合物をジクロロメタン(15ml)に懸濁し
てアニソール(3,7m1)を加える。懸濁液にトリフ
ルオロ酢酸(5,30m1 )を水冷下に加え、混合物
を同温で1時間攪拌する0反応混合物をジイソプロピル
エーテル(800m1 )に滴下し、生成する沈殿を濾
取する。沈殿を水に懸濁して炭酸水素ナトリウム水溶液
でpH5に調整する。溶液を非イオン吸着樹脂1ダイヤ
イオンHP−20J (601111)を使用するカラ
ムクロマトグラフィーに付す。カラムを水洗後、イソプ
ロピルアルコール5〜12.5%水溶液で溶出する。目
的化合物を含む溶出液を集め、イソプロピルアルコール
を減圧下に留去し、凍結乾燥して、7−[2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)−2−(エトキシイミノ)
アセトアミド]−3−(1−メチル−3−ピリジニオチ
オ)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性
体)(0,96区)を得る。
ード s)、7.91(21,d、J=5Hz) 、
8.66 (2H,d、J=5Hz> 、 9.37(
1)1. d、 J=8Hz) 実施例9 7−[2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)
−2−(エトキシイミノ)アセトアミド]−3−(3−
ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズ
ヒドリル(シン異性体)(2,43g)のN、N−ジメ
チルホルムアミド(13ml)溶液に、沃化メチル(2
,60m1 )を常温で加え、混合物を同温で3時間攪
拌する6反応混合物の溶媒を減圧下に留去し、残渣をメ
タノール(10ml)に溶解する。メタノール溶液をシ
イジプロピルエーテル(700m1 )に攪拌下に滴下
し、生成する沈殿を濾取して、7−[2−(2−ホルム
アミドチアゾール−4−イル)−2=(エトキシイミノ
)アセトアミド]−3−(1−メチル−3−ピリジニオ
チオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル
・沃化物(シン異性体)(3,09g)を得る。この化
合物をメタノール(12m1 )とテトラヒドロフラン
(6ml)との混合物に溶解する。この溶液に濃塩酸(
0,74m1 )を30℃で加え、混合物を同温で4時
間攪拌する。反応混合物をジイソプロピルエーテル(8
00m1 )に攪拌下に滴下し、沈殿を濾取して、7−
[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(エ
トキシイミノ)アセトアミド]−3−(1−メチル−3
−ピリジニオチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベ
ンズしドリル・沃化物(シン異性体)(3,0g)を得
る。この化合物をジクロロメタン(15ml)に懸濁し
てアニソール(3,7m1)を加える。懸濁液にトリフ
ルオロ酢酸(5,30m1 )を水冷下に加え、混合物
を同温で1時間攪拌する0反応混合物をジイソプロピル
エーテル(800m1 )に滴下し、生成する沈殿を濾
取する。沈殿を水に懸濁して炭酸水素ナトリウム水溶液
でpH5に調整する。溶液を非イオン吸着樹脂1ダイヤ
イオンHP−20J (601111)を使用するカラ
ムクロマトグラフィーに付す。カラムを水洗後、イソプ
ロピルアルコール5〜12.5%水溶液で溶出する。目
的化合物を含む溶出液を集め、イソプロピルアルコール
を減圧下に留去し、凍結乾燥して、7−[2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)−2−(エトキシイミノ)
アセトアミド]−3−(1−メチル−3−ピリジニオチ
オ)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性
体)(0,96区)を得る。
IR<スジ9−ル) : 32B0.1775.1
665.1615 。
665.1615 。
1535cm−’
NMR(DMSO−dg、δ) : 1.19 (31
,t、J=7H2) 、 2.95−3.65 (2)
1.m> 、 4.02 (2H,q、J=7Hz)
、 4.22(3)1.s) 、 5.08 (IH,
d、J=51(z> 、 5.59 (IH。
,t、J=7H2) 、 2.95−3.65 (2)
1.m> 、 4.02 (2H,q、J=7Hz)
、 4.22(3)1.s) 、 5.08 (IH,
d、J=51(z> 、 5.59 (IH。
dd、J=8.5Hz) 、 6.58 (IH,s)
、 7.07 (21゜ブロードs)、7.85
(IH,dd、J=8.5Hz>、8.33(IH,d
J−=8Hz) 、 8.61 (IH,d、J=5H
2) 、 8.78(IH,s) 、 9.40 (I
H,d、J=8Hz)塞】dJ堕 実施例7〜9と同様にして下記化合物を得る。
、 7.07 (21゜ブロードs)、7.85
(IH,dd、J=8.5Hz>、8.33(IH,d
J−=8Hz) 、 8.61 (IH,d、J=5H
2) 、 8.78(IH,s) 、 9.40 (I
H,d、J=8Hz)塞】dJ堕 実施例7〜9と同様にして下記化合物を得る。
(1)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−Cカルボキシメトキシイミノ)アセトアミド]−
3−(1−メチル−3−ピリジニオチオ)−3−セフェ
ム−4−カルボキシレート(シン異性体)。
−2−Cカルボキシメトキシイミノ)アセトアミド]−
3−(1−メチル−3−ピリジニオチオ)−3−セフェ
ム−4−カルボキシレート(シン異性体)。
IR(スジョール) : 3320.177B 、
1673.1610 。
1673.1610 。
1535cm−’
NMR(DMSO−d、、δ) : 3.18および3
.72 (2H。
.72 (2H。
ABq、J=17Hz>、4.26 (38,ブロー
ドs)、4.48(2H,ブロードs)、5.13
(LH,d、J=4t(z)、5.67(IH,dd、
J=8.411z) 、 6.71 (IH,s) 、
7.12(2H,ブロードs)、7.92 (1)
!、m)、8.30 (LH,m)。
ドs)、4.48(2H,ブロードs)、5.13
(LH,d、J=4t(z)、5.67(IH,dd、
J=8.411z) 、 6.71 (IH,s) 、
7.12(2H,ブロードs)、7.92 (1)
!、m)、8.30 (LH,m)。
8.6’−8,9(2H,ブロードs)、 10.0
1 (LH,d、J=8Hz)(2)7−[2−(2
−アミノデアゾール−4−イル)−2−(メトキシイミ
ノ)アセトアミド]−3−(1−メチル−3−ピリジニ
オチオ)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン
異性体)。
1 (LH,d、J=8Hz)(2)7−[2−(2
−アミノデアゾール−4−イル)−2−(メトキシイミ
ノ)アセトアミド]−3−(1−メチル−3−ピリジニ
オチオ)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン
異性体)。
IR(ヌジョール) : 3300.1775.1
665.1625 。
665.1625 。
1538cm−’
NMR(DMSO−d、、δ) : 3.0−3.8
(21(、+n> 、 3.76(3H,s) 、 4
.24 (3H,s) 、 5.09 (IH,d。
(21(、+n> 、 3.76(3H,s) 、 4
.24 (3H,s) 、 5.09 (IH,d。
J=4Hz)、 5.58 (IH,dd、J=8.4
Hz> 、 6.60(IH,s)、 7.10(2
H,ブロードs)、7.85 (IH,m) 。
Hz> 、 6.60(IH,s)、 7.10(2
H,ブロードs)、7.85 (IH,m) 。
8、32 (1)1.d’、J=8Hz) 、 8.6
3 (ILm> 、 8.79(IH,s) 、 9.
44 (IH,d、J=8Hz>実施例11 ?−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトアミド−
3−(3−ピリジルメチルチオ)−3−セフェム−4−
カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)(1,3g)
のN、N−ジメチルホルムアミド(6,5m1)溶液に
、沃化メチル(1,3m1)を常温で加え、反応混合物
を同温で3時間攪拌する。反応混合物の溶媒を減圧下に
留去し、残渣をジイソプロピルエーテル(400m1
)に攪拌下に加え、生成する沈殿を濾取して、7−[2
−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イ
ル)=2−(エトキシイミノ)アセトアミド]−3−(
1−メチル−3−ピリジニオメチルチオ)−3−セフェ
ム−4−カルボン酸ベンズヒドリル・沃化物(シン異性
体) (1,079g )を得る。この化合物をジクロ
ロメタン(3,5ml )中に懸濁して、アニソールを
これに加える。この懸濁液にトリフロオロ酢酸(2,0
m1)を水冷下に加え、混合物を同温で2時間攪拌する
。反応混合物をジイソプロピルエーテル(400m1
)に滴下し、生成する沈殿を濾取する。沈殿を水に懸濁
して混合物を炭酸水素ナトリウム水溶液でp)14.5
に調整する。不溶物を濾去し、濾液を非イオン吸着樹脂
「ダイヤイオン)IP20J(商標、三菱化成社製)(
30ml)を使用するカラムクロマトグラフィーに付す
。カラムを水洗後、5〜15%イソプロピルアルコール
水溶液で溶出する。目的化合物を含む溶出液を集め、イ
ソプロピルアルコールを減圧下に留去し、次いで凍結乾
燥して、7−[2−(5−アミノ−1゜2.4−チアジ
アゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセト
アミド]−3−(,1−メチル−3−ピリジルメチルチ
オ)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性
体)(0,36g)を得る。
3 (ILm> 、 8.79(IH,s) 、 9.
44 (IH,d、J=8Hz>実施例11 ?−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトアミド−
3−(3−ピリジルメチルチオ)−3−セフェム−4−
カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)(1,3g)
のN、N−ジメチルホルムアミド(6,5m1)溶液に
、沃化メチル(1,3m1)を常温で加え、反応混合物
を同温で3時間攪拌する。反応混合物の溶媒を減圧下に
留去し、残渣をジイソプロピルエーテル(400m1
)に攪拌下に加え、生成する沈殿を濾取して、7−[2
−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イ
ル)=2−(エトキシイミノ)アセトアミド]−3−(
1−メチル−3−ピリジニオメチルチオ)−3−セフェ
ム−4−カルボン酸ベンズヒドリル・沃化物(シン異性
体) (1,079g )を得る。この化合物をジクロ
ロメタン(3,5ml )中に懸濁して、アニソールを
これに加える。この懸濁液にトリフロオロ酢酸(2,0
m1)を水冷下に加え、混合物を同温で2時間攪拌する
。反応混合物をジイソプロピルエーテル(400m1
)に滴下し、生成する沈殿を濾取する。沈殿を水に懸濁
して混合物を炭酸水素ナトリウム水溶液でp)14.5
に調整する。不溶物を濾去し、濾液を非イオン吸着樹脂
「ダイヤイオン)IP20J(商標、三菱化成社製)(
30ml)を使用するカラムクロマトグラフィーに付す
。カラムを水洗後、5〜15%イソプロピルアルコール
水溶液で溶出する。目的化合物を含む溶出液を集め、イ
ソプロピルアルコールを減圧下に留去し、次いで凍結乾
燥して、7−[2−(5−アミノ−1゜2.4−チアジ
アゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセト
アミド]−3−(,1−メチル−3−ピリジルメチルチ
オ)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性
体)(0,36g)を得る。
IR(ヌジa−ル) : 3250.176(1,
1665,1600。
1665,1600。
1510cm−’
NMR(DMSO−di、δ) ’ 1.23 (3H
,t、J=7Hz> 、 3.45(21,m)、4.
