JPS6133190A - 新規セフエム化合物，その製造法およびその用途 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 東東上ム］月遣１ この発明は新規セブエム化合物および医薬として許容さ
れるその塩類に関するものである。さらに詳細にはこの
発明は抗菌活性を有する新規セフェム化合物および医薬
として許容されるその塩類、その製造法、およびそれを
含有する医薬組成物に関するものである。

すなわち、この発明の一つの目的は、多くの病原菌に対
して高い活性を有する新規セフェム化合物および医薬と
して許容されるその塩類を提供することにある。

この発明のもう一つの目的は、新規セフェム化合物およ
び医薬として許容されるそ゛の塩類の製造法を提供する
ことにある。

この発明のさらにもう一つの目的は、有効成分として前
記の新規セフェム化合物および医薬として許容されるそ
の塩類を含有する医薬組成物を提供することにある。

この発明のさらにもう一つの別の目的は９人お−よび動
物の病原菌感染症治療法を提供することにある。

明が　決しようとする　　点 従来、数多くのセファロスポリン系抗生物質が知られて
いるが、抗菌力、抗菌スペクトル等において必ずしも満
足されるものではなく、この発明はさらに優れた新規な
セファロスポリン化合物の創製を企図したものである。

４　点を　決するための手段 目的とする新規セフェム化合物および医薬として許容さ
れるその塩は新規化合物であり２次の一般式（Ｉ）で示
すことができる。

［式中　Ｒ１はアミノ基またはアシルアミノ基。

Ｒ１はピリジル基または複素環部分が適当な置換基を有
していてもよい複素環（低級）アルキル基。

Ｒ８はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基をそ
れぞれ意味する］および医薬として許容されるその塩。

この発明の新規セブエム化合物（Ｉ）は例えば下記の反
応式で示される種々の製造法により製造することができ
る。

１遺隻↓ Ｒ３ （ｌ　ｆｆ１ｌ またはそのアミノ基における 反応性誘導体またはその塩 またはその塩 （Ｉ　ｃ） またはその塩 またはその塩 またはその塩 またはその塩 製造法４ またはその塩 またはその塩 またはその塩　　　　またはその塩 Ｊ またはその塩 またはその塩 Ｊ （Ｉ　ｆｉ） またはその塩 製造法７ ↑ またはその塩 またはその塩 （式中　Ｒ１，Ｒ１およびＲｓはそれぞれ前と同じ意味
であり。

Ｒ１はアシルアミノ基。

Ｙ、は酸残基。

Ｒ１は低級アルキル基。

ＲＬは保護されたアミノ基を有するアシルアミノ基。

ＲＬはアミノ基を有するアシルアミノ基。

Ｒ；は保護されたカルボキシ基。

Ｙ、は酸残基をそれぞれ意味する）。

この発明の出発原料中、化合物（Ｖ）のあるものは新規
化合物であり、下記の反応式で示きれる製造法により製
造することができる。

またはそのアミノ基　　　またはその反応性誘における
反応性誘導　　　導体またはそり塩体またはその塩 （Ｖｌ夏り またはその塩 ↓■ （夏Ｘ） ↓０ またはその塩 （式中、ＲｓおよびＹ、はそれぞれ前と同じ意味。

Ｒ４は低級アルカノイル基を意味する）。

目的化合物（１）の医薬として許容される好適な塩類は
慣用の無毒性塩類であり、その例として。

例えばリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩等のアル
カリ金属塩１例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等の
アルカリ土金属塩、アンモニウム塩等の無機塩基との塩
：例えばトリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩
、エタノールアミン塩、トリエタノールアミン塩、ジシ
クロｌ−キシルアミン塩、Ｎ、Ｎ’−ジベンジルエチレ
ンジアミン塩等の有機アミンとの塩等の有機塩基との塩
；例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無
機酸付加塩；例えばギ酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸
塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベ
ンゼンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩等の有
機カルボン酸付加塩または有機スルホン酸付加塩：例え
ばアルギニン、アスパラギン酸、グルタミン酸等の塩基
性アミノ酸または酸性アミノ酸との塩；分子間第四級塩
または分子内第四級塩等が挙げられる。前記の分子間第
四級塩は、化合物（Ｉ）のＲ１の複素環基が例えばピリ
ジル基等のように窒素原子を含む場合に形成することが
でき、好適な分子間第四級塩としては例えば１−メチル
ピリジニウムメチル硫酸塩、１−エチルピリジニウムエ
チル硫酸塩等の１−低級アル本ルビリジニウム低級アル
キル硫酸塩１例えば１−メチルピリジニウム沃化物等の
１−低級アルキルピリジニウムハロゲン化物等が挙げら
れる。前記の分子内第四級塩は、化合物（Ｉ）のＲ２の
複素環基が例えばピリジル基等のように窒素原子を含み
かつＲｓがカルボキシ基である場合に形成することがで
き、好適な分子内第四級塩としては例えば１−メチルピ
リジニウムカルボキシレート、１−エチルピリジニウム
カルボキシレート。

１−プロビルピリジニウム力ルポキシレート、１−イソ
ブロピルビリジニウム力ルポキシレート。

１−ブチルピリジニウムカルボキシレート等の１−低級
アルキルピリジニウムカルボキシレート等が挙げられる
。

この明細書の以上および以下の記載において。

この発明の範囲内に包含される種々の定義の好適な例示
および説明を以下詳細に述べる。

「低級、とは、特記しない限り、炭素原子１〜６個を意
味するものとする。

ｒ高級」とは、特記しない限り２次素原子７〜２０個を
意味するものとする。

「アシルアミ７基」、「保護されたアミノ基を有するア
シルアミノ基ツおよび「アミノ基を有するアシルアミノ
基、の好適な「アシル、部分としてはカルバモイル基、
脂肪族アシル基および芳香族アシル基と称される芳香環
を含むアシル基または複素環アシル基と称きれる複素環
を含むアシル−基が挙げられる。

アシル基の好適な例を例示すると下記のとおりである。

例えばホルミル、アセチル、スクシニル、ヘキサノイル
、ヘプタノイル、バレリル、ステアコイル等の低級また
は高級アルカノイル基；例えばメトキシカルボニル、エ
トキシカルボニル、第三級ブトキシカルボニル、第三級
ペンチルオキシカルボニル、ヘプチルオキシカルボニル
等の低級または高級アルコキシカルボニル基；例えばメ
シル、エタンスルホニ、ル等の低級または高級アルカン
スルホニル基； イ列えばメトキシスルホニル、エトキシスルホニル等の
低級または高級アルコキシスルホニル基等のような脂肪
族アシル基； 例えばベンゾイル、トルオイル、ナフトイル等のアロイ
ル基； 例えばフェニルアセチル、フェニルプロピオニル等のフ
ェニル（低級）アルカノイルのようなアル（低級）アル
カノイル基； 例えばフエノキシ力ルボニＪし、ナブチルオキシ力ルポ
ニル等のアリールオキシカルボニル基；例えばフェノキ
シアセチル、フェノキシプロピオニル等のアリールオキ
シ（低級）アルカノイル基；例えばフェニルグリオキシ
ロイル、ナフチルグリオキシロイル等のアリールグリオ
キシロイル基；例えばベンゼンスルホニル、トシル等の
アレーンスルホニル等のような芳香族アシル基；例えば
テノイル、フロイル、ニッチノイル等の複素環カルボニ
ル基； 例えばチェニルアセチル、チアゾリルアセチル。

チアジアゾリルアセチル、テトラゾリルアセチル等の複
素環（低級）アルカノイル基：例えばチアゾリルグリオ
キシロイル、チェニルグリオキシロイル等の複素環グリ
オキシロイル基等のような複素環アシル基であって、前
記「複素環カルボニル基」、「複索環（低級）アルカノ
イル基」および「複素環グリオキシロイル基」の複素環
部分が。

さらに詳細には酸素原子、イ才つ原子、窒素原子等のよ
うなペテロ原子を少なくとも１個含む飽和または不飽和
単環または多環複素環基を意味する。

これらの中で特に好ましい複素環基としては。

窒素原子１〜４個を含む不飽和３〜８員、さらに好まし
くは５または６員複素単環基、その例として、ピロリル
、ピロリニル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジルお
よびそのＮ−オキシト、ジヒドロピリジル、ピリミジル
、ピラジニル、ピリダジニル、例えば４Ｈ−１，２，４
−トリアゾリル。

ＩＨ−１，２，３−トリアゾリル、２Ｈ−１，２，３−
トリアゾリル等のトリアゾリル、例えばＩＨ−テトラゾ
リル、２Ｈ−テトラゾリル等のテトラゾリル等； 窒素原子１〜４個を含む飽和３〜８員、さらに好ましく
は５または６員複素単環基２例えばピロリジニル１．イ
ミダゾリジニル、ピペリジノ、ピペラジニル等； 窒素原子１〜４個を含む不飽和縮合複素環基２例えばイ
ンドリル、イソインドリル、イントリジニル、ベンズイ
ミダゾリル、キノリル、イソキノリル、インダゾリル、
ベンゾトリアゾリル等；酸素原子１〜２個および窒素原
子１〜３個を含む不飽和３〜８員、さらに好ましくは５
または６員複素単環基、その例として、オキサシリル、
インオキサシリル、例えば１．２．４−オキサジアゾリ
ル、１．３．４−オキサジアゾリル、１．２．５−オキ
サジアゾリル等のオキサジアゾリル等；酸素原子１〜２
個および窒素原子１〜３個を含む飽和３〜８員、さらに
好ましくは５または６員複素単環基９例えばモルホリニ
ル、シトノニル等；酸素原子１〜２個および窒素原子１
〜３個を含む不飽和縮合複素環基９例えばベンズオキサ
シリル、ベンズオキサジアゾリル等； イ才つ原子１〜２個および窒素原子１〜３個を含む不飽
和３〜８員さらに好ましくは５または６員複素単環基、
その例として、チアゾリル、イソチアゾリル、例えば１
．２．３−チアジアゾリル。

１．２．４−チアジアゾリル、１．３．４−チアジアゾ
リル、１，２．５−チアジアゾリル等のチアジアゾリル
、ジヒドロチアジニル等； イ才つ原子１〜２個および窒素原子１〜３個を含む飽和
３〜８員さらに好ましくは５または６員複素単環基１例
えばチアゾリジニル等； イオウ原子１〜２個を含む不飽和３〜８員さらに好まし
くは５または６員複素単環基９例えばチェニル、ジヒド
ロチイニル、ジヒドロチイニル等童 イオウ原子１〜２個および窒素原子１〜３個を含む不飽
和縮合複素環基１例えばベンゾチアゾリル、ベンゾチア
ジアゾリル等； 酸素原子１個を含む不飽和３〜Ｂ員、さらに好ましくは
５または６員複素単環基２例えばフリル等； 酸素原子１個およびイオウ原子１〜２個を含む不飽和３
〜８員、さらに好ましくは５または６員複素単環基２例
えばジヒドロオキサチイニル等；イ才つ原子１〜２個を
含む不飽和縮合複素環基。

例えばベンゾチェニル、ベンＹジチイニル等；酸素原子
１個およびイ才つ原子１〜２個を含む不飽和縮合複素環
基１例えばベンズオキサチイニル等のような複素環基が
挙げられる。

上記複素環基については下記の点に留意すべきである。

すなわち、複素環基が置換基としてその分子内にアミノ
基または保護きれたアミノ基を有するチアゾリル基また
はチアジアゾリル基セある場合、チアゾリル基またはチ
アジアゾリル基には、チアゾール環またはチアジアゾー
ル環の特異的挙動に起因する互変異性体が含まれる。す
なわち例えば、これらのアミノチアゾリル基もしくは保
護されたアミノチアゾリル基、またはアミノチアジアゾ
リル基もしくは保護されたアミノチアジアゾリル基は式
： （式中　Ｒ３はアミノ基または保護されたアミノ基。

２はＣＨまたはＮをそれぞれ意味する）で示されるが２
式（Ａ）で示される基は式： （式中、Ｒ６および２はそれぞれ前と同じ意味）でも、
またその互変異性の式： （式中、２は前と同じ意味であり。

Ｒ８゛はイミノ基または保護されたイミノ基を意味する
）でも示すことができる。゛ すなわち１式（Ａ′）および（Ａ″′）で示される両方
の基は次の平衡式： ％式％（） （式中、Ｒ’、ＺおよびＲ１′はそれぞれ前と同じ意味
）で示されうる互変異性平衡の状態にある。

上記２−アミノチアゾール化合物と２−イミノチアゾリ
ン化合物との間、および５−アミノチアジアゾール化合
物と５−イミノチアシアプリン化合物との間のこれらの
互変異性の型は、当業界では周知のことであり、互変異
性体の両者が平衡関係にあり、互いに変化しうる状態に
あることは当業者には明白なことであり、従ってそのよ
うな異性体は化合物自体の同じ範哨に包含きれるものと
解される。すなわち、互変異性の両方の形はいずれも明
白にこの発明の範囲内に包含される。この明細書におい
ては、そのような互変異性体の基を含む目的化合物およ
び原料化合物は便宜上それらの表現の一つ、すなわち、
２−アミン（または保護されたアミン）チアゾリルまた
は５−アミノ（または保護されたアミン）チアジアゾリ
ルおよび式： を用いて示すことにする。

前記アシル部分は１例えばメチル、エチル等の低級アル
キル基： 例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ等の低級アルコ
キシ基： 例えばメチルチオ、エチルチオ等の低級アルキルチオ基
； 例えばメチルアミノ等の低級アルキルアミノ基；例えば
シクロペンチル、シクロヘキシル等のシクロ（低級）ア
ルキル基； イ列えばシクロへキセニル、シクロへキサジェニル等の
シクロ（低級）アルケニル基；ハロゲン；アミノ基：保
護きれたアミノ基；ヒドロキシ基；保護きれたヒドロキ
シ基；シアノ基；ニトロ基；カルボキシ基；保護された
カルボキシ基；スルホ基；スルファモイル基；イミノ基
；オキソ基；例えばアミノメチル、アミノエチル等のア
ミン（低級）アルキル基： カルバモイル才キシ基； 式：＝Ｎ−ＯＲ’（式中、Ｒ１は水素または適当な置換
基を有していてもよい有機基を意味する）で示きれる基
等のような１〜１０個の同一または異なる適当な置換基
を有していてもよい。

この点に関連して、アシル部分が式：　＝Ｎ−ＯＲ’（
式中、Ｒ６は前と同じ意味）で示される基を置換基とし
て有する場合、二重結合の存在に起因する幾何異性体（
シン異性体およびアンチ異性体）が存在する。例えばシ
ン異性体は式：で示され、る基を有する一つの幾何異性
体を意味し、これに対応するアンチ異性体は式：％式％ で示される基を有する別の幾何異性体を意味する。

「適当な置換基を有していてもよい複素環（低級）アル
キル基」の好適な１複素環基」としては前記のものを挙
げることができる。

１適当な置換基を有していてもよい複素環（低級）アル
キル基」の好適な１置換基」としては。

例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、第三級ブチル、ペンチル、ヘキシル等
の低級アルキル等が挙げられる。

好適な「保護きれたカルボキシ基、としては。

下記のような１エステル化されたカルボキシ基」が挙げ
られる。

エステル化されたカルボキシ基のエステル部分の好適な
例としては１例えばメチルエステル、エチルエステル、
プロピルエステル、イソプロピルエステル、ブチルエス
テル、イソブチルエステル、第三級ブチルエステル、ペ
ンチルエステル。

ヘキシルエステル、１−シクロプロピルエチルエステル
等の、少なくとも１個の適当な置換基を有していてもよ
い低級アルキルエステル、その例として１例えばアセト
キシメチルエステル、プロピオニルオキシメチルエステ
ル、ブチリルオキシメチルエステル、バレリルオキシメ
チルエステル。

ピバロイルオキシメチルエステル、ヘキサノイルオキシ
メチルエステル、１（または２）−アセトキシエチルエ
ステル、１（または２または３）−アセトキシプロピル
エステル、１（または２または３または４）−アセトキ
シブチルエステル、１（または２）−プロピオニルオキ
シエチルエステル、１（または２または３）−プロピオ
ニルオキシプロビルエステル、１（または２）−ブチリ
ルオキシエチルエステル、１（または２）−イソブチリ
ルオキシエチルエステル、１（または２）−ピバロイル
オキシエチルエステル、１（または２）−ヘキサノイル
オキシエチルエステル、イソブチリルオキシメチルエス
テル、２−エチルブチリルオキシメチルエステル、３．
３−ジメチルブチリルオキシメチルエステル、１（また
は２）−ペンタノイルオキシエチルエステル等の低級ア
ルカノイルオキシ（低級）アルキルエステル、例えば２
−メシルエチルエステル等の低級アルカンスルホニル（
低級）アルキルエステル、例えば２−ヨードエチルエス
テル、２，２．２−トリクロロエチルエステル等のモノ
（またはジまたはトリ）−ハロ（低級）アルキルエステ
ル、例えばメトキシカルボニルオキシメチルエステル ボニルオキシメチルエステル、２−メトキシカルボニル
オキシエチルエステル、１−エトキシカルボニルオキシ
エチルエステル、１−イソプロポキシカルボニルオキシ
エチルエステル等の低級アルコキシカルボニルオキシ（
低級）アルキルエステル、ブタリジリデン（低級）アル
キルエステル。

または例えば（５−メチル−２−オキソ−１．３−ジオ
キソ−ルー４−イル）メチルエステル。

（５−エチル−２−オキソ−１．３−ジオキソ−ルー４
−イル）メチルエステル、（５−プロピル−２−オキソ
−１．３−ジオキソ−ルー４−イル）エチルエステル等
の（　５　−ｆｆｆｉ級７４１Ｌ．−　２−才キソー１
．３−ジオキソ−ルー４−イル）（低級）アルキルエス
テル； 例えばビニルエステル、アリルエステル等の低級アルケ
ニルエステル； 例エバエチニルエステル、プロピニルエステル等の低級
アルキニルエステル； 例えばベンジルエステル、４−メトキシベンジルエステ
ル、４−ニトロベンジルエステル、フェネチルエステル
、トリチルエステル、ベンズヒドリルエステル、ビス（
メトキシフェニル）メチルエステル、３．４−ジメトキ
シベンジルエステル。

４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三級ブチルベンジルエ
ステル等の少なくとも１個の適当な置換基を有していて
もよいモノ（またはジまたはトリ）フェニル（低級）ア
ルキルエステルのような，少なくとも１個の適当な置換
基を有していてもよいアル（低級）アルキルエステル； 例エバフェニルエステル、４−クロロフェニルエステル
、トリルエステル、第三級フチルフェニルエステル，キ
シリルエステル、メシチルエステル、クメニルエステル
等の少なくとも１個の置換基を有していてもよいアリー
ルエステル等のようなものが挙げられる。

ｒ適当な置換基を有していてもよい複素環（低級）アル
キル基」の好適な「低級アルキル基」としては、メチル
、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチ
ル、第三級ブチル、ペンチル、ヘキシル等が挙げられる
。

好適な「保護されたアミノ基」および「保護されたアミ
ノ基を有するアシルアミノ基」の好適な「保護されたア
ミノ部分」としては、「アシル」部分が前記のようなも
のであるアシルアミノ；ホスホノアミノ、保護されたホ
スホノアミノ；ベンジルアミノ、フェネチルアミノ、ト
リチルアミノのようなアル（低級）アルキルアミノ；等
が挙げられる。

