JPH0748382A - 新規セフェム化合物 - Google Patents
新規セフェム化合物Info
- Publication number
- JPH0748382A JPH0748382A JP5191164A JP19116493A JPH0748382A JP H0748382 A JPH0748382 A JP H0748382A JP 5191164 A JP5191164 A JP 5191164A JP 19116493 A JP19116493 A JP 19116493A JP H0748382 A JPH0748382 A JP H0748382A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- ester
- compound
- cephem
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/30—Against vector-borne diseases, e.g. mosquito-borne, fly-borne, tick-borne or waterborne diseases whose impact is exacerbated by climate change
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】一般式
【化１】
［式中、Ｒ1 はアミノ基またはアシルアミノ基、Ｒ2
はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基、Ｒ3
は水素、ヒドロキシ保護基、アリ−ル基、複素環基、ア
シル基またはアシル（低級）アルキル基、Ｒ7 は水素
または低級アルキル基、および−Ｚ−は −Ｏ−、−Ｓ
−または−ＮＨ−をそれぞれ表す］で表される新規セフ
ェム化合物およびその医薬として許容される塩。 【効果】 目的化合物および医薬として許容されるその
塩類は新規であり、強い抗菌作用を発揮してグラム陽性
菌およびグラム陰性菌を含む広汎な病原菌の成育を防止
し、抗菌薬として有用である。
はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基、Ｒ3
は水素、ヒドロキシ保護基、アリ−ル基、複素環基、ア
シル基またはアシル（低級）アルキル基、Ｒ7 は水素
または低級アルキル基、および−Ｚ−は −Ｏ−、−Ｓ
−または−ＮＨ−をそれぞれ表す］で表される新規セフ
ェム化合物およびその医薬として許容される塩。 【効果】 目的化合物および医薬として許容されるその
塩類は新規であり、強い抗菌作用を発揮してグラム陽性
菌およびグラム陰性菌を含む広汎な病原菌の成育を防止
し、抗菌薬として有用である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、高い抗菌活性を有す
る新規なセフェム化合物に関するものであり医療の分野
で利用される。
る新規なセフェム化合物に関するものであり医療の分野
で利用される。
【０００２】
【従来の技術】セフェム化合物は数多く知られている
が、この発明の下記一般式（Ｉ）で示されるセフェム化
合物は知られていない。
が、この発明の下記一般式（Ｉ）で示されるセフェム化
合物は知られていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】抗菌活性を有し、医薬
として有用なセフェム化合物は数多く知られているが、
この発明はさらに優れた医薬品の開発を意図してなされ
たものである。
として有用なセフェム化合物は数多く知られているが、
この発明はさらに優れた医薬品の開発を意図してなされ
たものである。
【０００４】
【発明の構成】この発明の目的とするセフェム化合物は
新規であり、下記一般式（Ｉ）で示すことができる。
新規であり、下記一般式（Ｉ）で示すことができる。
【０００５】
【化２】 ［式中、Ｒ1 はアミノ基またはアシルアミノ基、Ｒ2
はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基、Ｒ3
は水素、ヒドロキシ保護基、アリ−ル基、複素環基、ア
シル基またはアシル（低級）アルキル基、Ｒ7 は水素
または低級アルキル基、および−Ｚ−は −Ｏ−、−Ｓ
−または−ＮＨ−をそれぞれ表す］
はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基、Ｒ3
は水素、ヒドロキシ保護基、アリ−ル基、複素環基、ア
シル基またはアシル（低級）アルキル基、Ｒ7 は水素
または低級アルキル基、および−Ｚ−は −Ｏ−、−Ｓ
−または−ＮＨ−をそれぞれ表す］
【０００６】この発明のセフェム化合物（Ｉ）は下記に
説明する製造法によって製造することができる。製造法１
説明する製造法によって製造することができる。製造法１
【化３】
【０００７】製造法２
【化４】
【０００８】製造法３
【化５】
【０００９】製造法４
【化６】
【００１０】（式中、Ｒ1 、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ7および−Ｚ−
は前と同じ意味であり、Ｒ1 aはアシルアミノ基、Ｒ2 aは
保護されたカルボキシ基、Ｒ4はアリ−ル基または低級
アルキル基、Ｘは酸残基、Ｙは脱離基およびＲ8は低級
アルキル基を意味する。）
は前と同じ意味であり、Ｒ1 aはアシルアミノ基、Ｒ2 aは
保護されたカルボキシ基、Ｒ4はアリ−ル基または低級
アルキル基、Ｘは酸残基、Ｙは脱離基およびＲ8は低級
アルキル基を意味する。）
【００１１】化合物（Ｉ）の医薬として許容される好適
な塩類は常用の無毒性塩であり、例えばナトリウム塩、
カリウム塩等のアルカリ金属塩および例えばカルシウム
塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金属塩のような金
属塩、アンモニウム塩、例えばトリメチルアミン塩、ト
リエチルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシクロ
ヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ′−ジベンジルエチレンジア
ミン塩等の有機塩基塩、例えば酢酸塩、トリフルオロ酢
酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、
ベンゼンスルホン酸塩、ギ酸塩、トルエンスルホン酸塩
等の有機酸塩、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、沃化水素
酸塩、硫酸塩、リン酸塩等の無機酸塩、または例えばア
ルギニン、アスパラギン酸、グルタミン酸等のアミノ酸
との塩等が挙げられる。
な塩類は常用の無毒性塩であり、例えばナトリウム塩、
カリウム塩等のアルカリ金属塩および例えばカルシウム
塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金属塩のような金
属塩、アンモニウム塩、例えばトリメチルアミン塩、ト
リエチルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシクロ
ヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ′−ジベンジルエチレンジア
ミン塩等の有機塩基塩、例えば酢酸塩、トリフルオロ酢
酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、
ベンゼンスルホン酸塩、ギ酸塩、トルエンスルホン酸塩
等の有機酸塩、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、沃化水素
酸塩、硫酸塩、リン酸塩等の無機酸塩、または例えばア
ルギニン、アスパラギン酸、グルタミン酸等のアミノ酸
との塩等が挙げられる。
【００１２】この明細書の以上および以下の記載におい
て、この発明の範囲内に包含される種々の定義の好適な
例および説明を以下詳細に説明する。「低級」とは、特
に指示がなければ、炭素原子 1ないし６個（好ましくは
１ないし４個）を意味するものとする。
て、この発明の範囲内に包含される種々の定義の好適な
例および説明を以下詳細に説明する。「低級」とは、特
に指示がなければ、炭素原子 1ないし６個（好ましくは
１ないし４個）を意味するものとする。
【００１３】「高級」とは、、特に指示がなければ、炭
素原子７ないし２０個を意味するものとする。
素原子７ないし２０個を意味するものとする。
【００１４】「低級アルキル基」および「アシル（低
級）アルキル基」の好適な「低級アルキル」部分として
は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、第三級ブチル、ペンチル、ネオペンチ
ル、ヘキシル等のような直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素
数１ないし６のアルカンの残基を意味し、その好ましい
例としてはＣ１ −Ｃ４ アルキル基が挙げられる。
「アシル基」、「アシルアミノ基」および「アシル（低
級）アルキル基」の好適な「アシル」部分としては、カ
ルバモイル、脂肪族アシル基および芳香族アシルとして
示される芳香環あるいは複素環アシルとして示される複
素環を含有するアシル基が挙げられる。
級）アルキル基」の好適な「低級アルキル」部分として
は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、第三級ブチル、ペンチル、ネオペンチ
ル、ヘキシル等のような直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素
数１ないし６のアルカンの残基を意味し、その好ましい
例としてはＣ１ −Ｃ４ アルキル基が挙げられる。
「アシル基」、「アシルアミノ基」および「アシル（低
級）アルキル基」の好適な「アシル」部分としては、カ
ルバモイル、脂肪族アシル基および芳香族アシルとして
示される芳香環あるいは複素環アシルとして示される複
素環を含有するアシル基が挙げられる。
【００１５】前記アシルの好適な例を以下に示す：カル
バモイル；低級または高級アルカノイル（例えば、ホル
ミル、アセチル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、バレリ
ル、ステアロイル、等）；低級または高級アルコキシカ
ルボニル（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｔ−ペンチルオキシ
カルボニル、ヘプチルオキシカルボニル、等）；低級ま
たは高級アルカンスルホニル（例えば、メタンスルホニ
ル、エタンスルホニル、等）；低級または高級アルコキ
シスルホニル（例えば、メトキシスルホニル、エトキシ
スルホニル、等）、等のような脂肪族アシル；アロイル
（例えば、ベンゾイル、トルオイル、ナフトイル、
等）；フェニル（低級）アルカノイル（例えば、フェニ
ルアセチル、フェニルプロピオニル、等）のようなアル
（低級）アルカノイル；アリ−ルオキシカルボニル（例
えば、フェノキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニ
ル、等）；アリ−ルオキシ（低級）アルカノイル（例え
ば、フェノキシアセチル、フェノキシプロピオニル、
等）；アリ−ルグリオキシロイル（例えば、フェニルグ
リオキシロイル、ナフチルグリオキシロイル、等）；ア
リ−ルスルホニル（例えば、フェニルスルホニル、ｐ−
トリルスルホニル、等）、等のような芳香族アシル；複
素環カルボニル（例えば、テノイル、フロイル、ニコチ
ノイル、等）；複素環（低級）アルカノイル（チエニル
アセチル、チアゾリルアセチル、チアジアゾリルアセチ
ル、テトラゾリルアセチル、等）；複素環グリオキシロ
イル（例えば、チアゾリルグリオキシロイル、チエニル
グリオキシロイル、等）、等のような複素環アシル；但
し、上記「複素環カルボニル」、「複素環（低級）アル
カノイル」および「複素環グリオキシロイル」の複素環
部分は、さらに詳しくは、酸素、硫黄、窒素原子等のヘ
テロ原子を１個以上含有する飽和または不飽和の単環ま
たは多環複素環基を意味する。
バモイル；低級または高級アルカノイル（例えば、ホル
ミル、アセチル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、バレリ
ル、ステアロイル、等）；低級または高級アルコキシカ
ルボニル（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｔ−ペンチルオキシ
カルボニル、ヘプチルオキシカルボニル、等）；低級ま
たは高級アルカンスルホニル（例えば、メタンスルホニ
ル、エタンスルホニル、等）；低級または高級アルコキ
シスルホニル（例えば、メトキシスルホニル、エトキシ
スルホニル、等）、等のような脂肪族アシル；アロイル
（例えば、ベンゾイル、トルオイル、ナフトイル、
等）；フェニル（低級）アルカノイル（例えば、フェニ
ルアセチル、フェニルプロピオニル、等）のようなアル
（低級）アルカノイル；アリ−ルオキシカルボニル（例
えば、フェノキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニ
ル、等）；アリ−ルオキシ（低級）アルカノイル（例え
ば、フェノキシアセチル、フェノキシプロピオニル、
等）；アリ−ルグリオキシロイル（例えば、フェニルグ
リオキシロイル、ナフチルグリオキシロイル、等）；ア
リ−ルスルホニル（例えば、フェニルスルホニル、ｐ−
トリルスルホニル、等）、等のような芳香族アシル；複
素環カルボニル（例えば、テノイル、フロイル、ニコチ
ノイル、等）；複素環（低級）アルカノイル（チエニル
アセチル、チアゾリルアセチル、チアジアゾリルアセチ
ル、テトラゾリルアセチル、等）；複素環グリオキシロ
イル（例えば、チアゾリルグリオキシロイル、チエニル
グリオキシロイル、等）、等のような複素環アシル；但
し、上記「複素環カルボニル」、「複素環（低級）アル
カノイル」および「複素環グリオキシロイル」の複素環
部分は、さらに詳しくは、酸素、硫黄、窒素原子等のヘ
テロ原子を１個以上含有する飽和または不飽和の単環ま
たは多環複素環基を意味する。
【００１６】特に好ましい複素環基としては、窒素原子
１〜４個を含有する不飽和３〜８員（さらに好ましくは
５または６員）複素単環基、例えば、ピロリル、ピロリ
ニル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジルおよびその
Ｎ−オキシド、ジヒドロピリジル、ピリミジル、ピラジ
ニル、ピリダジニル、トリアゾリル（例えば、４Ｈ−
１，２，４−トリアゾリル、１Ｈ−１，２，３−トリア
ゾリル、２Ｈ−１，２，３−トリアゾリル、等）、テト
ラゾリル（例えば、１Ｈ−テトラゾリル、２Ｈ−テトラ
ゾリル、等）、等；窒素原子１〜４個を含有する飽和３
〜８員（さらに好ましくは５または６員）複素単環基、
例えば、ピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジ
ノ、ピペラジニル、等；窒素原子１〜４個を含有する不
飽和縮合複素環基、例えば、インドリル、イソインドリ
ル、インドリジニル、ベンズイミダゾリル、キノリル、
イソキノリル、インダゾリル、ベンゾトリアゾリル、
等；酸素原子１〜２個および窒素原子１〜３個を含有す
る不飽和３〜８員（さらに好ましくは５または６員）複
素単環基、例えば、オキサゾリル、イソキサゾリル、オ
キサジアゾリル（例えば、１，２，４−オキサジアゾリ
ル、１，３，４−オキサジアゾリル、１、２、５−オキ
サジアゾリル、等）、等；酸素原子１〜２個および窒素
原子１〜３個を含有する飽和３〜８員（さらに好ましく
は５または６員）複素単環基、例えば、モルホリニル、
シドノニル、等；酸素原子１〜２個および窒素原子１〜
３個を含有する不飽和縮合複素環基、例えば、ベンズオ
キサゾリル、ベンズオキサジアゾリル、等；硫黄原子１
〜２個および窒素原子１〜３個を含有する不飽和３〜８
員（さらに好ましくは５または６員）複素単環基、例え
ば、チアゾリル、イソチアゾリル、チアジアゾリル（例
えば、１，２，３−チアジアゾリル、１，２，４−チア
ジアゾリル、１，３，４−チアジアゾリル、１，２，５
−チアジアゾリル、等）、ジヒドロチアジニル、等；硫
黄原子１〜２個および窒素原子１〜３個を含有する飽和
３〜８員（さらに好ましくは５または６員）複素単環
基、例えば、チアゾリジニル、等；硫黄原子１〜２個を
含有する不飽和３〜８員（さらに好ましくは５または６
員）複素単環基、例えば、チエニル、ジヒドロジチイニ
ル、ジヒドロジチオリル、等；硫黄原子１〜２個および
窒素原子１〜３個を含有する不飽和縮合複素環基、例え
ば、ベンゾチアゾリル、、ベンゾチアジアゾリル、等；
酸素原子１個を含有する不飽和３〜８員（さらに好まし
くは５または６員）複素単環基、例えば、フリル、等；
酸素原子１個および硫黄原子１〜２個を含有する不飽和
３〜８員（さらに好ましくは５または６員）複素単環
基、例えば、ジヒドロオキサチイニル、等；硫黄原子１
〜２個を含有する不飽和縮合複素環基、例えば、ベンゾ
チエニル、ベンゾチイニル、等；酸素原子１個および硫
黄原子１〜２個を含有する不飽和縮合複素環基、例え
ば、ベンズオキサチイニル、等；のような複素環基、が
挙げられる。
１〜４個を含有する不飽和３〜８員（さらに好ましくは
５または６員）複素単環基、例えば、ピロリル、ピロリ
ニル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジルおよびその
Ｎ−オキシド、ジヒドロピリジル、ピリミジル、ピラジ
ニル、ピリダジニル、トリアゾリル（例えば、４Ｈ−
１，２，４−トリアゾリル、１Ｈ−１，２，３−トリア
ゾリル、２Ｈ−１，２，３−トリアゾリル、等）、テト
ラゾリル（例えば、１Ｈ−テトラゾリル、２Ｈ−テトラ
ゾリル、等）、等；窒素原子１〜４個を含有する飽和３
〜８員（さらに好ましくは５または６員）複素単環基、
例えば、ピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジ
ノ、ピペラジニル、等；窒素原子１〜４個を含有する不
飽和縮合複素環基、例えば、インドリル、イソインドリ
ル、インドリジニル、ベンズイミダゾリル、キノリル、
イソキノリル、インダゾリル、ベンゾトリアゾリル、
等；酸素原子１〜２個および窒素原子１〜３個を含有す
る不飽和３〜８員（さらに好ましくは５または６員）複
素単環基、例えば、オキサゾリル、イソキサゾリル、オ