16 (2H,ブロードs)、4.17 (2H,
q。
,t、J=7Hz> 、 3.45(21,m)、4.
16 (2H,ブロードs)、4.17 (2H,
q。
J=7Hz> 、 4.34 (3H,s) 、 4.
97 (IH,d。
97 (IH,d。
J=4Hz) 、 5.62 (LH,dd、J=8.
4Hz> 、 7.75−9.20(6H,m)、9.
45 (IH,d、J=8Hz>哀l旌坪 実施例11と同様にして下記化合物を得る。
4Hz> 、 7.75−9.20(6H,m)、9.
45 (IH,d、J=8Hz>哀l旌坪 実施例11と同様にして下記化合物を得る。
(1)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2”−(エトキシイミノ)アセト
アミド]−3−(1−メチル−4−ピリジニオメチルチ
オ)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性
体)。
ゾール−3−イル)−2”−(エトキシイミノ)アセト
アミド]−3−(1−メチル−4−ピリジニオメチルチ
オ)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性
体)。
IR(ス九−ル): 1760. 1665. 163
5. 1600. 1515cm−1HMR(DMSO
−d、、δ) : 1.23 (3H,t、J=7)
1z)、 3.35(2H,m>、 4.09 (2
H,q、J=7Hz)、 4.11 (2H。
5. 1600. 1515cm−1HMR(DMSO
−d、、δ) : 1.23 (3H,t、J=7)
1z)、 3.35(2H,m>、 4.09 (2
H,q、J=7Hz)、 4.11 (2H。
m)、 4.18 (3H,s)、 4.85 (
11,d、J=4Hz>。
11,d、J=4Hz>。
5.52 (LH,dd、J4.4Hz)、 7.8
−8.1 (41,m>。
−8.1 (41,m>。
8.54 (2H,m>、 9.28 (IH,d、
J=8Hz)(2)7− [2−アリルオキシイミノ−
2−(5−アミノ、1,2.4−チアジアゾール−3−
イル)アセトアミトコ−3−(1−メチル−3−ピリジ
ニオメチルチオ)−3−セフェム−4−カルボキシレー
ト(シン異性体)。
J=8Hz)(2)7− [2−アリルオキシイミノ−
2−(5−アミノ、1,2.4−チアジアゾール−3−
イル)アセトアミトコ−3−(1−メチル−3−ピリジ
ニオメチルチオ)−3−セフェム−4−カルボキシレー
ト(シン異性体)。
IR(スジョール) : 3280. 1760.
1665. 1600゜1510cm−’ NMR(DMSO−di、ε) 73.45 <2H,
m>、4.10 (2H。
1665. 1600゜1510cm−’ NMR(DMSO−di、ε) 73.45 <2H,
m>、4.10 (2H。
ブロードs)、 4.32(3)1.s)、 4.
65(21,m)、 4.90(IH,d、J=4H
z)、 5.05−6.10 (4H,m)、 7.9
7<LH,dd、J=9.6Hz)、 8.06
(2H,ブロードs)、 8.37(IH,d、J=
9Hz)、 8.72 (IH,d、、C6Hz)、
9.13(IH,s)、 9.38 (IH,d、J=
8Hz)(3)7−[2〜(5−アミノ−1,2,4−
チアジアゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)
アセトアミド]−3−(1−メチル−3−ピリジニオチ
オ)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性
体) IR(スジ3−ル) : 3290. 1778.
1665. 1610゜1530cm−’ NMR(DMSO−d、、δ) : 1.23 (3H
,t、J=7Hz)、 3.2−3.7 (2H,+n
)、 4.18 (2H,(1,J=7H2)、 4.
32(3H,s)、 5.21 (IH,d、J=5H
z)、 5.74 (IH。
65(21,m)、 4.90(IH,d、J=4H
z)、 5.05−6.10 (4H,m)、 7.9
7<LH,dd、J=9.6Hz)、 8.06
(2H,ブロードs)、 8.37(IH,d、J=
9Hz)、 8.72 (IH,d、、C6Hz)、
9.13(IH,s)、 9.38 (IH,d、J=
8Hz)(3)7−[2〜(5−アミノ−1,2,4−
チアジアゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)
アセトアミド]−3−(1−メチル−3−ピリジニオチ
オ)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性
体) IR(スジ3−ル) : 3290. 1778.
1665. 1610゜1530cm−’ NMR(DMSO−d、、δ) : 1.23 (3H
,t、J=7Hz)、 3.2−3.7 (2H,+n
)、 4.18 (2H,(1,J=7H2)、 4.
32(3H,s)、 5.21 (IH,d、J=5H
z)、 5.74 (IH。
dd、J=8.5Hz)、 8.00 (IH,dd、
J=8.5Hz)。
J=8.5Hz)。
8.1B、 (2B、ブロードs)、 8.50
(IH,d、J=8Hz)。
(IH,d、J=8Hz)。
8.79 (IH,d、J=5Hz>、 9.60 (
11(、d、J=8Hz)実施例13 γ−[2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)
−2−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(4−
ピリジルメチルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸
ベンズヒドリル(シン異性体) (1,05g )のメ
タノール(6ml)およびテトラヒドロフラン(4ml
)混合物溶液に、濃塩酸(0,32m1 )を30℃で
加え、混合物を30℃で2時間攪拌する。反応混合物を
水と酢酸エチルとの混合物に攪拌下に加え、混合物を炭
酸水素ナトリウム水溶液で中和する。有機層を分取して
食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減
圧下に留去して、7−[2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2”(メトキシイミノ)アセトアミトコ−
3−(4−ピリジルメチルチオ)−3−セフェム−4−
カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)(0,65g
)を得る。
11(、d、J=8Hz)実施例13 γ−[2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)
−2−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(4−
ピリジルメチルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸
ベンズヒドリル(シン異性体) (1,05g )のメ
タノール(6ml)およびテトラヒドロフラン(4ml
)混合物溶液に、濃塩酸(0,32m1 )を30℃で
加え、混合物を30℃で2時間攪拌する。反応混合物を
水と酢酸エチルとの混合物に攪拌下に加え、混合物を炭
酸水素ナトリウム水溶液で中和する。有機層を分取して
食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減
圧下に留去して、7−[2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2”(メトキシイミノ)アセトアミトコ−
3−(4−ピリジルメチルチオ)−3−セフェム−4−
カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)(0,65g
)を得る。
IR(スジ1−ルン : 1770. 1772.
1670. 1600゜1530cm−’ NMR(DMSO−d、、δ) : 3.80 (2H
,m)、 3.85 (3)1゜s)、 4.18 (
2H,m>、 5.22 (IH,d、J=4Hz>。
1670. 1600゜1530cm−’ NMR(DMSO−d、、δ) : 3.80 (2H
,m)、 3.85 (3)1゜s)、 4.18 (
2H,m>、 5.22 (IH,d、J=4Hz>。
5.80 (IH,dd、J=8.4Hz)、 6.7
8 (1)1.s)。
8 (1)1.s)。
6.88 (LH,s)、 7.15−7.50 (1
2H,m)。
2H,m)。
8.47 <28.dd、J=8.2Hz>、 9.6
0 (LH,d。
0 (LH,d。
J4Hz)
東m
7−[2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)
−2−(エトキシイミノ)アセトアミド]−3−(3−
ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズ
ヒドリル(シン異性体)(2,8g)のメタノール(1
5ml)およびテトラヒドロフラン(5ml)混合物溶
液に、濃塩酸(0,85m1)を常温で加え、混合物を
30℃で4.25時間攪拌する。反応混合物に水と酢酸
エチルとを加え、混合物を!酸水素ナトリウム水溶液で
中和する。有機層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に留去して、7−[2
−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(エトキ
シイミノ)アセトアミド]−3−(3−ピリジルチオ)
−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(シン
異性体)(2,30g )を得る。
−2−(エトキシイミノ)アセトアミド]−3−(3−
ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズ
ヒドリル(シン異性体)(2,8g)のメタノール(1
5ml)およびテトラヒドロフラン(5ml)混合物溶
液に、濃塩酸(0,85m1)を常温で加え、混合物を
30℃で4.25時間攪拌する。反応混合物に水と酢酸
エチルとを加え、混合物を!酸水素ナトリウム水溶液で
中和する。有機層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に留去して、7−[2
−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(エトキ
シイミノ)アセトアミド]−3−(3−ピリジルチオ)
−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(シン
異性体)(2,30g )を得る。
IR(X九−ル”) : 1775. 1725.
1670. 160g。
1670. 160g。
1530cm−’
NMR(DMSO−ds、δ):1.19 (38,t
、J=7Hz)、 3.28および3.85 (2H,
ABq、J=17Hz)、’ 5.30 (IH。
、J=7Hz)、 3.28および3.85 (2H,
ABq、J=17Hz)、’ 5.30 (IH。
dJ=4Hz)、 5.90 (111,dd、J=
8.4)1K>、6.88(IH,s)、 6.93
. (ILs)、 7.15−7.55 (11B
。
8.4)1K>、6.88(IH,s)、 6.93
. (ILs)、 7.15−7.55 (11B
。
m)、7.80 (IH,m)、 8.53 (2H
,m)、 9.62 (IH。
,m)、 9.62 (IH。
d、 J=8H2)
火】d」1
実施例13〜14と同様にして下記化合物を得る。
(1)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(3−
ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズ
ヒドリル(シン異性体)。
−2−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(3−
ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズ
ヒドリル(シン異性体)。
IR(スジ1−ル) : :1360. 3140
. 1768. 1685゜1540cm+−’ NMR(DMSO−d、、δ) : 3.1−3.8
(2H,m)、 3.79(3H,s)、 5.27
(11,d、J4Hz>、 5.86 (IH。
. 1768. 1685゜1540cm+−’ NMR(DMSO−d、、δ) : 3.1−3.8
(2H,m)、 3.79(3H,s)、 5.27
(11,d、J4Hz>、 5.86 (IH。
ddJ=8.4Hz)、 6.70 (IH,s)、
6.91 (IH,s)。
6.91 (IH,s)。
7.1−7.5 (11H,m)、 7.75 (18
,dt、J=8.21(z)。
,dt、J=8.21(z)。
8.51 (2H,m)、 9.61 (18,d、J
=8Hz>(2)7−[2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2−(ジフェニルメトキシカルボニルメト
キシイミノ)アセトアミド]−3−(3−ピリジルチオ
)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(シ
ン異性体)。
=8Hz>(2)7−[2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2−(ジフェニルメトキシカルボニルメト
キシイミノ)アセトアミド]−3−(3−ピリジルチオ
)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(シ
ン異性体)。
IR(スジタール) : 3280. 1780.