好適な「酸残基」としては、アシルオキシ基。

ハロゲン例えばフッ素、塩素、臭素または沃素等が挙げ
られ、′アシルオキシ基」のアシル部分については前に
例示したものを参照すればよい。

好適な「低級アルカノイル基」としては、ホルミル、ア
セチル、プロピオニル等が挙げられる。

好適な「適当な置換基を有していてもよい有機基」とし
ては１例え・ばメチル、エチル、プロピル等の低級アル
キル基９例えばビニル、アリル、２−ブテニル等の低級
アルケニル基９例えばエチニル、２−プロピニル等の低
級アルキニル基２例え、ばシクロプロピル、シクロブチ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシル等のシクロ（低級
）アルキル基２例えばシクロブテニル、シクロペンテニ
ル。

シクロへキセニル等のシクロ（４Ｕｉｌｌ）アルケニル
基９例えばベンジル、フェネチル等のフェニル（低級）
アルキル基のようなアル（低級）アルキル基１例えばカ
ルボキシメチル、１−力ルボキシエチル、カルボキシプ
ロピル等のカルボキシ（低級）アルキル基１例えばモノ
（またはジまたはトリ）フェニル（低級）アルコキシカ
ルボニルメチル等のエステル化諮れたカルボキシ（低級
）アルキル基のような保護されたカルボキシ（低級）ア
ルキル基１例えばヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル
等のヒドロキシ（低級）アルキル基１例えばカルボキシ
ビニル、カルボキシアリル、カルボキシ−２−ブテニル
等のカルボキシ（低級）アルケニル基、保護きれたカル
ボキシ（低級）アルケニル基等が挙げられる。

目的化合物（Ｉ）の好ましい実施態様は下記のとおりで
ある。

Ｒ１の好ましい実施態様はアミノ基、低級アルカノイル
アミノ基、低級アルコキシイミノ基を有するアミノチア
ジアゾリル（低級）アルカノイルアミノ基、低級アルケ
ニルオキシイミノ基を有するアミノチアジアゾリル（低
級）アルカノイルアミノ基、低級アルキニルオキシイミ
ノ基を有するアミノチアジアゾリル（低級）アルカノイ
ルアミノ基、カルボキシ（低級）アルコキシイミノ基を
有するアミノチアジアゾリル（低級）アルカノイルアミ
ノ基、シクロ（低級）アルケニルオキシイミノ基を有す
るアミノチアジアゾリル（低級）アルカノイルアミノ基
、シクロ（低級）アルコキシイミノ基を有するアミノチ
アジアゾリル（低級）アルカノイルアミノ基、ヒドロキ
シイミノ基を有するアミノチアジアゾリル（低級）アル
カノイルアミ７基、低級アルコキシイミノ基を有する保
護されたアミノチアゾリル（低級）アルカノイルアミノ
基［さらに好ましくは低級アルコキシイミノ基を有する
アシルアミノチアゾリル（低級）アルカノイルアミノ基
、最も好ましくは低級アルコキシイミノ基を有する低級
アルカノイルアミノチアゾリル（低級）アルカノイルア
ミノ基コ、低級アルフキジイミノ基を有するアミノチア
ゾリル（低級）アルカノイルアミノ基、低級アルケニル
オキシイミノ基を有する保護されたアミノチアゾリル（
低級）アルカノイルアミノ基、［さらに好ましくは低級
アルケニルオキシイミノ基を有するアシルアミノチアゾ
リル（低級）アルカノイルアミノ基、最も好ましくは低
級アルケニルオキシイミノを九倉す六部錫γル自ノＩル
アミノチアゾリル（低級）アルカノイルアミノ基］、低
級アルケニルオキシイミノ基を有するアミノチアゾリル
（低級）アルカノイルアミノ基、低級アルキニルオキシ
イミノ基を有する保護されたアミノチアゾリル（低級）
アルカノイルアミノ基［さらに好ましくは低級アルキニ
ルオキシイミノ基を有するアシルアミノチアゾリル（低
級）アルカノイルアミノ基、最も好ましくは低級アルキ
ニルオキシイミノ基を有する低級アルカノイルアミノチ
アゾリル（低級）アルカノイルアミノ基］、低級アルキ
ニルオキンイミノ基を有するアミノチアゾリル（低級）
アルカノイルアミノ基、保護されたカルボキシ（低級）
アルコキシイミノ基を有する保護されたアミノチアゾリ
ル（低級）アルカノイルアミノ基［さらに好ましくはエ
ステル化されたカルボキシ（低級）アルコキシイミノ基
を有するアシフレアミノチアゾリル（低級）アルカノイ
ルアミノ基。

最も好ましくはモノ（またはジまたはトリ）フェニル（
低級）アルコキシカルボニル（低級）アルコキシイミノ
基を有する低級アルカノイルアミノチアゾリル（低級）
アルカノイルアミノ基］、保護きれたカルボキシ（低級
）アルコキシイミノ基を有するアミノチアゾリル（低級
）アルカノイルアミノ基［さらに好ましくはエステル化
きれたカルボキシ（低級）アルコキシイミノ基を有する
アミノチアゾリル（低ｉ）アルカノイルアミノ基。

最も好ましくはモノ（またはジまたはトリ）フェニル（
低級）アルコキシカルボニル（低級）アルコキシイミノ
基を有するアミノチアゾリル（低級）アルカノイルアミ
ノ基］、カルボキシ（低級）アルコキシイミノ基を有す
るアミノチアゾリル（低級）アルカノイルアミノ基、シ
クロ（低級）アルケニルオキシイミノ基を有する保護さ
れたアミノチアゾリル（低級）アルカノイルアミノ基［
さらに好ましくはシクロ（低級）アルケニルオキシイミ
ノ基を有するアシルアミノチアゾリル（低級）アルカノ
イルアミノ基、最も好ましくはシクロ（低級）アルケニ
ルオキシイミノ基を有する低級アルカノイルアミノチア
ゾリル（低級）アルカノイルアミノ基］、シクロ（低級
）アルケニルオキシイミノ基を有するアミノチアゾリル
（低級）アルカノイルアミノ基、または保護されたアミ
ノ基を有するヒドロキシフェニル（低級）アルカノイル
アミノ基［さらに好ましくはアシルアミノ基を有するヒ
ドロキシフェニル（低級）アルカノイルアミノ基、最も
好ましくはジオキソ基および低級アルキル基で置換され
たピペラジニルカルボニルアミノ基を有するヒドロキシ
フェニル（低級）アルカノイルアミノ基、］； Ｒ′の好ましい実施態様はピリジル基または複素環（低
級）アルキル基、［さらに好ましくはピリジルメチル基
］； Ｒ３の好ましい実施態様はカルボキシ基または保護され
たカルボキシ基、［さらに好ましくはエステル化された
カルボキシ基、最も好ましくはモノ（またはジまたはト
リ）フェニル（低級）アルコ・キシカルボニル基または
低級アルカノイルオキシ（低級）アルフキジカルボニル
基］である。

目的化合物（Ｉ）の好適な分子内または分子間第四級塩
としては、７−［２−（２−保護されたアミノチアゾー
ル−４−イル）−２−低級アルコキシイミノアセトアミ
ド］−３−（１−低級アルキルー３−ピリジニオチオ）
−３−セフェム−４−カルボン酸モノ（またはジまたは
トリ）フェニル（低級）アルキル・ハロゲン（１，７−
［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−低級
アルコキシイミノアセトアミド］−３−（１−低級アル
キルー３−ピリジニオチオ）−３−セフェム−４−カル
ボン酸モノ（またはジまたはトリ）フェニル（低級）ア
ルキル・ハロゲン化物、７−［２−（２−保護されたア
ミノチアゾール−４−イル）−２−保護されたカルボキ
シ（低級）アルコキシイミノアセトアミド］−３−（１
−低級アルキルー３−ピリジニオチオ）−３−セフェム
−４−カルボン酸モノ（またはジまたはトリ）フェニル
（低級）アルキル・ハロゲン化物、７−［２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）−２−保護されたカルボキ
シ（低級）アルコキシイミノアセトアミトコ−３−（１
−低級アルキルー３−ピリジニオチオ）−３−セフェム
−４−カルボン酸モノ（またはジまたはトリ）フェニル
低級アルキル・ハロゲン化物、７−［２−（５−アミノ
−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）−２−低級
アルコキシイミノアセトアミトコー３−［１−低級アル
キルー３−ピリジニオチオ）−３−セフェム−４−カル
ボン酸モノ（またはジまたはトリ）フェニル（低級）ア
ルキル・ハロゲン化物。

７−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール
−３−イル）−２−低級アルケニルオキシイミノアセト
アミド］−３−（１−低級アルキルー３−ピリジニオチ
オ）−３−セフェム−４−カルボン酸モノ（またはジま
たはトリ）フェニル低級アルキル・ハロゲン化物、７−
［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−低級
アルコキシイミノアセトアミド］−３−（１−低級アル
キルー３−ピリジニオチオ）−３−セフェム−４−カル
ボキシレート、？−［２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−２−カルボキシ（低級）アルコキシイミノア
セトアミド］−３−（１−低級アルキルー３−ピリジニ
オチオ）−３−セフェム−４−カルボキシレート、７−
［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３
−イル）−２−（低級アルコキシイミノ）アセトアミド
］−３−（１−低級アルキルー３−ピリジニオチオ）−
３−セフェム−４−カルボキシレート、７−［２−（５
−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）−
２−（低級アルケニルオキシイミノ）アセトアミド］−
３−（１−低級アルキルー３−ピリジニオチオ）−３−
セフェム−４−カルボキシレート、７−［２−（２−保
護されたアミノチアゾール−４−イル）−２−低級アル
コキシイミノアセトアミド］−３−［１−低級アルキル
−３−ピリジニオ（低級）アルキルチオ］−３−セフェ
ム−４−カルボン酸モノ（またはジまたはトリ）フェニ
ル（低級）アルキル番ハロゲン化物、７−［２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−２−低級アルコキシイ
ミノアセトアミド］−３−［１−低級アルキルー３−ピ
リジニオ（低級）アルキルチオツー３−セフェム−４−
カルボン酸モノ（またはジまたはトリ）フェニル（低級
）アルキル・ハロゲン化物、７−［２−（２−保護され
たアミノチアゾール−４−イル）−２−保護されたカル
ボキシ（低級）アルコキシイミノアセトアミド］−３−
［１−低級アルキルー３−ピリジニオ（低級）アルキル
チオ−１−３−セフェム−４−カルボン酸モノ（または
ジまたはトリ）フェニル（低級）アルキル・ハロゲン（
Ｉ［，７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−保護されたカルボキシ（低級）アルコキシイミノ
アセトアミド］−３−［１−低級アルキルー３−ピリジ
ニオ（イ氏級）アルキルチオコー３−セフェムニ４−カ
ルボン酸モノ（またはジまたはトリ）フェニル（低級）
アルキル・ハロゲン化物、７−［２−（５−アミノ−１
，２，４−チアジアゾール−３−イル）−２−低級アル
コキシイミノアセトアミド］−３−［１−低級アルキル
ー３−ピリジニオ（低級）アルキルチオ］−３−セフェ
ム−４−カルボン酸モノ（またはジまたはトリ）フェニ
ル（低級）アルキル・ハロゲン化物、７−［２−（５−
アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）−２
−低級アルケニルオキシイミノアセトアミド］−３−［
１−低級アルキルー３−ピリジニオ（低級）アルキルチ
オツー３−セフェム−４−カルボン酸モノ（またはジま
たはトリ）フェニル（低級）アルキル・ハロゲン化物、
７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
低級アルコキシイミノアセトアミド］−３−［１−４級
アルキル−３−ピリジニオ（低級）アルキルチオ］−３
−セフェム−４−力Ｊレボキシレート、７−　［２−（
２−アミノチアゾール−４−イル）−２−カルボキシ（
低級）アルコキシイミノアセトアミド］−３−［１−低
級アルキルー３−ピリジニオ（低級）アルキルチオ］−
３−セフェム−４−カルボキシレート、？−［２−（５
−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）−
２−低級アルコキシイミノアセトアミド］−３−［１−
低級アルキルー３−ピリジニオ（低級）アルキルチオ］
−３−セフェム−４−カルボキシレート。

７−［２−（５−アミノ）−１，２，４−チアジアゾー
ル−３−イル）−２−低級アルケニルオキシイミノ）ア
セトアミド］　−３−［’ｌ−低級アルキルー３−ピリ
ジニオ（低級）アルキルチオコー３−セフェム−４−カ
ルボキシレート等が挙げられる。

この発明の目的化合物の製造法を以下詳細に説明する。

１遣迭ユ 目的化合物（Ｉｂ）またはその塩は、化合物（Ｉａ）ま
たはそのアミノ基における反応性誘導体またはその塩を
アシル化反応に付すことにより製造することができる。

化合物（Ｉｇ＞のアミノ基における好適な反応性誘導体
としては、化合物（Ｉａ）とアルデヒド、ケトン等のよ
うなカルボニル化合物との反応によって生成するシッフ
の塩基型イミノ基またはそのエナミン型互変異性体；化
合物（Ｉａ）とビス（トリメチルシリル）アセトアミド
、モノ（トリメチルシリル）アセトアミド、ビス（トリ
メチルシリル）尿素等のようなシリル化合物との反応に
よって生成するシリル誘導体；化合物（Ｌａ）と三塩化
燐またはホスゲンとの反応によって生成する誘導体等が
挙げられる。

このアシル化反応に使用される好適なアシル化剤として
は慣用のアシル化剤が挙げられ。

一般式：　Ｒ’−０Ｈ（ＸＩ）（式中、Ｒ７はアシル基
を意味する）で示されうるもの、またはその反応性誘導
体またはその塩である。

化合物（Ｉａ）および（Ｉｂ）の好適な塩類としては、
化合物（Ｉ）について例示したようなものを挙げること
ができる。

化合物（ｘｌ）の好適な塩としては、無機塩基との塩、
その例として２例えばナトリウム塩、カリウム塩等のア
ルカリ金属塩９例えばカルシウム塩。

マグネシウム塩等のアルカリ土金属塩、アンモニウム塩
；有機塩基との塩、その例として９例えばトリエチルア
ミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、エタノールアミン塩
、トリエタノールアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩
、Ｎ、Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン塩等の有機ア
ミン塩等；例えば塩酸塩、臭化水素酸°塩、硫酸塩、燐
酸塩等の無機酸付加塩；例えばギ酸塩、酢酸塩、トリフ
ルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホ
ン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン
酸塩等の有機カルボン酸または有機スルホン酸付加塩；
例えばアルギニン、アスパラギン酸、グルタミン酸等の
塩基性または酸性アミノ酸との塩；等のような塩基との
塩または酸付加塩が挙げられる。

化合物（ｘｌ）の好適な反応性誘導体としては、酸ハロ
ゲン化物、酸アジド、酸無水物、活性化アミド、活性化
エステル等が挙げられる。その好適な例は酸塩化物；酸
アジド；例えばジアルキル燐酸、フェニル燐酸、ジフェ
ニル燐酸、ジベンジル燐酸、ハロゲン化燐酸等の置換さ
れた燐酸、ジアルキル亜燐酸、亜硫酸、チオ硫酸、硫酸
１例えばメタンスルホン酸等のスルホン酸、アルキル炭
酸９例えばピバリン酸、ペンタン酸、イソペンタン酸、
２−エチル酪酸またはトリクロロ酢酸等の脂肪族カルボ
ン酸または例えば安息香酸等の芳香族カルボン酸δよう
な酸との混合酸無水物；対称酸無水物；イミダゾール、
４−置換イミダゾール、ジメチルピラゾール、トリアゾ
ールまたはテトラゾールとの活性化アミド；または例え
ばシアンメチルエステルごメトキシメチルエステル、ジ
メチルイミノメチルエステル［（ｃＨｓ）＊Ｎ−ｃ）Ｉ
−］エステル、ビニルエステル、プロパルギルエステル
、ｐ−ニトロフェニルエステル、２．４−ジニトロフェ
ニルエステル、トリクロロフェニルエステル、ペンタク
ロロフェニルエステル、メシルフェニルエステル、フェ
ニルアゾフェニルエステル、フェニルチオエステル、ｐ
−ニトロフェニルチオエステル、ｐ−クレジルチオエス
テル、カルボキンメチルチオエステル、ピラニルエステ
ル。

ピリジルエステル、ピペリジルエステル、８−キノリル
チオエステル等の活性化エステル、または例えばＮ、Ｎ
−ジメチルヒドロキシルアミン、１−ヒドロキシ−２−
（ＩＨ）−ピリドン、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、
Ｎ−ヒドロキシフタルイミド、１−ヒドロキシ−６−ク
ロロ−ＩＨ−ベンゾトリアゾール等のＮ−ヒドロキシ化
合物とのエステル等が挙げられる。これらの反応性誘導
体は使用すべき化合物（ＸＩ）の種類に応じてそれらの
中から任意に選択することができる。

反応は通常、水２例えばメタノール、エタノール等のア
ルコール、アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、ク
ロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒド
ロフラン、酢酸エチル。

Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ピリジンのような慣用
の溶媒中で行なわれるが１反応に悪影響を及ぼさない溶
媒であればその他のいかなる溶媒中でも反応を行なうこ
とができる。これらの慣用の溶媒は水と混合して使用し
てもよい。

化合物（ｘｌ）を遊離酸の形またはその塩の形で反応に
使用する場合、Ｎ、Ｎ’−ジシクロへキシルカルボジイ
ミド；Ｎ−シクロへキシル−Ｎ゛−モルホリノエチルカ
ルボジイミド二Ｎ−シクロへキシル−Ｎ゛−（４−ジエ
チルアミノシクロヘキシル）カルボジイミド、Ｎ、Ｎ’
−ジエチルカルボジイミド ＦＡＮ−エチル−Ｎ’−（３−ジメチルアミノプロピル
）カルボジイミド；Ｎ、Ｎ−カルボニルビスケテン−Ｎ
−シクロヘキシルイミン；ジフェニルケテン−Ｎ−シク
ロヘキシルイミン；エトキシアセチレン；′１ーアルフ
キシー１ークロロエチレン；亜燐酸トリアルキル；ポリ
燐酸エチル：ポリ燐酸イソプロピル；オキシ塩化燐（塩
化ホスホリル）；三塩化燐；塩化チオニル；塩化オキザ
リル；トリフェニルホスフィン；２−エチル−７−ヒド
ロキシベンズイソオキサゾリウム塩；２−エチル−５−
（ｍ−スルホフェニル）イソオキサゾリウムヒドロキシ
ド分子内塩；１−（ｐ−クロロベンゼンスルホニルオキ
シ）−６−クロロ−ＩＨ−ベンゾトリアゾール、Ｎ．Ｎ
−ジメチルホルムアミドと塩化チオニル、ホスゲン、ク
ロロギ酸トリクロロメチル、オキシ塩化燐等との反応に
よって調製したいわゆるビルスマイヤー試薬；等のよう
な常用の縮合剤の存在下に反応を行うのが好ましい。

この反応はまたアルカリ金属炭酸水素塩，トリ（低級）
アルキルアミン、ピリジン、Ｎ−（低級）アルキルモル
ホリン、Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキルベンジルアミン等
のような無機塩基または有機塩基の存在下に行ってもよ
い。