キサジアゾリル（例えば、１，２，４−オキサジアゾリ
ル、１，３，４−オキサジアゾリル、１、２、５−オキ
サジアゾリル、等）、等；酸素原子１〜２個および窒素
原子１〜３個を含有する飽和３〜８員（さらに好ましく
は５または６員）複素単環基、例えば、モルホリニル、
シドノニル、等；酸素原子１〜２個および窒素原子１〜
３個を含有する不飽和縮合複素環基、例えば、ベンズオ
キサゾリル、ベンズオキサジアゾリル、等；硫黄原子１
〜２個および窒素原子１〜３個を含有する不飽和３〜８
員（さらに好ましくは５または６員）複素単環基、例え
ば、チアゾリル、イソチアゾリル、チアジアゾリル（例
えば、１，２，３−チアジアゾリル、１，２，４−チア
ジアゾリル、１，３，４−チアジアゾリル、１，２，５
−チアジアゾリル、等）、ジヒドロチアジニル、等；硫
黄原子１〜２個および窒素原子１〜３個を含有する飽和
３〜８員（さらに好ましくは５または６員）複素単環
基、例えば、チアゾリジニル、等；硫黄原子１〜２個を
含有する不飽和３〜８員（さらに好ましくは５または６
員）複素単環基、例えば、チエニル、ジヒドロジチイニ
ル、ジヒドロジチオリル、等；硫黄原子１〜２個および
窒素原子１〜３個を含有する不飽和縮合複素環基、例え
ば、ベンゾチアゾリル、、ベンゾチアジアゾリル、等；
酸素原子１個を含有する不飽和３〜８員（さらに好まし
くは５または６員）複素単環基、例えば、フリル、等；
酸素原子１個および硫黄原子１〜２個を含有する不飽和
３〜８員（さらに好ましくは５または６員）複素単環
基、例えば、ジヒドロオキサチイニル、等；硫黄原子１
〜２個を含有する不飽和縮合複素環基、例えば、ベンゾ
チエニル、ベンゾチイニル、等；酸素原子１個および硫
黄原子１〜２個を含有する不飽和縮合複素環基、例え
ば、ベンズオキサチイニル、等；のような複素環基、が
挙げられる。
【００１７】上記アシル部分は、低級アルキル（例え
ば、メチル、エチル、等）；低級アルコキシ（例えば、
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、等）；モノ（または
ジまたはトリ）ハロ（低級）アルカノイル基（例えばク
ロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチ
ル、ブロモアセチル、２−クロロプロピオニル、２，２
−ジクロロプロピオニル、２，２，２−トリクロロプロ
ピオニル、２−フルオロプロピオニル、２，２，３−ト
リフルオロプロピオニル、等）；アル（低級）アルキル
［例えばベンジル、ベンズヒドリル、トリチル等のモノ
（またはジまたはトリ）フェニル（低級）アルキル
等］；低級アルキルチオ（例えば、メチルチオ、エチル
チオ、等）；低級アルキルアミノ（例えば、メチルアミ
ノ、等）；シクロ（低級）アルキル（例えば、シクロペ
ンチル、シクロヘキシル、等）；シクロ（低級）アルケ
ニル（例えば、シクロヘキセニル、シクロヘキサジエニ
ル、等）；ハロゲン；アミノ；保護されたアミノ；ヒド
ロキシ；保護されたヒドロキシ；シアノ；ニトロ；カル
ボキシ；保護されたカルボキシ；スルホ；スルファモイ
ル；イミノ；オキソ；アミノ（低級）アルキル（例え
ば、アミノメチル、アミノエチル、等）；カルバモイル
オキシ；シアノ（低級）アルケニルチオ（例えば、シア
ノビニルチオ、等）；式：＝Ｎ−ＯＲ6 （式中、Ｒ6 は
水素またはヒドロキシ保護基）で示される基、等のよう
な同種または異種の適当な置換基１〜１０個を有してい
てもよい。
ば、メチル、エチル、等）；低級アルコキシ（例えば、
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、等）；モノ（または
ジまたはトリ）ハロ（低級）アルカノイル基（例えばク
ロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチ
ル、ブロモアセチル、２−クロロプロピオニル、２，２
−ジクロロプロピオニル、２，２，２−トリクロロプロ
ピオニル、２−フルオロプロピオニル、２，２，３−ト
リフルオロプロピオニル、等）；アル（低級）アルキル
［例えばベンジル、ベンズヒドリル、トリチル等のモノ
（またはジまたはトリ）フェニル（低級）アルキル
等］；低級アルキルチオ（例えば、メチルチオ、エチル
チオ、等）；低級アルキルアミノ（例えば、メチルアミ
ノ、等）；シクロ（低級）アルキル（例えば、シクロペ
ンチル、シクロヘキシル、等）；シクロ（低級）アルケ
ニル（例えば、シクロヘキセニル、シクロヘキサジエニ
ル、等）；ハロゲン；アミノ；保護されたアミノ；ヒド
ロキシ；保護されたヒドロキシ；シアノ；ニトロ；カル
ボキシ；保護されたカルボキシ；スルホ；スルファモイ
ル；イミノ；オキソ；アミノ（低級）アルキル（例え
ば、アミノメチル、アミノエチル、等）；カルバモイル
オキシ；シアノ（低級）アルケニルチオ（例えば、シア
ノビニルチオ、等）；式：＝Ｎ−ＯＲ6 （式中、Ｒ6 は
水素またはヒドロキシ保護基）で示される基、等のよう
な同種または異種の適当な置換基１〜１０個を有してい
てもよい。
【００１８】これと関連して、アシル部分が式：＝Ｎ−
ＯＲ6 （式中、Ｒ6は前記に同じ）で示される基を有す
る時、二重結合の存在に基づく幾何異性体（シンおよび
アンチ異性体）が存在する。例えば、シン異性体は式：
ＯＲ6 （式中、Ｒ6は前記に同じ）で示される基を有す
る時、二重結合の存在に基づく幾何異性体（シンおよび
アンチ異性体）が存在する。例えば、シン異性体は式：
【化７】 で示される基を有する１つの幾何異性体を意味し、対応
するアンチ異性体は式：
するアンチ異性体は式：
【化８】 で示される基を有する別の幾何異性体を意味する。好適
な「複素環基」としては、 例えば酸素、硫黄、窒素等
の複素原子を少なくとも１個有する飽和または不飽和、
単環または単環複素環基が含まれる。 そのうち好まし
い複素環基としては、例えばピロリル、ピロリニル、イ
ミダゾリル、２−イミダゾリニル等のイミダゾリニル、
ピラゾリル、ピラゾリニル、ピリジルおよびそのＮ−オ
キサイド、ピリジニオ、ジヒドロピリジル、１，２，
３，６−テトラヒドロピリジル等のテトラヒドロピリジ
ル、ピリミジニル、ピリミジニオ、ピラジニル、ピラジ
ニオ、ピリダジニル、ピリダジニオ、例えば１，３，５
−トリアジニル、１，２，４−トリアジニル、１，２，
３−トリアジニル等のトリアジニル、例えば１，２，
５，６−テトラヒドロ−１，２，４−トリアジニル、
１，４，５，６−テトラヒドロ−１，２，４−トリアジ
ニル等のテトラヒドロトリアジニル、トリアジニオ、例
えば１Ｈ−１，２，４−トリアゾリル、１Ｈ−１，２，
３−トリアゾリル、２Ｈ−１，２，３−トリアゾリル等
のようなトリアゾリル、トリアゾリオ、テトラジニル、
テトラジニオ、例えば１Ｈ−テトラゾリル、２Ｈ−テト
ラゾリル等の、テトラゾリル、テトラゾリオのような１
ないし４個の窒素原子を含む不飽和３ないし８員（好ま
しくは５または６員）単環複素環基、チアゾリル、チア
ゾリオ、イソチアゾリル、例えば１，２，３−チアジア
ゾリル、１，２，４−チアゾリル、１，３，４−チアジ
アゾリル、１，２，５−チアジアゾリルのようなチアジ
アゾリル、チアジアゾリオ、例えば２−チアゾリニル等
のチアゾリニル、ジヒドロチアジニル等のような１ない
し２個の硫黄原子と１ないし３個の窒素原子とを含む不
飽和３ないし８員（好ましくは５または６員）単環複素
環基、例えば１，２，４−オキサジアゾリル、１，３，
４−オキサジアゾリル、１，２，５−オキサジアゾリル
のようなオキサジアゾリル等のような１ないし２個の酸
素原子と１ないし３個の窒素原子とを含む不飽和３ない
し８員（好ましくは５または６員）単環式複素環基、例
えば１，３−ジオキソラニル等のジオキソラニル、例え
ば１，３−ジオキサニル、１，４−ジオキサニル等のジ
オキサニル等のような１ないし４個の酸素原子を含む飽
和３ないし８員（好ましくは５または６員）単環式複素
環基、例えば１，３−ジチオラニル等のジチオラニル、
例えば１，３−ジチアニル、１，４−ジチアニル等のジ
チアニル等のような１ないし４個の硫黄原子を含む飽和
３ないし８員（好ましくは５または６員）単環式複素環
基が挙げられる。
な「複素環基」としては、 例えば酸素、硫黄、窒素等
の複素原子を少なくとも１個有する飽和または不飽和、
単環または単環複素環基が含まれる。 そのうち好まし
い複素環基としては、例えばピロリル、ピロリニル、イ
ミダゾリル、２−イミダゾリニル等のイミダゾリニル、
ピラゾリル、ピラゾリニル、ピリジルおよびそのＮ−オ
キサイド、ピリジニオ、ジヒドロピリジル、１，２，
３，６−テトラヒドロピリジル等のテトラヒドロピリジ
ル、ピリミジニル、ピリミジニオ、ピラジニル、ピラジ
ニオ、ピリダジニル、ピリダジニオ、例えば１，３，５
−トリアジニル、１，２，４−トリアジニル、１，２，
３−トリアジニル等のトリアジニル、例えば１，２，
５，６−テトラヒドロ−１，２，４−トリアジニル、
１，４，５，６−テトラヒドロ−１，２，４−トリアジ
ニル等のテトラヒドロトリアジニル、トリアジニオ、例
えば１Ｈ−１，２，４−トリアゾリル、１Ｈ−１，２，
３−トリアゾリル、２Ｈ−１，２，３−トリアゾリル等
のようなトリアゾリル、トリアゾリオ、テトラジニル、
テトラジニオ、例えば１Ｈ−テトラゾリル、２Ｈ−テト
ラゾリル等の、テトラゾリル、テトラゾリオのような１
ないし４個の窒素原子を含む不飽和３ないし８員（好ま
しくは５または６員）単環複素環基、チアゾリル、チア
ゾリオ、イソチアゾリル、例えば１，２，３−チアジア
ゾリル、１，２，４−チアゾリル、１，３，４−チアジ
アゾリル、１，２，５−チアジアゾリルのようなチアジ
アゾリル、チアジアゾリオ、例えば２−チアゾリニル等
のチアゾリニル、ジヒドロチアジニル等のような１ない
し２個の硫黄原子と１ないし３個の窒素原子とを含む不
飽和３ないし８員（好ましくは５または６員）単環複素
環基、例えば１，２，４−オキサジアゾリル、１，３，
４−オキサジアゾリル、１，２，５−オキサジアゾリル
のようなオキサジアゾリル等のような１ないし２個の酸
素原子と１ないし３個の窒素原子とを含む不飽和３ない
し８員（好ましくは５または６員）単環式複素環基、例
えば１，３−ジオキソラニル等のジオキソラニル、例え
ば１，３−ジオキサニル、１，４−ジオキサニル等のジ
オキサニル等のような１ないし４個の酸素原子を含む飽
和３ないし８員（好ましくは５または６員）単環式複素
環基、例えば１，３−ジチオラニル等のジチオラニル、
例えば１，３−ジチアニル、１，４−ジチアニル等のジ
チアニル等のような１ないし４個の硫黄原子を含む飽和
３ないし８員（好ましくは５または６員）単環式複素環
基が挙げられる。
【００１９】好適な「保護されたカルボキシ基」として
は、エステル化されたカルボキシ基等が挙げられる。前
記エステルの好適な例としては、例えばメチルエステ
ル、エチルエステル、プロピルエステル、イソプロピル
エステル、ブチルエステル、イソブチルエステル、第三
級ブチルエステル、ペンチルエステル、第三級ペンチル
エステル、ヘキシルエステル、１−シクロプロピルエチ
ルエステル等の低級アルキルエステル；例えばビニルエ
ステル、アリルエステル等の低級アルケニルエステル；
例えばエチニルエステル、プロピニルエステル等の低級
アルキニルエステル；例えばメトキシメチルエステル、
エトキシメチルエステル、イソプロポキシメチルエステ
ル、ｔ−ブトキシメチルエステル、１−メトキシエチル
エステル、１−エトキシエチルエステル等の低級アルコ
キシアルキルエステル；例えばメチルチオメチルエステ
ル、エチルチオメチルエステル、エチルチオエチルエス
テル、イソプロピルチオメチルエステル等の低級アルキ
ルチオ（低級）アルキルエステル；例えば２−ヨ−ドエ
チルエステル、２，２，２−トリクロロエチルエステル
等のモノ（またはジまたはトリ）ハロ（低級）アルキル
エステル；例えばアセトキシメチルエステル、プロピオ
ニルオキシメチルエステル、ブチリルオキシメチルエス
テル、バレリルオキシメチルエステル、ピバロイルオキ
シメチルエステル、ヘキサノイルオキシメチルエステ
ル、２−アセトキシエチルエステル、２−プロピオニル
オキシエチルエステル等の低級アルカノイルオキシ（低
級）アルキルエステル；例えばメシルメチルエステル、
２−メシルエチルエステル等の低級アルカンスルホニル
（低級）アルキルエステル；例えば２−イソブトキシカ
ルボニル−２−ペンテニルエステル等の低級アルコキシ
カルボニル（低級）アルケニルエステル、例えばベンジ
ルエステル、４−メトキシベンジルエステル、４−ニト
ロベンジルエステル、フェネチルエステル、トリチルエ
ステル、ベンズヒドリルエステル、ビス（メトキシフェ
ニル）メチルエステル、３，４−ジメトキシベンジルエ
ステル、４−ヒドロキシ−３，５−ジ第三級ブチルベン
ジルエステル、ジフェニルメチルエステル等の適当な置
換基１個以上を有していてもよいモノ（またはジまたは
トリ）フェニル（低級）アルキルエステルのようなアル
（低級）アルキルエステル；例えばフェニルエステル、
トリルエステル、第三級ブチルフェニルエステル、キシ
リルエステル、メシチルエステル、クメニルエステル、
４−クロロフェニルエステル、４−メトキシフェニルエ
ステル等の置換されたまたは非置換フェニルエステルの
ような適当な置換基１個以上を有していてもよいアリ−
ルエステル；トリ（低級）アルキルシリルエステル；例
えばメチルチオエステル、エチルチオエステル等の低級
アルキルチオエステル等のようなものが挙げられる。
は、エステル化されたカルボキシ基等が挙げられる。前
記エステルの好適な例としては、例えばメチルエステ
ル、エチルエステル、プロピルエステル、イソプロピル
エステル、ブチルエステル、イソブチルエステル、第三
級ブチルエステル、ペンチルエステル、第三級ペンチル
エステル、ヘキシルエステル、１−シクロプロピルエチ
ルエステル等の低級アルキルエステル；例えばビニルエ
ステル、アリルエステル等の低級アルケニルエステル；
例えばエチニルエステル、プロピニルエステル等の低級
アルキニルエステル；例えばメトキシメチルエステル、
エトキシメチルエステル、イソプロポキシメチルエステ
ル、ｔ−ブトキシメチルエステル、１−メトキシエチル
エステル、１−エトキシエチルエステル等の低級アルコ
キシアルキルエステル；例えばメチルチオメチルエステ
ル、エチルチオメチルエステル、エチルチオエチルエス
テル、イソプロピルチオメチルエステル等の低級アルキ
ルチオ（低級）アルキルエステル；例えば２−ヨ−ドエ
チルエステル、２，２，２−トリクロロエチルエステル
等のモノ（またはジまたはトリ）ハロ（低級）アルキル
エステル；例えばアセトキシメチルエステル、プロピオ
ニルオキシメチルエステル、ブチリルオキシメチルエス
テル、バレリルオキシメチルエステル、ピバロイルオキ
シメチルエステル、ヘキサノイルオキシメチルエステ
ル、２−アセトキシエチルエステル、２−プロピオニル
オキシエチルエステル等の低級アルカノイルオキシ（低
級）アルキルエステル；例えばメシルメチルエステル、
２−メシルエチルエステル等の低級アルカンスルホニル
（低級）アルキルエステル；例えば２−イソブトキシカ
ルボニル−２−ペンテニルエステル等の低級アルコキシ
カルボニル（低級）アルケニルエステル、例えばベンジ
ルエステル、４−メトキシベンジルエステル、４−ニト
ロベンジルエステル、フェネチルエステル、トリチルエ
ステル、ベンズヒドリルエステル、ビス（メトキシフェ
ニル）メチルエステル、３，４−ジメトキシベンジルエ
ステル、４−ヒドロキシ−３，５−ジ第三級ブチルベン
ジルエステル、ジフェニルメチルエステル等の適当な置
換基１個以上を有していてもよいモノ（またはジまたは
トリ）フェニル（低級）アルキルエステルのようなアル
（低級）アルキルエステル；例えばフェニルエステル、
トリルエステル、第三級ブチルフェニルエステル、キシ
リルエステル、メシチルエステル、クメニルエステル、
４−クロロフェニルエステル、４−メトキシフェニルエ
ステル等の置換されたまたは非置換フェニルエステルの
ような適当な置換基１個以上を有していてもよいアリ−
ルエステル；トリ（低級）アルキルシリルエステル；例
えばメチルチオエステル、エチルチオエステル等の低級
アルキルチオエステル等のようなものが挙げられる。
【００２０】好適な「ヒドロキシ保護基」としては、例
えばトリメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロピ
ルジメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、ジイソ
プロピルメチルシリル等のトリ（低級）アルキルシリ
ル、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチ
リル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、オキサ
リル、スクシニル、ピバロイル等の低級アルカノイル等
の前記アシル、例えばトリチル、ベンズヒドリル、Ｐ−
メトキシベンジル等の適当な置換基を有していてもよい
アル（低級）アルキル基のような常用の保護基等が挙げ
られる。好適な「アリール基」としては、例えばフェニ
ル、ナフチル等の基が挙げられる。
えばトリメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロピ
ルジメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、ジイソ
プロピルメチルシリル等のトリ（低級）アルキルシリ
ル、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチ
リル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、オキサ
リル、スクシニル、ピバロイル等の低級アルカノイル等
の前記アシル、例えばトリチル、ベンズヒドリル、Ｐ−
メトキシベンジル等の適当な置換基を有していてもよい
アル（低級）アルキル基のような常用の保護基等が挙げ
られる。好適な「アリール基」としては、例えばフェニ
ル、ナフチル等の基が挙げられる。
【００２１】好適な「脱離基」としては例えば塩素、臭
素、沃素等のハロゲン、例えばベンゼンスルホニルオキ
シ、トシルオキシ、メシルオキシ等のスルホニルオキシ
基、例えばアセチルオキシ、プロピオニルオキシ等の低
級アルカノイルオキシ基のようなアシルオキシ基等が挙
げられる。
素、沃素等のハロゲン、例えばベンゼンスルホニルオキ
シ、トシルオキシ、メシルオキシ等のスルホニルオキシ
基、例えばアセチルオキシ、プロピオニルオキシ等の低
級アルカノイルオキシ基のようなアシルオキシ基等が挙
げられる。
【００２２】好適な「酸残基」としては，ハロゲン（例