1730. 1680. 1610゜1530cmm
−’ NMR(0M5Q−d、、δ): 3.27および3.
70 (2H。
1730. 1680. 1610゜1530cmm
−’ NMR(0M5Q−d、、δ): 3.27および3.
70 (2H。
ABq、J−18)1z)、 4.84 (2Ls)、
5.33 (IH,d。
5.33 (IH,d。
J=4Hz)、 5.94 (lH,dd、J=8.4
Hz)、 6j9(IH,s)、 6.88 (IH,
s)、 6.96 (IH,s)、 7.17−7.5
7(20H,m)、 7.80 (IH,m>、 8.
57 (2H。
Hz)、 6j9(IH,s)、 6.88 (IH,
s)、 6.96 (IH,s)、 7.17−7.5
7(20H,m)、 7.80 (IH,m>、 8.
57 (2H。
m)、9.70 (IH,d、J=8Hz)(3)7−
[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3
−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトアミド]−3
−(3−ピリジルメチルチオ)−3−セフェム−4−力
Jレボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)。
[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3
−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトアミド]−3
−(3−ピリジルメチルチオ)−3−セフェム−4−力
Jレボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)。
IR(スジミール) : 3270. 3140.
1770. 1665. 1605゜1520cm−
羞 (4)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミド]−3−(3−ピリジルメチルチオ)−3−セフェ
ム−4−カルボン酸(シン異性体)。
1770. 1665. 1605゜1520cm−
羞 (4)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミド]−3−(3−ピリジルメチルチオ)−3−セフェ
ム−4−カルボン酸(シン異性体)。
IR(スジミール) ! 3250. 3180.
1765. 1670. 1615゜1530cI1
1− ’ (5)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミトコ−3−(1−メチル−3−ピリジニオメチルチオ
)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体
)。
1765. 1670. 1615゜1530cI1
1− ’ (5)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミトコ−3−(1−メチル−3−ピリジニオメチルチオ
)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体
)。
IR(スジミール) : 3250. 1760.
1665. 1600゜1510cm−’ (6)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミド]−3−(4−ピリジルメチルチオ)−3−セフェ
ム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)。
1665. 1600゜1510cm−’ (6)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミド]−3−(4−ピリジルメチルチオ)−3−セフェ
ム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)。
IR(CH*C1t) ’ 1775.1695.16
00cm−’(7)7−[2−(5−アミノ−1,2,
4−チアジアゾール−3−イル)−2−(エトキシイミ
ノ)アセトアミド]−3−(4−ピリジルメチルチオ)
−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体)。
00cm−’(7)7−[2−(5−アミノ−1,2,
4−チアジアゾール−3−イル)−2−(エトキシイミ
ノ)アセトアミド]−3−(4−ピリジルメチルチオ)
−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体)。
IR(スジタール) : 3280. 316G、
1765. 1625. 1568゜1520c+a
−’ (8)7−[2−(s−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミトコ−3−(1−メチル−4−ピリジルニオメチルチ
オ)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性
体)。
1765. 1625. 1568゜1520c+a
−’ (8)7−[2−(s−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミトコ−3−(1−メチル−4−ピリジルニオメチルチ
オ)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性
体)。
IR(Xジ*−4) : 17B0. 1665.
1635. 1600゜1515csa−’ (9)?−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミド]−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェム−4
−カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)。
1635. 1600゜1515csa−’ (9)?−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミド]−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェム−4
−カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)。
IR(スジタール) : 1775. 1725.
1673. 1606゜1520cm−’ (10)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジ
アゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセト
アミド]−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェム−
14−カルボン#(シン異性体)。
1673. 1606゜1520cm−’ (10)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジ
アゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセト
アミド]−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェム−
14−カルボン#(シン異性体)。
IR(Xジa−4) 7 3270. 31g0.
1775. 1670. 1615゜1530cm−’ (IL)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジ
アゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセト
アミド]−3−(1−メチル−3−ピリジルニオチオ)
−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)
。
1775. 1670. 1615゜1530cm−’ (IL)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジ
アゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセト
アミド]−3−(1−メチル−3−ピリジルニオチオ)
−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)
。
IR(スジタール) : 3290. 1?78.
1665. 1610゜1530cm” (12)7− [2−アリルオキシイミノ−2−(5−
アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセ
トアミド]−3−(3−ピリジルメチルチオ)−3−セ
フェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)
。
1665. 1610゜1530cm” (12)7− [2−アリルオキシイミノ−2−(5−
アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセ
トアミド]−3−(3−ピリジルメチルチオ)−3−セ
フェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)
。
IR(Xジa−4) ’ 3290. 3160.
1775. 1675. 1610゜1520cm−
’ (13)7− [2−アリルオキシイミノ−2−(5−
アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセ
トアミド]−3−(3−ピリジルメチルチオ)−3−セ
フェム−4−カルボン酸(シン異性体)。
1775. 1675. 1610゜1520cm−
’ (13)7− [2−アリルオキシイミノ−2−(5−
アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセ
トアミド]−3−(3−ピリジルメチルチオ)−3−セ
フェム−4−カルボン酸(シン異性体)。
IR(X九−J ’ 3290. 3180. 1
765. 1670. 1615゜1530cm−’ (14>7− [2−アリルオキシイミノ−2−(5−
アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセ
トアミド]−3−(1−メチル−3−ピリジニオメチル
チオ)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異
性体)。
765. 1670. 1615゜1530cm−’ (14>7− [2−アリルオキシイミノ−2−(5−
アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセ
トアミド]−3−(1−メチル−3−ピリジニオメチル
チオ)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異
性体)。
IR(スジタール) : 3280. 1760.
1665. 1600゜’ 1510cm−’ <15)7−[2−アリルオキシイミノ−2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセト
アミトコ−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェム−
4−カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)。
1665. 1600゜’ 1510cm−’ <15)7−[2−アリルオキシイミノ−2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセト
アミトコ−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェム−
4−カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)。
IR(スジタール) : 1775. 1673.
1608. 1520cm−’(16)7− [2−
アリルオキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−
チアジアゾール−3−イル)アセトアミド]−3−(3
−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸(シ
ン異性体)。
1608. 1520cm−’(16)7− [2−
アリルオキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−
チアジアゾール−3−イル)アセトアミド]−3−(3
−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸(シ
ン異性体)。
IR(X9i−4) 7 3280.3180. 1
775. 1670. 1608゜1525cm−’ (17)7− [2−アリルオキシイミノ−2−(5−
アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセ
トアミトコ−3−(1−メチル−3−ピリジニオチオ)
−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)
。
775. 1670. 1608゜1525cm−’ (17)7− [2−アリルオキシイミノ−2−(5−
アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセ
トアミトコ−3−(1−メチル−3−ピリジニオチオ)
−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)
。
IR(Xジi+−4) : 3300. 1770
. 1665. 1610゜1525cm−’ (18)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)、−2−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(
4−ピリジル、メチルチオ)−3−セフェム−4−カル
ボン#(シン異性体)。
. 1665. 1610゜1525cm−’ (18)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)、−2−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(
4−ピリジル、メチルチオ)−3−セフェム−4−カル
ボン#(シン異性体)。
IR(Xジt−&) : 3300. 3180.
1770. 1668. 1630゜1600、15
30cm−’ (19)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(1
−メチル−4−ピリジニオメチルチオ)−3−セフェム
−4−カルボキシレート(シン異性体)。
1770. 1668. 1630゜1600、15
30cm−’ (19)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(1
−メチル−4−ピリジニオメチルチオ)−3−セフェム
−4−カルボキシレート(シン異性体)。
IR(xジ*−ル) : 3300,3180.’
1770,1670,1643゜1600 、1535
cm月 (20)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(3
−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルポン酸(シ
ン異性体)。
1770,1670,1643゜1600 、1535
cm月 (20)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(3
−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルポン酸(シ
ン異性体)。
IR(スジ6−ル) : 1780.1672.1
535cm−’(21)7−[2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−2−(メトキシイミノ)アセトアミ
ド]−3−(1−メチル−3−ピリジニオチオ)−3−
セフェム−4−力ルポキシレート(シン異性体)。
535cm−’(21)7−[2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−2−(メトキシイミノ)アセトアミ
ド]−3−(1−メチル−3−ピリジニオチオ)−3−
セフェム−4−力ルポキシレート(シン異性体)。
IR(Xジm−1−> : 3320.1778.