反応温度は特に限定されず，通常は冷却下または常温で
反応が行われる。

艶点豊遣 目的化合物（Ｉｄ）またはその塩は，化合物（　Ｉ　ｃ
）またはその塩に化合物（Ｉ［）を作用させることによ
り製造することができる。

化合物（Ｉｃ）の好適な塩は，化合物（ｘｌ）について
例示したものを参照すればよい。

化合物（Ｉｄ＞の好適な塩は，化合物（Ｉ）について例
示したものを参照すればよい。

反応は通常，水，アセトン、テトラヒドロフラン、エタ
ノール、エーテル＋Ｎ＋Ｎ　　’／メチルホルムアミド
のような溶媒中で行われるが，反応に悪影響を及ぼさな
い溶媒であれば，その他のいかなる溶媒中でも反応を行
うことができる。

反応温度は特に限定されず，通常冷却下ないし加熱下に
反応が行われる。

Ｒ”がカルボキシ基である化合物（Ｉｄ）が常法によっ
て，すなわち、化合物＜Ｉｄ）を塩基で処理することに
よってその分子内第四級塩に変化する場合もこの発明の
範囲内に包含される。

製造法３ 目的化合物（Ｉｆ）またはその塩は，化合物（　Ｉ　ｅ
）またはその塩をアミン保護基の脱離反応に付すことに
より製造することができる。

化合物（Ｉｅ）および（Ｉｆ）の好適な塩は，化合物（
Ｉ）について例示したものを参照すればよい。

この脱離反応は，加水分解；還元；保護基がアシル基で
ある化合物（Ｉｅ）をイミノハロゲン化剤。

次いでイミノエーテル化剤と反応させ，必要に応じて生
成物を加水分解に付すことによる方法等のような常法に
従って行われる．加水分解には酸または塩基またはヒド
ラジンを使用する方法等が含まれる．これらの方法は脱
離すべき保護基の種類によって選択すればよい。

これらの方法の中で酸を使用する加水分解は。

例えば第三級ペンチルオキシカルボニル、第三級ブトキ
シカルボニル等の置換されたまたは非置換アルコキシカ
ルボニル基，例えばホルミル等のアルカノイル基，シク
ロアルコキシカルボニル基。

例えばベンジルオキシカルボニル、置換されたベンジル
オキシカルボニル等の置換されたまたは非置換アラルコ
キシカルボニル基，例えばベンジル、トリチル等のアル
（低級）アルキル基等のような保護基の脱離に共通した
好ましい方法の一つである。

好適な酸としては有機酸または無機酸，例えハ，キ酸，
トリフルオロ酢酸，ベンゼンスルホン酸，ｐ−トルエン
スルホン酸，塩酸等が挙げられ，さらに好ましい酸は，
例えばギ酸，トリフルオロ酢酸，塩酸等である。反応に
適した酸は脱離すべき保護基の種類によって選択すれば
よい．脱離反応を酸で行う場合，溶媒の存在下または溶
媒なしで反応を行うことができる。好適な溶媒としては
９例えばメタノール、エタノール、テトラヒドロフラン
等の有機溶媒、水またはそれらの混合物が挙げられる。

トリフルオロ酢酸を使用する場合、脱離反応をアニソー
ルの存在下に行うのが好ましい。

ヒドラジンを使用する加水分解は保護基９例えばスクシ
ニル、フタロイルの脱−に一般的に適用される。

塩基による加水分解はアシル基の脱離、その例を挙げる
と１例えばジクロロアセチル、トリフルオロアセチル等
のハロアルカノイル基等の脱離に適用するのが好ましい
。好適な塩基の例としては２例えば水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物２例えば水酸
化マグネシウム、水酸化カルシウム等のアルカリ土金属
水酸化物２例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
セシウム等のアルカリ金属炭酸塩１例えば炭酸マグネシ
ウム、炭酸カルシウム等のアルカリ土金属炭酸塩９例え
ば炭酸水素ナトリウム、＊酸水素カリウム等のアルカリ
金属炭酸水素塩９例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウム
等のアルカリ金属酢酸塩２例えば燐酸マグネシウム、燐
酸カルシウム等のアルカリ土金属燐酸塩９例えば燐酸水
素ニナトリウム、燐酸水素二カリウム等のアルカリ金属
燐酸水素塩等のような無機塩基１例えばトリメチルアミ
ン、トリエチルアミン等のトリアルキルアミン、ピコリ
ン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルモルホリン、１
．５−ジアザビシクロ［４゜３．０］ノン−５−エン、
　、、１．’、　４−ジアザビシクロ［２，２，２コオ
クタン−１，５−ジアザビシクロ［５，４，０］］ウン
デセンー５のような有機塩基が挙げられる。塩基を使用
する加水分解はしばしば水、慣用の有機溶媒またはそれ
らの混合物中で行われる。

保護基中アシル基は通常、前記加水分解法またはその他
の慣用の加水分解法によって脱離することができる。ア
シル基がハロゲン置換アルコキシカルボニル基または８
−キノリルオキシカルボニル基である場合には、これら
は銅、亜鉛等のような重金属処理によって脱離きれる。

還元による脱離は通常、保護基、その例を挙げると１例
えばトリクロロエトキシカルボニル等のハロアルコキシ
カルボニル基１例えばベンジルオキシカルボニル基、置
換されたベンジルオキシカルボニル基等の置換されたま
たは非置換アラルコキシカルボニル基、２−ピリジルメ
トキシカルボニル基等の脱離に適用される。

好適な還元法の例を挙げると２例えば水素化ホウ素ナト
リウム等の水素化ホウ素アルカリ金属による還元等であ
る。

反応温度は特に限定されず、アミン保護基の種類および
前記脱離法の種類によって適宜選択すればよいが、この
反応は冷却下、常温または若干加温する程度の温和な条
件下に行うのが好ましい。

１産迭１ 目的化合物（Ｉｈ）またはその塩は、化合物（Ｉ　ｇ）
またはその塩をカルボキシ保護基の脱離反応に付すこと
により製造することができる。

化合物（Ｉｇ＞および（Ｉｈ）の好適な塩としては。

化合物（Ｉ）について例示したものを挙げることができ
る。

この反応は加水分解、還元等のような慣用の方法によっ
て行われる。

保護基がエステルである場合には、加水分解によって保
護基を脱離することができる。加水分解は塩基またはル
イス酸を含む酸の存在下に行うのが好ましい。好適な塩
基としては２例えばナトリウム、カリウム等のアルカリ
金属１例えばマグネシワム、カルシウム等のアルカリ土
金属、それらの金属の水酸化物または炭酸塩または炭酸
水素塩２例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン等
のトリアルキルアミン、ピリジン、ピコリン。

１．５−ジアザビシクロ［４，３，０］］ノンー５−エ
ン１．４−ジアザビシクロ［２，２，２１オクタン、１
．８−ジアザビシクロ［５，４，０］ウンデセン−７等
のような無機塩基および有機塩基が挙げられる。好適な
酸としては１例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリク
ロロ酢酸、トリフルオ、口酢酸等の有機酸、および１例
えば塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機酸が挙げられる。

例えばトリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等のトリハロ
酢酸等のようなルイス酸を使用する脱離は２例えばアニ
ソール、フェノール等の陽イオン捕捉剤の存在下に行う
のが好ましい。

反応は通常、水１例えばメタノール、エタノール等のア
ルコール、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、それら
の混合物のような溶媒中で行われるが１反応に悪影響を
及ぼきない溶媒であれば。

その他のいかなる溶媒中でも反応を行うことができる。

液状の塩基または酸も溶媒として使用することができる
。

反応温度は特に限定されず２通常は冷却下ないし加温下
に反応が行われる。

還元は４−ニトロベンジル、２−ヨードエチル、２．２
．２−トリクロロエチル等のような保護基の脱離に適用
するのが好ましい。脱離反応に適用できる還元法の例と
しては１例えば亜鉛、亜鉛アマルガム等の金属または例
えば塩化第一クロム、酢酸第一クロム等のクロム化合物
の塩と２例えば酢酸、プロピオン酸、塩酸等の有機酸ま
たは無機酸との組合わせを用いる還元；および例えばパ
ラジウム−炭素等の慣用の金属触媒の存在下における接
触還元常法が挙げられる。この反応中またはこの反応の
後処理工程で　Ｒ１の保護されたカルボキシ（低級）ア
ルコキシイミノ基またはシクロ（低級）アルケニルオキ
シイミノ基が、それぞれカルボキシ（低級）アルコキシ
イミノ基またはヒドロキシイミノ基に変化する場合もこ
の発明の範囲内に包含される。

さらに、化合物（Ｉｈ）を慣用の処理方法１例えば塩基
で処理することにより１分子間第四級塩の形の化合物（
Ｉｈ）がその分子内第四級塩に変化する場合もこの発明
の範囲内に包含される。

製造法５ 目的化合物（１）またはその塩は、化合物（Ｉ［［）ま
たはその塩に化合物（ＩＶ）またはその塩を作用きせる
ことにより製造することができる。

化合物（ＩＩＩ）の好適な塩としては、化合物（ＸＩ）
について例示したようなものを挙げることができる。

化合物（ＩＶ）の好適な塩としては、化合物（Ｉ）につ
いて例示したようなものおよび銀塩を挙げることができ
る。

この反応は沃化ナトリウム、チオシアン酸ナトリウム等
の存在下に行ってもよい。

反応は通常、水、アセトン、クロロホルム、ニトロベン
ゼン、塩化メチレン、塩化−１−チレン、７セトニトリ
ル、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド。

メタノール、エタノール、エーテル、テトラヒドロフラ
ンのような溶媒中で行われるが２反応に悪影響を及ぼさ
ない溶媒であればその他のいかなる慣用の溶媒中でも反
応を行うことができる。

アミノ基および／またはカルボキシ基を有する化合物（
Ｉ）をこの反応に使用する場合、予め化合物（Ｉ）をビ
ス（トリメチルシリル）アセトアミド、モノ（トリメチ
ルシリル）アセトアミド、ビス（トリメチルシリル）尿
素等のシリル化合物で処理しておくのが好ましい。

化合物（ＩＶ）を遊離の形で反応に使用する場合。

塩基１例えば、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属次
酸塩、アルカリ金属次酸水素塩９例えばナトリウムメト
キシド、ナトリウムエトキシド等のアルカリ金属アルコ
キシド、トリアルキルアミン、ピリジン等のような有機
塩基または無機塩基の存在下に、望ましくは中性付近の
条件で反応を行うのが好ましい。

反応温度は特に限定されず２通常は冷却下、常温または
加温下に反応が行なわれる。

製造法６ 化合物（Ｉａ）またはその塩は、化合物（Ｉｂ）または
その塩を脱アシル反応に付すことにより製造することが
できる。

この反応は前記！１Ｌｕ−と同様にして行なうことがで
きる。

製造法７ 化合物（Ｉｉ）またはそ−の塩は、化合物（Ｖ）または
その塩を還元することにより製造することができる。

化合物（Ｖ）の好適な塩については、化合物（１）につ
いて例示したものを参照すればよい。

↑ この還元は、−８−の−Ｓ−への変換に適用される常法
２例えば三塩化燐を使用する方法、塩化第一スズと塩化
アセチルとの組合わせによる方法７例えば沃化ナトリウ
ム等のアルカリ金属沃化物と例えば無水トリプルオロ酢
酸等の無水トリハロ酢酸との組合わせによる方法等によ
って行うことができる。

この還元は通常、アセトン、ジオキサン、アセトニトリ
ル、ジメチルホルムアミド、ベンゼン。

ヘキサン、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン
、テトラヒドロフラン、酢酸エチルのような溶媒中で行
われるが１反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、そ
の他のいかなる溶媒中でも反応を行うことができる。

反応温度は特に限定きれず９通常は冷却下または常温で
反応が行われる。

製１」わに■ 化合物（■）またはその塩は、化合物（Ｖｌ）またはア
ミノ基におけるその反応性誘導体またはその塩に、化合
物く■）またはその反応性誘導体またはその塩を作用さ
せることにより製造することができる。

化合物（Ｖｌ）の好適な塩としては、化合物（ＸＩ）に
ついて例示したものを参照すればよい。

化合物（■）および化合物（■）の好適な塩としては９
例えばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩２
例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土金
属塩、アンモニウム塩９例えばトリエチルアミン塩、ピ
リジン塩、ピコリン塩。

エタノールアミン塩、トリエチルアミン塩、ジシクロヘ
キシルアミン塩、Ｎ、Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミ
ン塩等の有機アミン塩等のような有機塩基との塩または
無機塩基との塩が挙げられる。

化合物（ＶＩ）のアミノ基における好適な反応性誘導体
および化合物（■）の好適な反応性誘導体については、
化合物（Ｉａ）および化合物（ＸＩ）について例示した
ものをそれぞれ参照すればよい。

この反応は前記Ｗと同様にして行うことができる。

製」」Ｌ（１少 化合物（ＩＸ）またはその塩は、化合物（■）またはそ
の塩を酸化剤と反応させることにより製造することがで
きる。

好適な酸化剤としてはｍ−クロロ過安息香酸等が挙げら
れる。

この酸化反応は通常１例えばメタノール、エタノール等
のアルコール、塩化メチレン、テトラヒドロフランのよ
うな溶媒中で行われるが１反応に悪影響を及ぼさない溶
媒であればその他のいかなる溶媒中でも反応を行うこと
ができる。

反応温度は特に限定きれないが９通常は冷却下または常
温で反応が行われる。

化合物（ＩＸ）の好適な塩としては、化合物（■）およ
び（■）について例示したようなものを挙げることがで
きる。

１盟蒸人二１ 化合物（Ｘ）またはその塩は、化合物（ＩＸ）またはそ
の塩を酸化反応に付すことにより製造することができる
。

化合物（Ｘ）の好適な塩については、化合物（■）およ
び（■）について例示したものを参照すればよい。

酸化法としてはオゾン分解１例えば過沃素酸ナトリウム
、過沃素酸カリウム等のアルカリ金属過沃素酸塩と四酸
化オスミウムとの組合わせを用いる方法等が挙げられる
。

反応は通常、水、塩化メチレン、例えばメタノール、エ
タノール等のアルコール、酸ｍエチル、テトラヒドロフ
ラン等のような反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒中
で行われる。

反応温度は特に限定きれず２通常は冷却下に反応が行わ
れる。

製造法Ａ−■ 化合物（Ｖ）またはその塩は、化合物（Ｘ）またはその
塩をヒドロキシ基の酸残基への転換反応に付すことによ
り製造することができる。

この反応に好適な試薬としては２例えば塩化メシル、臭
化メシル、塩化エタンスルホニル、臭化エタンスルホニ
ル等の低級アルカンスルホニルハロゲン化物２例えば塩
化ベンゼンスルホニル、臭化ベンゼンスルホニル、塩化
トシル、臭化トシル等のアレーンスルホニルハロゲン化
物等；例えば塩化チオニル、臭化チオニル等のチオニル
ハロゲン化物；例えば三塩化燐、三臭化燐等の燐−トリ
ハロゲン化物等のような酸ハロゲン化物が挙げられる。

この反応は通常、募ｊｔｌ−で述べたよう、な塩基の存
在下に行われる。

反応は通常、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド。

テトラヒドロフランのような溶媒中で行われるが１反応
に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、その他のいかなる
溶媒中でも反応を行うことができる。

反応温度は特に限定されず１通常は冷却下または常温で
反応が行われる。

上記製造法１〜７および製造法Ａにおいては。

目的化合物は反応混合物から常法により精製９分離され
、所望の塩に導くことができる。

この発明の目的化合物（Ｉ）および医薬として許容され
るその塩類は、新規化合物であり、高い抗菌活性を発揮
してダラム陽性菌およびダラム陰性菌を含む広汎な病原
菌の生育を阻止し、抗菌剤として有用である。治療のた
めにこの発明による化合物は前記化合物を有効成分とし
て、経口、非経口または外用投与に適した有機もしくは
無機固体状もしくは液状賦形剤のような医薬として許容
される担体と混合して含有する常用の医薬製剤の形で使
用することができる。医薬製剤はカプセル。

錠剤、糖衣錠、軟膏または層剤のような固体状であって
もよいし、溶液、懸濁液またはエマルジョンのような液
状であってもよい。所望に応じて上記製剤中に、助剤、
安定剤、湿潤剤または乳化剤、緩衝液およびその他、乳
糖、フマール酸、クエン酸、酒石酸、ステアリン酸、マ
レイン酸、コハク酸、リンゴ酸、ステアリン酸マグネシ
ウム。

白土、シュークロース、コーンスターチ、タルク、ゼラ
チン、寒天、ペクチン、落花生油、オリーブ油、カカ利
Ｌエチレングリコール等のような通常使用される添加剤
が含まれていてもよい。

化合物の投与量は患者の年齢と条件とによって変化する
が、この発明の化合物は平均１回投与量約１０ｍｇ　、
　５０ｍｇ　、　１００ｍｇ　、　２５０ｍｇ　、　５
００ｍｇ　、　１０００ｍｇのうちから細菌感染症の治
療にあたり有効投与量が適宜選択される。

一般的には１日当り１ｍｇ〜約６０００ｍｇまたはそれ
以上の量投与してもよい。

目的化合物の有用性を示すために、この発明の代表的化
合物の抗菌活性を以下に示す。

承沙」ｊ口ＬＥ痕厘 （Ａ）区麹迭 試験管内抗菌活性を下記の寒天平板倍数希釈法によって
測定した。

試験菌株をトリブチケース・ソイ・プロス中。

−夜培養して、その−白金耳（生菌数１０１個／ｍ１）
を、各濃度段階の代表的試験化合物を含むハート・イン
フュージョン寒天（ＨＩ−寒天）に画線し。

３７℃で２０時間培養後１判定し、最小阻止濃度（ＭＩ
Ｃ’）を［／ｍｌで表わした。

（Ｂ）ス簾丈澄１ （１）？−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−メトキシイミノアセトアミド］−３−（１−メチ
ル−３−ピリジニオメチルチオ］−３−セフェム−４−
カルボキシレート（シン異性体）。

（Ｃ）胚ＪＬＬ幣 ＭＩＣ（犀／ｍ１） 以下この発明を製造例および実施例により、さらに詳細
に説明するが、この発明はこれらに限定されるものでは
ない。

製造例１ （１）ジフェニルジアゾメタン（１，７モル）の酢酸エ
チル（２，１１７り溶液を、７−アミノ−３−ヒドロキ
シセフェム−４−カルボンＩＩ（１８６ｇ）のジメチル
スルホキシド（１，５１）中混合物に加える。混合物を
室温で３２時間攪拌して濾過する。濾液に水を加えて混
合物を酢酸エチルで抽出する。

抽出液を３回水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥して濾過
し、濾液を減圧下に蒸発乾固する。残渣をジイソプロピ
ルエーテルで粉砕して、７−アミノ−３−ヒドロキシセ
フェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル（２２３ｇ）を
粉末として得る。

ＩＲ（スジタール）　　’　　３３５０．１７５０．１
７２０　　ａｍ−’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、δ）　：
　２．６−３．ゑ（２８劃）　、　３．８−４．３（Ｉ
Ｈ，ｍ）　、　４．４４　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）　
、　４．６５　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝６Ｈｚ）　、　５．０　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）
　、　６．０　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝４Ｈｚ）、　　６．８３　　（ＩＨ，ｓ）、７．３
７　　（１０Ｈ，５）（２〉ギ酸（０，４ｍ１）および
無水酢＃（１ｍｌ）を４０°Ｃで３０分間攪拌する０反
応混合物を氷−水浴中で冷却し、７−アミノ−３−ヒド
ロキシセフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル（１，
０ｇ）の塩化メチレン（３０ｍ１　）中混合物に３°Ｃ
で滴下する。