えば塩素、臭素、沃素等）等を挙げることができる。
えば塩素、臭素、沃素等）等を挙げることができる。
【００２３】目的化合物の好ましい実施態様を以下に示
す。Ｒ1はアミノ基、低級アルカノイルアミノ基、低級
アルコキシカルボニルアミノ基、および次式で示される
基：
す。Ｒ1はアミノ基、低級アルカノイルアミノ基、低級
アルコキシカルボニルアミノ基、および次式で示される
基：
【化９】 ［式中、Ｒ5はアミノ基または保護されたアミノ基（よ
り好ましくは、アシルアミノ基）、Ｒ6は水素またはヒ
ドロキシ保護基（より好ましくはアシル基［さらに好ま
しくは低級アルカノイル基］；または適当な置換基を有
していてもよいアル（低級）アルキル基［さらに好まし
くはトリチル基］）］、Ｒ2はカルボキシ基またはエス
テル化されたカルボキシ基［より好ましくは、アル（低
級）アルコキシカルボニル基、低級アルカノイルオキシ
（低級）アルコキシカルボニル基、または低級アルコキ
シカルボニル（低級）アルケニルオキシカルボニル基；
さらに好ましくはベンズヒドリルオキシカルボニル基、
ピバロイルオキシメトキシカルボニル基または２−イソ
ブトキシカルボニル−２−ペンテニルオキシカルボニル
基］、Ｒ3は水素；トリ（低級）アルキルシリル基；フ
ェニル基；ピリジル基；またはピリミジニル基；置換基
を有していてもよいカルバモイル基［より好ましくは、
低級アルキルおよびモノ（あるいはジあるいはトリ）ハ
ロ（低級）アルカノイルからなる群より選ばれた置換基
を１あるいは２個有していてもよいカルバモイル基、さ
らに好ましくはカルバモイル基、ジ（低級）アルキルカ
ルバモイル基、トリハロ（低級）アルカノイルカルバモ
イル基］；または適当な置換基を有していてもよいカル
バモイル（低級）アルキル基［より好ましくはモノ（あ
るいはジあるいはトリ）フェニル（低級）アルキル基を
有していてもよいカルバモイル（低級）アルキル基，さ
らに好ましくはトリチル基を有していてもよいカルバモ
イル（低級）アルキル基］；Ｒ7は水素または低級アル
キル基、−Ｚ−は−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＨ−であ
る。
り好ましくは、アシルアミノ基）、Ｒ6は水素またはヒ
ドロキシ保護基（より好ましくはアシル基［さらに好ま
しくは低級アルカノイル基］；または適当な置換基を有
していてもよいアル（低級）アルキル基［さらに好まし
くはトリチル基］）］、Ｒ2はカルボキシ基またはエス
テル化されたカルボキシ基［より好ましくは、アル（低
級）アルコキシカルボニル基、低級アルカノイルオキシ
（低級）アルコキシカルボニル基、または低級アルコキ
シカルボニル（低級）アルケニルオキシカルボニル基；
さらに好ましくはベンズヒドリルオキシカルボニル基、
ピバロイルオキシメトキシカルボニル基または２−イソ
ブトキシカルボニル−２−ペンテニルオキシカルボニル
基］、Ｒ3は水素；トリ（低級）アルキルシリル基；フ
ェニル基；ピリジル基；またはピリミジニル基；置換基
を有していてもよいカルバモイル基［より好ましくは、
低級アルキルおよびモノ（あるいはジあるいはトリ）ハ
ロ（低級）アルカノイルからなる群より選ばれた置換基
を１あるいは２個有していてもよいカルバモイル基、さ
らに好ましくはカルバモイル基、ジ（低級）アルキルカ
ルバモイル基、トリハロ（低級）アルカノイルカルバモ
イル基］；または適当な置換基を有していてもよいカル
バモイル（低級）アルキル基［より好ましくはモノ（あ
るいはジあるいはトリ）フェニル（低級）アルキル基を
有していてもよいカルバモイル（低級）アルキル基，さ
らに好ましくはトリチル基を有していてもよいカルバモ
イル（低級）アルキル基］；Ｒ7は水素または低級アル
キル基、−Ｚ−は−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＨ−であ
る。
【００２４】製造法１ 目的化合物（Ｉ） またはその塩は、化合物（ＩＩ）ま
たはその塩を化合物（ＩＩＩ） またはその塩と反応さ
せることにより製造することができる。化合物（ＩＩ）
および化合物（ＩＩＩ） の好適な塩としては、化合物
（Ｉ）について例示したものと同じものを挙げることが
できる。反応は、通常、アセトン、ジオキサン、アセト
ニトリル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレ
ン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミドのような慣用の溶媒または反応に悪影響
を及ぼさないその他のあらゆる有機溶媒中で行われる。
反応温度は特に限定されないが、通常、冷却下ないし加
温下に反応が行われる。この反応は好ましくは、アルカ
リ金属（例えばナトリウム、カリウム、セシウム等）、
アルカリ土類金属（例えばマグネシウム、カルシウム
等）、これらの水酸化物または炭酸塩または炭酸水素塩
等のような無機塩基の存在下で行われる。
たはその塩を化合物（ＩＩＩ） またはその塩と反応さ
せることにより製造することができる。化合物（ＩＩ）
および化合物（ＩＩＩ） の好適な塩としては、化合物
（Ｉ）について例示したものと同じものを挙げることが
できる。反応は、通常、アセトン、ジオキサン、アセト
ニトリル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレ
ン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミドのような慣用の溶媒または反応に悪影響
を及ぼさないその他のあらゆる有機溶媒中で行われる。
反応温度は特に限定されないが、通常、冷却下ないし加
温下に反応が行われる。この反応は好ましくは、アルカ
リ金属（例えばナトリウム、カリウム、セシウム等）、
アルカリ土類金属（例えばマグネシウム、カルシウム
等）、これらの水酸化物または炭酸塩または炭酸水素塩
等のような無機塩基の存在下で行われる。
【００２５】製造法２ 目的化合物（Ｉｂ）またはその塩は、化合物（Ｉａ）ま
たはアミノ基におけるその反応性誘導体またはその塩を
アシル化反応に付すことによって、製造することができ
る。化合物（Ｉａ）のアミノ基における好適な反応誘導
体としては、化合物（Ｉａ）とアルデヒド、ケトン等の
ようなカルボニル化合物との反応によって生成するシッ
フ塩基型のイミノまたはエナミン型互変異性体；化合物
（Ｉａ）とビス（トリメチルシリル）アセトアミド、モ
ノ（トリメチルシリル）アセトアミド、ビス（トリメチ
ルシリル）尿素等のようなシリル化合物との反応によっ
て生成するシリル誘導体；化合物（Ｉａ）と三塩化燐ま
たはホスゲンとの反応によって生成する誘導体等が挙げ
られる。このアシル化反応で使用される好適なアシル化
剤としては、式：Ｒ8−ＯＨ（ＶＩ）（式中Ｒ8はアシ
ル）で示される慣用のアシル化剤またはその反応性誘導
体もしくはその塩が挙げられる。化合物（Ｉｂ）および
（Ｉａ）の好適な塩としては、化合物（Ｉ）の塩につい
て例示したものと同じものを挙げることができる。化合
物（ＶＩ） の適当な塩としては、無機塩基との塩、例
えばアルカリ金属塩（例えばナトリウム塩、カリウム塩
等）、アルカリ土類金属塩（例えばカルシウム塩、マグ
ネシウム塩等）、アンモニウム塩；有機塩基との塩、例
えば有機アミン塩（例えばトリエチルアミン塩、ピリジ
ン塩、ピコリン塩、エタノールアミン塩、トリエタノー
ルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ′−ジ
ベンジルエチレンジアミン塩等）等；無機酸付加塩（例
えば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、リン酸塩等）；有
機カルボン酸付加塩または有機スルホン酸付加塩（例え
ば、ギ酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸
塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン
酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩等）；塩基性アミノ酸
または酸性アミノ酸（例えばアルギニン、アスパラギン
酸、グルタミン酸等）との塩等の塩基との塩または酸付
加塩が挙げられる。化合物（ＶＩ）の好適な反応性誘導
体としては酸ハロゲン化物、酸無水物、活性化アミド、
活性化エステル等が挙げられる。その好適な例として
は、酸塩化物；酸アジド；置換されたリン酸（例えばジ
アルキルりん酸、フェニルりん酸、ジフェニルりん酸、
ジベンジルりん酸、ハロゲン化りん酸等）、ジアルキル
亜りん酸、低級アルカンスルホン酸（例えばメタンスル
ホン酸、エタンスルホン酸等）、亜硫酸、チオ硫酸、硫
酸、アルキル炭酸、脂肪族カルボン酸（例えば、ピバリ
ン酸、ペンタン酸、イソペンタン酸、２−エチル酪酸ま
たはトリクロロ酢酸等）または芳香族カルボン酸（例え
ば安息香酸等）のような酸との混合酸無水物；対称酸無
水物；イミダゾール、４−置換イミダゾール、ジメチル
ピラゾール、トリアゾールまたはテトラゾールとの活性
化アミド；活性化エステル（例えばシアノメチルエステ
ル、メトキシメチルエステル、ジメチルイミノメチル
［（ＣＨ3）2Ｎ+＝ＣＨ−］エステル、ビニルエステ
ル、プロパルギルエステル、ｐ−ニトロフェニルエステ
ル、２，４−ジニトロフェニルエステル、トリクロロフ
ェニルエステル、ペンタクロロフェニルエステル、メシ
ルフェニルエステル、フェニルアゾフェニルエステル、
フェニルチオエステル、ｐ−ニトロフェニルチオエステ
ル、ｐ−クレジルチオエステル、カルボキシメチルチオ
エステル、ピラニルエステル、ピリジルエステル、ピペ
リジルエステル、８−キノリルチオエステル等）、もし
くはＮ−ヒドロキシ化合物（例えばＮ，Ｎ−ジメチルヒ
ドロキシルアミン、１−ヒドロキシ−２−（１Ｈ）−ピ
リドン、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、Ｎ−ヒドロキ
シフタルイミド、１−ヒドロキシ−６−クロロ−１Ｈ−
ベンゾトリアゾール等）とのエステル等が挙げられる。
これらの反応性誘導体は、使用すべき化合物（ＶＩ）の
種類によって、これらの中から適宜選択することができ
る。
たはアミノ基におけるその反応性誘導体またはその塩を
アシル化反応に付すことによって、製造することができ
る。化合物（Ｉａ）のアミノ基における好適な反応誘導
体としては、化合物（Ｉａ）とアルデヒド、ケトン等の
ようなカルボニル化合物との反応によって生成するシッ
フ塩基型のイミノまたはエナミン型互変異性体；化合物
（Ｉａ）とビス（トリメチルシリル）アセトアミド、モ
ノ（トリメチルシリル）アセトアミド、ビス（トリメチ
ルシリル）尿素等のようなシリル化合物との反応によっ
て生成するシリル誘導体；化合物（Ｉａ）と三塩化燐ま
たはホスゲンとの反応によって生成する誘導体等が挙げ
られる。このアシル化反応で使用される好適なアシル化
剤としては、式：Ｒ8−ＯＨ（ＶＩ）（式中Ｒ8はアシ
ル）で示される慣用のアシル化剤またはその反応性誘導
体もしくはその塩が挙げられる。化合物（Ｉｂ）および
（Ｉａ）の好適な塩としては、化合物（Ｉ）の塩につい
て例示したものと同じものを挙げることができる。化合
物（ＶＩ） の適当な塩としては、無機塩基との塩、例
えばアルカリ金属塩（例えばナトリウム塩、カリウム塩
等）、アルカリ土類金属塩（例えばカルシウム塩、マグ
ネシウム塩等）、アンモニウム塩；有機塩基との塩、例
えば有機アミン塩（例えばトリエチルアミン塩、ピリジ
ン塩、ピコリン塩、エタノールアミン塩、トリエタノー
ルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ，Ｎ′−ジ
ベンジルエチレンジアミン塩等）等；無機酸付加塩（例
えば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、リン酸塩等）；有
機カルボン酸付加塩または有機スルホン酸付加塩（例え
ば、ギ酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸
塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン
酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩等）；塩基性アミノ酸
または酸性アミノ酸（例えばアルギニン、アスパラギン
酸、グルタミン酸等）との塩等の塩基との塩または酸付
加塩が挙げられる。化合物（ＶＩ）の好適な反応性誘導
体としては酸ハロゲン化物、酸無水物、活性化アミド、
活性化エステル等が挙げられる。その好適な例として
は、酸塩化物；酸アジド；置換されたリン酸（例えばジ
アルキルりん酸、フェニルりん酸、ジフェニルりん酸、
ジベンジルりん酸、ハロゲン化りん酸等）、ジアルキル
亜りん酸、低級アルカンスルホン酸（例えばメタンスル
ホン酸、エタンスルホン酸等）、亜硫酸、チオ硫酸、硫
酸、アルキル炭酸、脂肪族カルボン酸（例えば、ピバリ
ン酸、ペンタン酸、イソペンタン酸、２−エチル酪酸ま
たはトリクロロ酢酸等）または芳香族カルボン酸（例え
ば安息香酸等）のような酸との混合酸無水物；対称酸無
水物；イミダゾール、４−置換イミダゾール、ジメチル
ピラゾール、トリアゾールまたはテトラゾールとの活性
化アミド；活性化エステル（例えばシアノメチルエステ
ル、メトキシメチルエステル、ジメチルイミノメチル
［（ＣＨ3）2Ｎ+＝ＣＨ−］エステル、ビニルエステ
ル、プロパルギルエステル、ｐ−ニトロフェニルエステ
ル、２，４−ジニトロフェニルエステル、トリクロロフ
ェニルエステル、ペンタクロロフェニルエステル、メシ
ルフェニルエステル、フェニルアゾフェニルエステル、
フェニルチオエステル、ｐ−ニトロフェニルチオエステ
ル、ｐ−クレジルチオエステル、カルボキシメチルチオ
エステル、ピラニルエステル、ピリジルエステル、ピペ
リジルエステル、８−キノリルチオエステル等）、もし
くはＮ−ヒドロキシ化合物（例えばＮ，Ｎ−ジメチルヒ
ドロキシルアミン、１−ヒドロキシ−２−（１Ｈ）−ピ
リドン、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、Ｎ−ヒドロキ
シフタルイミド、１−ヒドロキシ−６−クロロ−１Ｈ−
ベンゾトリアゾール等）とのエステル等が挙げられる。
これらの反応性誘導体は、使用すべき化合物（ＶＩ）の
種類によって、これらの中から適宜選択することができ
る。
【００２６】反応は、通常、水、メタノール、エタノー
ル、アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、クロロホ
ルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒドロフラ
ン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ピリ
ジンのような慣用の溶媒または反応に悪影響を及ぼさな
いその他のあらゆる有機溶媒中で行われる。これらの慣
用の溶媒は水と混合して用いてもよい。
ル、アセトン、ジオキサン、アセトニトリル、クロロホ
ルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒドロフラ
ン、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ピリ
ジンのような慣用の溶媒または反応に悪影響を及ぼさな
いその他のあらゆる有機溶媒中で行われる。これらの慣
用の溶媒は水と混合して用いてもよい。
【００２７】化合物（ＶＩ）を遊離酸またはその塩の形
でこの反応に使用する場合、反応を、Ｎ，Ｎ′−ジシク
ロヘキシルカルボジイミド；Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′
−モルホリノエチルカルボジイミド；Ｎ−シクロヘキシ
ル−Ｎ′−（４−ジエチルアミノシクロヘキシル）カル
ボジイミド；Ｎ，Ｎ′−ジエチルカルボジイミド、Ｎ，
Ｎ′−ジイソプロピルカルボジイミド；Ｎ−エチル−
Ｎ′−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミ
ド；Ｎ，Ｎ′−カルボニルビス−（２−メチルイミダゾ
ール）；ペンタメチレンケテン−Ｎ−シクロヘキシルイ
ミン；ジフェニルケテン−Ｎ−シクロヘキシルイミン；
エトキシアセチレン；１−アルコキシ−１−クロロエチ
レン；亜りん酸トリアルキル；ポリリン酸エチル；ポリ
リン酸イソプロピル；オキシ塩化リン（塩化ホスホリ
ル）；三塩化リン；塩化チオニル；塩化オキサリル；例
えばクロロギ酸エチル、クロロギ酸イソプロピル等のハ
ロギ酸低級アルキル；トリフェニルホスフィン；２−エ
チル−７−ヒドロキシベンズイソオキサゾリウム塩；２
−エチル−５−（ｍ−スルホフェニル）イソオキサゾリ
ウムヒドロキシド分子内塩；１−（ｐ−クロロベンゼン
スルホニルオキシ）−６−クロロ−１Ｈ−ベンゾトリア
ゾール；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドと塩化チオニ
ル、ホスゲン、オキシ塩化リン等との反応によって調整
したいわゆるビルスマイヤー試薬のような慣用の縮合剤
の存在下に行うことが望ましい。反応はまた、アルカリ
金属炭酸水素塩、トリ（低級）アルキルアミン、ピリジ
ン、Ｎ−（低級）アルキルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジ（低
級）アルキルベンジルアミン等のような無機または有機
塩基の存在下に行うことが望ましい。反応温度は特に限
定されず、通常、冷却下ないし加温下で行われる。
でこの反応に使用する場合、反応を、Ｎ，Ｎ′−ジシク
ロヘキシルカルボジイミド；Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′
−モルホリノエチルカルボジイミド；Ｎ−シクロヘキシ
ル−Ｎ′−（４−ジエチルアミノシクロヘキシル）カル
ボジイミド；Ｎ，Ｎ′−ジエチルカルボジイミド、Ｎ，
Ｎ′−ジイソプロピルカルボジイミド；Ｎ−エチル−
Ｎ′−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミ
ド；Ｎ，Ｎ′−カルボニルビス−（２−メチルイミダゾ
ール）；ペンタメチレンケテン−Ｎ−シクロヘキシルイ
ミン；ジフェニルケテン−Ｎ−シクロヘキシルイミン；
エトキシアセチレン；１−アルコキシ−１−クロロエチ
レン；亜りん酸トリアルキル；ポリリン酸エチル；ポリ
リン酸イソプロピル；オキシ塩化リン（塩化ホスホリ
ル）；三塩化リン；塩化チオニル；塩化オキサリル；例