1673.1610 。
1673.1610 。
1535cm−’
(22)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(エトキシイミノ)アセトアミド]−3−(3
−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸(シ
ン異性体)。
)−2−(エトキシイミノ)アセトアミド]−3−(3
−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸(シ
ン異性体)。
IR(スジ1−ル) ’ 1778.16B3.1
610.1538cm−’(23)7−[2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)−2−(エトキシイミノ)
アセトアミド]−3−(1−メチル−3−ピリジニオチ
オ)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性
体)。
610.1538cm−’(23)7−[2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)−2−(エトキシイミノ)
アセトアミド]−3−(1−メチル−3−ピリジニオチ
オ)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性
体)。
IR(スジコール) : 3280.1775.1
665.1615 。
665.1615 。
1530cm−重
(24)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(カルボキシメトキシイミノ)アセトアミド]
−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カル
ボン酸(シン異性体)。
)−2−(カルボキシメトキシイミノ)アセトアミド]
−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カル
ボン酸(シン異性体)。
IR(スジ8−ル) : 32B0.1775.1
673.1610 。
673.1610 。
1535cm−’
(25)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(カルボキシメトキシイミノ)アセトアミド]
−3−(1−メチル−3−ピリジニオチオ)−3−セフ
ェム−4−カルボキシレート(シン異性体)。
)−2−(カルボキシメトキシイミノ)アセトアミド]
−3−(1−メチル−3−ピリジニオチオ)−3−セフ
ェム−4−カルボキシレート(シン異性体)。
IR(スジ3−ル) j 3320.1778.1
673.1610 。
673.1610 。
1535c+n−’
に五桝」
7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(3−ピリジ
ルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリ
ル(シン異性体)(O,99g)およびアニソール(1
,62m1 )のジクフロメタン(3ml)溶液に、ト
リフルオロ酢酸(2,31m1 )を水冷下に加え、混
合物を同温で1.25時間攪拌する。反応混合物をジイ
ソプロピルエーテル(500ml)に攪拌下に滴下し、
生成する沈殿を濾取する。沈殿を水と酢酸エチルとの混
合物に懸濁し、混合物を炭酸水素ナトリウム水溶液で攪
拌下に凶7に調整する。水層を分取して塩化ナトリウム
で飽和きせる。この混合物にテトラヒドロフ2ンを加え
、混合物を10%塩酸で攪拌下にpH3に調整する。有
機層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥後、溶媒を減圧下に留去して、7−[2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)−2−(メトキシイミノ)ア
セトアミトコ−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェ
ム−4−カルボン酸(シン異性体) (0,56g )
を得る。
(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(3−ピリジ
ルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリ
ル(シン異性体)(O,99g)およびアニソール(1
,62m1 )のジクフロメタン(3ml)溶液に、ト
リフルオロ酢酸(2,31m1 )を水冷下に加え、混
合物を同温で1.25時間攪拌する。反応混合物をジイ
ソプロピルエーテル(500ml)に攪拌下に滴下し、
生成する沈殿を濾取する。沈殿を水と酢酸エチルとの混
合物に懸濁し、混合物を炭酸水素ナトリウム水溶液で攪
拌下に凶7に調整する。水層を分取して塩化ナトリウム
で飽和きせる。この混合物にテトラヒドロフ2ンを加え
、混合物を10%塩酸で攪拌下にpH3に調整する。有
機層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥後、溶媒を減圧下に留去して、7−[2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)−2−(メトキシイミノ)ア
セトアミトコ−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェ
ム−4−カルボン酸(シン異性体) (0,56g )
を得る。
IR(スジヲール) 7 1780.1672.15
35cm−’NMR(DMSO−d、、ε) : 3.
22および3.62(2H。
35cm−’NMR(DMSO−d、、ε) : 3.
22および3.62(2H。
ABq J=17Hz) 、 3.78 (3H,s)
、 5.17 (IH,d。
、 5.17 (IH,d。
J=4Hz> 、 5.72 (IH,dd、J=8.
4Hz) 、 6.65(IH,s) 、 7.34
(IH,dd、J=8.5Hz) 、 7.75(IH
,d、J=8Hz)、8.44 (21,ブロードs
)、9.50(IH,d、J−8Hz) K簾桝V 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
(エトキシイミノ)アセトアミトコ−3−(3−ピリジ
ルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリ
ル(シン異性体)(2,14g)およびアニソール(s
、 24m1 )のジクロロメタン(10ml)溶液に
、トリフルオロ酢酸(4,62m1 )を水冷下に加え
、混合物を同温で1時間攪拌する。反応混合物をジイソ
プロピルエーテル(600ml)に滴下し、沈殿を濾取
する。この沈殿を水と酢酸エチルとの混合物にカロえ、
混合物を度酸水素ナトリウム水溶液でpH7に調整する
。水着を分取し、希塩酸でpH3に調整し、沈殿を濾取
して7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2−(エトキシイミノ)アセトアミトコ−3−(3−ピ
リジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異
性体) (0,80g )を得る。
4Hz) 、 6.65(IH,s) 、 7.34
(IH,dd、J=8.5Hz) 、 7.75(IH
,d、J=8Hz)、8.44 (21,ブロードs
)、9.50(IH,d、J−8Hz) K簾桝V 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
(エトキシイミノ)アセトアミトコ−3−(3−ピリジ
ルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリ
ル(シン異性体)(2,14g)およびアニソール(s
、 24m1 )のジクロロメタン(10ml)溶液に
、トリフルオロ酢酸(4,62m1 )を水冷下に加え
、混合物を同温で1時間攪拌する。反応混合物をジイソ
プロピルエーテル(600ml)に滴下し、沈殿を濾取
する。この沈殿を水と酢酸エチルとの混合物にカロえ、
混合物を度酸水素ナトリウム水溶液でpH7に調整する
。水着を分取し、希塩酸でpH3に調整し、沈殿を濾取
して7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2−(エトキシイミノ)アセトアミトコ−3−(3−ピ
リジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異
性体) (0,80g )を得る。
IR(スジョール) ’ 1778.1683.1
610.1538cm−’NMR(DMSO−d、、δ
) ’ 1.21 (3H,t、J=7Hz> 、 3
.23および3.62 (2)1.ABq、J=171
(z> 、 4.03 (2H。
610.1538cm−’NMR(DMSO−d、、δ
) ’ 1.21 (3H,t、J=7Hz> 、 3
.23および3.62 (2)1.ABq、J=171
(z> 、 4.03 (2H。
q、J=7Hz) 、 5.19 (IH,d、J=4
Hz) 、 5.75 (11゜dd、J−8,4Hz
> 、 6.62 (11(、s) 、 7.32 (
2H,dd。
Hz) 、 5.75 (11゜dd、J−8,4Hz
> 、 6.62 (11(、s) 、 7.32 (
2H,dd。
J=8.5Hz) 、 7.73 (IH,dt、J=
8.2Hz) 、 8.41(IH,d、J=5)1z
) 、 8.43 (IH,s) 、 9.46 (L
H,d。
8.2Hz) 、 8.41(IH,d、J=5)1z
) 、 8.43 (IH,s) 、 9.46 (L
H,d。
J=8Hz)
実施例18
7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトアミトコ
−3−(3−ピリジルメチルチオ)−3−セフェム−4
−カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)(1,30
g)およびアニソール(1、9’4mlうのジクロロメ
タン(3,3m1)溶液にトリフルオロ酢酸(2,77
m1 )を水冷下に加え、混合物を同温で1時間攪拌す
る。反応混合物をジイソプロピルエーテル(400ml
)に攪拌下、滴下し、生成する沈殿を濾取する。沈殿を
水と酢酸エチルとの混合物に懸濁し、混合物を炭酸水素
ナトリウム水溶液で攪拌下にpH7に調整する。水層を
分取して塩化ナトリウムを飽和させる。この混合物にテ
トラヒドロフランを加え、10%塩酸で攪拌下にpH3
に調整する。有機層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に留去して、7−[
2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−
イル)−2−(エトキシイミノ)アセトアミド]−3−
(3−ピリジルメチルチオ)−3−セフェム−4−カル
ボン酸(シン異性体) (485mg)を得る。
−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトアミトコ
−3−(3−ピリジルメチルチオ)−3−セフェム−4
−カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)(1,30
g)およびアニソール(1、9’4mlうのジクロロメ
タン(3,3m1)溶液にトリフルオロ酢酸(2,77
m1 )を水冷下に加え、混合物を同温で1時間攪拌す
る。反応混合物をジイソプロピルエーテル(400ml
)に攪拌下、滴下し、生成する沈殿を濾取する。沈殿を
水と酢酸エチルとの混合物に懸濁し、混合物を炭酸水素
ナトリウム水溶液で攪拌下にpH7に調整する。水層を
分取して塩化ナトリウムを飽和させる。この混合物にテ
トラヒドロフランを加え、10%塩酸で攪拌下にpH3
に調整する。有機層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に留去して、7−[
2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−
イル)−2−(エトキシイミノ)アセトアミド]−3−
(3−ピリジルメチルチオ)−3−セフェム−4−カル
ボン酸(シン異性体) (485mg)を得る。
IR(ヌジョール) : 3250.3180.1
765.1670.1615 。
765.1670.1615 。
1530cm−’
NMR(DMSO−ds、δ) ’ 1.27 (3B
、t、J=7Hz)、 3.77(2H,ブロードs)
、 4.15 (21(、ブロードs)、 4.
17 (2H。
、t、J=7Hz)、 3.77(2H,ブロードs)
、 4.15 (21(、ブロードs)、 4.
17 (2H。
q、J=7Hz)、 5.17 (1)1.d、J
=4Hz)、 5.78 (IH。
=4Hz)、 5.78 (IH。
dd、J=8.4Hz)、 7.38 (IH,dd、
J=8.5Hz)。
J=8.5Hz)。
7.81 (IH,dt、J=8.2Hz)、8.1
0 <28.ブロードS)。
0 <28.ブロードS)。
8.51 (IH,d、J=5Hz>、 8.56
(IH,ブロードS)。
(IH,ブロードS)。
9.53 (1)1.d、J=8Hz)実施例19
?−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
(メトキシイミノ)アセトアミトコ−3−(4−ピリジ
ルメチルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズ
ヒドリル(シン異性体)(0,62g)およびアニソー
ル(1,0m1)のジクロロメタン(5ml)溶液に、
トリフルオロ酢酸(1,42m1 )を水冷下に加え、
混合物を同温で1.5時間攪拌する。反応混合物をジイ
ソプロピルエーテル(500ψ1)に滴下し、生成する
沈殿を濾取する。沈殿を水と酢酸エチルとの混合物に懸
濁し、混合物を炭酸氷菓ナトリウム水溶液でpH7に調
整jる。水層を分取して希塩酸でpH4,5に11整し
、溶液を非イオン吸着樹脂「ダイヤイオンIP−20j
(15ml)を使用するカラムクロマトグラフィーに付
ス、カラムを水洗後、8%イソプロピルアルコールで溶
出する。i酌化合物を含む溶出液を集め、減圧濃縮して
イソプロピルアルコールを除去し、凍結乾燥して、7−
[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(メ
トキシイミノ)アセトアミド]−3−(4−ピリジルメ
チルチオ)−3−セフェム−4−カルボン#(シン異性
体)(0,23g)を得る。
(メトキシイミノ)アセトアミトコ−3−(4−ピリジ
ルメチルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズ
ヒドリル(シン異性体)(0,62g)およびアニソー
ル(1,0m1)のジクロロメタン(5ml)溶液に、
トリフルオロ酢酸(1,42m1 )を水冷下に加え、
混合物を同温で1.5時間攪拌する。反応混合物をジイ
ソプロピルエーテル(500ψ1)に滴下し、生成する
沈殿を濾取する。沈殿を水と酢酸エチルとの混合物に懸
濁し、混合物を炭酸氷菓ナトリウム水溶液でpH7に調
整jる。水層を分取して希塩酸でpH4,5に11整し
、溶液を非イオン吸着樹脂「ダイヤイオンIP−20j
(15ml)を使用するカラムクロマトグラフィーに付
ス、カラムを水洗後、8%イソプロピルアルコールで溶
出する。i酌化合物を含む溶出液を集め、減圧濃縮して
イソプロピルアルコールを除去し、凍結乾燥して、7−
[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(メ
トキシイミノ)アセトアミド]−3−(4−ピリジルメ
チルチオ)−3−セフェム−4−カルボン#(シン異性
体)(0,23g)を得る。
IR(ヌジR−ル) : 3300,3180,1
770.1668,1630゜1600 、1530c
m−’ NMR(DMSO−dl、8 ) : 3.66
(2H,ブロードs)、3.78(3H,s)、
4.09 (21,fロードs)、 5.06
(LH,d。
770.1668,1630゜1600 、1530c
m−’ NMR(DMSO−dl、8 ) : 3.66
(2H,ブロードs)、3.78(3H,s)、
4.09 (21,fロードs)、 5.06
(LH,d。
J=4Hz) 、 5.62(IH,dd、J=8.4
Hz) 、 6.65 (LH。
Hz) 、 6.65 (LH。
s)、 7.08 (2H,ブロードs)、7.2
4 (2B、d。
4 (2B、d。
J−5)1z) 、 8.38 (2H,m> 、 9
.50 <11.d、J=8Hz)去」11翻 実施例16〜19と同様にして下記化合物を得る。
.50 <11.d、J=8Hz)去」11翻 実施例16〜19と同様にして下記化合物を得る。
(L)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミド]−3−(+−ピリジルチオ)−3−セフェム−4
−カルボン#(シン異性体)。
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミド]−3−(+−ピリジルチオ)−3−セフェム−4
−カルボン#(シン異性体)。
mp : 179℃(分解〉
IR(スジョール) : 3270,3180,1
775,1670,1615゜1530cm−’ NMR(DMSO−di、 l; ’) : 1.23
(3H,t、J=7H2) 、 3.25および3.