混合物を３°Ｃで１０分間攪拌して炭酸水素ナトリウム
５％水溶液でｐＨ７，０に調整し、水洗後、硫酸マグネ
シウムで乾燥して溶媒を減圧下に留去する。

残渣をジイソプロピルエーテルで粉砕して、７−ホルム
アミド−３−ヒドロキシセフェム−４−カルボン酸ベン
ズヒドリル（１，０５ｇ）を粉末として得る。

ＩＲ（スジ１−ル）　　：　　３４５０．３３００．１
７７０．１７３０　。

１６６５　ａｍ−’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　２．６−３．２　
（２Ｈ，ｍ）　、　３．８−４．３（ＬＨ，ｍ）　、　
４．７　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）　、　５．１１　（
１）１．ｄ。

Ｊ−４Ｈｚ＞　、　５．４７　（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝９Ｈ
ｚ、４Ｈｚ）　。

６．０５　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ）　、　６．８３　
（ＬＨ，ｓ）　。

７．３７　（ＩＯＨ，ｓ）　、　８．０８　（ＩＨ，ｓ
）　、　８．９３　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝９Ｈｚ） （３）無水トリフルオロ酢酸（２，１２ｍ１　）の塩化
メチレン（５ｍｌ）溶液を、ジメチルスルホキシド（１
，５６ｇ　）の塩化メチレン（１０ｍｌ）溶液に一５０
℃で滴下する。混合物を一５０℃で１０分間攪拌する。

混合物に７−ホルムアミド−３−ヒドロキシセファム−
４−力Ｊレボン酸ベンズヒドリル＜４．１２ｇ　＞の塩
化メチレン（１０ｍｌ）およびジメチルスルホキシド（
１ｍｌ）溶液を加える。混合物を一５０℃で３０分間攪
拌し、トリエチルアミン（４ｍｌ）をこれに−５０℃で
滴下する。反応混合物の温度を常温まで上昇せしめ、氷
水中に注いで塩化メチレンで抽出する。抽出液を３回水
洗して硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過して、濾液の溶
媒を減圧下に留去する。残渣をジイソプロピルエーテル
で粉砕して。

７−ホルムアミド−３−ヒドロキシ−３−セフェム−４
−カルボン酸ベンズヒドリル（３，４２ｇ＞を粉末とし
て得る。

ＩＲ（スジ９−ル）　　’　　３３００．１７６０．１
６６０　　ａｍ−’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　’
　２．９−４．９　（２Ｈ，ｍ）　。

５．２３　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ＞　、　５．６１　
（ＩＨ，ｄｄ。

Ｊ＝９Ｈｚ、５Ｈｚ）　、　６．９　（ＩＨ，ｓ）　、
　７．３７　（１０）１．ｓ）　。

８．２２　（ＬＨ，ｓ＞　、　９．１８　（ＬＨ，ｄ、
Ｊ−９Ｈｚ）（４）塩化メシル（０，６６ｍ１　）およ
び炭酸カリウム（１，３８ｇ）を、７−ホルムアミド−
３−ヒドロキシ−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズ
ヒドリル（２，０５ｇ）のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド（６ｍｌ）溶液に一３０℃で加える。混合物を一３０
℃で３０分間攪拌する。塩化メシル（０，４ｍ１）を混
合物に加える。反応混合物を一３０℃で２０分間攪拌し
、氷水中に注いで酢酸エチルで抽出する。抽出液を水洗
して硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過して濾液の溶媒を
減圧下に留去する。残渣を少量の酢酸エチルに溶解し、
混合物をシリカゲルを使用するカラムクロマトグラフィ
ーにイ寸し、ベンゼンと酢酸エチルとの混合物（１：１
）で溶出する。

溶出液の溶媒を減圧下に留去する。残渣をジイソプロピ
ルエーテルで粉砕して、７−ホルムアミド−３−メシル
オキシ−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル
（０，８５ｇ）を得る。

ＩＲ（ヌ九−ル）　　：　　３２９０．１７９０．１７
２０．１６６５　　ｃｍ−’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、
δ）　　’　３．２　（３Ｈ，ｓ）　、　３．７２　＜
ＬＨ，ｄ。

Ｊ＝１８Ｈｚ）　、　４．１　（ＩＨ，ｄＪ４８Ｈｚ）
　、　５．３１　（ＬＨ，ｄ。

Ｊ−５Ｈｚ）　、　５．９　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝９Ｈｚ
、５）１ｚ）　。

６．９２　（ＩＨ，ｓ）　、　７．３８　（ＩＯＨ，ｓ
）　、　８．１７　（ＬＨ，ｓ）。

９．１４　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）製造例２ （１）７−ホルムアミド−３−メチレンセファム−４−
カルボン酸ベンズヒドリル（１００ｇ）の酢酸エチル（
３，５ρ）溶液にｍ−クロロ過安息香酸（６３，２ｇ　
）の酢酸エチル溶液を一４０°Ｃに冷却しながら加えて
攪拌する。混合物を同温で１．５時間攪拌する。ジイソ
プロピルエーテル（３，５ρ）ヲ攪拌下に反応混合物に
加え、生成する沈殿を濾取して、１−才キソー７−ホル
ムアミド−３−メチレンセファム−４−カルボン酸ベン
ズヒドリル（８０，４５ｇ　）を得る。

ＩＲ（スジ３−ル）　　：　　３３６０．１７７３．１
７２２．１６５５　。

１５２０　ｃｍ−’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　３．６７および３
．９６　（２Ｈ。

ＡＢｑ、Ｊ−１４Ｈｚ＞　、　５．０６　（１）１．ｄ
、Ｊ＝５Ｈｚ＞　。

５．４１　　（ＬＨ，ｓ）　、　５．５０　（ＬＨ，ｓ
）　、　５．７３　（ＩＨ，ｄｄ。

Ｊ＝５．１０Ｈｚ＞　、　５．８４　（ＩＨ，ｓ）　、
　６．８５　（ＩＨ，ｓ）　。

７．２−７．５　（１０Ｈ，ｍ＞　、　８．１５　（Ｉ
Ｈ，ｓ）　、　８．１８　（ＩＨ。

ｄ、Ｊ４０Ｈｚ） （２）１−才キソー７−ホルムアミド−３−メチレンセ
ファム−４−カルボン酸ベンズヒドリル（８０ｇ）のジ
クロロメタン（２，４ｉおよびメタノール（０，８ｉの
混合物溶液にオゾン（０，３５モル）を攪拌下、−７８
°Ｃで２時間かけて吹込む。硫化ジメチル（２７７ｍ１
　）を反応混合物に一７８°Ｃで加え、ａ合物を１時間
攪拌する。反応混合物を４°Ｃに１５時間維持し、溶媒
を減圧下に留去して、１−才キソー７−ホルムアミド−
３−ヒドロキシ−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズ
ヒドリル（９０，２ｇ　）を得る。

ＩＲ（スジョール）　　’　　３２３０．１７６５．１
６７８．１６０５　　ａｍ−’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ
、　８　）　：３．９８　（２Ｈ１ｍ＞　、５．０２　
（ＩＨｌｄ。

Ｊ４）１ｚ）　、　５．８８　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝４．
１０Ｈｚ）　。

６．９３　（ＩＨ，ｓ）　、　７．２−７．７５　（Ｉ
ＯＨ，ｍ＞　。

８．１６　（ＬＨ，ｓ）　、　８．３３　（ＩＨ，ｄ、
Ｊ＝１０Ｈｚ）（３）１−才キソー７−ホルムアミド−
３−ヒドロキシ−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズ
ヒドリル（４７，８ｇ）および炭酸カリウム（２０，７
３ｇ　）のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５０ｍ１
　）中混合物に、塩化メタンスルホニル（１５，５ｍｌ
　）を−５０°Ｃで攪拌下に加え２反応混合物を一５０
°Ｃ〜＝２０°Ｃで４時間攪拌する。反応混合物を酢酸
エチル（５００ｍｌ）で希釈し、混合物を濾過する。濾
液を食塩水で１５１：冷し、硫酸マグネシウムで乾燥後
、溶媒を減圧下に留去して残渣を得る。残渣をテトラヒ
ドロフランと酢酸エチルとの熱混合物に溶解し、結晶化
させて、１−才キソー７−ホルムアミド−３−メシルオ
キシ−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル（
１６，９５ｇ　）を得る。

ＩＲ（ヌジョール）　　’　　１７８０．１７１５．１
６４０　　ａｍ−’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｅ、δ）　：
３．１０　（３１，ｓ）　、　３．９８および４．２５
　（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ−１８）１ｚ）　、　５．０７　
（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ）　、　６．０４　（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．
１０Ｈ２）　。

６．９５　（１１，ｓ）　、　７．２５−７．５５　（
ＩＯＨ，ｍ）　。

８．１５　（１）１．ｓ）　、　８．４６　（１）％、
　ｄ、　Ｊ＝１０Ｈｚ＞（４）１−才キソー７−ホルム
アミド−３−メシルオキシ−３−セフェム−４−カルボ
ン酸ベンズヒドリル（１０，１９ｇ）および３−（メル
カプトメチル）ピリジン（６，７ｇ）のＮ、Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド（１００ｍｌ）溶液に、Ｎ、Ｎ−ジイソ
プロピルエチルアミン（４，５３ｍ１　）を−３０°Ｃ
で攪拌下に加え、混合物を一１０°Ｃ〜θ℃で８時間攪
拌する。反応混合物を酢酸エチルと食塩水との混合物に
攪拌下に加える。有機層を分取して食塩水で洗浄し。

硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に留去して残
渣を得る。残渣をシリカゲルを使用するカラムクロマト
グラフィーに付し、ジクロロメタ２９１０〜２０％メタ
ノールで溶出する。目的化合物を含む画分を合わせ、減
圧下に溶媒を留去して、１−才キソー７−ホルムアミド
−３−（３−ピリジルメチルチオ）−３−セフェム−４
−カルボン酸ベンズヒドリル（４，９５ｇ）を得る。

ＩＲ（スジ９−ル）　　：　　３２９０．１７９０．１
７００．１６５０　　ａｍ−’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、
、δ）　：３．９０および４．５５　（２Ｈ，ＡＢｑ。

Ｊ＝１８Ｈｚ）、４．１５　　（２Ｈ，ブロード　ｓ）
、４．９８　　（ＬＨ，ｄ。

Ｊ＝４Ｈｚ）　、　６．０　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ：８．４
Ｈｚ）　。

６．８８　＜ＩＨ，ｓ）　、　７．２−７．８　（１２
Ｈ，ｍ）　、　８．２　（ＩＨ。

ブロード　ｓ）、８．３−８．５　　（３８，ｍ）実施
例１ ７−アミノ−３−（３−ピリジルチオ）−３−セフェム
−４−カルボン酸ベンズヒドリル（２，８５ｇ）および
１．３−ビス（トリメチルシリル）尿素（７，３６ｇ）
のジクロロメタン（５０ｍｌ）溶液に。

２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−
イル）−２−（エトキシイミノ）酢酸クロリド・塩酸塩
（シン異性体）　（１，９５ｇ　）を−４０°Ｃで攪拌
下に加え、混合物を一り０℃〜−１０”Ｃで４．２５時
間攪拌する。酢酸エチルと水とを反応混合物に攪拌下に
加え、混合物を炭酸水素ナトリウム水溶液で中和する。

有機層を分取し１食塩水で洗浄して硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を減圧下に留去して、７−［２−（５−ア
ミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）−２−
（エトキシイミノ）アセトアミトコ−３−（３−ピリジ
ルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリ
ル（シン異性体）（３，７６ｇ）を得る。

ＩＲ（スジコール）　　：　　１７７５．１７２５．１
６７３．１６０６　。

１５２０　ａｍ−’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ　）　　’　　１．２０　
　（３Ｈ，ｔ、、Ｔ＝７Ｈｚ＞、３．２４および３．６
８　（２１，ＡＢｑ、Ｊ＝１７Ｈ２）　、　４．１４　
（２Ｈ。

ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）　、　５．２８　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４
）１ｚ）　、　５．９３　（ＩＨ。

ｄｄ、Ｊ＝８Ｈｚ、４Ｈｚ）　、　６．９２　（ＩＨ，
ｓ）　、７．１５−７．５０（１１Ｈ，ｍ）、７．７４
　　（ＩＨ，ｍ）、８．０８　　（２Ｈ，プロー）−９
）。

８．５２　（２Ｈ，ｍ）　、　９．６０　（ＩＨ，ｄ、
Ｊ＝８Ｈｚ＞実施例２ Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（０，７８ｍ１　）およ
びオキシ塩化燐（０，９３ｍ１　）から酢酸エチル（１
０ｍｌ）中、常法によりビルスマイヤー試薬を調製する
。

２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）−２−
ジフェニルメトキシカルボニルメトキシイミノ酢酸（シ
ン異性体）（３，６９ｇ）を、ビルスマイヤー試薬の酢
酸エチル中懸濁液に水冷、攪拌下に加え、混合物を同温
で３０分間攪拌する。７−アミノ−３−（３−ピリジル
チオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル
（３，３３ｇ）および１．３−ビス（トリメチルシリル
）尿素（５，７２ｇ）のテトラヒドロフラン（３３ｍ１
　）溶液に、上記で得る活性化酸溶液を一２０°Ｃで加
え、混合物を同温で１．５時間攪拌する。反応混合物を
酢酸エチルと炭酸水素ナトリウム水溶液との混合物に攪
拌下に加える。有機層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に留去して残渣を
得る。残渣をシリカゲルを使用するカラムクロマトグラ
フィーに付し、ジクロロメタン−酢酸エチル（１：１）
混合物で溶出する。目的化合物を含む画分を合わせ、溶
媒を減圧下に留去して。

７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）
−２−（ジフェニルメトキシカルボニルメトキシイミノ
）アセトアミド］−３−（３−ビリジルチオ）−３−セ
フェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル（シン異性体）
（３，２７ｇ）を得る。ＩＲ（Ｃｕｔｃ１＊）　ｉ　３
３７０　、１７８ｇ　、　１７３５　、１６９５　、１
６００゜１５４０　ＣｆＣｆｆ１ 一１Ｎ　（ＤＭＳＯ−ｄｓ、δ）　：　３．２８および
３．６８　（２Ｈ。

ＡＢｑ、Ｊ−１８Ｈｚ）、４．９０　　（２Ｈ，ブロー
ド　ｓ）、５．３５（１）１．ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ＞　、　
５．９９　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝８．４Ｈｚ）　。

６．９０　（ＩＨ，ｓ）　、　６．９７　（ＩＨ，ｓ）
　、　７．１５−７．５５（２２Ｈ，ｍ）、７．７９　
（ＩＨ，ｍ）　、　８．５２　（ＩＨ，ｓ）　、　８．
５５（２Ｈ，ｍ＞　、　９．８２　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８
Ｈｚ）衷臭贋１ ７−アミノ−３−（３−ピリジルメチルチオ）−３−セ
フェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル（１，５７ｇ）
および１．３−ビス（トリメチルシリル）尿素（３，９
２ｇ）のジクロロメタン（１５ｍｌ）溶液に、２−（５
−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）−
２−エトキシイミノ酢酸クロリド・塩酸塩（１，０４ｇ
）を−１０℃で攪拌下に加え、混合物を同温で攪拌する
０反応混合物を水とジクロロメタンとの混合物に攪拌下
に加え、混合物を戻酸水素すトリウム水溶液でｐＨ７に
調整する。

有機層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を減圧下に留去して、７−［２−（５−ア
ミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）−２−
（エトキシイミノ）アセトアミトコ−３−（３−ピリジ
ルメチルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズ
ヒドリル（シン異性体）（ｚ、ｚ７ｇ）を得る。

ＩＲ（ス九−ル）　　：　　３２７０．３１４０．１７
７０．１６６５．１６０５　。

１５２０　ａｍ−’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、　Ｓ）　’　１．２７　（３
Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ＞　、　３．８７（２Ｈ，ブロード
　ｓ）、４．１８　　（２１，ブロード　ｓ）、４．２
１（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ＞　、　５．２３　（ＩＨ，
ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ）　、　５．８８（１）１．ｄｄ、Ｊ＝
８，４Ｈ２）　、　６．８７　（ＬＨ，ｓ）　、　７．
２−７．８（１２Ｈ，ｍ）、８．１２（２）！、ｆロー
ド　ｓ）、８．４３−８．６０（２Ｈ，ｍ）　、　９．
６２　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）衷ｍ（Ｍ４ Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（０，５６ｍ１　）およ
びオキジ塩化燐（０，６６ｍ１　）から酢酸エチル（４
ｍｌ）中、常法によりビルスマイヤー試薬を調製する。

２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）−２−
メトキシイミノ酢酸（シン異性体）を、ビルスマイヤー
試薬の酢酸エチル中懸濁液に水冷。

攪拌下に加え、混合物を同温で３０分間攪拌する。

７−アミノ−３−（４−ピリジルメチルチオ）＝３−セ
フェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル（２，４５ｇ）
および１．３−ビス（トリメチルシリル）尿素（４，０
９ｇ）のテトラヒドロフラン（２５ｍｌ）溶液に、上記
で得る活性化酸溶液を一３０°Ｃで加え、混合物を一２
０℃で１時間攪拌する。反応混合物を酢酸エチルと羨酸
水素ナトリウム水溶液との混合物に攪拌下に加えて有機
層を分取し９食塩水で洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を減圧下に留去して、７−［２−（２−ホルム
アミドチアゾール−４−イル）−２−（メトキシイミノ
）アセトアミド］−３−（４−ピリジルメチルチオ）−
３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル（シン異
性体）　（１，９７ｇ　）を得る。

ＩＲ（スジ日−ル）　　’　　１７８２．１６８０．１
５４３　　ａｍ−’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、８　　）
　　ｉ　　３．７８　　（２Ｈ，ブロード　ｓ）　。

３．８７−４．０５　（２Ｈ，ｍ）　、　３．９７　（
３Ｈ，ｓ）　。

５．２８　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ）　、　５．８５　
（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝８゜４Ｈｚ＞　、　６．８９　（Ｉ
Ｈ，ｓ）　、　７．２５−７．６５　（１３Ｈ，ｍ）　
。

８．５２　（３Ｈ，ｍ）　、　８．７１　（ＩＨ，ｄ、
Ｊ＝８Ｈｚ）罠ム■Ｉ Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（１，２６ｍ１　）およ
びオキシ塩化燐（１，５０ｍ１　）から酢酸エチル（１
０ｍｌ）中、常法によりビルスマイヤー試薬を調整する
。

２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）＝２−
エトキシイミノ酢酸（シン異性体）（３，３０ｇ）をビ
ルスマイヤー試薬の酢酸エチル中懸濁液に水冷、攪拌下
に加え、混合物を同温で３０分間攪拌する。７−アミノ
−３−（３−ピリジルチオ）−３−セフェム−４−カル
ボン酸ベンズヒドリル（３，８１ｇ）および１．３−ビ
ス（トリメチルシリル）尿素（’６．５４ｇ）のテトラ
ヒドロフラン（３８ｍｌ）溶液に、上記で得る活性化酸
溶液を一２０℃で加え、混合物を一２０℃〜−１０°Ｃ
で３時間攪拌する。

反応混合物を酢酸エチルと炭酸ナトリウム水溶液との混
合物に攪拌下に加え、有機層を分取して食塩水で洗浄し
、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に留去して
、？−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル
）−２−エトキシイミノアセトアミド］−３−（３−ピ
リジルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒ
ドリル（シン異性体）（５，７０ｇ）を得る。

ＩＲ（スジ１−ル）　　：　　３１５０．１？８０．１
７２５．１６７５　。

１６５０　ｃｍ−’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　１．２２　（３Ｈ
，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ＞　。