えばクロロギ酸エチル、クロロギ酸イソプロピル等のハ
ロギ酸低級アルキル；トリフェニルホスフィン；２−エ
チル−７−ヒドロキシベンズイソオキサゾリウム塩；２
−エチル−５−（ｍ−スルホフェニル）イソオキサゾリ
ウムヒドロキシド分子内塩；１−（ｐ−クロロベンゼン
スルホニルオキシ）−６−クロロ−１Ｈ−ベンゾトリア
ゾール；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドと塩化チオニ
ル、ホスゲン、オキシ塩化リン等との反応によって調整
したいわゆるビルスマイヤー試薬のような慣用の縮合剤
の存在下に行うことが望ましい。反応はまた、アルカリ
金属炭酸水素塩、トリ（低級）アルキルアミン、ピリジ
ン、Ｎ−（低級）アルキルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジ（低
級）アルキルベンジルアミン等のような無機または有機
塩基の存在下に行うことが望ましい。反応温度は特に限
定されず、通常、冷却下ないし加温下で行われる。
【００２８】製造法３ 化合物（Ｉｄ）またはその塩は、化合物（Ｉｃ）または
その塩をカルボキシ保護基の導入反応に付すことにより
製造することができる。この反応で使用されるカルボキ
シ保護基の導入剤としてはアルコ−ルまたはその反応性
等価物（例えば塩化物、ヨ−化物等のハロゲン化物、ス
ルホン酸エステル、硫酸エステル、ジアゾ化合物等）の
ような慣用のエステル化剤が上げられる。この反応は通
常塩基の存在下に行われる。好適な塩基としては、例え
ばアルカリ金属水酸化物（例えば水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム等）、アルカリ土類金属水酸化物（例えば
水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等）、炭酸アル
カリ金属（例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等）、
アルカリ土類金属炭酸塩（例えば炭酸マグネシウム、炭
酸カルシウム、炭酸セシウム等）炭酸水素アルカリ金属
（例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等）、
酢酸アルカリ金属（例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウ
ム等）、りん酸アルカリ土類金属（例えばりん酸マグネ
シウム、りん酸カルシウム等）、りん酸水素アルカリ金
属（例えばりん酸水素二ナトリウム、りん酸水素二カリ
ウム等）、等のような無機塩基およびトリアルキルアミ
ン（例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン等）、
ピコリン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルモルホリ
ン、 １，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５
−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタ
ン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−ウンデセ
ン−７−等 のような有機塩基が挙げられる。この反応
は、通常ベンゼン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、テ
トラヒドロフラン、トルエン、メチレンクロリド、エチ
レンジクロリド、クロロホルム、のような溶媒または反
応に悪影響を及ぼさないその他の溶媒中で行われる。反
応温度は特に限定されず、通常冷却下ないし加温下に行
われる。
その塩をカルボキシ保護基の導入反応に付すことにより
製造することができる。この反応で使用されるカルボキ
シ保護基の導入剤としてはアルコ−ルまたはその反応性
等価物（例えば塩化物、ヨ−化物等のハロゲン化物、ス
ルホン酸エステル、硫酸エステル、ジアゾ化合物等）の
ような慣用のエステル化剤が上げられる。この反応は通
常塩基の存在下に行われる。好適な塩基としては、例え
ばアルカリ金属水酸化物（例えば水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム等）、アルカリ土類金属水酸化物（例えば
水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等）、炭酸アル
カリ金属（例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等）、
アルカリ土類金属炭酸塩（例えば炭酸マグネシウム、炭
酸カルシウム、炭酸セシウム等）炭酸水素アルカリ金属
（例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等）、
酢酸アルカリ金属（例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウ
ム等）、りん酸アルカリ土類金属（例えばりん酸マグネ
シウム、りん酸カルシウム等）、りん酸水素アルカリ金
属（例えばりん酸水素二ナトリウム、りん酸水素二カリ
ウム等）、等のような無機塩基およびトリアルキルアミ
ン（例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン等）、
ピコリン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルモルホリ
ン、 １，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５
−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタ
ン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−ウンデセ
ン−７−等 のような有機塩基が挙げられる。この反応
は、通常ベンゼン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、テ
トラヒドロフラン、トルエン、メチレンクロリド、エチ
レンジクロリド、クロロホルム、のような溶媒または反
応に悪影響を及ぼさないその他の溶媒中で行われる。反
応温度は特に限定されず、通常冷却下ないし加温下に行
われる。
【００２９】製造法４ 化合物（Ｉ）またはその塩は、化合物（ＩＶ）またはそ
の塩を化合物（Ｖ）またはその塩と反応させることによ
り製造することができる。この反応は、リチウムブロミ
ド、リチウムクロリド等のようなアルカリ金属ハライド
およびビス（アセトニトリル）パラジウム（ＩＩ）クロ
リド等のようなビス（アセトニトリル）パラジウム（Ｉ
Ｉ）ハライドのような触媒の存在下で反応を行うのが好
ましい。この反応は通常、例えばメタノール、エタノー
ル等のアルコール、塩化メチレン、テトラヒドロフラ
ン、のような溶媒または反応に悪影響を及ぼさないその
他の溶媒中で行われる。反応温度は特に限定されず、反
応は通常冷却下ないし加温下で行われる。
の塩を化合物（Ｖ）またはその塩と反応させることによ
り製造することができる。この反応は、リチウムブロミ
ド、リチウムクロリド等のようなアルカリ金属ハライド
およびビス（アセトニトリル）パラジウム（ＩＩ）クロ
リド等のようなビス（アセトニトリル）パラジウム（Ｉ
Ｉ）ハライドのような触媒の存在下で反応を行うのが好
ましい。この反応は通常、例えばメタノール、エタノー
ル等のアルコール、塩化メチレン、テトラヒドロフラ
ン、のような溶媒または反応に悪影響を及ぼさないその
他の溶媒中で行われる。反応温度は特に限定されず、反
応は通常冷却下ないし加温下で行われる。
【００３０】目的化合物（Ｉ）および医薬として許容さ
れるその塩類は新規であり、強い抗菌作用を発揮してグ
ラム陽性菌およびグラム陰性菌を含む広汎な病原菌の成
育を防止し、抗菌薬として有用である。ここに目的化合
物（Ｉ）の有用性を示すために、この発明の代表的化合
物のＭＩＣ（最小発育防止濃度）についての試験結果を
以下に示す。試験法 ：試験管内抗菌活性を下記寒天平板倍数希釈法に
より測定した。各試験菌株をトリプトケ−ス−ソイ−ブ
ロス中一夜培養してその１白金耳（生菌数１０8 個／
ｍｌ）を、各濃度段階の代表的試験化合物を含むハ−ト
インフ−ジョン寒天（ＨＩ−寒天）に接種し、３７℃、
２０時間インキュベ−トした後、最小発育阻止濃度（Ｍ
ＩＣ）をμｇ／ｍｌで表した。試験化合物 ７β−［２−（２−アミノチアゾ−ル−４−イル）−２
−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）−３
−フェノキシ−１−プロペン−１−イル」−３−セフェ
ム−４−カルボン酸（シン異性体） 試験結果 ＭＩＣ（μｇ／ｍｌ）
れるその塩類は新規であり、強い抗菌作用を発揮してグ
ラム陽性菌およびグラム陰性菌を含む広汎な病原菌の成
育を防止し、抗菌薬として有用である。ここに目的化合
物（Ｉ）の有用性を示すために、この発明の代表的化合
物のＭＩＣ（最小発育防止濃度）についての試験結果を
以下に示す。試験法 ：試験管内抗菌活性を下記寒天平板倍数希釈法に
より測定した。各試験菌株をトリプトケ−ス−ソイ−ブ
ロス中一夜培養してその１白金耳（生菌数１０8 個／
ｍｌ）を、各濃度段階の代表的試験化合物を含むハ−ト
インフ−ジョン寒天（ＨＩ−寒天）に接種し、３７℃、
２０時間インキュベ−トした後、最小発育阻止濃度（Ｍ
ＩＣ）をμｇ／ｍｌで表した。試験化合物 ７β−［２−（２−アミノチアゾ−ル−４−イル）−２
−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）−３
−フェノキシ−１−プロペン−１−イル」−３−セフェ
ム−４−カルボン酸（シン異性体） 試験結果 ＭＩＣ（μｇ／ｍｌ）
【表１】
【００３１】治療用として投与するために、この発明の
目的化合物（Ｉ）および医薬として許容されるその塩類
は、経口投与、非経口投与および外用投与に適した有機
もしくは無機固体状もしくは液状賦形剤のような医薬と
して許容される担体と混合して、前記化合物を有効成分
として含有する常用の医薬製剤の形で使用される。医薬
製剤は錠剤、顆粒、粉剤、カプセルのような固体の形、
または溶液、懸濁液、シロップ、エマルジョン、レモネ
ードなどのような液体の形とすればよい。必要に応じて
上記製剤中に助剤、安定剤、湿潤剤およびその他、乳
糖、クエン酸、酒石酸、ステアリン酸、ステアリン酸マ
グネシウム、白土、ショ糖、トウモロコシデンプン、タ
ルク、ゼラチン、寒天、落花生油、オリーブ油、カカオ
脂、エチレングリコールなどの通常使用される添加剤が
含まれていてもよい。化合物（Ｉ）の投与量は、患者の
年齢、条件、疾患の種類、使用する化合物（Ｉ）の種類
などによって変化する。一般的には１日あたり１ｍｇ〜
約４０００ｍｇの範囲もしくはそれ以上を患者に投与す
ればよい。この発明の目的化合物（Ｉ）は平均１回投与
量約５０ｍｇ、１００ｍｇ、２５０ｍｇ、５００ｍｇ、
１０００ｍｇを病原菌感染症治療に使用すればよい。
目的化合物（Ｉ）および医薬として許容されるその塩類
は、経口投与、非経口投与および外用投与に適した有機
もしくは無機固体状もしくは液状賦形剤のような医薬と
して許容される担体と混合して、前記化合物を有効成分
として含有する常用の医薬製剤の形で使用される。医薬
製剤は錠剤、顆粒、粉剤、カプセルのような固体の形、
または溶液、懸濁液、シロップ、エマルジョン、レモネ
ードなどのような液体の形とすればよい。必要に応じて
上記製剤中に助剤、安定剤、湿潤剤およびその他、乳
糖、クエン酸、酒石酸、ステアリン酸、ステアリン酸マ
グネシウム、白土、ショ糖、トウモロコシデンプン、タ
ルク、ゼラチン、寒天、落花生油、オリーブ油、カカオ
脂、エチレングリコールなどの通常使用される添加剤が
含まれていてもよい。化合物（Ｉ）の投与量は、患者の
年齢、条件、疾患の種類、使用する化合物（Ｉ）の種類
などによって変化する。一般的には１日あたり１ｍｇ〜
約４０００ｍｇの範囲もしくはそれ以上を患者に投与す
ればよい。この発明の目的化合物（Ｉ）は平均１回投与
量約５０ｍｇ、１００ｍｇ、２５０ｍｇ、５００ｍｇ、
１０００ｍｇを病原菌感染症治療に使用すればよい。
【００３２】以下、実施例に従ってこの発明をさらに詳
細に説明する。 製造例１ ナトリウムメトキシドの２８％メタノ−ル（１３８ｍ
ｌ）溶液に５℃で３−ヒドロキシピリジン（６８．０
ｇ）を加える。混合物を５℃で、１０分間攪拌する。反
応混合物の溶媒を減圧下で留去する。残渣を減圧下で乾
燥し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２００ｍｌ）中
で懸濁する。懸濁液を２−ブロモアセトアルデヒドジエ
チルアセタ−ル（１６９ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド（５００ｍｌ）溶液に加える。混合物を１８時間
攪拌下に還流する。反応混合物を酢酸エチルと氷水中に
注入する。有機層を分取し、水と食塩水で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去する。残渣
をシリカゲルを使用するクロマトグラフィに付し、２−
（３−ピリジルオキシ）アセトアルデヒド ジエチルア
セタ−ル（５６．１ｇ）を得る。 ＩＲ（フィルム）：１７２０，１５７０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ）δ：１．２５（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝
７Ｈｚ），３．５−３．９（４Ｈ，ｍ），４．０５（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），４．８４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈ
ｚ），７．２−７．３（２Ｈ，ｍ），８．２３（１Ｈ，
ｍ），８．３４（１Ｈ，ｍ）
細に説明する。 製造例１ ナトリウムメトキシドの２８％メタノ−ル（１３８ｍ
ｌ）溶液に５℃で３−ヒドロキシピリジン（６８．０
ｇ）を加える。混合物を５℃で、１０分間攪拌する。反
応混合物の溶媒を減圧下で留去する。残渣を減圧下で乾
燥し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２００ｍｌ）中
で懸濁する。懸濁液を２−ブロモアセトアルデヒドジエ
チルアセタ−ル（１６９ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド（５００ｍｌ）溶液に加える。混合物を１８時間
攪拌下に還流する。反応混合物を酢酸エチルと氷水中に
注入する。有機層を分取し、水と食塩水で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去する。残渣
をシリカゲルを使用するクロマトグラフィに付し、２−
（３−ピリジルオキシ）アセトアルデヒド ジエチルア
セタ−ル（５６．１ｇ）を得る。 ＩＲ（フィルム）：１７２０，１５７０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ）δ：１．２５（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝
７Ｈｚ），３．５−３．９（４Ｈ，ｍ），４．０５（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），４．８４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５Ｈ
ｚ），７．２−７．３（２Ｈ，ｍ），８．２３（１Ｈ，
ｍ），８．３４（１Ｈ，ｍ）
【００３３】製造例２（１） 製造例１と同様にして下記化合物を得る。 ２−（４−ピリジルオキシ）アセトアルデヒド ジエチ
ルアセタ−ル ＩＲ（フィルム）：２９５０，２８６０，１５６５ｃｍ
−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：１．１４（６Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ），３．５−３．８（４Ｈ，ｍ），４．
０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），４．８２（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），６．９９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．
８Ｈｚ），８．３８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）
ルアセタ−ル ＩＲ（フィルム）：２９５０，２８６０，１５６５ｃｍ
−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：１．１４（６Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ），３．５−３．８（４Ｈ，ｍ），４．
０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），４．８２（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），６．９９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．
８Ｈｚ），８．３８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）
【００３４】製造例２（２） 製造例１と同様にして下記化合物を得る。 ２−［（ピリミジン−５−イル）オキシ］アセトアルデ
ヒド ジエチルアセタ−ル ＩＲ（フィルム）：２９６０，２８７０，１５５５ｃｍ
−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：１．１３（６Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ），３．６５−３．８（４Ｈ，ｍ），
４．１６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），４．８３（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），８．５９（２Ｈ，ｓ），