78 (2H,ABq、J=17Hz) 、 4.19
(21゜q、J47Hz> 、 5.2B (IH,
d、J=4Hz> 、 5.89 (LH。
775,1670,1615゜1530cm−’ NMR(DMSO−di、 l; ’) : 1.23
(3H,t、J=7H2) 、 3.25および3.
78 (2H,ABq、J=17Hz) 、 4.19
(21゜q、J47Hz> 、 5.2B (IH,
d、J=4Hz> 、 5.89 (LH。
dd、J:8.4Hz) 、 7.45 (IH,dd
、J=8.5Hz) 。
、J=8.5Hz) 。
7.90 (IH,m)、8.10 (21,ブロ
ードs)、8.58(2H,m) 、 9.60 (I
H,d、J=8Hz)(2〉7−[2−アリルオキシイ
ミノ−2−(5−アミノ−1,2,4嶌−チアジアゾー
ル−3−イ、ノ ル)アセトアミトコ−3−(3−ピリジルメチルチオ)
−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体)。
ードs)、8.58(2H,m) 、 9.60 (I
H,d、J=8Hz)(2〉7−[2−アリルオキシイ
ミノ−2−(5−アミノ−1,2,4嶌−チアジアゾー
ル−3−イ、ノ ル)アセトアミトコ−3−(3−ピリジルメチルチオ)
−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体)。
IR(ス九−ル) : 3290,3180.17
B5,1670,1615゜1530cm−’ NMR(DMSO−ds、ε ) ; 3.75
(2H,ブロードs)、4.15(2H,ブロードs
)、4.68 (2H,d、J:5Hz)、5.08
−6.30 (31(、m) 、 5.13(LH,d
、J=4Hz> 、 5.78(11,dd、J=8.
4H2> 、7.33 (IH,dd、J=8.4H
z)。
B5,1670,1615゜1530cm−’ NMR(DMSO−ds、ε ) ; 3.75
(2H,ブロードs)、4.15(2H,ブロードs
)、4.68 (2H,d、J:5Hz)、5.08
−6.30 (31(、m) 、 5.13(LH,d
、J=4Hz> 、 5.78(11,dd、J=8.
4H2> 、7.33 (IH,dd、J=8.4H
z)。
7.76 (11,d、J=8H2)、8.13
(2H,ブロードsL8.35−8.65 (2H,m
) 、 9.58 (IH,d、J=8Hz)(3)7
−[2−アリルオキシイミノ−2−(5−アミノ−1,
2,4−チアジアゾール−3−イル)アセトアミド]−
3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボ
ン酸(シン果性 体)。
(2H,ブロードsL8.35−8.65 (2H,m
) 、 9.58 (IH,d、J=8Hz)(3)7
−[2−アリルオキシイミノ−2−(5−アミノ−1,
2,4−チアジアゾール−3−イル)アセトアミド]−
3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボ
ン酸(シン果性 体)。
IR(スジロール) : 32B0.31B0.1
775.1670.1608 。
775.1670.1608 。
1525cm+−’
NMR(DMSO−d、、δ) : 3.22および3
.64 (2H。
.64 (2H。
ABQ、J=17H2) 、 4.60 (2H,d、
J=5Hz) 、 5.05−5.40 (2H,m)
、 5.20 (11,d、J=4Hz) 、 5.
7−6.1 (2H,m) 、 7.33 (IH,d
d、、C8,5Hz) 。
J=5Hz) 、 5.05−5.40 (2H,m)
、 5.20 (11,d、J=4Hz) 、 5.
7−6.1 (2H,m) 、 7.33 (IH,d
d、、C8,5Hz) 。
7.75 (IH,dt、J=8.2Hz)、8.0
3 (2H,ブロードs)。
3 (2H,ブロードs)。
8.42 (IH,dd、J=5.2Hz>、8.46
(IH,s) 、 9.52(IH,d、J=8Hz
) (4)?−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミド] −3−(4−ピリジルメチルチオ)−3−セフ
ェム−4−カルボン酸(シン異性体)。
(IH,s) 、 9.52(IH,d、J=8Hz
) (4)?−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミド] −3−(4−ピリジルメチルチオ)−3−セフ
ェム−4−カルボン酸(シン異性体)。
IR(スジョール) : 3280,3160,1
765.156g、1625゜1520cm−’ NMR(DMSO−ds、δ) i 1.22
(3H,t、J=7Hz)、3.64(2H,ブロード
s)、4.06 (2H,ブロードs)、4.10
(2H。
765.156g、1625゜1520cm−’ NMR(DMSO−ds、δ) i 1.22
(3H,t、J=7Hz)、3.64(2H,ブロード
s)、4.06 (2H,ブロードs)、4.10
(2H。
q、に7Hz> 、 5.02 (IH,d、J=4)
1z) 、 5.65 (11゜dd、J=8,4)1
z) 、 7.22 (2H,m) 、 7.98 (
21゜ブロードs)、8.39 (2H,m)、9.
37 (18,d、J+:8Hz)大JJL丼 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
(ジフェニルメトキシカルボニルメトキシイミノ)アセ
トアミド]−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェム
−4−カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)(2,
0g)およびアニソール(2,49m1 )のジクロロ
メタン(5ml)溶液に、トリフルオロ酢酸(3,54
m1 )を水冷下に加え、混合物を同温で1時間攪拌す
る。反応混合物をジイソプロピルエーテル(500m1
)に攪拌下に滴下し、生成する沈殿を濾取する。沈殿
を水と酢酸エチルとの混合物に懸濁し、混合物を炭酸水
素ナトリウム水溶液でpH7に調整する。水層を分取し
て10%塩酸でpH2に調整し生成する沈殿を濾取して
、7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−(カルボキシメトキシイミノ)アセトアミド]−3−
(3−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸
(シン異性体) (285mg)を得る。
1z) 、 5.65 (11゜dd、J=8,4)1
z) 、 7.22 (2H,m) 、 7.98 (
21゜ブロードs)、8.39 (2H,m)、9.
37 (18,d、J+:8Hz)大JJL丼 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
(ジフェニルメトキシカルボニルメトキシイミノ)アセ
トアミド]−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェム
−4−カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)(2,
0g)およびアニソール(2,49m1 )のジクロロ
メタン(5ml)溶液に、トリフルオロ酢酸(3,54
m1 )を水冷下に加え、混合物を同温で1時間攪拌す
る。反応混合物をジイソプロピルエーテル(500m1
)に攪拌下に滴下し、生成する沈殿を濾取する。沈殿
を水と酢酸エチルとの混合物に懸濁し、混合物を炭酸水
素ナトリウム水溶液でpH7に調整する。水層を分取し
て10%塩酸でpH2に調整し生成する沈殿を濾取して
、7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−(カルボキシメトキシイミノ)アセトアミド]−3−
(3−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸
(シン異性体) (285mg)を得る。
IR(スジタール) : 3280.1775.1
673 、 1610 。
673 、 1610 。
1535cm−’
NMR(Dl’l5O−dt、 8 ) : 3.22
および3.62 (2H。
および3.62 (2H。
ABq、J=18Hz)、4.51 (21(、s)
、5.19 (1)1.d。
、5.19 (1)1.d。
J=5Hz) 、 5.75(LH,dd、J=8.5
Hz) 、 6.68 (IH。
Hz) 、 6.68 (IH。
s)、7.11 (2)1.fロードs)、7.33
(11,dd。
(11,dd。
J=8.5Hz)、7.75 <IH,dt、J=8.