３．０−３．９　（２Ｈ，ｍ）　、　４．１４　（２Ｈ
，ｑ、Ｊ＝７）１ｚ）　、　５．３２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝
５）１ｚ）　、　５．９５　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝８．５
Ｈｚ）　。

６．９４　（ＩＨ，ｓ）　、　７．１５−７．５５　（
１２Ｈ，ｍ）　。

７．８０　（ＩＨ，ｍ）　、　８．５０　（３Ｈ，ｍ）
　、　９．７３　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ４Ｈｚ） 裏層■１ （１）７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−
イル）−２−（メトキシイミノ）アセトアミトコ−３−
（３−ピリジルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸
ベンズヒドリル（シン異性体）。

ＩＲ（スジシール）　　’　　１７８５．１７３０．１
６９０．１５５０　　ａｍ−’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、
、δ）　：　３．３−３．６　（２Ｈ，ｍ）　、　３．
８５（３）１．ｓ）　、　５．２９　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝
４Ｈｚ）　、　５．９０　（１１，ｄｄ。

Ｊ＝８．４Ｈｚ＞　、　６．９０　（ＩＨ，ｓ）　、　
７．１−７．５　（１２Ｈ，ｍ）。

７．７５　（ＬＨ，ｍ）　、　８．４８　（３Ｈ，ｍ）
　、　９．７０　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝８Ｈｚ） （２）７−［２−アリルオキシイミノ−２−（５−アミ
ノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）アセトア
ミド］−３−（３−ピリジルメチルチオ）−３−セフェ
ム−４−カルボン酸ベンズヒドリル（シン異性体）。

ＩＲ（スジシール）　　：　　３２９０，３１６０，１
７７５，１６７５，１６１０゜１５２０　ａｍ”’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、δ　）　　：　　３．８６　
　（２Ｈ，ブロード　ｓ）、４．１８（２Ｈ，ブロード
　ｓ）、４．６８　　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ＞、５．
２２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ）　、　５．０７−６．２
０　（３Ｈ，ｍ）　、　５．８７（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝８
．４Ｈｚ）　、　６．８６　（ＩＨ，ｓ）　、　７．１
５−７．８０（１２Ｈ，＋ｎ）、８．１２　　（２Ｈ，
ブロード　ｓ）、８．３５−８．５７（２Ｈ，ｍ）　、
　９．６３　（ＩＨ，ｄ、Ｊ４Ｈｚ）（３）？−［２−
（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル
）−２−（エトキシイミノ）アセトアミトコ−３−（４
−ピリジルメチルチオ）−３−セフェム−４−カルボン
酸ベンズヒドリル（シン異性体）。

ＩＲ（ＣＨＩＣＩ！＞　’　１７７５．１６９５．１６
００　ｃｍ−’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄａ、　８　）　’
　１．２１　（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）　、３．７３（
２Ｈ，ｍ）　、　４．０５−４．３５　（２Ｈ，ｍ）　
、　４．１４（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）　、　５．２３
　（ＩＨ，ｄ、Ｊ４Ｈｚ）　。

５．８７　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝８．４Ｈｚ）　、　６．
８７　（ＬＨ，ｓ）　。

７．２−７．６　（１２Ｈ，ｍ）、８．１３　（２Ｈ，
ｍ）　、　８．２５（２Ｈ，ｍ）　、　９．５７　（１
）１．ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）（４＞７−［２−アリルオキシ
イミノ−２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾー
ル−３−イル）アセトアミド］−３−（３−ピリジルチ
オ）−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル（
シン異性体）。

ＩＲ（Ｘジ＋＋４＞　　’　　１７７５．１６７３．１
６０８．１５２０　　ｃｍ−’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、
、δ）　ｊ　３．２５および３．７２　（２Ｈ。

ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ＞　、　４．６７　（２Ｈ，ｄ、
Ｊ＝４．５Ｈ２）　。

５．０５−５．５０　（３Ｈ，ｍ）　、　５．７−６．
１　（ＩＨ，ｍ）　。

５．９３　（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝８．４Ｈｚ）　、　６．
９０　（ＩＨ，ｓ）　。

７．１−７．５　（１１Ｈ，ｍ）　、　７．７２　（Ｉ
Ｈ，ｄｔ、Ｊ＝８，２Ｈ２）　。

８．０６　　（２Ｈ，ブロード　ｓ）、８．５０　　（
２Ｈ，ｍ）。

９．６２　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ） （５）７−［２−＜”５−アミノ−１，２，４−チアジ
アゾール−３−イル）−２−（エトキシイミノ）アセト
アミド］−３−（３−ピリジルメチルチオ）−３−セフ
ェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジ９−ル）　：　　３２５０．３１８０．１７
６５．１６７０．１６１５゜１５３０ｃｍ−’ （６）７−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジア
ゾール−３−イル）−２−（エトキシイミノ）アセトア
ミトコ−３−（１−メチル−３−ピリジニオメチルチオ
）−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性体
）。

ＩＲ（スジョール）　　：　　３２５０．１７６０．１
６６５．１６００　。

１５１０ｃｍ−’ （７）７−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジア
ゾール−３−イル）−２−（エトキシイミノ）アセトア
ミトコ−３−（４−ピリジルメチルチオ）−３−セフェ
ム−４−（カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（ヌ九−ル）　　：　　３２８０．３１６０．１７
６５．１６２５．１５６８゜１５２０ｃｍ−” （８）？−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジア
ゾール−３−イル）−２−（エトキシイミノ）アセトア
ミド］−３−（１−メチル−４−ピリジニオメチルチオ
）−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性体
）。

ＩＲ（ヌ九−ル）　　：　　１７６０．１６６５．１６
３５．１６００　。

１５１５ｃｍ−’ （９）７−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジア
ゾール−３−イル）−２−（エトキシイミノ）アセトア
ミド］−３−（３−ピリジルチオ）＝３−セフェム−４
−カルボン酸（シン異性体）。

ｍｐ　：　１７９°Ｃ（分解〉 ＩＲ（スジョール）　　ｊ　　３２７０．３１８０．１
７７５．１６７０．１６１５゜１５３０ｃｍ”’ （１０）７−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジ
アゾール−３−イル）−２−（エトキシイミノ）アセト
アミド］−３−（１−メチル−３−ピリジニオチオ）−
３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性体）。

ＩＲ（スジョール’）　　：　　３２９０．１７７８．
．１６６５．１６１０　。

１５３０ｃｍ−’ （１１）７−　［２−アリルオキシイミノ−２−（５−
アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）アセ
トアミド］−３−（３−ピリジルメチルチオ）−３−セ
フェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジョール）　：　　３２９０．３１８０．１７
６５．１６７０．１６１５゜１５３０ｃｍ−’ （１２）７−　［２−アリルオキシイミノ−２−（５−
アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）アセ
トアミトコ−３−（１−メチル−３−ピリジニオメチル
チオ）−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異
性体）。

ＩＲ（ヌジヲール）　　：　　３２８０．１７６０．１
６６５．１６００　。

１５１０ｃｍ−’ （１３）７−　［２−アリルオキシイミノ−２−（５−
アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）アセ
トアミトコ−３−（３−ピリジルチオ）−３−セフェム
−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（ス九−ル）　　：　　３２ｇ０．３１８０．１７
７５．１６７０．１６０８゜１５２５ｃｍ−’ （１４）７−　［２’アリルオキシイミノー２−（５−
アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）アセ
トアミトコ−３−（１−メチル−３−ピリジニオチオ）
−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性体）
。

ＩＲ（ヌジヲール）　　：　　３３００．１７７０．１
６６５．１６１０　。

１５２５ｃｍ−’ （１５）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−（４
−ピリジルメチルチオ）−３−セフェム−４−カルボン
酸ベンズヒドリル（シン異性体）。

ＩＲ（Ｘショール）　　：　　１７７０．１７２２．１
６７０．１６００　。

１５３０ｃｍ−’ （１６）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−（メトキシイミノ）アセトアミトコ−３−（４
−ピリジルメチルチオ）−３−セフェム−４−カルボン
酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジタール）　　：　　３３００．３１８０．１
７７０．１６６８．１６３０゜１６００　、１５３０ｃ
ｍ−’ ＜１７＞７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−（メトキシイミノ）アセトアミトコ−３−（１
−メチル−４−ピリジニオメチルチオ）−３−セフェム
−４−カルボキシレート（シン異性体）。

ＩＲ（スジ３−ル）　　：　　３３００．３１８０．１
７７０．１６７０．１６４３゜１６００、１５３０ｃｍ
−’ （１８）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−（３
−ピリジルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ベン
ズヒドリル（シン異性体）。

ＩＲ（スジタール）　　：　　３３６０．３１４０．１
７６８．１６８５゜１５４０ｃｍ−’ （１９）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−（３
−ピリジルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸（シ
ン異性体）。

ＩＲ（スジタール）　　７　１７８０．１６７２．１５
３５ｃｍ−’（２０）７−’［２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−２−（メトキシイミノ）アセトアミ
トコ−３−（１−メチル−３−ピリジニオチオ）−３−
セフェム−４−カルボキシレート（シン異性体）。

ＩＲ（スジタール）　　：　　３３２０．１７７８．１
６７３．１６１０　。

１５３５ｃｍ−’ （２１）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−（エトキシイミノ）アセトアミド］−３−（３
−ピリジルチオ）−３−セラエム−４−カルボン酸ベン
ズヒドリル（シン異性体）。

ＩＲ（Ｘショール）　　：　　１７７５．１７２５．１
６７０．１６０８　。

１５３Ｑｃｍ−’ （２２）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−（エトキシイミノ）アセトアミド］−３−（３
−ピリジルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸（シ
ン異性体）。

ＩＲ（スジタール）　　’　　１７７８．１６８３．１
６１０．１５３８ｃｍ−’（２３）７−［２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）−２−（エトキシイミノ）
アセトアミド］−３−（、１−メチル−３−ピリジニオ
チオ）−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異
性体）。

ＩＲ（ス九−ル）　　：　　３２８０　、　１？７５．
１６６５．１６１５゜１５３０ｃｍ−’ （２４）？−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−（カルボキシメトキシイミノ）アセトアミド］
−３−（３−ピリジルチオ）−３−セフェム−４−カル
ボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジタール）　　：　　３２８０．１７７５．１
６７３．１６１０゜１５３５ｃｍ−’ （２５）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−（カルボキシメトキシイミノ）アセトアミド］
−３−（１−メチル−３−ピリジニオチオ）−３−セフ
ェム−４−カルボキシレート（シン異性体）。。

ＩＲ（スジ３−ル）　　：　　３３２０．１７７８．１
６７３．１６１０゜１５３５ｃｍ−’ （２６）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−（ジフェニルメトキシカルボニルメトキシイミ
ノ ジルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒド
リル（シン異性体）。

ＩＲ（スジミール’）　　：　　３２８０．１？８０．
１７３０．１６８０．　１６１０゜１５３０ｃｍ−’ （２７）？−アミノー３−（３−ピリジルメチルチオ）
−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル。

ＩＲ（ス九−ル）　　：　　１７６５．　１７３０．　
１６０５ｃｍ−’（２８）７−アミノ−３−（４−ピリ
ジルメチルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ベン
ズヒドリル。

ＩＲ（Ｘジ１−ｔ）　　：　　３４３０．　１７６２．
　１７３０．１６０８゜１６００ｃｍ−’ （２９）７−アミノ−３−（３−ピリジルチオ）−３−
セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリＪし。

ＩＲ（ヌジａ−ル）　　：　　３６７０．　３４１０．
　１７８０．　１７３０゜１６１５ｃｍ−’ （３０）　７−ホルムアミド−３−（３−ピリジルメチ
ルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリ
ル。

ＩＲ（ヌジ會−ル）　　：　１７６５．　１６７０ｃｍ
−’（３１）７−ホルムアミド−３−（４−ピリジルメ
チルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒド
リル。

ＩＲ（スジミール）　　’　　１７７０．　１６８０．
　１６００ｃｍ−’（３２）　？−ホルムアミドー３−
（３−ピリジルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸
ベンズヒドリル。

ＩＲ（ＣＨＩＣＩＩ）　：　３４１０．１７８５．１７
２８．１７００゜１６７０ｃｍ−’ 衷Ｊｌｉヱ ７−［２−アリルオキシイミノ−２−（５−アミノ−１
，２，４−チアジアゾール−３−イル）アセトアミド］
−３−（３−ピリジルチオ）−３−セフェム−４−カル
ボン酸（シン異性体）（１，０４ｇ）のＮ、Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド（ｊｍｌ）中部濁液に、沃化メチル（１
ｍｌ）を常温で加え、混合物を同温で８．５時間攪拌す
る０反応混合物の溶媒を減圧下に留去して得る残渣をメ
タノール（１２ｍｌ）に溶解し、溶液をジイソプロピル
エーテル（８００ｍｌ）に滴下する。

生成する沈殿を濾取して、７−［２−（アリルオキシイ
ミノ）−２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾー
ル−３−イル）アセトアミド］−３−（１−メチル−３
−ピリジニオチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸・
沃化物（シン異性体）を得る。

沈殿を水に懸濁し、懸濁液を炭酸水素ナトリウム水溶液
でｐＨ５に調整する。不溶物を濾去し、濾液を非イオン
吸着樹脂「ダイヤイオンＨＰ−２０Ｊ（商標、三菱化成
社製）（５０ｍｌ）を使用するカラムクロマトグラフィ
ーに付す、カラムを水洗後、イソプロピルアルコール１
５％水溶液で溶出する。

目的化合物を含む溶出液を集め、イソプロピルアルコー
ルを減圧下に留去し、凍結乾燥して、７−［２−アリル
オキシイミノ−２−（５−アミノ−１，２，４−チアジ
アゾール−３−イル）アセトアミド］−３−（１−メチ
ル−３−ピリジニオチオ）−３−セフェム−４−カルボ
キシレート（シン異性体）（０，５４ｇ）を得る。

ＩＲ（Ｘ九−ＩＬ）　　’　　３３００．　１７７０．
　１６６５．　１６１０゜１５２５ｃ（’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ；δ）　：　３．０−３．８　
（２Ｈ，ｍ）、　４．２２（３Ｈ，ｓ）、　４．５７　
（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝５Ｈｚ＞、　５．０８　（ＩＨ。

ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．０−５．３５　（２Ｈ，ｍ）
、　５．５０−６．０５（２Ｈ，ｍ）、　７．８４　（
ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝８．６Ｈｚ＞、　８．００（２Ｈ，ブ
ロードｓ）、　　８．３２　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ：８Ｈｚ
＞、　　８．６０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、　８．７
８　（１１，ｓ）、　９．４３　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝７Ｈ２） Ｋ鳳■１ ７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）
−２−（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−（４−
ピリジルメチルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸
ベンズヒドリル（シン異性体）’（０，８５ｇ　）のＮ
、Ｎ−ジメチルホルムアミド（４ｍｌ）溶液に、沃化メ
チル（０，８５ｍ１　）を常温で加え、混合物を同温で
４４時間攪拌する。反応混合物から減圧下に沃化メチル
を留去し、残渣をジイソプロピルエーテル（５００ｍ１
　）に攪拌下に加える。生成する沈殿を濾取して、７−
［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）−２
−（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−（１−メチ
ル−４−ピリジニオメチルチオ）−３−セフェム−４−
カルボン酸ベンズヒドリル・沃化物（シン異性体）を得
る。この化合物をメタノール（５ｍｌ）およびテトラヒ
ドロフラン（５ｍｌ）の混合物に溶解する。この溶液に
濃塩酸（０，２２ｍ１　）を３０℃で加え、混合物を同
温で５時間攪拌する。反応混合物をジイソプロピルエー
テル（５００ｍ１　）にｆｆｉ押下に滴下し、沈殿を濾
取して、？−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−（１
−メチル−４−ピリジニオメチルチオ）−３−セフェム
−４−カルボン酸ベンズヒドリル・沃化物（シン異性体
）を得る。このようにして得られる沈殿をジクロロメタ
ン（６ｍｌ）中に懸濁し、アニソール（１，０６ｍ１　
）を加える。この懸濁液にトリフルオロ酢酸（４，５１
ｍ１）を水冷下に加え、同温で１時間攪拌する０反応混
合物をジイソプロピルエーテル（６００ｍ１　）に滴下
し、生成する沈殿を濾取する。

沈殿を水に懸濁し、混合物を炭酸水素ナトリウム水溶液
でｐＨ４，５に調整する。溶液を非イオン吸着樹脂１ダ
イヤイオンＨＰ　−２０Ｊ　（４５ｍ１　）を使用する
カラムクロマトグラフィーに付す、カラムを水洗後、イ
ソプロピルアルコール５〜１０％水溶液で溶出する。目
的化合物を含む溶出液を集め、濃縮し、凍結乾燥して、
７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−（１−メチル
−４−ピリジニオメチルチオ）−３−セフェム−４−カ
ルボキシレート（シン異性体）（０，２２ｇ）を得る。

ＩＲ（スジミール）　　：　　３３００．３１８０．１
７７０．１６７０．１６４３　。

１６００　、１５３５ｃｍ−’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　３．３６　（２Ｈ
，ｍ）　、　３．７９　（３Ｈ。

ｓ）　、　４．０−４．３５　（２Ｈ，ｍ）　、　４．
２１　（３Ｈ，ｓ）　、　４．８９（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝４
１（ｚ）　、　５．５１　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝８．４Ｈ
ｚ）　。

６．６３　　（ＩＨ，Ｓ）、７．０８　　（２１，ブロ
ード　ｓ）、７．９１（２１，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）　、　
８．６６　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ＞　、　９．３７（
１）１．　ｄ、　Ｊ＝８Ｈｚ） 実施例９ ７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）
−２−（エトキシイミノ）アセトアミド］−３−（３−
ピリジルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズ
ヒドリル（シン異性体）（２，４３ｇ）のＮ、Ｎ−ジメ
チルホルムアミド（１３ｍｌ）溶液に、沃化メチル（２
，６０ｍ１　）を常温で加え、混合物を同温で３時間攪
拌する６反応混合物の溶媒を減圧下に留去し、残渣をメ
タノール（１０ｍｌ）に溶解する。メタノール溶液をシ
イジプロピルエーテル（７００ｍ１　）に攪拌下に滴下
し、生成する沈殿を濾取して、７−［２−（２−ホルム
アミドチアゾール−４−イル）−２＝（エトキシイミノ
）アセトアミド］−３−（１−メチル−３−ピリジニオ
チオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル
・沃化物（シン異性体）（３，０９ｇ）を得る。この化
合物をメタノール（１２ｍ１　）とテトラヒドロフラン
（６ｍｌ）との混合物に溶解する。この溶液に濃塩酸（
０，７４ｍ１　）を３０℃で加え、混合物を同温で４時
間攪拌する。反応混合物をジイソプロピルエーテル（８
００ｍ１　）に攪拌下に滴下し、沈殿を濾取して、７−
［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（エ
トキシイミノ）アセトアミド］−３−（１−メチル−３
−ピリジニオチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ベ
ンズしドリル・沃化物（シン異性体）（３，０ｇ）を得
る。この化合物をジクロロメタン（１５ｍｌ）に懸濁し
てアニソール（３，７ｍ１）を加える。懸濁液にトリフ
ルオロ酢酸（５，３０ｍ１　）を水冷下に加え、混合物
を同温で１時間攪拌する０反応混合物をジイソプロピル
エーテル（８００ｍ１　）に滴下し、生成する沈殿を濾
取する。沈殿を水に懸濁して炭酸水素ナトリウム水溶液
でｐＨ５に調整する。溶液を非イオン吸着樹脂１ダイヤ
イオンＨＰ−２０Ｊ　（６０１１１１）を使用するカラ
ムクロマトグラフィーに付す。カラムを水洗後、イソプ
ロピルアルコール５〜１２．５％水溶液で溶出する。目
的化合物を含む溶出液を集め、イソプロピルアルコール
を減圧下に留去し、凍結乾燥して、７−［２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）−２−（エトキシイミノ）
アセトアミド］−３−（１−メチル−３−ピリジニオチ
オ）−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性
体）（０，９６区）を得る。