８．８１（１Ｈ，ｓ）
ヒド ジエチルアセタ−ル ＩＲ（フィルム）：２９６０，２８７０，１５５５ｃｍ
−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：１．１３（６Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ），３．６５−３．８（４Ｈ，ｍ），
４．１６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），４．８３（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），８．５９（２Ｈ，ｓ），
８．８１（１Ｈ，ｓ）
【００３５】製造例３ ２−（３−ピリジルオキシ）アセトアルデヒド ジエチ
ルアセタ−ル（１．０６ｇ）のテトラヒドロフラン
（５．３ｍｌ）溶液に１Ｎ塩酸（１２．５ｍｌ）を加え
る。混合物を１時間攪拌下に還流する。反応混合物をｐ
Ｈ８に調整して、酢酸エチルで抽出する。有機層を分取
し食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下
で溶媒を留去する。残渣をシリカゲルを使用するクロマ
トグラフィ−に付し、２−（３−ピリジルオキシ）アセ
トアルデヒド（３９９ｍｇ）を得る。 ＩＲ（フィルム）：１７２０，１５７０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ）δ：４．６６（２Ｈ，ｓ），
７．２−７．３（２Ｈ，ｍ），８．２−８．４（２Ｈ，
ｍ），９．８８（１Ｈ，ｓ）
ルアセタ−ル（１．０６ｇ）のテトラヒドロフラン
（５．３ｍｌ）溶液に１Ｎ塩酸（１２．５ｍｌ）を加え
る。混合物を１時間攪拌下に還流する。反応混合物をｐ
Ｈ８に調整して、酢酸エチルで抽出する。有機層を分取
し食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下
で溶媒を留去する。残渣をシリカゲルを使用するクロマ
トグラフィ−に付し、２−（３−ピリジルオキシ）アセ
トアルデヒド（３９９ｍｇ）を得る。 ＩＲ（フィルム）：１７２０，１５７０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ）δ：４．６６（２Ｈ，ｓ），
７．２−７．３（２Ｈ，ｍ），８．２−８．４（２Ｈ，
ｍ），９．８８（１Ｈ，ｓ）
【００３６】製造例４（１） 製造例３と同様にして下記化合物を得る。 ２−（４−ピリジルオキシ）アセトアルデヒド ＩＲ（フィルム）：３２４０，１５９０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ）δ：４．０５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
４．３Ｈｚ），４．９４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．３Ｈ
ｚ），６．８４（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９および１．５
Ｈｚ），８．３８（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９および１．
５Ｈｚ）
４．３Ｈｚ），４．９４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．３Ｈ
ｚ），６．８４（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９および１．５
Ｈｚ），８．３８（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．９および１．
５Ｈｚ）
【００３７】製造例４（２） 製造例３と同様にして下記化合物を得る。 ２−［（ピリミジン−５−イル）オキシ］アセトアルデ
ヒド ＩＲ（フィルム）：３１８０，２９３０，１５５５ｃｍ
−１ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ）δ：４．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
４．１Ｈｚ），４．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．４Ｈ
ｚ），４．９−５．０５（１Ｈ，ｍ），８．４６（２
Ｈ，ｓ），８．９３（１Ｈ，ｓ）
ヒド ＩＲ（フィルム）：３１８０，２９３０，１５５５ｃｍ
−１ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ）δ：４．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
４．１Ｈｚ），４．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．４Ｈ
ｚ），４．９−５．０５（１Ｈ，ｍ），８．４６（２
Ｈ，ｓ），８．９３（１Ｈ，ｓ）
【００３８】製造例５ カリウムブトキシド（６１．７２ｇ）のＮ、Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド（７００ｍｌ）溶液にチオ−Ｓ−安息香
酸（７６．００ｇ）を室温で４０分間滴下し、混合物を
同温で２０分間攪拌する。混合物に２−ブロモアセトア
ルデヒド ジエチルアセタ−ル（９８．５４ｇ）を室温
で滴下し、混合物を１００℃で３．８時間攪拌する。混
合物を酢酸エチルと氷水の混合物に注入し、分取した有
機層を水と食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下で溶媒を留去する。残渣をシリカゲルを使用
するカラムクロマトグラフィ−に付し、２−ベンゾイル
チオアセトアルデヒド ジエチルアセタ−ル（１３３．
０４ｇ）を赤色油状物として得る。 ＩＲ（フィルム）：２９６０，２８７０，１６５０，１
５７５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ）δ：１．２６（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝
７．１Ｈｚ），３．３１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈ
ｚ），３．６−３．９（４Ｈ，ｍ），４．６０（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），７．４−７．６５（３Ｈ，
ｍ），７．９５−８．０５（２Ｈ，ｍ）
ルホルムアミド（７００ｍｌ）溶液にチオ−Ｓ−安息香
酸（７６．００ｇ）を室温で４０分間滴下し、混合物を
同温で２０分間攪拌する。混合物に２−ブロモアセトア
ルデヒド ジエチルアセタ−ル（９８．５４ｇ）を室温
で滴下し、混合物を１００℃で３．８時間攪拌する。混
合物を酢酸エチルと氷水の混合物に注入し、分取した有
機層を水と食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下で溶媒を留去する。残渣をシリカゲルを使用
するカラムクロマトグラフィ−に付し、２−ベンゾイル
チオアセトアルデヒド ジエチルアセタ−ル（１３３．
０４ｇ）を赤色油状物として得る。 ＩＲ（フィルム）：２９６０，２８７０，１６５０，１
５７５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ）δ：１．２６（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝
７．１Ｈｚ），３．３１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈ
ｚ），３．６−３．９（４Ｈ，ｍ），４．６０（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），７．４−７．６５（３Ｈ，
ｍ），７．９５−８．０５（２Ｈ，ｍ）
【００３９】製造例６ ２−ベンゾイルチオアセトアルデヒド ジエチルアセタ
−ル（２５．４４ｇ）のアセトニトリル（１００ｍｌ）
溶液に、２８％ナトリウムメトキシドのメタノ−ル溶液
（１９．３ｍｌ）を５℃で滴下し、混合物を５℃で１時
間攪拌する。混合物にジメチルカルバモイルクロリド
（１２．９１ｇ）を５℃で滴下し、混合物を室温で２．
５時間攪拌する。混合物を酢酸エチルと氷水の混合物に
注入し、有機層を分取し水と食塩水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去する。残渣をシ
リカゲルを使用するカラムクロマトグラフィ−に付し、
２−（ジメチルカルバモイルチオ）アセトアルデヒド
ジエチルアセタ−ル（１７．２４ｇ）を赤色油状物とし
て得る。 ＩＲ（フィルム）：２８８０，１６４０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：１．２２（６Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．０２（６Ｈ，ｓ），３．１２
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），３．５−３．８（４
Ｈ，ｍ），４．５５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．４Ｈｚ）
−ル（２５．４４ｇ）のアセトニトリル（１００ｍｌ）
溶液に、２８％ナトリウムメトキシドのメタノ−ル溶液
（１９．３ｍｌ）を５℃で滴下し、混合物を５℃で１時
間攪拌する。混合物にジメチルカルバモイルクロリド
（１２．９１ｇ）を５℃で滴下し、混合物を室温で２．
５時間攪拌する。混合物を酢酸エチルと氷水の混合物に
注入し、有機層を分取し水と食塩水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去する。残渣をシ
リカゲルを使用するカラムクロマトグラフィ−に付し、
２−（ジメチルカルバモイルチオ）アセトアルデヒド
ジエチルアセタ−ル（１７．２４ｇ）を赤色油状物とし
て得る。 ＩＲ（フィルム）：２８８０，１６４０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：１．２２（６Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．１Ｈｚ），３．０２（６Ｈ，ｓ），３．１２
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），３．５−３．８（４
Ｈ，ｍ），４．５５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．４Ｈｚ）
【００４０】製造例７ 製造例６と同様にして下記化合物を得る。 ２−（Ｎ−トリチルカルバモイルメチルチオ）アセトア
ルデヒド ジエチルアセタ−ル ＩＲ（ヌジョール）：３２２０，１６４０，１５００ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：１．０９（６Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ），２．６６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈ
ｚ），３．２９（２Ｈ，ｓ），３．４−３．７（４Ｈ，
ｍ），４．５４（１Ｈ，ｓ），７．１５−７．４（１５
Ｈ，ｍ），８．７２（１Ｈ，ｓ）
ルデヒド ジエチルアセタ−ル ＩＲ（ヌジョール）：３２２０，１６４０，１５００ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：１．０９（６Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ），２．６６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈ
ｚ），３．２９（２Ｈ，ｓ），３．４−３．７（４Ｈ，
ｍ），４．５４（１Ｈ，ｓ），７．１５−７．４（１５
Ｈ，ｍ），８．７２（１Ｈ，ｓ）
【００４１】製造例８ ２−アミノアセトアルデヒド ジエチルアセタ−ル（１
３．３ｇ）のジクロロメタン（６７ｍｌ）溶液に、トリ
クロロアセチルイソシアナ−ト（２０．７２ｇ）のジク
ロロメタン（１３ｍｌ）溶液を５℃で３０分間滴下し、
混合物を５℃で１５分間攪拌する。混合物の溶媒を減圧
下で留去し、残渣をヘキサンから結晶化する。結晶を濾
取し、ヘキサンで洗浄し、減圧下で乾燥して、２−（３
−トリクロロアセチルウレイド）アセトアルデヒド ジ
エチルアセタ−ル（３１．０ｇ）を得る。 ＩＲ（ヌジョール）：３３２０，３１００，１６９５，
１５５０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：１．１３（６Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ），３．２９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．３Ｈ
ｚ），３．５−３．７５（４Ｈ，ｍ），４．５９（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），７．８７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝
５．６Ｈｚ），１１．２７（１Ｈ，ｓ）
３．３ｇ）のジクロロメタン（６７ｍｌ）溶液に、トリ
クロロアセチルイソシアナ−ト（２０．７２ｇ）のジク
ロロメタン（１３ｍｌ）溶液を５℃で３０分間滴下し、
混合物を５℃で１５分間攪拌する。混合物の溶媒を減圧
下で留去し、残渣をヘキサンから結晶化する。結晶を濾
取し、ヘキサンで洗浄し、減圧下で乾燥して、２−（３
−トリクロロアセチルウレイド）アセトアルデヒド ジ
エチルアセタ−ル（３１．０ｇ）を得る。 ＩＲ（ヌジョール）：３３２０，３１００，１６９５，
１５５０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：１．１３（６Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ），３．２９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．３Ｈ
ｚ），３．５−３．７５（４Ｈ，ｍ），４．５９（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），７．８７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝
５．６Ｈｚ），１１．２７（１Ｈ，ｓ）
【００４２】製造例９ 水素化ナトリウム（１３．２０ｇ）のテトラヒドロフラ
ン（４００ｍｌ）中懸濁液にプロパルギルアルコ−ル
（１６．８２ｇ）のテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）溶
液を室温で滴下し、混合物を同温で１．５時間攪拌す
る。混合物に２−ヨ−ドアセトアミド（６１．０４ｇ）
のテトラヒドロフラン（９００ｍｌ）溶液を室温で１．
５時間かけて滴下する。得られた溶液を室温で２．５時
間攪拌し、溶媒を減圧下で留去する。残渣に酢酸エチル
を加え、不溶物を濾別する。濾液の溶媒を減圧下で留去
し、残渣をシリカゲルを使用するカラムクロマトグラフ
ィ−に付し、２−（プロパルギルオキシ）アセトアミド
（２７．４９ｇ）を得る。 ＩＲ（ヌジョール）：３４５０，３１５０，１６１０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：３．５０（１Ｈ，ｔ，
Ｊ＝２．４Ｈｚ），３．８６（２Ｈ，ｓ），４．２１
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），７．２４（２Ｈ，ｂｒ
ｓ）
ン（４００ｍｌ）中懸濁液にプロパルギルアルコ−ル
（１６．８２ｇ）のテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）溶
液を室温で滴下し、混合物を同温で１．５時間攪拌す
る。混合物に２−ヨ−ドアセトアミド（６１．０４ｇ）
のテトラヒドロフラン（９００ｍｌ）溶液を室温で１．
５時間かけて滴下する。得られた溶液を室温で２．５時
間攪拌し、溶媒を減圧下で留去する。残渣に酢酸エチル
を加え、不溶物を濾別する。濾液の溶媒を減圧下で留去
し、残渣をシリカゲルを使用するカラムクロマトグラフ
ィ−に付し、２−（プロパルギルオキシ）アセトアミド
（２７．４９ｇ）を得る。 ＩＲ（ヌジョール）：３４５０，３１５０，１６１０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：３．５０（１Ｈ，ｔ，
Ｊ＝２．４Ｈｚ），３．８６（２Ｈ，ｓ），４．２１
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），７．２４（２Ｈ，ｂｒ
ｓ）
【００４３】製造例１０ ２−（プロパルギルオキシ）アセトアミド（１８．４６
ｇ）のベンゼン（２７０ｍｌ）溶液に２，２’−アゾビ
スイソブチロニトリル（２６８ｍｇ）を８０℃で加え、
水素化トリ（ｎ−ブチル）すず（４７．４４ｇ）を８０
℃で４０分間かけて滴下する。混合物を１時間還流し、
溶媒を減圧下で留去する。残渣をシリカゲルを使用する
カラムクロマトグラフィ−に付し、２−［（Ｅ）−３−
トリ（ｎ−ブチル）スタンニルアリルオキシ］アセトア
ミド（２８．２０ｇ）を油状物として得る。 ＩＲ（フィルム）：３４４０，３１５０，２８９０，１
６５０，１５７０ｃｍ− １ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ）δ：０．８−１．６（２７Ｈ，
ｍ），３．９４（２Ｈ，ｓ），４．０７（２Ｈ，ｄ，Ｊ
＝５．０Ｈｚ），６．００（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝１９．１
および５．０Ｈｚ），６．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１９．
１Ｈｚ），６．１５−６．３および６．５−６．６５
（２Ｈ，ｂｒｓ）
ｇ）のベンゼン（２７０ｍｌ）溶液に２，２’−アゾビ
スイソブチロニトリル（２６８ｍｇ）を８０℃で加え、
水素化トリ（ｎ−ブチル）すず（４７．４４ｇ）を８０