2Hz) 、 8.43(IH,d、J=5Hz) 、
8.46 (IH,s) 、 9.47 (LH,d
。
2Hz) 、 8.43(IH,d、J=5Hz) 、
8.46 (IH,s) 、 9.47 (LH,d
。
J=8Hz>
東五輿η
7−ホルムアミド−3−メシルオキシ−3−セフェム−
4−カルリボン厳ベンズすドリル(9,77g)および
4−(メルカプトメチル)ピリジン(3,00g)のN
、N−ジメチルホルムアミド(100ml)溶液に、N
、N−ジインプロピルエチルアミン(3,48m1 )
を−30°Cで攪拌下に加え、混合物を同温で1時間攪
拌する。反応混合物を酢酸エチルと食塩水との混合物に
攪拌下に加える。有機層を分取して食塩水で洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に留去して得る
残渣をシリカゲルを使用するカラムクロマトグラフィー
に付し、ジクロロメタンと酢酸エチルとの混合物(1:
2)で溶出する。目的化合物を含む両分を合わせ、溶媒
を減圧下に留去して、7−ホルムアミド−3−(4−ピ
リジルメチルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベ
ンズヒドリル(6,38g)を得る。
4−カルリボン厳ベンズすドリル(9,77g)および
4−(メルカプトメチル)ピリジン(3,00g)のN
、N−ジメチルホルムアミド(100ml)溶液に、N
、N−ジインプロピルエチルアミン(3,48m1 )
を−30°Cで攪拌下に加え、混合物を同温で1時間攪
拌する。反応混合物を酢酸エチルと食塩水との混合物に
攪拌下に加える。有機層を分取して食塩水で洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に留去して得る
残渣をシリカゲルを使用するカラムクロマトグラフィー
に付し、ジクロロメタンと酢酸エチルとの混合物(1:
2)で溶出する。目的化合物を含む両分を合わせ、溶媒
を減圧下に留去して、7−ホルムアミド−3−(4−ピ
リジルメチルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベ
ンズヒドリル(6,38g)を得る。
IR(スジシール) : 1770.1680.1
600cm−’NMR(DMSO−d、、 δ )
: 3.80 (2H,ブロードs)、4.17(
2H,ブロードs)、5.18 (IH,d、J:4
.5Hz)、5.77<18.dd、J=9.4.5H
z) 、 6.88 (1)1.s) 、 7.2−7
.6 (12H,m)、8.18 (LH,ブロー
ドs)、s、as(2Ldd、J=4.21(z) 、
9.09 (IH,d、J=9Hz)K五糎遍 7−ホルムアミド−3−メシルオキシ−3−セフェム−
4−カルボン酸ベンズヒドリル(5,86g)および3
−メルカプトピリジン・塩酸塩(3,54g)(7)N
、N−ジメチルホルムアミド(80m1)溶液に、N、
N−ジイソプロピルエチルアミン(5,22m1 )を
−50°Cで攪拌下に加え、混合物を同温で1.75時
間攪拌する。反応混合物を酢酸エチルと食塩水との混合
物に加える。有機層を食塩水で洗浄し、融酸マグネシウ
ムで乾燥後、溶媒を留去して残渣を得る。残渣をシリカ
ゲルを使用するカラムクロマトグラフィーに付し、ジク
ロロメタン中15〜65%酢酸エチルで溶出する。目的
化合物を含む画分を合わせ、溶媒を留去して、7−ホル
ムアミド−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェム−
4−カルボン酸ベンズヒドリル(3,34g)を得る。
600cm−’NMR(DMSO−d、、 δ )
: 3.80 (2H,ブロードs)、4.17(
2H,ブロードs)、5.18 (IH,d、J:4
.5Hz)、5.77<18.dd、J=9.4.5H
z) 、 6.88 (1)1.s) 、 7.2−7
.6 (12H,m)、8.18 (LH,ブロー
ドs)、s、as(2Ldd、J=4.21(z) 、
9.09 (IH,d、J=9Hz)K五糎遍 7−ホルムアミド−3−メシルオキシ−3−セフェム−
4−カルボン酸ベンズヒドリル(5,86g)および3
−メルカプトピリジン・塩酸塩(3,54g)(7)N
、N−ジメチルホルムアミド(80m1)溶液に、N、
N−ジイソプロピルエチルアミン(5,22m1 )を
−50°Cで攪拌下に加え、混合物を同温で1.75時
間攪拌する。反応混合物を酢酸エチルと食塩水との混合
物に加える。有機層を食塩水で洗浄し、融酸マグネシウ
ムで乾燥後、溶媒を留去して残渣を得る。残渣をシリカ
ゲルを使用するカラムクロマトグラフィーに付し、ジク
ロロメタン中15〜65%酢酸エチルで溶出する。目的
化合物を含む画分を合わせ、溶媒を留去して、7−ホル
ムアミド−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェム−
4−カルボン酸ベンズヒドリル(3,34g)を得る。
IR(CH*C1*) : 3410.17g5.17
28.1700゜1670cm−’ NMR(DMSO−d、、δ) : 3.31および3
.72 (2H。
28.1700゜1670cm−’ NMR(DMSO−d、、δ) : 3.31および3
.72 (2H。
ABq、J=17Hz>、 5.28 (IH,d、J
=5Hz)、 5.88(IH,dd、J=9.5H2
)、 6.96 (IH,s)、 7.2−7.6<1
1H,m>、 7.83 (LH,m)、 8.
17 (IH,s)。
=5Hz)、 5.88(IH,dd、J=9.5H2
)、 6.96 (IH,s)、 7.2−7.6<1
1H,m>、 7.83 (LH,m)、 8.
17 (IH,s)。
8.55 (2H,m>、 9.16 (IH,d、
J=9Hz)実施例24 実施例22〜23と同様にして下記化合物を得る。
J=9Hz)実施例24 実施例22〜23と同様にして下記化合物を得る。
(1)?−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアンア
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミド]−3−(3−ピリジルメチルチオ)−3−セフェ
ム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)。
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミド]−3−(3−ピリジルメチルチオ)−3−セフェ
ム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)。
IR(ヌジヲール) : 3270. 3140.
1770. 1665. 1605゜1520cm−
’ (2)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミド]−3−(3−ピリジルメチルチオ)−3−セフェ
ム−4−カルボン酸(シン異性体)。
1770. 1665. 1605゜1520cm−
’ (2)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミド]−3−(3−ピリジルメチルチオ)−3−セフェ
ム−4−カルボン酸(シン異性体)。
IR(ヌジョール) : 3250. 3180.
1765. 1670. 1615゜1530cm−’ (3)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミド]−3−(1−メチル−3−ピリジニオメチルチオ
)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体
)。
1765. 1670. 1615゜1530cm−’ (3)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミド]−3−(1−メチル−3−ピリジニオメチルチオ
)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体
)。
IR(スジョール) : 3250. 1760.
1665. 1600゜1510cm−’ (4)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミド]−3−(4−ピリジルメチルチオ)−3−セフェ
ム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)。
1665. 1600゜1510cm−’ (4)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミド]−3−(4−ピリジルメチルチオ)−3−セフェ
ム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)。
IR(CH+C1*) :1775.1695.160
0cm−’(5)?−[2−(5−アミノ−1,2,4
−チアジアゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ
)アセトアミド]−3−(4−ピリジルメチルチオ)−
3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体)。
0cm−’(5)?−[2−(5−アミノ−1,2,4
−チアジアゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ
)アセトアミド]−3−(4−ピリジルメチルチオ)−
3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体)。
IR(ヌジョール) : 32g0. 3160.
1765. 1625. 1568゜1520cm−
’ (6)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミトコ−3−(1−メチル−4−ピリジニオメチルチオ
)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体
)。
1765. 1625. 1568゜1520cm−
’ (6)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミトコ−3−(1−メチル−4−ピリジニオメチルチオ
)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体
)。
IR(ヌジョール) : 1760. 1665.
1635. 1600゜1515cm−’ (7)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミド]−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェム−4
−カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)。
1635. 1600゜1515cm−’ (7)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミド]−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェム−4
−カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)。
IR(ヌジョール) : 1775. 1725.
1673. 1606゜1520cm−’ (8)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(″r、トキシイミノ)アセ
トアミド]−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェム
−4−カルボン酸(シン異性体)。
1673. 1606゜1520cm−’ (8)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(″r、トキシイミノ)アセ
トアミド]−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェム
−4−カルボン酸(シン異性体)。
mp : 179°C(分解〉
IR(ヌジョール) : 3270. 31g0.
1775. 1670. 1615゜1530cm−
’ (9)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(エトキンイミノI)アセト
アミド]−3−(1−メチル−3−ピリジニオチオ)−
3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)。
1775. 1670. 1615゜1530cm−
’ (9)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−(エトキンイミノI)アセト
アミド]−3−(1−メチル−3−ピリジニオチオ)−
3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)。
IL(ヌジョール) : 3290. 1778.
1665. 1610゜1530cm−’ (10)?−[2−アリルオキシイミノ−2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−゛イル)アセ
トアミトコ−3−(3−ピリジルメチルチオ)−3〜セ
フェム−4−カルボン酸ペンズヒドリル(シン異性体)
。
1665. 1610゜1530cm−’ (10)?−[2−アリルオキシイミノ−2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−゛イル)アセ
トアミトコ−3−(3−ピリジルメチルチオ)−3〜セ
フェム−4−カルボン酸ペンズヒドリル(シン異性体)
。
IR(スジ1−ル) : 3290. 316σ、
1775. 1675. 1610゜1520cm
−’ (11)? −[2−アリルオキシイミノ−2−(5−
アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセ
トアミド]−3−(’3−ピリジルメチルチオ)−3−
セフェム−4−カルボン酸(シン異性体)。
1775. 1675. 1610゜1520cm
−’ (11)? −[2−アリルオキシイミノ−2−(5−
アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセ
トアミド]−3−(’3−ピリジルメチルチオ)−3−
セフェム−4−カルボン酸(シン異性体)。
IR(スジコール) : 3290. 31B0.
1765. 1670. 1615゜1530cm−
’ (12)7−[2−アリルオキシイミノ−2〜(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセト
アミド]−3−(1−メチル−3−ピリジニオメチルチ
オ)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性
体)。
1765. 1670. 1615゜1530cm−
’ (12)7−[2−アリルオキシイミノ−2〜(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセト
アミド]−3−(1−メチル−3−ピリジニオメチルチ
オ)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性
体)。
IR(スジコール) : 3280. 1760.
1665. 1600゜1510cm−’ (13)7− [2−アリルオキシイミノ−2−(5−
アミノ−1,2,4−チア、ジアゾール−3−イル)ア
セトアミド]−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェ
ム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)。
1665. 1600゜1510cm−’ (13)7− [2−アリルオキシイミノ−2−(5−
アミノ−1,2,4−チア、ジアゾール−3−イル)ア
セトアミド]−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェ
ム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)。
IR(スジコール) : 1775. 1673.
1608. 1520cmす(14)7− [2−ア
リルオキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チ
アジアゾール−3−イル)アセトアミド]−3−(3−
ピリジルチオ)=3−セフェム−4−カルボン酸(シン
異性体)。
1608. 1520cmす(14)7− [2−ア
リルオキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チ
アジアゾール−3−イル)アセトアミド]−3−(3−
ピリジルチオ)=3−セフェム−4−カルボン酸(シン
異性体)。
IR(スジ3−ル) : 3280. 3180.
1775. 1670. 1608゜1525cm−
’ (15)7− [2−アリルオキシイミノ−2−(5−
アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセ
トアミトコ−3−(1−メチル−3−ピリジニオチオ)
−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)
。
1775. 1670. 1608゜1525cm−
’ (15)7− [2−アリルオキシイミノ−2−(5−
アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセ
トアミトコ−3−(1−メチル−3−ピリジニオチオ)
−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)
。
IR(スジ3−ル) : 3300. 1770.