ＩＲ＜スジ９−ル）　　：　　３２Ｂ０．１７７５．１
６６５．１６１５　。

１５３５ｃｍ−’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｇ、δ）　：　１．１９　（３１
，ｔ、Ｊ＝７Ｈ２）　、　２．９５−３．６５　（２）
１．ｍ＞　、　４．０２　（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）　
、　４．２２（３）１．ｓ）　、　５．０８　（ＩＨ，
ｄ、Ｊ＝５１（ｚ＞　、　５．５９　（ＩＨ。

ｄｄ、Ｊ＝８．５Ｈｚ）　、　６．５８　（ＩＨ，ｓ）
　、　７．０７　（２１゜ブロードｓ）、７．８５　　
（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝８．５Ｈｚ＞、８．３３（ＩＨ，ｄ
Ｊ−＝８Ｈｚ）　、　８．６１　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈ
２）　、　８．７８（ＩＨ，ｓ）　、　９．４０　（Ｉ
Ｈ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）塞】ｄＪ堕 実施例７〜９と同様にして下記化合物を得る。

（１）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−Ｃカルボキシメトキシイミノ）アセトアミド］−
３−（１−メチル−３−ピリジニオチオ）−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート（シン異性体）。

ＩＲ（スジョール）　　：　　３３２０．１７７Ｂ　、
１６７３．１６１０　。

１５３５ｃｍ−’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　３．１８および３
．７２　（２Ｈ。

ＡＢｑ、Ｊ＝１７Ｈｚ＞、４．２６　　（３８，ブロー
ドｓ）、４．４８（２Ｈ，ブロードｓ）、５．１３　　
（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝４ｔ（ｚ）、５．６７（ＩＨ，ｄｄ、
Ｊ＝８．４１１ｚ）　、　６．７１　（ＩＨ，ｓ）　、
　７．１２（２Ｈ，ブロードｓ）、７．９２　　（１）
！、ｍ）、８．３０　　（ＬＨ，ｍ）。

８．６’−８，９（２Ｈ，ブロードｓ）、　　１０．０
１　　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）（２）７−［２−（２
−アミノデアゾール−４−イル）−２−（メトキシイミ
ノ）アセトアミド］−３−（１−メチル−３−ピリジニ
オチオ）−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン
異性体）。

ＩＲ（ヌジョール）　　：　　３３００．１７７５．１
６６５．１６２５　。

１５３８ｃｍ−’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　３．０−３．８　
（２１（、＋ｎ＞　、　３．７６（３Ｈ，ｓ）　、　４
．２４　（３Ｈ，ｓ）　、　５．０９　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝４Ｈｚ）、　５．５８　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝８．４
Ｈｚ＞　、　６．６０（ＩＨ，ｓ）、　　７．１０（２
Ｈ，ブロードｓ）、７．８５　　（ＩＨ，ｍ）　　。

８、３２　（１）１．ｄ’、Ｊ＝８Ｈｚ）　、　８．６
３　（ＩＬｍ＞　、　８．７９（ＩＨ，ｓ）　、　９．
４４　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ＞実施例１１ ？−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール
−３−イル）−２−（エトキシイミノ）アセトアミド−
３−（３−ピリジルメチルチオ）−３−セフェム−４−
カルボン酸ベンズヒドリル（シン異性体）（１，３ｇ）
のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（６，５ｍ１）溶液に
、沃化メチル（１，３ｍ１）を常温で加え、反応混合物
を同温で３時間攪拌する。反応混合物の溶媒を減圧下に
留去し、残渣をジイソプロピルエーテル（４００ｍ１　
）に攪拌下に加え、生成する沈殿を濾取して、７−［２
−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イ
ル）＝２−（エトキシイミノ）アセトアミド］−３−（
１−メチル−３−ピリジニオメチルチオ）−３−セフェ
ム−４−カルボン酸ベンズヒドリル・沃化物（シン異性
体）　（１，０７９ｇ　）を得る。この化合物をジクロ
ロメタン（３，５ｍｌ　）中に懸濁して、アニソールを
これに加える。この懸濁液にトリフロオロ酢酸（２，０
ｍ１）を水冷下に加え、混合物を同温で２時間攪拌する
。反応混合物をジイソプロピルエーテル（４００ｍ１　
）に滴下し、生成する沈殿を濾取する。沈殿を水に懸濁
して混合物を炭酸水素ナトリウム水溶液でｐ）１４．５
に調整する。不溶物を濾去し、濾液を非イオン吸着樹脂
「ダイヤイオン）ＩＰ２０Ｊ（商標、三菱化成社製）（
３０ｍｌ）を使用するカラムクロマトグラフィーに付す
。カラムを水洗後、５〜１５％イソプロピルアルコール
水溶液で溶出する。目的化合物を含む溶出液を集め、イ
ソプロピルアルコールを減圧下に留去し、次いで凍結乾
燥して、７−［２−（５−アミノ−１゜２．４−チアジ
アゾール−３−イル）−２−（エトキシイミノ）アセト
アミド］−３−（，１−メチル−３−ピリジルメチルチ
オ）−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性
体）（０，３６ｇ）を得る。

ＩＲ（ヌジａ−ル）　　：　　３２５０．１７６（１，
１６６５，１６００。

１５１０ｃｍ−’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｉ、δ）　’　１．２３　（３Ｈ
，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ＞　、　３．４５（２１，ｍ）、４．
１６　　（２Ｈ，ブロードｓ）、４．１７　　（２Ｈ，
ｑ。

Ｊ＝７Ｈｚ＞　、　４．３４　（３Ｈ，ｓ）　、　４．
９７　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝４Ｈｚ）　、　５．６２　（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝８．
４Ｈｚ＞　、　７．７５−９．２０（６Ｈ，ｍ）、９．
４５　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ＞哀ｌ旌坪 実施例１１と同様にして下記化合物を得る。

（１）７−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジア
ゾール−３−イル）−２”−（エトキシイミノ）アセト
アミド］−３−（１−メチル−４−ピリジニオメチルチ
オ）−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性
体）。

ＩＲ（ス九−ル）：　１７６０．　１６６５．　１６３
５．　１６００．　１５１５ｃｍ−１ＨＭＲ（ＤＭＳＯ
−ｄ、、δ）　　：　１．２３　（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７）
１ｚ）、　　３．３５（２Ｈ，ｍ＞、　４．０９　（２
Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）、　４．１１　（２Ｈ。

ｍ）、　　４．１８　（３Ｈ，ｓ）、　　４．８５　（
１１，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ＞。

５．５２　（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ４．４Ｈｚ）、　　７．８
−８．１　（４１，ｍ＞。

８．５４　（２Ｈ，ｍ＞、　　９．２８　（ＩＨ，ｄ、
Ｊ＝８Ｈｚ）（２）７−　［２−アリルオキシイミノ−
２−（５−アミノ、１，２．４−チアジアゾール−３−
イル）アセトアミトコ−３−（１−メチル−３−ピリジ
ニオメチルチオ）−３−セフェム−４−カルボキシレー
ト（シン異性体）。

ＩＲ（スジョール）　　：　　３２８０．　１７６０．
　１６６５．　１６００゜１５１０ｃｍ−’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｉ、ε）　７３．４５　＜２Ｈ，
ｍ＞、４．１０　（２Ｈ。

ブロードｓ）、　　４．３２（３）１．ｓ）、　　４．
６５（２１，ｍ）、　　４．９０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４Ｈ
ｚ）、　５．０５−６．１０　（４Ｈ，ｍ）、　７．９
７＜ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝９．６Ｈｚ）、　　８．０６　　
（２Ｈ，ブロードｓ）、　　８．３７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝
９Ｈｚ）、　８．７２　（ＩＨ，ｄ、、Ｃ６Ｈｚ）、　
９．１３（ＩＨ，ｓ）、　９．３８　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝
８Ｈｚ）（３）７−［２〜（５−アミノ−１，２，４−
チアジアゾール−３−イル）−２−（エトキシイミノ）
アセトアミド］−３−（１−メチル−３−ピリジニオチ
オ）−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性
体） ＩＲ（スジ３−ル）　　：　　３２９０．　１７７８．
　１６６５．　１６１０゜１５３０ｃｍ−’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　１．２３　（３Ｈ
，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、　３．２−３．７　（２Ｈ，＋ｎ
）、　４．１８　（２Ｈ，（１，Ｊ＝７Ｈ２）、　４．
３２（３Ｈ，ｓ）、　５．２１　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈ
ｚ）、　５．７４　（ＩＨ。

ｄｄ、Ｊ＝８．５Ｈｚ）、　８．００　（ＩＨ，ｄｄ、
Ｊ＝８．５Ｈｚ）。

８．１Ｂ、　　（２Ｂ、ブロードｓ）、　　８．５０　
　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）。

８．７９　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ＞、　９．６０　（
１１（、ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）実施例１３ γ−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）
−２−（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−（４−
ピリジルメチルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸
ベンズヒドリル（シン異性体）　（１，０５ｇ　）のメ
タノール（６ｍｌ）およびテトラヒドロフラン（４ｍｌ
）混合物溶液に、濃塩酸（０，３２ｍ１　）を３０℃で
加え、混合物を３０℃で２時間攪拌する。反応混合物を
水と酢酸エチルとの混合物に攪拌下に加え、混合物を炭
酸水素ナトリウム水溶液で中和する。有機層を分取して
食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減
圧下に留去して、７−［２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−２”（メトキシイミノ）アセトアミトコ−
３−（４−ピリジルメチルチオ）−３−セフェム−４−
カルボン酸ベンズヒドリル（シン異性体）（０，６５ｇ
）を得る。

ＩＲ（スジ１−ルン　：　　１７７０．　１７７２．　
１６７０．　１６００゜１５３０ｃｍ−’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　３．８０　（２Ｈ
，ｍ）、　３．８５　（３）１゜ｓ）、　４．１８　（
２Ｈ，ｍ＞、　５．２２　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ＞。

５．８０　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝８．４Ｈｚ）、　６．７
８　（１）１．ｓ）。

６．８８　（ＬＨ，ｓ）、　７．１５−７．５０　（１
２Ｈ，ｍ）。

８．４７　＜２８．ｄｄ、Ｊ＝８．２Ｈｚ＞、　９．６
０　（ＬＨ，ｄ。

Ｊ４Ｈｚ） 東ｍ ７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）
−２−（エトキシイミノ）アセトアミド］−３−（３−
ピリジルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズ
ヒドリル（シン異性体）（２，８ｇ）のメタノール（１
５ｍｌ）およびテトラヒドロフラン（５ｍｌ）混合物溶
液に、濃塩酸（０，８５ｍ１）を常温で加え、混合物を
３０℃で４．２５時間攪拌する。反応混合物に水と酢酸
エチルとを加え、混合物を！酸水素ナトリウム水溶液で
中和する。有機層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に留去して、７−［２
−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（エトキ
シイミノ）アセトアミド］−３−（３−ピリジルチオ）
−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル（シン
異性体）（２，３０ｇ　）を得る。

ＩＲ（Ｘ九−ル”）　　：　　１７７５．　１７２５．
　１６７０．　１６０ｇ。

１５３０ｃｍ−’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、δ）：１．１９　（３８，ｔ
、Ｊ＝７Ｈｚ）、　３．２８および３．８５　（２Ｈ，
ＡＢｑ、Ｊ＝１７Ｈｚ）、’　５．３０　（ＩＨ。

ｄＪ＝４Ｈｚ）、　　５．９０　（１１１，ｄｄ、Ｊ＝
８．４）１Ｋ＞、６．８８（ＩＨ，ｓ）、　　６．９３
．　　（ＩＬｓ）、　　７．１５−７．５５　（１１Ｂ
。

ｍ）、７．８０　（ＩＨ，ｍ）、　　８．５３　（２Ｈ
，ｍ）、　　９．６２　（ＩＨ。

ｄ、　Ｊ＝８Ｈ２） 火】ｄ」１ 実施例１３〜１４と同様にして下記化合物を得る。

（１）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−（３−
ピリジルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズ
ヒドリル（シン異性体）。

ＩＲ（スジ１−ル）　　：　　：１３６０．　３１４０
．　１７６８．　１６８５゜１５４０ｃｍ＋−’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　３．１−３．８　
（２Ｈ，ｍ）、　３．７９（３Ｈ，ｓ）、　５．２７　
（１１，ｄ、Ｊ４Ｈｚ＞、　５．８６　（ＩＨ。

ｄｄＪ＝８．４Ｈｚ）、　６．７０　（ＩＨ，ｓ）、　
６．９１　（ＩＨ，ｓ）。

７．１−７．５　（１１Ｈ，ｍ）、　７．７５　（１８
，ｄｔ、Ｊ＝８．２１（ｚ）。

８．５１　（２Ｈ，ｍ）、　９．６１　（１８，ｄ、Ｊ
＝８Ｈｚ＞（２）７−［２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−２−（ジフェニルメトキシカルボニルメト
キシイミノ）アセトアミド］−３−（３−ピリジルチオ
）−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル（シ
ン異性体）。

ＩＲ（スジタール）　　：　　３２８０．　１７８０．
　１７３０．　１６８０．　１６１０゜１５３０ｃｍｍ
−’ ＮＭＲ（０Ｍ５Ｑ−ｄ、、δ）：　３．２７および３．
７０　（２Ｈ。

ＡＢｑ、Ｊ−１８）１ｚ）、　４．８４　（２Ｌｓ）、
　５．３３　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝４Ｈｚ）、　５．９４　（ｌＨ，ｄｄ、Ｊ＝８．４
Ｈｚ）、　６ｊ９（ＩＨ，ｓ）、　６．８８　（ＩＨ，
ｓ）、　６．９６　（ＩＨ，ｓ）、　７．１７−７．５
７（２０Ｈ，ｍ）、　７．８０　（ＩＨ，ｍ＞、　８．
５７　（２Ｈ。

ｍ）、９．７０　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）（３）７−
［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３
−イル）−２−（エトキシイミノ）アセトアミド］−３
−（３−ピリジルメチルチオ）−３−セフェム−４−力
Ｊレボン酸ベンズヒドリル（シン異性体）。

ＩＲ（スジミール）　　：　　３２７０．　３１４０．
　１７７０．　１６６５．　１６０５゜１５２０ｃｍ−
羞 （４）７−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジア
ゾール−３−イル）−２−（エトキシイミノ）アセトア
ミド］−３−（３−ピリジルメチルチオ）−３−セフェ
ム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジミール）　　！　　３２５０．　３１８０．
　１７６５．　１６７０．　１６１５゜１５３０ｃＩ１
１−　’ （５）７−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジア
ゾール−３−イル）−２−（エトキシイミノ）アセトア
ミトコ−３−（１−メチル−３−ピリジニオメチルチオ
）−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性体
）。

ＩＲ（スジミール）　　：　　３２５０．　１７６０．
　１６６５．　１６００゜１５１０ｃｍ−’ （６）７−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジア
ゾール−３−イル）−２−（エトキシイミノ）アセトア
ミド］−３−（４−ピリジルメチルチオ）−３−セフェ
ム−４−カルボン酸ベンズヒドリル（シン異性体）。

ＩＲ（ＣＨ＊Ｃ１ｔ）　’　１７７５．１６９５．１６
００ｃｍ−’（７）７−［２−（５−アミノ−１，２，
４−チアジアゾール−３−イル）−２−（エトキシイミ
ノ）アセトアミド］−３−（４−ピリジルメチルチオ）
−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジタール）　　：　３２８０．　３１６Ｇ、　
　１７６５．　１６２５．　１５６８゜１５２０ｃ＋ａ
−’ （８）７−［２−（ｓ−アミノ−１，２，４−チアジア
ゾール−３−イル）−２−（エトキシイミノ）アセトア
ミトコ−３−（１−メチル−４−ピリジルニオメチルチ
オ）−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性
体）。

ＩＲ（Ｘジ＊−４）　　：　　１７Ｂ０．　１６６５．
　１６３５．　１６００゜１５１５ｃｓａ−’ （９）？−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジア
ゾール−３−イル）−２−（エトキシイミノ）アセトア
ミド］−３−（３−ピリジルチオ）−３−セフェム−４
−カルボン酸ベンズヒドリル（シン異性体）。

ＩＲ（スジタール）　　：　　１７７５．　１７２５．
　１６７３．　１６０６゜１５２０ｃｍ−’ （１０）７−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジ
アゾール−３−イル）−２−（エトキシイミノ）アセト
アミド］−３−（３−ピリジルチオ）−３−セフェム−
１４−カルボン＃（シン異性体）。

ＩＲ（Ｘジａ−４）　　７　３２７０．　３１ｇ０．　
１７７５．　１６７０．　１６１５゜１５３０ｃｍ−’ （ＩＬ）７−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジ
アゾール−３−イル）−２−（エトキシイミノ）アセト
アミド］−３−（１−メチル−３−ピリジルニオチオ）
−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性体）
。

ＩＲ（スジタール）　　：　　３２９０．　１？７８．
　１６６５．　１６１０゜１５３０ｃｍ” （１２）７−　［２−アリルオキシイミノ−２−（５−
アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）アセ
トアミド］−３−（３−ピリジルメチルチオ）−３−セ
フェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル（シン異性体）
。

ＩＲ（Ｘジａ−４）　　’　　３２９０．　３１６０．
　１７７５．　１６７５．　１６１０゜１５２０ｃｍ−
’ （１３）７−　［２−アリルオキシイミノ−２−（５−
アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）アセ
トアミド］−３−（３−ピリジルメチルチオ）−３−セ
フェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（Ｘ九−Ｊ　　’　　３２９０．　３１８０．　１
７６５．　１６７０．　１６１５゜１５３０ｃｍ−’ （１４＞７−　［２−アリルオキシイミノ−２−（５−
アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）アセ
トアミド］−３−（１−メチル−３−ピリジニオメチル
チオ）−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異
性体）。

ＩＲ（スジタール）　　：　　３２８０．　１７６０．
　１６６５．　１６００゜’　　　　１５１０ｃｍ−’ ＜１５）７−［２−アリルオキシイミノ−２−（５−ア
ミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）アセト
アミトコ−３−（３−ピリジルチオ）−３−セフェム−
４−カルボン酸ベンズヒドリル（シン異性体）。

ＩＲ（スジタール）　　：　　１７７５．　１６７３．
　１６０８．　１５２０ｃｍ−’（１６）７−　［２−
アリルオキシイミノ−２−（５−アミノ−１，２，４−
チアジアゾール−３−イル）アセトアミド］−３−（３
−ピリジルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸（シ
ン異性体）。

ＩＲ（Ｘ９ｉ−４）　　７　３２８０．３１８０．　１
７７５．　１６７０．　１６０８゜１５２５ｃｍ−’ （１７）７−　［２−アリルオキシイミノ−２−（５−
アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）アセ
トアミトコ−３−（１−メチル−３−ピリジニオチオ）
−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性体）
。