℃で４０分間かけて滴下する。混合物を１時間還流し、
溶媒を減圧下で留去する。残渣をシリカゲルを使用する
カラムクロマトグラフィ−に付し、２−［（Ｅ）−３−
トリ（ｎ−ブチル）スタンニルアリルオキシ］アセトア
ミド（２８．２０ｇ）を油状物として得る。 ＩＲ（フィルム）：３４４０，３１５０，２８９０，１
６５０，１５７０ｃｍ− １ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ）δ：０．８−１．６（２７Ｈ，
ｍ），３．９４（２Ｈ，ｓ），４．０７（２Ｈ，ｄ，Ｊ
＝５．０Ｈｚ），６．００（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝１９．１
および５．０Ｈｚ），６．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１９．
１Ｈｚ），６．１５−６．３および６．５−６．６５
（２Ｈ，ｂｒｓ）
【００４４】製造例１１ ２−（３−トリクロロアセチルウレイド）アセトアルデ
ヒドジエチルアセタ−ル（３７．０ｇ）のアセトニトリ
ル（３３３ｍｌ）と水（３７ｍｌ）の混合物中溶液に
２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾ
キノン（２．６１ｇ）を室温で加え、混合物を同温で２
４時間攪拌する。混合物を酢酸エチルと水の混合物に注
入し、有機層を分取し、水と食塩水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下で留去する。残渣をシ
リカゲルを使用するカラムクロマトグラフィ−に付し、
２−（３−トリクロロアセチルウレイド）アセトアルデ
ヒド（４．８６ｇ）を得る。 ＩＲ（ヌジョール）：３３５０，３２２０，３０５０，
１６６０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ）δ：４．２８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
５．１Ｈｚ），８．４８（１Ｈ，ｂｒｓ），９．３０
（１Ｈ，ｂｒｓ），９．６９（１Ｈ，ｓ）
ヒドジエチルアセタ−ル（３７．０ｇ）のアセトニトリ
ル（３３３ｍｌ）と水（３７ｍｌ）の混合物中溶液に
２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾ
キノン（２．６１ｇ）を室温で加え、混合物を同温で２
４時間攪拌する。混合物を酢酸エチルと水の混合物に注
入し、有機層を分取し、水と食塩水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下で留去する。残渣をシ
リカゲルを使用するカラムクロマトグラフィ−に付し、
２−（３−トリクロロアセチルウレイド）アセトアルデ
ヒド（４．８６ｇ）を得る。 ＩＲ（ヌジョール）：３３５０，３２２０，３０５０，
１６６０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３ ）δ：４．２８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
５．１Ｈｚ），８．４８（１Ｈ，ｂｒｓ），９．３０
（１Ｈ，ｂｒｓ），９．６９（１Ｈ，ｓ）
【００４５】製造例１２（１） 製造例１１と同様にして下記化合物を得る。 ２−（Ｎ−トリチルカルバモイルメチルチオ）アセトア
ルデヒド ＩＲ（ヌジョール）：３２００，１７１０，１６４０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：３．２９（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝２．７Ｈｚ），３．３３（２Ｈ，ｓ），７．１−
７．３５（１５Ｈ，ｍ），８．８３（１Ｈ，ｓ），９．
３２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．７Ｈｚ）
ルデヒド ＩＲ（ヌジョール）：３２００，１７１０，１６４０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：３．２９（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝２．７Ｈｚ），３．３３（２Ｈ，ｓ），７．１−
７．３５（１５Ｈ，ｍ），８．８３（１Ｈ，ｓ），９．
３２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．７Ｈｚ）
【００４６】製造例１２（２） 製造例１１と同様にして下記化合物を得る。 ２−（ジメチルカルバモイルチオ）アセトアルデヒド ＩＲ（フィルム）：３４００，２９１０，１７１０，１
６４０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：３．０５（６Ｈ，
ｓ），３．６４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），９．５
１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）
６４０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：３．０５（６Ｈ，
ｓ），３．６４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），９．５
１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）
【００４７】実施例１ ７β−第三級ブトキシカルボニルアミノ−３−トリフェ
ニルホスホニオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
ジフェニルメチル ヨージド（４３．４ｇ）のジクロロ
メタン（４３４ｍｌ）、食塩水（７５ｍｌ）、１Ｎ水酸
化ナトリウム水溶液（７５ｍｌ）中懸濁液を室温で１時
間攪拌する。反応混合物を水（４００ｍｌ）に注入す
る。有機層を分取し、水と食塩水で洗浄して、硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。この溶液に２−（フェノキシ）ア
セトアルデヒド（６．８１ｇ）を加え、混合物を室温で
１晩攪拌する。反応混合物の溶媒を減圧下で留去する。
残渣を、シリカゲルを使用するカラムクロマトグラフィ
−に付して、７β−第三級−ブトキシカルボニルアミノ
−３−［（Ｚ）−３−フェノキシ−１−プロペン−１−
イル］−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチ
ル（７．１６ｇ）を得る。 ＩＲ（ヌジョール）：３３００，１７７５，１６８５ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：１．４１（９Ｈ，
ｓ），３．６０（２Ｈ，ｓ），４．１６（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝５，１４Ｈｚ），４．４７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１
４，８Ｈｚ），５．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），
５．５−５．７（２Ｈ，ｍ），６．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝１２Ｈｚ），６．９１（１Ｈ，ｓ），７．２−７．５
（１５Ｈ，ｍ），８．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）
ニルホスホニオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
ジフェニルメチル ヨージド（４３．４ｇ）のジクロロ
メタン（４３４ｍｌ）、食塩水（７５ｍｌ）、１Ｎ水酸
化ナトリウム水溶液（７５ｍｌ）中懸濁液を室温で１時
間攪拌する。反応混合物を水（４００ｍｌ）に注入す
る。有機層を分取し、水と食塩水で洗浄して、硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。この溶液に２−（フェノキシ）ア
セトアルデヒド（６．８１ｇ）を加え、混合物を室温で
１晩攪拌する。反応混合物の溶媒を減圧下で留去する。
残渣を、シリカゲルを使用するカラムクロマトグラフィ
−に付して、７β−第三級−ブトキシカルボニルアミノ
−３−［（Ｚ）−３−フェノキシ−１−プロペン−１−
イル］−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチ
ル（７．１６ｇ）を得る。 ＩＲ（ヌジョール）：３３００，１７７５，１６８５ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：１．４１（９Ｈ，
ｓ），３．６０（２Ｈ，ｓ），４．１６（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝５，１４Ｈｚ），４．４７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１
４，８Ｈｚ），５．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），
５．５−５．７（２Ｈ，ｍ），６．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝１２Ｈｚ），６．９１（１Ｈ，ｓ），７．２−７．５
（１５Ｈ，ｍ），８．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）
【００４８】実施例２（１） 実施例１と同様にして下記化合物を得る。 ７β−第三級−ブトキシカルボニルアミノ−３−
［（Ｚ）−３−（４−ピリジルオキシ）−１−プロペン
−１−イル−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニル
メチル ＩＲ（ヌジョール）：１７６０，１６８５，１５８０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：１．４１（９Ｈ，
ｓ），３．５−３．８（２Ｈ，ｍ），４．２−４．６
（２Ｈ，ｍ），５．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈ
ｚ），５．６−５．８（２Ｈ，ｍ），６．３８（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１１．８Ｈｚ），６．７８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
６．１Ｈｚ），６．９２（１Ｈ，ｓ），７．３−７．６
（１０Ｈ，ｍ），８．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈ
ｚ），８．３４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ）
［（Ｚ）−３−（４−ピリジルオキシ）−１−プロペン
−１−イル−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニル
メチル ＩＲ（ヌジョール）：１７６０，１６８５，１５８０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：１．４１（９Ｈ，
ｓ），３．５−３．８（２Ｈ，ｍ），４．２−４．６
（２Ｈ，ｍ），５．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈ
ｚ），５．６−５．８（２Ｈ，ｍ），６．３８（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１１．８Ｈｚ），６．７８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝
６．１Ｈｚ），６．９２（１Ｈ，ｓ），７．３−７．６
（１０Ｈ，ｍ），８．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈ
ｚ），８．３４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ）
【００４９】実施例２（２） 実施例１と同様にして下記化合物を得る。 ７β−第三級−ブトキシカルボニルアミノ−３−
［（Ｚ）−３−（３−ピリジルオキシ）−１−プロペン
−１−イル］−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニ
ルメチル ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：１．４１（９Ｈ，
ｓ），３．８（２Ｈ，ｍ），４．２−４．３（１Ｈ，
ｍ），４．５−４．６（１Ｈ，ｍ），５．１９（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．６−５．８（２Ｈ，ｍ），６．
３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），６．９１（１Ｈ，
ｓ），７．２−７．７（１２Ｈ，ｍ），８．０６（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），８．１−８．２（２Ｈ，ｍ）
［（Ｚ）−３−（３−ピリジルオキシ）−１−プロペン
−１−イル］−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニ
ルメチル ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：１．４１（９Ｈ，
ｓ），３．８（２Ｈ，ｍ），４．２−４．３（１Ｈ，
ｍ），４．５−４．６（１Ｈ，ｍ），５．１９（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．６−５．８（２Ｈ，ｍ），６．
３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），６．９１（１Ｈ，
ｓ），７．２−７．７（１２Ｈ，ｍ），８．０６（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），８．１−８．２（２Ｈ，ｍ）
【００５０】実施例２（３） 実施例１と同様にして下記化合物を得る。 ７β−第三級−ブトキシカルボニルアミノ−３−
［（Ｚ）−３−（ピリミジン−５−イル）オキシ−１−
プロペン−１−イル］−３−セフェム−４−カルボン酸
ジフェニルメチル。 ＩＲ（ヌジョール）：１７７０，１７００，１５６０，
１５００ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：１．４９（９Ｈ，
ｓ），３．５８および３．６８（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１
７．８Ｈｚ），４．３５−４．８（２Ｈ，ｍ），５．１
８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），５．６０（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝８．９および４．８Ｈｚ），５．６９（１Ｈ，
ｄｔ，Ｊ＝１１．８および６．０Ｈｚ），６．４１（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．８Ｈｚ），６．８９（１Ｈ，ｓ），
７．２−７．５（１０Ｈ，ｍ），８．０６（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．９Ｈｚ），８．４３（２Ｈ，ｓ），８．８０
（１Ｈ，ｓ）
［（Ｚ）−３−（ピリミジン−５−イル）オキシ−１−
プロペン−１−イル］−３−セフェム−４−カルボン酸
ジフェニルメチル。 ＩＲ（ヌジョール）：１７７０，１７００，１５６０，
１５００ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：１．４９（９Ｈ，
ｓ），３．５８および３．６８（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１
７．８Ｈｚ），４．３５−４．８（２Ｈ，ｍ），５．１
８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），５．６０（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝８．９および４．８Ｈｚ），５．６９（１Ｈ，
ｄｔ，Ｊ＝１１．８および６．０Ｈｚ），６．４１（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．８Ｈｚ），６．８９（１Ｈ，ｓ），
７．２−７．５（１０Ｈ，ｍ），８．０６（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．９Ｈｚ），８．４３（２Ｈ，ｓ），８．８０
（１Ｈ，ｓ）
【００５１】実施例３ ７β−第三級−ブトキシカルボニルアミノ−３−
［（Ｚ）−３−（３−ピリジルオキシ）−１−プロペン
−１−イル］−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニ
ルメチル（１０．１ｇ）と アニソ−ル（１０ｍｌ）の
ジクロロメタン（１００ｍｌ）溶液に５℃で、トリフル
オロ酢酸（２０ｍｌ）を加える。混合物を、室温で２時
間攪拌する。反応混合物をジイソプロピルエ−テルに注
入する。沈殿物を濾取し、減圧下で乾燥し、７β−アミ
ノ−３−［（Ｚ）−３−（３−ピリジルオキシ）−１−
プロペン−１−イル］−３−セフェム−４−カルボン酸
・ニトリフルオロ酢酸塩（１０．６ｇ）を得る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：３．７５（２Ｈ，
ｓ），４．７−５．３（４Ｈ，ｍ），５．７−６．０
（１Ｈ，ｍ），６．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），
７．７−７．８（２Ｈ，ｍ），８．４−８．６（２Ｈ，
ｍ）
［（Ｚ）−３−（３−ピリジルオキシ）−１−プロペン
−１−イル］−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニ
ルメチル（１０．１ｇ）と アニソ−ル（１０ｍｌ）の
ジクロロメタン（１００ｍｌ）溶液に５℃で、トリフル
オロ酢酸（２０ｍｌ）を加える。混合物を、室温で２時
間攪拌する。反応混合物をジイソプロピルエ−テルに注
入する。沈殿物を濾取し、減圧下で乾燥し、７β−アミ
ノ−３−［（Ｚ）−３−（３−ピリジルオキシ）−１−
プロペン−１−イル］−３−セフェム−４−カルボン酸
・ニトリフルオロ酢酸塩（１０．６ｇ）を得る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：３．７５（２Ｈ，
ｓ），４．７−５．３（４Ｈ，ｍ），５．７−６．０
（１Ｈ，ｍ），６．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），
７．７−７．８（２Ｈ，ｍ），８．４−８．６（２Ｈ，
ｍ）
【００５２】実施例４（１） 実施例３と同様にして下記化合物を得る。 ７β−アミノ−３−［（Ｚ）−３−（４−ピリジルオキ
シ）−１−プロペン−１−イル］−３−セフェム−４−
カルボン酸・二塩酸塩。 ＩＲ（ヌジョール）：１７６０，１７１５，１６３０，
１５９０，１５００ｃｍ −１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：４．３−４．５（２
Ｈ，ｍ），４．９−５．１（２Ｈ，ｍ），５．１８（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ），５．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
４．２Ｈｚ），５．９０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１１．１お
よび６．０Ｈｚ），６．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．１
Ｈｚ），７．５９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），８．
７７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）
シ）−１−プロペン−１−イル］−３−セフェム−４−
カルボン酸・二塩酸塩。 ＩＲ（ヌジョール）：１７６０，１７１５，１６３０，
１５９０，１５００ｃｍ −１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：４．３−４．５（２
Ｈ，ｍ），４．９−５．１（２Ｈ，ｍ），５．１８（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ），５．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
４．２Ｈｚ），５．９０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１１．１お
よび６．０Ｈｚ），６．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．１
Ｈｚ），７．５９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），８．
７７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）
【００５３】実施例４（２） 実施例３と同様にして下記化合物を得る。 ７β−アミノ−３−（（Ｚ）−３−フェノキシ−１−プ
ロペン−１−イル）−３−セフェム−４−カルボン酸・
トリフルオロ酢酸塩。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：３．８５および３．７
２（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７Ｈｚ），４．５３（１Ｈ，
ｄｄｄ，Ｊ＝２，６，１３Ｈｚ），４．６８（１Ｈ，ｄ
ｄｄ，Ｊ＝２，６，１３Ｈｚ），４．９５（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝５Ｈｚ），５．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），
５．８１（１Ｈ，ｐ，Ｊ＝６Ｈｚ），６．４４（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），６．８−７．４（５Ｈ，ｍ）
ロペン−１−イル）−３−セフェム−４−カルボン酸・
トリフルオロ酢酸塩。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：３．８５および３．７
２（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７Ｈｚ），４．５３（１Ｈ，
ｄｄｄ，Ｊ＝２，６，１３Ｈｚ），４．６８（１Ｈ，ｄ
ｄｄ，Ｊ＝２，６，１３Ｈｚ），４．９５（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝５Ｈｚ），５．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），
５．８１（１Ｈ，ｐ，Ｊ＝６Ｈｚ），６．４４（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），６．８−７．４（５Ｈ，ｍ）
【００５４】実施例４（３） 実施例３と同様にして下記化合物を得る。 ７β−アミノ−３−［（Ｚ）−３−（ピリミジン−５−
イル）オキシ−１−プロペン−１−イル］−３−セフェ
ム−４−カルボン酸・二塩酸塩。 ＩＲ（ヌジョール）：１７６０，１６８０，１５９０，
１５２０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：３．７６（２Ｈ，ｂｒ
ｓ），４．７−４．９５（２Ｈ，ｍ），５．１７（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ），５．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
４．９Ｈｚ），５．８９（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１１．９お
よび６．１Ｈｚ），６．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．９
Ｈｚ），８．５７（２Ｈ，ｓ），８．８４（１Ｈ，ｓ）
イル）オキシ−１−プロペン−１−イル］−３−セフェ
ム−４−カルボン酸・二塩酸塩。 ＩＲ（ヌジョール）：１７６０，１６８０，１５９０，
１５２０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：３．７６（２Ｈ，ｂｒ
ｓ），４．７−４．９５（２Ｈ，ｍ），５．１７（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ），５．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
４．９Ｈｚ），５．８９（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１１．９お
よび６．１Ｈｚ），６．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．９
Ｈｚ），８．５７（２Ｈ，ｓ），８．８４（１Ｈ，ｓ）
【００５５】実施例５ ７β−アミノ−３−［（Ｚ）−３−フェノキシ−１−プ
ロペン−１−イル］−３−セフェム−４−カルボン酸・
トリフルオロ酢酸塩（４．０ｇ）のジクロロメタン（８
０ｍｌ）溶液にビス（トリメチルシリル）アセトアミド
（６．６ｍｌ）を加える。混合物を室温で２０分間攪拌
し、５℃に冷却する。この溶液に２−（２−アミノチア
ゾ−ル−４−イル）−２−アセトキシイミノアセチルク
ロリド・塩酸塩（シン異性体）（３．０５ｇ）を加え
る。混合物は５℃で１時間攪拌する。反応混合物をジイ
ソプロピルエ−テルに注入する。沈殿物を濾取し、減圧
下で乾燥して、７β−［２−（２−アミノチアゾ−ル−
４−イル）−２−アセトキシイミノアセトアミド］−３
−［（Ｚ）−３−フェノキシ−１−プロペン−１−イ
ル］−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）
（５．６３ｇ）を得る。 ＩＲ（ヌジョール）：３２００，１７５０，１６３０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：２．１８（３Ｈ，
ｓ），３．５７および３．７４（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１
８Ｈｚ），４．５１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６，１３Ｈ
ｚ），４．６６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６，１３Ｈｚ），
５．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．７−５．９
（２Ｈ，ｍ），６．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），
６．８−７．０（３Ｈ，ｍ），７．１２（１Ｈ，ｓ），
７．２−７．４（２Ｈ，ｍ），９．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８Ｈｚ）
ロペン−１−イル］−３−セフェム−４−カルボン酸・
トリフルオロ酢酸塩（４．０ｇ）のジクロロメタン（８
０ｍｌ）溶液にビス（トリメチルシリル）アセトアミド
（６．６ｍｌ）を加える。混合物を室温で２０分間攪拌
し、５℃に冷却する。この溶液に２−（２−アミノチア
ゾ−ル−４−イル）−２−アセトキシイミノアセチルク
ロリド・塩酸塩（シン異性体）（３．０５ｇ）を加え
る。混合物は５℃で１時間攪拌する。反応混合物をジイ
ソプロピルエ−テルに注入する。沈殿物を濾取し、減圧
下で乾燥して、７β−［２−（２−アミノチアゾ−ル−
４−イル）−２−アセトキシイミノアセトアミド］−３
−［（Ｚ）−３−フェノキシ−１−プロペン−１−イ
ル］−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）
（５．６３ｇ）を得る。 ＩＲ（ヌジョール）：３２００，１７５０，１６３０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：２．１８（３Ｈ，
ｓ），３．５７および３．７４（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１
８Ｈｚ），４．５１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６，１３Ｈ
ｚ），４．６６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６，１３Ｈｚ），
５．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．７−５．９
（２Ｈ，ｍ），６．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），
６．８−７．０（３Ｈ，ｍ），７．１２（１Ｈ，ｓ），
７．２−７．４（２Ｈ，ｍ），９．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８Ｈｚ）
【００５６】実施例６（１） 実施例５と同様にして下記化合物を得る。 ７β−［２−（２−アミノチアゾ−ル−４−イル）−２
−アセトキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）−３
−（３−ピリジルオキシ）−１−プロペン−１−イル］
−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体） ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：２．１７（３Ｈ，
ｓ），３．５−３．８（２Ｈ，ｍ），４．８−５．４
（３Ｈ，ｍ），５．８−６．０（２Ｈ，ｍ），６．５２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），７．１６（２Ｈ，ｂｒ
ｓ），７．２４（１Ｈ，ｓ），７．８−８．２（４Ｈ，
ｍ），９．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）
−アセトキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）−３
−（３−ピリジルオキシ）−１−プロペン−１−イル］
−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体） ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：２．１７（３Ｈ，
ｓ），３．５−３．８（２Ｈ，ｍ），４．８−５．４
（３Ｈ，ｍ），５．８−６．０（２Ｈ，ｍ），６．５２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），７．１６（２Ｈ，ｂｒ
ｓ），７．２４（１Ｈ，ｓ），７．８−８．２（４Ｈ，
ｍ），９．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）
【００５７】実施例６（２） 実施例５と同様にして下記化合物を得る。 ７β−［２−（２−アミノチアゾ−ル−４−イル）−２
−トリチルオキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）
−３−（３−ピリジルオキシ）−１−プロペン−１−イ
ル］−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体） ＩＲ（ヌジョール）：１７７０，１７３０，１６６０，
１５３０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：３．５１および３．７
６（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７Ｈｚ），４．８５（２Ｈ，
ｍ），５．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．４−
５．７（１Ｈ，ｍ），５．８１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５，
８Ｈｚ），６．６２（１Ｈ，ｓ），６．７２（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），７．１−７．４（１７Ｈ，ｍ），
８．１６（１Ｈ，ｍ），８．３０（１Ｈ，ｍ），９．８
８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）
−トリチルオキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）
−３−（３−ピリジルオキシ）−１−プロペン−１−イ
ル］−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体） ＩＲ（ヌジョール）：１７７０，１７３０，１６６０，
１５３０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：３．５１および３．７
６（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７Ｈｚ），４．８５（２Ｈ，
ｍ），５．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．４−
５．７（１Ｈ，ｍ），５．８１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５，
８Ｈｚ），６．６２（１Ｈ，ｓ），６．７２（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），７．１−７．４（１７Ｈ，ｍ），
８．１６（１Ｈ，ｍ），８．３０（１Ｈ，ｍ），９．８
８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）
【００５８】実施例７ ７β−［２−（２−アミノチアゾ−ル−４−イル）−２
−トリチルオキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）
−３−（３−ピリジルオキシ）−１−プロペン−１−イ
ル］−３−セフェム−４−カルボン酸（９００ｍｇ）の
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０ｍｌ）溶液に、炭
酸カリウム（７５ｍｇ）を５℃で加える。混合物を５℃
で３０分間攪拌する。混合物に ２−ブロモメチル−２
−（Ｅ）−ペンテン酸イソブチル（３７７ｍｇ）を加え
る。混合物を５℃で８時間攪拌する。反応混合物を酢酸
エチルとテトラヒドロフランと氷水の混合物中に注入す
る。有機層を分取し、水と食塩水で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、溶媒を減圧下で留去する。残渣をシリ
カゲルを使用するカラムクロマトグラフィ−に付し、７
β−［２−（２−アミノチアゾ−ル−４−イル）−２−
トリチルオキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）−
３−（３−ピリジルオキシ）−１−プロペン−１−イ
ル］−３−セフェム−４−カルボン酸（Ｅ）−２−イソ
ブチルオキシカルボニル−２−ペンテニル（シン異性
体）（１１５ｍｇ）を得る。 ＩＲ（ヌジョール）：１７７０，１６８０ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：０．８８（６Ｈ，ｄ，Ｊ
＝７Ｈｚ），１．０３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．
８９（１Ｈ，ｍ），２．３５（１Ｈ，ｍ），３．６０お
よび３．７４（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８Ｈｚ），３．８