1665. 1610゜1525cm−’ (16)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(4
−ピリジルメチルチオ)−3−セフェム−4−カルボン
酸ベンズヒドリル(シン異性体)。
1665. 1610゜1525cm−’ (16)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(4
−ピリジルメチルチオ)−3−セフェム−4−カルボン
酸ベンズヒドリル(シン異性体)。
IR<スジコール) : 1770. 1722.
1670. 1600゜1530cm−’ (17)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(4
−ピリジルメチルチオ)−3−セフェム−4−カルボン
m(シン異性体)。
1670. 1600゜1530cm−’ (17)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(4
−ピリジルメチルチオ)−3−セフェム−4−カルボン
m(シン異性体)。
IR(スジコール) : 3300. 3180.
1770. 1668. 1630゜1604)、
1530cm−’ (18)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(1
−メチル−4−ピリジニオメチルチオ)−3−セフェム
−4−カルボキシレート(シン異性体)。
1770. 1668. 1630゜1604)、
1530cm−’ (18)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(1
−メチル−4−ピリジニオメチルチオ)−3−セフェム
−4−カルボキシレート(シン異性体)。
IR(スジコール) : 3300. 3180.
1770. 1670. 1643゜1600、15
35cm−’ (19)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(4
−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベン
ズヒドリル(シン異性体)。
1770. 1670. 1643゜1600、15
35cm−’ (19)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(4
−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベン
ズヒドリル(シン異性体)。
IR(スジコール) i 3360. 3140.
1768. 1685゜1540cm−’ (20)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(3
−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸(シ
ン異性体)。
1768. 1685゜1540cm−’ (20)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3−(3
−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸(シ
ン異性体)。
IR(ス九−ル) ’ 1780. 1672.
1535cm−’(21)7−[2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)−2−(メトキシイミノ)アセトア
ミド]−3−(1−メチル−3−ピリジニオチオ)−3
−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)。
1535cm−’(21)7−[2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)−2−(メトキシイミノ)アセトア
ミド]−3−(1−メチル−3−ピリジニオチオ)−3
−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)。
IR(スジ9−ル) : 3320. 1778.
1673. 1610゜1535c+m−’ (22)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(エトキシイミノ)アセトアミド]−3−(3
−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベン
ズヒドリル(シン異性体)。
1673. 1610゜1535c+m−’ (22)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(エトキシイミノ)アセトアミド]−3−(3
−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベン
ズヒドリル(シン異性体)。
IR(スジ?−ル) : 1775. 1725.
1670. 1608゜1530cm−’ (23)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(エトキシイミノ)アセトアミド]−3−(3
−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸(シ
ン異性体)。
1670. 1608゜1530cm−’ (23)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(エトキシイミノ)アセトアミド]−3−(3
−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸(シ
ン異性体)。
IR(スジタール) : 1778. 1683.
1610. 1538cm−’(24)?−[2−(
2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(エトキシイ
ミノ)アセトアミド]−3−(1−メチル−3−ピリジ
ニオチオ)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シ
ン異性体)。
1610. 1538cm−’(24)?−[2−(
2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(エトキシイ
ミノ)アセトアミド]−3−(1−メチル−3−ピリジ
ニオチオ)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シ
ン異性体)。
IR(スジタール) : 3280. 1775.
1665. 1615゜1530cm” (25)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(カルボキシメトキシイミノ)アセトアミトコ
−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カル
ボン酸(シン異性体)。
1665. 1615゜1530cm” (25)7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2−(カルボキシメトキシイミノ)アセトアミトコ
−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カル
ボン酸(シン異性体)。
IR(スジ3−ル) : 3280. 1775.
1673. 1610゜1535cm−’ (26)7−[2−(2−7ミノチアゾールー4−イル
)−2−(カルボキシメトキシイミノ)アセトアミトコ
−3−(1−メチル−3−ピリジニオチオ)−3−セフ
ェム−4−カルボキシレート(シン異性体)。
1673. 1610゜1535cm−’ (26)7−[2−(2−7ミノチアゾールー4−イル
)−2−(カルボキシメトキシイミノ)アセトアミトコ
−3−(1−メチル−3−ピリジニオチオ)−3−セフ
ェム−4−カルボキシレート(シン異性体)。
IR(スジ9−ル)’ 3320. 1778. 1
673. 1610. 1535cm”(27)7−[
2−(j−アミノチアゾール−4−イル)−2−(ジフ
ェニルメトキシカルボニルメトキシイミノ)アセトアミ
ド]−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−
カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)。
673. 1610. 1535cm”(27)7−[
2−(j−アミノチアゾール−4−イル)−2−(ジフ
ェニルメトキシカルボニルメトキシイミノ)アセトアミ
ド]−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−
カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)。
IR(スジタール) : 32g0. 1780.
1730. 1680. 1610゜1530cm−
’ (28)7−[2−(2−ホルムアミドチアゾール−4
−イル)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3
−(4−ピリジルメチルチオ)−3−セフェム−4−カ
ルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)。
1730. 1680. 1610゜1530cm−
’ (28)7−[2−(2−ホルムアミドチアゾール−4
−イル)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド]−3
−(4−ピリジルメチルチオ)−3−セフェム−4−カ
ルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体)。
IR(スジう一ル) : 1782. 1680.
1543cm−’(29)7−[2−(2−ホルムア
ミドチアゾール−4−イル)−2−(メトキシイミノ)
アセトアミド]−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフ
ェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(シンJ%性体)
。
1543cm−’(29)7−[2−(2−ホルムア
ミドチアゾール−4−イル)−2−(メトキシイミノ)
アセトアミド]−3−(3−ピリジルチオ)−3−セフ
ェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(シンJ%性体)
。
IR(スジ書−ル) ’ 1785. 1730.
1690. 1550cm−’(30)7−[2−(
2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)−2−(エト
キシイミノ)アセトアミド]−3−(3−ピリジルチオ
)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(シ
ン異性体)。
1690. 1550cm−’(30)7−[2−(
2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)−2−(エト
キシイミノ)アセトアミド]−3−(3−ピリジルチオ
)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(シ
ン異性体)。
IR(スジ旨−ル) : 3150. 1780.
1725. 1675゜1650csa−’ (31)7−[2−(2−ホルムアミドチアゾール−4
−イル)−2−(ジフェニルメトキシカルボニルメトキ
シイミノ)アセトアミド]−3−(3−ピリジルチオ)
−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(シン
異性体)。
1725. 1675゜1650csa−’ (31)7−[2−(2−ホルムアミドチアゾール−4
−イル)−2−(ジフェニルメトキシカルボニルメトキ
シイミノ)アセトアミド]−3−(3−ピリジルチオ)
−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(シン
異性体)。
IR(CIIClハ: 3370.1788.1735
.1695.1600゜1540cm−’ (32) 7−アミノ−3−(3−ピリジルメチルチオ
)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル。
.1695.1600゜1540cm−’ (32) 7−アミノ−3−(3−ピリジルメチルチオ
)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル。
IR(スジルール) : 1765. 1730.
1605cm−’(33)7−アミノ−3−(4−ピ
リジルメチルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベ
ンズヒドリル。
1605cm−’(33)7−アミノ−3−(4−ピ
リジルメチルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸ベ
ンズヒドリル。
IR(スジ9−ル) : 3430. 1762.
1730. 1608゜1600csa−’ (34) 7−アミノ−3−(3−ピリジルチオ)−3
−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル。
1730. 1608゜1600csa−’ (34) 7−アミノ−3−(3−ピリジルチオ)−3
−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル。
IR(スジ9−ル) : 3670. 3410.
1780. 1730゜1615cm−’ (35) 7−ホルムアミド−3−(3−ピリジルメチ
ルチオ)−3−セフェム−4−カルボキシレート。
1780. 1730゜1615cm−’ (35) 7−ホルムアミド−3−(3−ピリジルメチ
ルチオ)−3−セフェム−4−カルボキシレート。
IR(スジa−ル) : 1765. 1670c
m−’大JJL針 7−ホルムアミド−3−(3−ピリジルメチルチオ)−
3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(3,3
5g)のメタノール(25m1 )およびテトラヒドロ
フラン(25m1 )混合物溶液に、濃塩酸(1,94
m1 )を常温で加え、混合物を同温で6時間攪拌する
0反応混合物を水と酢酸エチルとの混合物に攪拌下に加
え、混合物を炭酸水素ナトリウム水溶液で中和する。有
機層を分取して食塩水で洗節し、硫酸マグネシウムで乾
燥後、溶媒番減圧下に留去して、7−アミノ−3−(3
−ピリジルメチルチオ)−3−セフェム−4−カルボン
酸ベンズヒドリル(2,61g)を得る。
m−’大JJL針 7−ホルムアミド−3−(3−ピリジルメチルチオ)−
3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル(3,3
5g)のメタノール(25m1 )およびテトラヒドロ
フラン(25m1 )混合物溶液に、濃塩酸(1,94
m1 )を常温で加え、混合物を同温で6時間攪拌する
0反応混合物を水と酢酸エチルとの混合物に攪拌下に加
え、混合物を炭酸水素ナトリウム水溶液で中和する。有
機層を分取して食塩水で洗節し、硫酸マグネシウムで乾
燥後、溶媒番減圧下に留去して、7−アミノ−3−(3
−ピリジルメチルチオ)−3−セフェム−4−カルボン
酸ベンズヒドリル(2,61g)を得る。
IR(スジロール) : 1765. 1730.
1605cm−’NMR(DMSO−ds、ε )
: 3.80 (21,ブロードs)、 4.
10(2H,ブロードs)、 4.77 (IH,
d、J=5Hz)、 5.02(1%%、d、J=5
Hz)、 6.82 (111,s)、 7.15−7
.70く12%(、m)、 8.33−8.50
(2Lm>塞]d」競 7−ホルムアミド−3−(3−ピリジルチオ)−3−セ
フェム−4−カルボン酸ペンズヒドリュル(3,22g
)のメタノール(16ml)およびテトラヒドロフラン
(5’ml)混合物溶液に、濃塩酸(1,90m1)を
常温で加え、反応混合物を同温で6時間攪拌する。反応
混合物に水と酢酸エチルとを加え、混合物を炭酸水素ナ
トリウム水溶液で中和する。
1605cm−’NMR(DMSO−ds、ε )
: 3.80 (21,ブロードs)、 4.