ＩＲ（Ｘジｉ＋−４）　　：　　３３００．　１７７０
．　１６６５．　１６１０゜１５２５ｃｍ−’ （１８）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）、−２−（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−（
４−ピリジル、メチルチオ）−３−セフェム−４−カル
ボン＃（シン異性体）。

ＩＲ（Ｘジｔ−＆）　　：　　３３００．　３１８０．
　１７７０．　１６６８．　１６３０゜１６００、１５
３０ｃｍ−’ （１９）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−（１
−メチル−４−ピリジニオメチルチオ）−３−セフェム
−４−カルボキシレート（シン異性体）。

ＩＲ（ｘジ＊−ル）　　：　　３３００，３１８０．’
１７７０，１６７０，１６４３゜１６００　、１５３５
ｃｍ月 （２０）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−（３
−ピリジルチオ）−３−セフェム−４−カルポン酸（シ
ン異性体）。

ＩＲ（スジ６−ル）　　：　　１７８０．１６７２．１
５３５ｃｍ−’（２１）７−［２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−２−（メトキシイミノ）アセトアミ
ド］−３−（１−メチル−３−ピリジニオチオ）−３−
セフェム−４−力ルポキシレート（シン異性体）。

ＩＲ（Ｘジｍ−１−＞　　：　　３３２０．１７７８．
１６７３．１６１０　。

１５３５ｃｍ−’ （２２）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−（エトキシイミノ）アセトアミド］−３−（３
−ピリジルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸（シ
ン異性体）。

ＩＲ（スジ１−ル）　　’　　１７７８．１６Ｂ３．１
６１０．１５３８ｃｍ−’（２３）７−［２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）−２−（エトキシイミノ）
アセトアミド］−３−（１−メチル−３−ピリジニオチ
オ）−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性
体）。

ＩＲ（スジコール）　　：　　３２８０．１７７５．１
６６５．１６１５　。

１５３０ｃｍ−重 （２４）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−（カルボキシメトキシイミノ）アセトアミド］
−３−（３−ピリジルチオ）−３−セフェム−４−カル
ボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジ８−ル）　　：　　３２Ｂ０．１７７５．１
６７３．１６１０　。

１５３５ｃｍ−’ （２５）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−（カルボキシメトキシイミノ）アセトアミド］
−３−（１−メチル−３−ピリジニオチオ）−３−セフ
ェム−４−カルボキシレート（シン異性体）。

ＩＲ（スジ３−ル）　　ｊ　　３３２０．１７７８．１
６７３．１６１０　。

１５３５ｃ＋ｎ−’ に五桝」 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−（３−ピリジ
ルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリ
ル（シン異性体）（Ｏ，９９ｇ）およびアニソール（１
，６２ｍ１　）のジクフロメタン（３ｍｌ）溶液に、ト
リフルオロ酢酸（２，３１ｍ１　）を水冷下に加え、混
合物を同温で１．２５時間攪拌する。反応混合物をジイ
ソプロピルエーテル（５００ｍｌ）に攪拌下に滴下し、
生成する沈殿を濾取する。沈殿を水と酢酸エチルとの混
合物に懸濁し、混合物を炭酸水素ナトリウム水溶液で攪
拌下に凶７に調整する。水層を分取して塩化ナトリウム
で飽和きせる。この混合物にテトラヒドロフ２ンを加え
、混合物を１０％塩酸で攪拌下にｐＨ３に調整する。有
機層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥後、溶媒を減圧下に留去して、７−［２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）−２−（メトキシイミノ）ア
セトアミトコ−３−（３−ピリジルチオ）−３−セフェ
ム−４−カルボン酸（シン異性体）　（０，５６ｇ　）
を得る。

ＩＲ（スジヲール）　　７　１７８０．１６７２．１５
３５ｃｍ−’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、ε）　：　３．
２２および３．６２（２Ｈ。

ＡＢｑ　Ｊ＝１７Ｈｚ）　、　３．７８　（３Ｈ，ｓ）
　、　５．１７　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝４Ｈｚ＞　、　５．７２　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝８．
４Ｈｚ）　、　６．６５（ＩＨ，ｓ）　、　７．３４　
（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝８．５Ｈｚ）　、　７．７５（ＩＨ
，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）、８．４４　　（２１，ブロードｓ
）、９．５０（ＩＨ，ｄ、Ｊ−８Ｈｚ） Ｋ簾桝Ｖ ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（エトキシイミノ）アセトアミトコ−３−（３−ピリジ
ルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリ
ル（シン異性体）（２，１４ｇ）およびアニソール（ｓ
、　２４ｍ１　）のジクロロメタン（１０ｍｌ）溶液に
、トリフルオロ酢酸（４，６２ｍ１　）を水冷下に加え
、混合物を同温で１時間攪拌する。反応混合物をジイソ
プロピルエーテル（６００ｍｌ）に滴下し、沈殿を濾取
する。この沈殿を水と酢酸エチルとの混合物にカロえ、
混合物を度酸水素ナトリウム水溶液でｐＨ７に調整する
。水着を分取し、希塩酸でｐＨ３に調整し、沈殿を濾取
して７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−（エトキシイミノ）アセトアミトコ−３−（３−ピ
リジルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異
性体）　（０，８０ｇ　）を得る。

ＩＲ（スジョール）　　’　　１７７８．１６８３．１
６１０．１５３８ｃｍ−’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ
）　’　１．２１　（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ＞　、　３
．２３および３．６２　（２）１．ＡＢｑ、Ｊ＝１７１
（ｚ＞　、　４．０３　（２Ｈ。

ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）　、　５．１９　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４
Ｈｚ）　、　５．７５　（１１゜ｄｄ、Ｊ−８，４Ｈｚ
＞　、　６．６２　（１１（、ｓ）　、　７．３２　（
２Ｈ，ｄｄ。

Ｊ＝８．５Ｈｚ）　、　７．７３　（ＩＨ，ｄｔ、Ｊ＝
８．２Ｈｚ）　、　８．４１（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５）１ｚ
）　、　８．４３　（ＩＨ，ｓ）　、　９．４６　（Ｌ
Ｈ，ｄ。

Ｊ＝８Ｈｚ） 実施例１８ ７−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール
−３−イル）−２−（エトキシイミノ）アセトアミトコ
−３−（３−ピリジルメチルチオ）−３−セフェム−４
−カルボン酸ベンズヒドリル（シン異性体）（１，３０
ｇ）およびアニソール（１、９’４ｍｌうのジクロロメ
タン（３，３ｍ１）溶液にトリフルオロ酢酸（２，７７
ｍ１　）を水冷下に加え、混合物を同温で１時間攪拌す
る。反応混合物をジイソプロピルエーテル（４００ｍｌ
）に攪拌下、滴下し、生成する沈殿を濾取する。沈殿を
水と酢酸エチルとの混合物に懸濁し、混合物を炭酸水素
ナトリウム水溶液で攪拌下にｐＨ７に調整する。水層を
分取して塩化ナトリウムを飽和させる。この混合物にテ
トラヒドロフランを加え、１０％塩酸で攪拌下にｐＨ３
に調整する。有機層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に留去して、７−［
２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−
イル）−２−（エトキシイミノ）アセトアミド］−３−
（３−ピリジルメチルチオ）−３−セフェム−４−カル
ボン酸（シン異性体）　（４８５ｍｇ）を得る。

ＩＲ（ヌジョール）　　：　　３２５０．３１８０．１
７６５．１６７０．１６１５　。

１５３０ｃｍ−’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、δ）　’　１．２７　（３Ｂ
、ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、　３．７７（２Ｈ，ブロードｓ）
、　　４．１５　　（２１（、ブロードｓ）、　　４．
１７　　（２Ｈ。

ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）、　　５．１７　　（１）１．ｄ、Ｊ
＝４Ｈｚ）、　　５．７８　　（ＩＨ。

ｄｄ、Ｊ＝８．４Ｈｚ）、　７．３８　（ＩＨ，ｄｄ、
Ｊ＝８．５Ｈｚ）。

７．８１　　（ＩＨ，ｄｔ、Ｊ＝８．２Ｈｚ）、８．１
０　　＜２８．ブロードＳ）。

８．５１　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ＞、　　８．５６
　　（ＩＨ，ブロードＳ）。

９．５３　（１）１．ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）実施例１９ ？−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（メトキシイミノ）アセトアミトコ−３−（４−ピリジ
ルメチルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズ
ヒドリル（シン異性体）（０，６２ｇ）およびアニソー
ル（１，０ｍ１）のジクロロメタン（５ｍｌ）溶液に、
トリフルオロ酢酸（１，４２ｍ１　）を水冷下に加え、
混合物を同温で１．５時間攪拌する。反応混合物をジイ
ソプロピルエーテル（５００ψ１）に滴下し、生成する
沈殿を濾取する。沈殿を水と酢酸エチルとの混合物に懸
濁し、混合物を炭酸氷菓ナトリウム水溶液でｐＨ７に調
整ｊる。水層を分取して希塩酸でｐＨ４，５に１１整し
、溶液を非イオン吸着樹脂「ダイヤイオンＩＰ−２０ｊ
（１５ｍｌ）を使用するカラムクロマトグラフィーに付
ス、カラムを水洗後、８％イソプロピルアルコールで溶
出する。ｉ酌化合物を含む溶出液を集め、減圧濃縮して
イソプロピルアルコールを除去し、凍結乾燥して、７−
［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（メ
トキシイミノ）アセトアミド］−３−（４−ピリジルメ
チルチオ）−３−セフェム−４−カルボン＃（シン異性
体）（０，２３ｇ）を得る。

ＩＲ（ヌジＲ−ル）　　：　　３３００，３１８０，１
７７０．１６６８，１６３０゜１６００　、１５３０ｃ
ｍ−’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｌ、８　　）　　：　　３．６６
　　（２Ｈ，ブロードｓ）、３．７８（３Ｈ，ｓ）、　
　４．０９　　（２１，ｆロードｓ）、　　５．０６　
　（ＬＨ，ｄ。

Ｊ＝４Ｈｚ）　、　５．６２（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝８．４
Ｈｚ）　、　６．６５　（ＬＨ。

ｓ）、　　７．０８　　（２Ｈ，ブロードｓ）、７．２
４　　（２Ｂ、ｄ。

Ｊ−５）１ｚ）　、　８．３８　（２Ｈ，ｍ＞　、　９
．５０　＜１１．ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）去」１１翻 実施例１６〜１９と同様にして下記化合物を得る。

（Ｌ）７−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジア
ゾール−３−イル）−２−（エトキシイミノ）アセトア
ミド］−３−（＋−ピリジルチオ）−３−セフェム−４
−カルボン＃（シン異性体）。

ｍｐ　：　１７９℃（分解〉 ＩＲ（スジョール）　　：　　３２７０，３１８０，１
７７５，１６７０，１６１５゜１５３０ｃｍ−’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｉ、　ｌ；　’）　：　１．２３
　（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈ２）　、　３．２５および３．
７８　（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１７Ｈｚ）　、　４．１９
　（２１゜ｑ、Ｊ４７Ｈｚ＞　、　５．２Ｂ　（ＩＨ，
ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ＞　、　５．８９　（ＬＨ。

ｄｄ、Ｊ：８．４Ｈｚ）　、　７．４５　（ＩＨ，ｄｄ
、Ｊ＝８．５Ｈｚ）　。

７．９０　　（ＩＨ，ｍ）、８．１０　　（２１，ブロ
ードｓ）、８．５８（２Ｈ，ｍ）　、　９．６０　（Ｉ
Ｈ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）（２〉７−［２−アリルオキシイ
ミノ−２−（５−アミノ−１，２，４嶌−チアジアゾー
ル−３−イ、ノ ル）アセトアミトコ−３−（３−ピリジルメチルチオ）
−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（ス九−ル）　　：　　３２９０，３１８０．１７
Ｂ５，１６７０，１６１５゜１５３０ｃｍ−’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、ε　）　　；　　３．７５　
　（２Ｈ，ブロードｓ）、４．１５（２Ｈ，ブロードｓ
）、４．６８　　（２Ｈ，ｄ、Ｊ：５Ｈｚ）、５．０８
−６．３０　（３１（、ｍ）　、　５．１３（ＬＨ，ｄ
、Ｊ＝４Ｈｚ＞　、　５．７８（１１，ｄｄ、Ｊ＝８．
４Ｈ２＞　、７．３３　　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝８．４Ｈ
ｚ）。

７．７６　　（１１，ｄ、Ｊ＝８Ｈ２）、８．１３　　
（２Ｈ，ブロードｓＬ８．３５−８．６５　（２Ｈ，ｍ
）　、　９．５８　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）（３）７
−［２−アリルオキシイミノ−２−（５−アミノ−１，
２，４−チアジアゾール−３−イル）アセトアミド］−
３−（３−ピリジルチオ）−３−セフェム−４−カルボ
ン酸（シン果性　　　体）。

ＩＲ（スジロール）　　：　　３２Ｂ０．３１Ｂ０．１
７７５．１６７０．１６０８　。

１５２５ｃｍ＋−’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　３．２２および３
．６４　（２Ｈ。

ＡＢＱ、Ｊ＝１７Ｈ２）　、　４．６０　（２Ｈ，ｄ、
Ｊ＝５Ｈｚ）　、　５．０５−５．４０　（２Ｈ，ｍ）
　、　５．２０　（１１，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ）　、　５．
７−６．１　（２Ｈ，ｍ）　、　７．３３　（ＩＨ，ｄ
ｄ、、Ｃ８，５Ｈｚ）　。

７．７５　　（ＩＨ，ｄｔ、Ｊ＝８．２Ｈｚ）、８．０
３　　（２Ｈ，ブロードｓ）。

８．４２　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．２Ｈｚ＞、８．４６
　（ＩＨ，ｓ）　、　９．５２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ
） （４）？−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジア
ゾール−３−イル）−２−（エトキシイミノ）アセトア
ミド］　−３−（４−ピリジルメチルチオ）−３−セフ
ェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジョール）　　：　　３２８０，３１６０，１
７６５．１５６ｇ、１６２５゜１５２０ｃｍ−’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、δ）　　ｉ　　１．２２　　
（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）、３．６４（２Ｈ，ブロード
ｓ）、４．０６　　（２Ｈ，ブロードｓ）、４．１０　
　（２Ｈ。

ｑ、に７Ｈｚ＞　、　５．０２　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４）
１ｚ）　、　５．６５　（１１゜ｄｄ、Ｊ＝８，４）１
ｚ）　、　７．２２　（２Ｈ，ｍ）　、　７．９８　（
２１゜ブロードｓ）、８．３９　　（２Ｈ，ｍ）、９．
３７　　（１８，ｄ、Ｊ＋：８Ｈｚ）大ＪＪＬ丼 ７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（ジフェニルメトキシカルボニルメトキシイミノ）アセ
トアミド］−３−（３−ピリジルチオ）−３−セフェム
−４−カルボン酸ベンズヒドリル（シン異性体）（２，
０ｇ）およびアニソール（２，４９ｍ１　）のジクロロ
メタン（５ｍｌ）溶液に、トリフルオロ酢酸（３，５４
ｍ１　）を水冷下に加え、混合物を同温で１時間攪拌す
る。反応混合物をジイソプロピルエーテル（５００ｍ１
　）に攪拌下に滴下し、生成する沈殿を濾取する。沈殿
を水と酢酸エチルとの混合物に懸濁し、混合物を炭酸水
素ナトリウム水溶液でｐＨ７に調整する。水層を分取し
て１０％塩酸でｐＨ２に調整し生成する沈殿を濾取して
、７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
−（カルボキシメトキシイミノ）アセトアミド］−３−
（３−ピリジルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸
（シン異性体）　（２８５ｍｇ）を得る。

ＩＲ（スジタール）　　：　　３２８０．１７７５．１
６７３　、　１６１０　。

１５３５ｃｍ−’ ＮＭＲ（Ｄｌ’ｌ５Ｏ−ｄｔ、　８　）　：　３．２２
および３．６２　（２Ｈ。

ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ）、４．５１　　（２１（、ｓ）
、５．１９　　（１）１．ｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ）　、　５．７５（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝８．５
Ｈｚ）　、　６．６８　（ＩＨ。

ｓ）、７．１１　　（２）１．ｆロードｓ）、７．３３
　　（１１，ｄｄ。

Ｊ＝８．５Ｈｚ）、７．７５　＜ＩＨ，ｄｔ、Ｊ＝８．
２Ｈｚ）　、　８．４３（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）　、
　８．４６　（ＩＨ，ｓ）　、　９．４７　（ＬＨ，ｄ
。

Ｊ＝８Ｈｚ＞ 東五輿η ７−ホルムアミド−３−メシルオキシ−３−セフェム−
４−カルリボン厳ベンズすドリル（９，７７ｇ）および
４−（メルカプトメチル）ピリジン（３，００ｇ）のＮ
、Ｎ−ジメチルホルムアミド（１００ｍｌ）溶液に、Ｎ
、Ｎ−ジインプロピルエチルアミン（３，４８ｍ１　）
を−３０°Ｃで攪拌下に加え、混合物を同温で１時間攪
拌する。反応混合物を酢酸エチルと食塩水との混合物に
攪拌下に加える。有機層を分取して食塩水で洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に留去して得る
残渣をシリカゲルを使用するカラムクロマトグラフィー
に付し、ジクロロメタンと酢酸エチルとの混合物（１：
２）で溶出する。目的化合物を含む両分を合わせ、溶媒
を減圧下に留去して、７−ホルムアミド−３−（４−ピ
リジルメチルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ベ
ンズヒドリル（６，３８ｇ）を得る。

ＩＲ（スジシール）　　：　　１７７０．１６８０．１
６００ｃｍ−’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、　δ　）　　
：　　３．８０　　（２Ｈ，ブロードｓ）、４．１７（
２Ｈ，ブロードｓ）、５．１８　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ：４
．５Ｈｚ）、５．７７＜１８．ｄｄ、Ｊ＝９．４．５Ｈ
ｚ）　、　６．８８　（１）１．ｓ）　、　７．２−７
．６　　（１２Ｈ，ｍ）、８．１８　　（ＬＨ，ブロー
ドｓ）、ｓ、ａｓ（２Ｌｄｄ、Ｊ＝４．２１（ｚ）　、
　９．０９　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）Ｋ五糎遍 ７−ホルムアミド−３−メシルオキシ−３−セフェム−
４−カルボン酸ベンズヒドリル（５，８６ｇ）および３
−メルカプトピリジン・塩酸塩（３，５４ｇ）（７）Ｎ
、Ｎ−ジメチルホルムアミド（８０ｍ１）溶液に、Ｎ、
Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（５，２２ｍ１　）を
−５０°Ｃで攪拌下に加え、混合物を同温で１．７５時
間攪拌する。反応混合物を酢酸エチルと食塩水との混合
物に加える。有機層を食塩水で洗浄し、融酸マグネシウ
ムで乾燥後、溶媒を留去して残渣を得る。残渣をシリカ
ゲルを使用するカラムクロマトグラフィーに付し、ジク
ロロメタン中１５〜６５％酢酸エチルで溶出する。目的
化合物を含む画分を合わせ、溶媒を留去して、７−ホル
ムアミド−３−（３−ピリジルチオ）−３−セフェム−
４−カルボン酸ベンズヒドリル（３，３４ｇ）を得る。

ＩＲ（ＣＨ＊Ｃ１＊）　：　３４１０．１７ｇ５．１７
２８．１７００゜１６７０ｃｍ−’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）　：　３．３１および３
．７２　（２Ｈ。

ＡＢｑ、Ｊ＝１７Ｈｚ＞、　５．２８　（ＩＨ，ｄ、Ｊ
＝５Ｈｚ）、　５．８８（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝９．５Ｈ２
）、　６．９６　（ＩＨ，ｓ）、　７．２−７．６＜１
１Ｈ，ｍ＞、　　７．８３　　（ＬＨ，ｍ）、　　８．
１７　　（ＩＨ，ｓ）。

８．５５　（２Ｈ，ｍ＞、　　９．１６　（ＩＨ，ｄ、
Ｊ＝９Ｈｚ）実施例２４ 実施例２２〜２３と同様にして下記化合物を得る。

（１）？−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアンア
ゾール−３−イル）−２−（エトキシイミノ）アセトア
ミド］−３−（３−ピリジルメチルチオ）−３−セフェ
ム−４−カルボン酸ベンズヒドリル（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジヲール）　　：　　３２７０．　３１４０．
　１７７０．　１６６５．　１６０５゜１５２０ｃｍ−
’ （２）７−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジア
ゾール−３−イル）−２−（エトキシイミノ）アセトア
ミド］−３−（３−ピリジルメチルチオ）−３−セフェ
ム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョール）　　：　３２５０．　３１８０．　
１７６５．　１６７０．　１６１５゜１５３０ｃｍ−’ （３）７−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジア
ゾール−３−イル）−２−（エトキシイミノ）アセトア
ミド］−３−（１−メチル−３−ピリジニオメチルチオ
）−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性体
）。

ＩＲ（スジョール）　　：　　３２５０．　１７６０．
　１６６５．　１６００゜１５１０ｃｍ−’ （４）７−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジア
ゾール−３−イル）−２−（エトキシイミノ）アセトア
ミド］−３−（４−ピリジルメチルチオ）−３−セフェ
ム−４−カルボン酸ベンズヒドリル（シン異性体）。

ＩＲ（ＣＨ＋Ｃ１＊）　：１７７５．１６９５．１６０
０ｃｍ−’（５）？−［２−（５−アミノ−１，２，４
−チアジアゾール−３−イル）−２−（エトキシイミノ
）アセトアミド］−３−（４−ピリジルメチルチオ）−
３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョール）　　：　　３２ｇ０．　３１６０．
　１７６５．　１６２５．　１５６８゜１５２０ｃｍ−
’ （６）７−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジア
ゾール−３−イル）−２−（エトキシイミノ）アセトア
ミトコ−３−（１−メチル−４−ピリジニオメチルチオ
）−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性体
）。

ＩＲ（ヌジョール）　　：　　１７６０．　１６６５．
　１６３５．　１６００゜１５１５ｃｍ−’ （７）７−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジア
ゾール−３−イル）−２−（エトキシイミノ）アセトア
ミド］−３−（３−ピリジルチオ）−３−セフェム−４
−カルボン酸ベンズヒドリル（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョール）　　：　　１７７５．　１７２５．
　１６７３．　１６０６゜１５２０ｃｍ−’ （８）７−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジア
ゾール−３−イル）−２−（″ｒ、トキシイミノ）アセ
トアミド］−３−（３−ピリジルチオ）−３−セフェム
−４−カルボン酸（シン異性体）。

ｍｐ　：　１７９°Ｃ（分解〉 ＩＲ（ヌジョール）　　：　　３２７０．　３１ｇ０．
　１７７５．　１６７０．　１６１５゜１５３０ｃｍ−
’ （９）７−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジア
ゾール−３−イル）−２−（エトキンイミノＩ）アセト
アミド］−３−（１−メチル−３−ピリジニオチオ）−
３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性体）。

ＩＬ（ヌジョール）　　：　　３２９０．　１７７８．
　１６６５．　１６１０゜１５３０ｃｍ−’ （１０）？−［２−アリルオキシイミノ−２−（５−ア
ミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−゛イル）アセ
トアミトコ−３−（３−ピリジルメチルチオ）−３〜セ
フェム−４−カルボン酸ペンズヒドリル（シン異性体）
。

ＩＲ（スジ１−ル）　　：　　３２９０．　３１６σ、
　　１７７５．　１６７５．　１６１０゜１５２０ｃｍ
−’ （１１）？　−［２−アリルオキシイミノ−２−（５−
アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）アセ
トアミド］−３−（’３−ピリジルメチルチオ）−３−
セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジコール）　　：　　３２９０．　３１Ｂ０．
　１７６５．　１６７０．　１６１５゜１５３０ｃｍ−
’ （１２）７−［２−アリルオキシイミノ−２〜（５−ア
ミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）アセト
アミド］−３−（１−メチル−３−ピリジニオメチルチ
オ）−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性
体）。

ＩＲ（スジコール）　　：　　３２８０．　１７６０．
　１６６５．　１６００゜１５１０ｃｍ−’ （１３）７−　［２−アリルオキシイミノ−２−（５−
アミノ−１，２，４−チア、ジアゾール−３−イル）ア
セトアミド］−３−（３−ピリジルチオ）−３−セフェ
ム−４−カルボン酸ベンズヒドリル（シン異性体）。

ＩＲ（スジコール）　　：　　１７７５．　１６７３．
　１６０８．　１５２０ｃｍす（１４）７−　［２−ア
リルオキシイミノ−２−（５−アミノ−１，２，４−チ
アジアゾール−３−イル）アセトアミド］−３−（３−
ピリジルチオ）＝３−セフェム−４−カルボン酸（シン
異性体）。

ＩＲ（スジ３−ル）　　：　　３２８０．　３１８０．
　１７７５．　１６７０．　１６０８゜１５２５ｃｍ−
’ （１５）７−　［２−アリルオキシイミノ−２−（５−
アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）アセ
トアミトコ−３−（１−メチル−３−ピリジニオチオ）
−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性体）
。

ＩＲ（スジ３−ル）　　：　　３３００．　１７７０．
　１６６５．　１６１０゜１５２５ｃｍ−’ （１６）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−（４
−ピリジルメチルチオ）−３−セフェム−４−カルボン
酸ベンズヒドリル（シン異性体）。

ＩＲ＜スジコール）　　：　　１７７０．　１７２２．
　１６７０．　１６００゜１５３０ｃｍ−’ （１７）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−（４
−ピリジルメチルチオ）−３−セフェム−４−カルボン
ｍ（シン異性体）。

ＩＲ（スジコール）　　：　　３３００．　３１８０．
　１７７０．　１６６８．　１６３０゜１６０４）、　
１５３０ｃｍ−’ （１８）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−（１
−メチル−４−ピリジニオメチルチオ）−３−セフェム
−４−カルボキシレート（シン異性体）。

ＩＲ（スジコール）　　：　　３３００．　３１８０．
　１７７０．　１６７０．　１６４３゜１６００、１５
３５ｃｍ−’ （１９）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−（４
−ピリジルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ベン
ズヒドリル（シン異性体）。

ＩＲ（スジコール）　　ｉ　　３３６０．　３１４０．
　１７６８．　１６８５゜１５４０ｃｍ−’ （２０）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−（メトキシイミノ）アセトアミド］−３−（３
−ピリジルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸（シ
ン異性体）。

ＩＲ（ス九−ル）　　’　　１７８０．　１６７２．　
１５３５ｃｍ−’（２１）７−［２−（２−アミノチア
ゾール−４−イル）−２−（メトキシイミノ）アセトア
ミド］−３−（１−メチル−３−ピリジニオチオ）−３
−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性体）。

ＩＲ（スジ９−ル）　　：　　３３２０．　１７７８．
　１６７３．　１６１０゜１５３５ｃ＋ｍ−’ （２２）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−（エトキシイミノ）アセトアミド］−３−（３
−ピリジルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ベン
ズヒドリル（シン異性体）。

ＩＲ（スジ？−ル）　　：　　１７７５．　１７２５．
　１６７０．　１６０８゜１５３０ｃｍ−’ （２３）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−（エトキシイミノ）アセトアミド］−３−（３
−ピリジルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸（シ
ン異性体）。

ＩＲ（スジタール）　　：　　１７７８．　１６８３．
　１６１０．　１５３８ｃｍ−’（２４）？−［２−（
２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（エトキシイ
ミノ）アセトアミド］−３−（１−メチル−３−ピリジ
ニオチオ）−３−セフェム−４−カルボキシレート（シ
ン異性体）。

ＩＲ（スジタール）　　：　　３２８０．　１７７５．
　１６６５．　１６１５゜１５３０ｃｍ” （２５）７−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２−（カルボキシメトキシイミノ）アセトアミトコ
−３−（３−ピリジルチオ）−３−セフェム−４−カル
ボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジ３−ル）　　：　　３２８０．　１７７５．
　１６７３．　１６１０゜１５３５ｃｍ−’ （２６）７−［２−（２−７ミノチアゾールー４−イル
）−２−（カルボキシメトキシイミノ）アセトアミトコ
−３−（１−メチル−３−ピリジニオチオ）−３−セフ
ェム−４−カルボキシレート（シン異性体）。

ＩＲ（スジ９−ル）’　　３３２０．　１７７８．　１
６７３．　１６１０．　１５３５ｃｍ”（２７）７−［
２−（ｊ−アミノチアゾール−４−イル）−２−（ジフ
ェニルメトキシカルボニルメトキシイミノ）アセトアミ
ド］−３−（３−ピリジルチオ）−３−セフェム−４−
カルボン酸ベンズヒドリル（シン異性体）。

ＩＲ（スジタール）　　：　　３２ｇ０．　１７８０．
　１７３０．　１６８０．　１６１０゜１５３０ｃｍ−
’ （２８）７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４
−イル）−２−（メトキシイミノ）アセトアミド］−３
−（４−ピリジルメチルチオ）−３−セフェム−４−カ
ルボン酸ベンズヒドリル（シン異性体）。

ＩＲ（スジう一ル）　　：　　１７８２．　１６８０．
　１５４３ｃｍ−’（２９）７−［２−（２−ホルムア
ミドチアゾール−４−イル）−２−（メトキシイミノ）
アセトアミド］−３−（３−ピリジルチオ）−３−セフ
ェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル（シンＪ％性体）
。

ＩＲ（スジ書−ル）　　’　　１７８５．　１７３０．
　１６９０．　１５５０ｃｍ−’（３０）７−［２−（
２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）−２−（エト
キシイミノ）アセトアミド］−３−（３−ピリジルチオ
）−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル（シ
ン異性体）。

ＩＲ（スジ旨−ル）　　：　　３１５０．　１７８０．
　１７２５．　１６７５゜１６５０ｃｓａ−’ （３１）７−［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４
−イル）−２−（ジフェニルメトキシカルボニルメトキ
シイミノ）アセトアミド］−３−（３−ピリジルチオ）
−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル（シン
異性体）。

ＩＲ（ＣＩＩＣｌハ：　３３７０．１７８８．１７３５
．１６９５．１６００゜１５４０ｃｍ−’ （３２）　７−アミノ−３−（３−ピリジルメチルチオ
）−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル。

ＩＲ（スジルール）　　：　　１７６５．　１７３０．
　１６０５ｃｍ−’（３３）７−アミノ−３−（４−ピ
リジルメチルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸ベ
ンズヒドリル。

ＩＲ（スジ９−ル）　　：　　３４３０．　１７６２．
　１７３０．　１６０８゜１６００ｃｓａ−’ （３４）　７−アミノ−３−（３−ピリジルチオ）−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル。

ＩＲ（スジ９−ル）　　：　　３６７０．　３４１０．
　１７８０．　１７３０゜１６１５ｃｍ−’ （３５）　７−ホルムアミド−３−（３−ピリジルメチ
ルチオ）−３−セフェム−４−カルボキシレート。

ＩＲ（スジａ−ル）　　：　　１７６５．　１６７０ｃ
ｍ−’大ＪＪＬ針 ７−ホルムアミド−３−（３−ピリジルメチルチオ）−
３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル（３，３
５ｇ）のメタノール（２５ｍ１　）およびテトラヒドロ
フラン（２５ｍ１　）混合物溶液に、濃塩酸（１，９４
ｍ１　）を常温で加え、混合物を同温で６時間攪拌する
０反応混合物を水と酢酸エチルとの混合物に攪拌下に加
え、混合物を炭酸水素ナトリウム水溶液で中和する。有
機層を分取して食塩水で洗節し、硫酸マグネシウムで乾
燥後、溶媒番減圧下に留去して、７−アミノ−３−（３
−ピリジルメチルチオ）−３−セフェム−４−カルボン
酸ベンズヒドリル（２，６１ｇ）を得る。

ＩＲ（スジロール）　　：　　１７６５．　１７３０．
　１６０５ｃｍ−’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、ε　）　
　：　　３．８０　　（２１，ブロードｓ）、　　４．
１０（２Ｈ，ブロードｓ）、　　４．７７　　（ＩＨ，
ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　　５．０２（１％％、ｄ、Ｊ＝５
Ｈｚ）、　６．８２　（１１１，ｓ）、　７．１５−７
．７０く１２％（、ｍ）、　　８．３３−８．５０　　
（２Ｌｍ＞塞］ｄ」競 ７−ホルムアミド−３−（３−ピリジルチオ）−３−セ
フェム−４−カルボン酸ペンズヒドリュル（３，２２ｇ
）のメタノール（１６ｍｌ）およびテトラヒドロフラン
（５’ｍｌ）混合物溶液に、濃塩酸（１，９０ｍ１）を
常温で加え、反応混合物を同温で６時間攪拌する。反応
混合物に水と酢酸エチルとを加え、混合物を炭酸水素ナ
トリウム水溶液で中和する。

有機層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を減圧丁番こ留去して、７−アミノ−３−
（３−ピリジルチオ）−３−セフェム−４−カルボン酸
ベンズヒドリル（２，７０ｇ）を得る。

ＩＲ（ＣＨ＊Ｃ１＊）　’　３６７０．３４１０．１７
８０，１７３０゜１６１５ｃｍ−’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ）：　３．２５および３．
７５　（２Ｈ。

ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈ２＞、　４．９２　＜ＩＨ，ｄ、Ｊ
＝５Ｈｚ）、　５．３７（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈ２）、　
６．９６　（ＩＨ，ｓ）、　７．２−７．６（１１Ｈ，
ｍ）、　７．７７　（１１（、ｄｔ、Ｊ＝８．２Ｈｚ）
、　８．５５（２Ｈ，ｍ） 来ＪＪＬ針 実施例２５と同様にして下記の化合物を得る。

７−アミノ−３−（４−ピリジルメチルチオ）−３−セ
フェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル。

ＩＲ（スジ曹−ル）　　ｉ　　３４３０．　１７６２．
　１７３０．　１６０８゜１６００ｃｍ−’ ＮＭＲ−（ＤＭＳＯ−ｄ、、δ　）　　：　　３．７６
　　（２Ｈ，ブロードｓ）、　　４．０９（２Ｈ，ブロ
ードｓ）、　　４．７９　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ−５Ｈｚ＞
、　　５．０１（１８，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　　６．８
５　＜ＩＨ，ｓ）、　　７．１５−７．５５（１２Ｈ，
ｍ）、　　８．４５　（２Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝４．２Ｈｚ）
塞」ｄｌ競 １−才キソー７−ホルムアミド−３−（３−ピリジルメ
チルチオ）−３−セフェム−４−力Ｊレボン酸ベンズヒ
ドリル（４，８０ｇ）のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド
（５０ｍ１　）溶液に、三塩化燐（１，２５ｍ１）を−
４０℃で加え、混合物を一２０’Ｃで２．５時間攪拌す
る。反応混合物を水と酢酸エチルとの混合物に攪拌下に
加え、混合物を度酸水素ナトリウム水溶液で中和する。

有機層を分取して食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を減圧下に留去して、７−ホルムアミド−
３−（３−ピリジルメチルチオ）−３−セフェム−４−
カルボン酸ベンズヒドリル（３，４６ｇ）を得る。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾１はアミノ基またはアシルアミノ基、Ｒ＾
   ２はピリジル基または複素環部分が適当な置換基を有し
   ていてもよい複素環（低級）アルキル基、Ｒ＾３はカル
   ボキシ基または保護されたカルボキシ基をそれぞれ意味
   する］で示される新規セフェム化合物および医薬として
   許容されるその塩。 ２）（１）一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾２はピリジル基または複素環部分が適当な
   置換基を有していてもよい複素環（低級）アルキル基、 Ｒ＾３はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基を
   それぞれ意味する］で示される化合物またはアミノ基に
   おけるその反応性誘導体またはその塩を、アシル化反応
   に付して、一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾２およびＲ＾３はそれぞれ前と同じ意味、
   Ｒ＾１＿ａはアシルアミノ基を意味する）で示される化
   合物またはその塩を得るか、または （２）一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾３は前と同じ意味、 Ｒ＾１はアミノ基またはアシルアミノ基を意味する）で
   示される化合物またはその塩に、一般式：Ｒ＾４−Ｙ＿
   １ （式中、Ｒ＾４は低級アルキル基、 Ｙ＿１は酸残基をそれぞれ意味する）で示される化合物
   を作用させて、一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾３、Ｒ＾４およびＹ＿１はそれぞ
   れ前と同じ意味）で示される化合物またはその塩を得る
   か、または （３）一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾２およびＲ＾３はそれぞれ前と同じ意味、
   Ｒ＾１＿ｂは保護されたアミノ基を有するアシルアミノ
   基を意味する）で示される化合物またはその塩をアミノ
   保護基の脱離反応に付して、一般式：▲数式、化学式、
   表等があります▼ （式中３Ｒ＾２およびＲ＾３はそれぞれ前と同じ意味、
   Ｒ＾１＿ｃはアミノ基を有するアシルアミノ基を意味す
   る）で示される化合物またはその塩を得るか、または （４）一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１およびＲ＾２はそれぞれ前と同じ意味、
   Ｒ＾３＿ａは保護されたカルボキシ基を意味する）で示
   される化合物またはその塩を、カルボキシ保護基の脱離
   反応に付して、一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１およびＲ＾２はそれぞれ前と同じ意味）
   で示される化合物またはその塩を得るか、または（５）
   一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１およびＲ＾３はそれぞれ前と同じ意味、
   Ｙ＿２は酸残基を意味する）で示される化合物またはそ
   の塩に、一般式： Ｒ＾２−ＳＨ （式中、Ｒ＾２は前と同じ意味）で示される化合物また
   はその塩を作用させて、一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２およびＲ＾３はそれぞれ前と同
   じ意味）で示される化合物またはその塩を得るか、また
   は （６）一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１＿ａ、Ｒ＾２およびＲ＾３はそれぞれ前
   と同じ意味）で示される化合物またはその塩を脱アシル
   反応に付して、一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾２およびＲ＾３はそれぞれ前と同じ意味）
   で示される化合物またはその塩を得るか、または（７）
   一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２およびＲ＾３はそれぞれ前と同
   じ意味）で示される化合物またはその塩を還元して、一
   般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２およびＲ＾３はそれぞれ前と同
   じ意味）で示される化合物またはその塩を得ることを特
   徴とする一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２およびＲ＾３はそれぞれ前と同
   じ意味）で示される新規セフェム化合物またはその塩の
   製造法。 ３）一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾１はアミノ基またはアシルアミノ基、Ｒ＾
   ２はピリジル基または複素環部分が適当な置換基を有し
   ていてもよい複素環（低級）アルキル基、 Ｒ＾３はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基を
   それぞれ意味する］で示される新規セフェム化合物また
   は医薬として許容されるその塩を有効成分として含有す
   る細菌感染症予防治療剤。