10(2H,ブロードs)、 4.77 (IH,
d、J=5Hz)、 5.02(1%%、d、J=5
Hz)、 6.82 (111,s)、 7.15−7
.70く12%(、m)、 8.33−8.50
(2Lm>塞]d」競 7−ホルムアミド−3−(3−ピリジルチオ)−3−セ
フェム−4−カルボン酸ペンズヒドリュル(3,22g
)のメタノール(16ml)およびテトラヒドロフラン
(5’ml)混合物溶液に、濃塩酸(1,90m1)を
常温で加え、反応混合物を同温で6時間攪拌する。反応
混合物に水と酢酸エチルとを加え、混合物を炭酸水素ナ
トリウム水溶液で中和する。
有機層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を減圧丁番こ留去して、7−アミノ−3−
(3−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸
ベンズヒドリル(2,70g)を得る。
乾燥後、溶媒を減圧丁番こ留去して、7−アミノ−3−
(3−ピリジルチオ)−3−セフェム−4−カルボン酸
ベンズヒドリル(2,70g)を得る。
IR(CH*C1*) ’ 3670.3410.17
80,1730゜1615cm−’ NMR(DMSO−d、、δ): 3.25および3.
75 (2H。
80,1730゜1615cm−’ NMR(DMSO−d、、δ): 3.25および3.
75 (2H。
ABq、J=18H2>、 4.92 <IH,d、J
=5Hz)、 5.37(LH,d、J=5H2)、
6.96 (IH,s)、 7.2−7.6(11H,
m)、 7.77 (11(、dt、J=8.2Hz)
、 8.55(2H,m) 来JJL針 実施例25と同様にして下記の化合物を得る。
=5Hz)、 5.37(LH,d、J=5H2)、
6.96 (IH,s)、 7.2−7.6(11H,
m)、 7.77 (11(、dt、J=8.2Hz)
、 8.55(2H,m) 来JJL針 実施例25と同様にして下記の化合物を得る。
7−アミノ−3−(4−ピリジルメチルチオ)−3−セ
フェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル。
フェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル。
IR(スジ曹−ル) i 3430. 1762.
1730. 1608゜1600cm−’ NMR−(DMSO−d、、δ ) : 3.76
(2H,ブロードs)、 4.09(2H,ブロ
ードs)、 4.79 (IH,d、J−5Hz>
、 5.01(18,d、J=5Hz)、 6.8
5 <IH,s)、 7.15−7.55(12H,
m)、 8.45 (2H,dd、J=4.2Hz)
塞」dl競 1−才キソー7−ホルムアミド−3−(3−ピリジルメ
チルチオ)−3−セフェム−4−力Jレボン酸ベンズヒ
ドリル(4,80g)のN、N−ジメチルホルムアミド
(50m1 )溶液に、三塩化燐(1,25m1)を−
40℃で加え、混合物を一20’Cで2.5時間攪拌す
る。反応混合物を水と酢酸エチルとの混合物に攪拌下に
加え、混合物を度酸水素ナトリウム水溶液で中和する。
1730. 1608゜1600cm−’ NMR−(DMSO−d、、δ ) : 3.76
(2H,ブロードs)、 4.09(2H,ブロ
ードs)、 4.79 (IH,d、J−5Hz>
、 5.01(18,d、J=5Hz)、 6.8
5 <IH,s)、 7.15−7.55(12H,
m)、 8.45 (2H,dd、J=4.2Hz)
塞」dl競 1−才キソー7−ホルムアミド−3−(3−ピリジルメ
チルチオ)−3−セフェム−4−力Jレボン酸ベンズヒ
ドリル(4,80g)のN、N−ジメチルホルムアミド
(50m1 )溶液に、三塩化燐(1,25m1)を−
40℃で加え、混合物を一20’Cで2.5時間攪拌す
る。反応混合物を水と酢酸エチルとの混合物に攪拌下に
加え、混合物を度酸水素ナトリウム水溶液で中和する。
有機層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を減圧下に留去して、7−ホルムアミド−
3−(3−ピリジルメチルチオ)−3−セフェム−4−
カルボン酸ベンズヒドリル(3,46g)を得る。
乾燥後、溶媒を減圧下に留去して、7−ホルムアミド−
3−(3−ピリジルメチルチオ)−3−セフェム−4−
カルボン酸ベンズヒドリル(3,46g)を得る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1はアミノ基またはアシルアミノ基、R^
2はピリジル基または複素環部分が適当な置換基を有し
ていてもよい複素環(低級)アルキル基、R^3はカル
ボキシ基または保護されたカルボキシ基をそれぞれ意味
する]で示される新規セフェム化合物および医薬として
許容されるその塩。 2)(1)一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^2はピリジル基または複素環部分が適当な
置換基を有していてもよい複素環(低級)アルキル基、 R^3はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基を
それぞれ意味する]で示される化合物またはアミノ基に
おけるその反応性誘導体またはその塩を、アシル化反応
に付して、一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^2およびR^3はそれぞれ前と同じ意味、
R^1_aはアシルアミノ基を意味する)で示される化
合物またはその塩を得るか、または (2)一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^3は前と同じ意味、 R^1はアミノ基またはアシルアミノ基を意味する)で
示される化合物またはその塩に、一般式:R^4−Y_
1 (式中、R^4は低級アルキル基、 Y_1は酸残基をそれぞれ意味する)で示される化合物
を作用させて、一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^3、R^4およびY_1はそれぞ
れ前と同じ意味)で示される化合物またはその塩を得る
か、または (3)一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^2およびR^3はそれぞれ前と同じ意味、
R^1_bは保護されたアミノ基を有するアシルアミノ
基を意味する)で示される化合物またはその塩をアミノ
保護基の脱離反応に付して、一般式:▲数式、化学式、
表等があります▼ (式中3R^2およびR^3はそれぞれ前と同じ意味、
R^1_cはアミノ基を有するアシルアミノ基を意味す
る)で示される化合物またはその塩を得るか、または (4)一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1およびR^2はそれぞれ前と同じ意味、
R^3_aは保護されたカルボキシ基を意味する)で示
される化合物またはその塩を、カルボキシ保護基の脱離
反応に付して、一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1およびR^2はそれぞれ前と同じ意味)
で示される化合物またはその塩を得るか、または(5)
一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1およびR^3はそれぞれ前と同じ意味、
Y_2は酸残基を意味する)で示される化合物またはそ
の塩に、一般式: R^2−SH (式中、R^2は前と同じ意味)で示される化合物また
はその塩を作用させて、一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2およびR^3はそれぞれ前と同
じ意味)で示される化合物またはその塩を得るか、また
は (6)一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1_a、R^2およびR^3はそれぞれ前
と同じ意味)で示される化合物またはその塩を脱アシル
反応に付して、一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^2およびR^3はそれぞれ前と同じ意味)
で示される化合物またはその塩を得るか、または(7)
一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2およびR^3はそれぞれ前と同
じ意味)で示される化合物またはその塩を還元して、一
般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2およびR^3はそれぞれ前と同
じ意味)で示される化合物またはその塩を得ることを特
徴とする一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2およびR^3はそれぞれ前と同
じ意味)で示される新規セフェム化合物またはその塩の
製造法。 3)一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1はアミノ基またはアシルアミノ基、R^
2はピリジル基または複素環部分が適当な置換基を有し
ていてもよい複素環(低級)アルキル基、 R^3はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基を
それぞれ意味する]で示される新規セフェム化合物また
は医薬として許容されるその塩を有効成分として含有す
る細菌感染症予防治療剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60153152A JPS6133190A (ja) | 1984-07-10 | 1985-07-09 | 新規セフエム化合物,その製造法およびその用途 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB8417593 | 1984-07-10 | ||
JP60153152A JPS6133190A (ja) | 1984-07-10 | 1985-07-09 | 新規セフエム化合物,その製造法およびその用途 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6133190A true JPS6133190A (ja) | 1986-02-17 |
Family
ID=15556156
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60153152A Pending JPS6133190A (ja) | 1984-07-10 | 1985-07-09 | 新規セフエム化合物,その製造法およびその用途 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6133190A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61122285A (ja) * | 1984-11-15 | 1986-06-10 | Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd | 3位置換カルバセフエム化合物 |
JPS62103093A (ja) * | 1985-07-25 | 1987-05-13 | Taisho Pharmaceut Co Ltd | セフアロスポリン誘導体 |
WO1995007283A1 (en) * | 1993-09-09 | 1995-03-16 | Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. | New cephem compounds |
US5593986A (en) * | 1994-04-01 | 1997-01-14 | Microcide Pharmaceuticals, Inc. | Cephalosporin antibiotics |
US5688786A (en) * | 1994-04-01 | 1997-11-18 | Microcide Pharmaceuticals, Inc. | β-lactam antibiotics |
US5698547A (en) * | 1994-04-01 | 1997-12-16 | Microcide Pharmaceuticals, Inc. | Cephalosporin antibiotics |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5283492A (en) * | 1976-01-01 | 1977-07-12 | Ciba Geigy Ag | 7betaaaminoo33thioosephemm44 carboxylate compound |
-
1985
- 1985-07-09 JP JP60153152A patent/JPS6133190A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5283492A (en) * | 1976-01-01 | 1977-07-12 | Ciba Geigy Ag | 7betaaaminoo33thioosephemm44 carboxylate compound |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61122285A (ja) * | 1984-11-15 | 1986-06-10 | Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd | 3位置換カルバセフエム化合物 |
JPH0653739B2 (ja) * | 1984-11-15 | 1994-07-20 | 協和醗酵工業株式会社 | 3位置換カルバセフエム化合物 |
JPS62103093A (ja) * | 1985-07-25 | 1987-05-13 | Taisho Pharmaceut Co Ltd | セフアロスポリン誘導体 |
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US5593986A (en) * | 1994-04-01 | 1997-01-14 | Microcide Pharmaceuticals, Inc. | Cephalosporin antibiotics |
US5604218A (en) * | 1994-04-01 | 1997-02-18 | Microcide Pharmaceuticals, Inc. | Cephalosporin antibiotics |
US5607926A (en) * | 1994-04-01 | 1997-03-04 | Microcide Pharmaceuticals, Inc. | Cephalosporin antibiotics |
US5688786A (en) * | 1994-04-01 | 1997-11-18 | Microcide Pharmaceuticals, Inc. | β-lactam antibiotics |
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US5756493A (en) * | 1994-04-01 | 1998-05-26 | Microcide Pharmaceuticals, Inc. | Cephalosporin antibiotics |
US5789584A (en) * | 1994-04-01 | 1998-08-04 | Microcide Pharmaceuticals, Inc. | Substituted-pyridinyl cephalosporin antibiotics active against methicillin resistant bacteria |
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