７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），４．５−４．８（２Ｈ，
ｍ），４．９２および５．００（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１
２Ｈｚ），５．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．７
−５．９（１Ｈ，ｍ），５．９７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
５，８Ｈｚ），６．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），
６．６１（１Ｈ，ｓ），７．０４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ），７．２−７．４（１９Ｈ，ｍ），８．１９（１
Ｈ，ｍ），８．２７（１Ｈ，ｓ），９．９３（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）
−トリチルオキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）
−３−（３−ピリジルオキシ）−１−プロペン−１−イ
ル］−３−セフェム−４−カルボン酸（９００ｍｇ）の
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０ｍｌ）溶液に、炭
酸カリウム（７５ｍｇ）を５℃で加える。混合物を５℃
で３０分間攪拌する。混合物に ２−ブロモメチル−２
−（Ｅ）−ペンテン酸イソブチル（３７７ｍｇ）を加え
る。混合物を５℃で８時間攪拌する。反応混合物を酢酸
エチルとテトラヒドロフランと氷水の混合物中に注入す
る。有機層を分取し、水と食塩水で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、溶媒を減圧下で留去する。残渣をシリ
カゲルを使用するカラムクロマトグラフィ−に付し、７
β−［２−（２−アミノチアゾ−ル−４−イル）−２−
トリチルオキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）−
３−（３−ピリジルオキシ）−１−プロペン−１−イ
ル］−３−セフェム−４−カルボン酸（Ｅ）−２−イソ
ブチルオキシカルボニル−２−ペンテニル（シン異性
体）（１１５ｍｇ）を得る。 ＩＲ（ヌジョール）：１７７０，１６８０ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：０．８８（６Ｈ，ｄ，Ｊ
＝７Ｈｚ），１．０３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．
８９（１Ｈ，ｍ），２．３５（１Ｈ，ｍ），３．６０お
よび３．７４（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８Ｈｚ），３．８
７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），４．５−４．８（２Ｈ，
ｍ），４．９２および５．００（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１
２Ｈｚ），５．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．７
−５．９（１Ｈ，ｍ），５．９７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
５，８Ｈｚ），６．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），
６．６１（１Ｈ，ｓ），７．０４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ），７．２−７．４（１９Ｈ，ｍ），８．１９（１
Ｈ，ｍ），８．２７（１Ｈ，ｓ），９．９３（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）
【００５９】実施例８ 実施例７と同様にして下記化合物を得る。 ７β−［２−（２−アミノチアゾ−ル−４−イル）−２
−トリチルオキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）
−３−（３−ピリジルオキシ）−１−プロペン−１−イ
ル］−３−セフェム−４−カルボン酸ピバロイルオキシ
メチル（シン異性体） ＩＲ（ヌジョール）：１７７０，１７４０ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：１．１５（９Ｈ，ｓ），
３．６３および３．７５（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８Ｈ
ｚ），４．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８，１３Ｈｚ），
４．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８，１３Ｈｚ），５．３３
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．７９および５．８８
（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝６Ｈｚ），５．８−５．９（１
Ｈ，ｍ），６．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５，８Ｈｚ），
６．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），６．６１（１
Ｈ，ｓ），７．２−７．４（１９Ｈ，ｍ），８．１９
（１Ｈ，ｍ），８．２８（１Ｈ，ｍ），９．９３（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）
−トリチルオキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）
−３−（３−ピリジルオキシ）−１−プロペン−１−イ
ル］−３−セフェム−４−カルボン酸ピバロイルオキシ
メチル（シン異性体） ＩＲ（ヌジョール）：１７７０，１７４０ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：１．１５（９Ｈ，ｓ），
３．６３および３．７５（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８Ｈ
ｚ），４．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８，１３Ｈｚ），
４．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８，１３Ｈｚ），５．３３
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．７９および５．８８
（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝６Ｈｚ），５．８−５．９（１
Ｈ，ｍ），６．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５，８Ｈｚ），
６．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），６．６１（１
Ｈ，ｓ），７．２−７．４（１９Ｈ，ｍ），８．１９
（１Ｈ，ｍ），８．２８（１Ｈ，ｍ），９．９３（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）
【００６０】実施例９ ７β−［２−（２−アミノチアゾ−ル−４−イル）−２
−トリチルオキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）
−３−（３−ピリジルオキシ）−１−プロペン−１−イ
ル］−３−セフェム−４−カルボン酸ピバロイルオキシ
メチル（シン異性体）（７４０ｍｇ）の９０％ギ酸水溶
液（２．７８ｍｌ）を室温で１時間攪拌する。反応混合
物の不溶物を濾別する。濾液をｐＨ ５に調整後、酢酸
エチルで抽出する。分取した有機層を食塩水で洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下で留去する。
残渣をジイソプロピルエ−テルで粉砕する。沈殿物を濾
取し、減圧下で乾燥して、 ７β−［２−（２−アミノ
チアゾ−ル−４−イル）−２−ヒドロキシイミノアセト
アミド］−３−［（Ｚ）−３−（３−ピリジルオキシ）
−１−プロペン−１−イル］−３−セフェム−４−カル
ボン酸ピバロイルオキシメチル（シン異性体）（３５８
ｍｇ）を得る。 ＩＲ（ヌジョール）：１７４０ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：１．１４（９Ｈ，ｓ），
３．５９および３．７３（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８Ｈ
ｚ），４．６２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８，１３Ｈｚ），
４．７６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８，１３Ｈｚ），５．２５
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．７６および５．８６
（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝６Ｈｚ），５．８−６．０（２
Ｈ，ｍ），６．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），６．
６６（１Ｈ，ｓ），７．１３（２Ｈ，ｂｒｓ），７．３
（２Ｈ，ｍ），８．１８（１Ｈ，ｍ），８．２７（１
Ｈ，ｍ），９．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），１１．
３（１Ｈ，ｓ）
−トリチルオキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）
−３−（３−ピリジルオキシ）−１−プロペン−１−イ
ル］−３−セフェム−４−カルボン酸ピバロイルオキシ
メチル（シン異性体）（７４０ｍｇ）の９０％ギ酸水溶
液（２．７８ｍｌ）を室温で１時間攪拌する。反応混合
物の不溶物を濾別する。濾液をｐＨ ５に調整後、酢酸
エチルで抽出する。分取した有機層を食塩水で洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下で留去する。
残渣をジイソプロピルエ−テルで粉砕する。沈殿物を濾
取し、減圧下で乾燥して、 ７β−［２−（２−アミノ
チアゾ−ル−４−イル）−２−ヒドロキシイミノアセト
アミド］−３−［（Ｚ）−３−（３−ピリジルオキシ）
−１−プロペン−１−イル］−３−セフェム−４−カル
ボン酸ピバロイルオキシメチル（シン異性体）（３５８
ｍｇ）を得る。 ＩＲ（ヌジョール）：１７４０ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：１．１４（９Ｈ，ｓ），
３．５９および３．７３（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８Ｈ
ｚ），４．６２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８，１３Ｈｚ），
４．７６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８，１３Ｈｚ），５．２５
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．７６および５．８６
（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝６Ｈｚ），５．８−６．０（２
Ｈ，ｍ），６．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），６．
６６（１Ｈ，ｓ），７．１３（２Ｈ，ｂｒｓ），７．３
（２Ｈ，ｍ），８．１８（１Ｈ，ｍ），８．２７（１
Ｈ，ｍ），９．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），１１．
３（１Ｈ，ｓ）
【００６１】実施例１０ 実施例９と同様にして下記化合物を得る。 ７β−［２−（２−アミノチアゾ−ル−４−イル）−２
−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）−３
−（３−ピリジルオキシ）−１−プロペン−１−イル］
−３−セフェム−４−カルボン酸（Ｅ）− ２−イソブ
チルオキシカルボニル−２−ペンテニル（シン異性体） ＩＲ（ヌジョール）：１７２０，１６３０ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：０．８８（６Ｈ，ｄ，Ｊ
＝７Ｈｚ），１．０１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．
８８（１Ｈ，ｍ），２．３１（１Ｈ，ｍ），３．５５お
よび３．７０（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８Ｈｚ），３．８
６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），４．５−４．８（２Ｈ，
ｍ），４．８９および４．９７（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１
８Ｈｚ），５．２３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５，８Ｈｚ），
５．７−５．９（１Ｈ，ｍ），６．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝１２Ｈｚ），６．６６（１Ｈ，ｓ），７．０１（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．１３（２Ｈ，ｂｒｓ），
７．２−７．３（２Ｈ，ｍ），８．１６（１Ｈ，ｍ），
８．５６（１Ｈ，ｍ），９．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ），１１．３（１Ｈ，ｓ）
−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）−３
−（３−ピリジルオキシ）−１−プロペン−１−イル］
−３−セフェム−４−カルボン酸（Ｅ）− ２−イソブ
チルオキシカルボニル−２−ペンテニル（シン異性体） ＩＲ（ヌジョール）：１７２０，１６３０ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：０．８８（６Ｈ，ｄ，Ｊ
＝７Ｈｚ），１．０１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ），１．
８８（１Ｈ，ｍ），２．３１（１Ｈ，ｍ），３．５５お
よび３．７０（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８Ｈｚ），３．８
６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ），４．５−４．８（２Ｈ，
ｍ），４．８９および４．９７（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１
８Ｈｚ），５．２３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５，８Ｈｚ），
５．７−５．９（１Ｈ，ｍ），６．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝１２Ｈｚ），６．６６（１Ｈ，ｓ），７．０１（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．１３（２Ｈ，ｂｒｓ），
７．２−７．３（２Ｈ，ｍ），８．１６（１Ｈ，ｍ），
８．５６（１Ｈ，ｍ），９．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ），１１．３（１Ｈ，ｓ）
【００６２】実施例１１ ７β−［２−（２−アミノチアゾ−ル−４−イル）−２
−アセトキシイミノアセトアミド］−３−（（Ｚ）−３
−フェノキシ−１−プロペン−１−イル）−３−セフェ
ム−４−カルボン酸 （シン異性体）（５．６０ｇ）の
水（１７０ｍｌ）とメタノ−ル（１７ｍｌ）中懸濁液に
塩化アンモニウム（１．７８ｇ）を加える。混合物を炭
酸水素ナトリウム飽和水溶液でｐＨ８に保ちながら、室
温で２．５時間攪拌する。混合物を１Ｎの塩酸でｐＨ６
に調節し、メタノ−ルを減圧下で留去する。混合物を１
Ｎ の塩酸でｐＨ４．８に調整し、ＨＰ−２０を使用す
るクロマトグラフィ−に付し、１０−２０％ のイソプ
ロパノ−ル水溶液で溶出する。溶出液を凍結乾燥する。
粗生成物を分取しＨＰＬＣ とＨＰ−２０で精製して、
７β−［２−（２−アミノチアゾ−ル−４−イル）−２
−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−（（Ｚ）−３
−フェノキシ−１−プロペン−１−イル）−３−セフェ
ム−４−カルボン酸（シン異性体） （６９３ｍｇ）を
得る。 ＩＲ（ヌジョール）：１７２０ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．５４および３．７０
（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８Ｈｚ），４．５７（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝６，１５Ｈｚ），４．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
７，１５Ｈｚ），５．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），
５．７−５．９（２Ｈ，ｍ），６．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝１２Ｈｚ），６．６６（１Ｈ，ｓ），６．９−７．０
（３Ｈ，ｍ），７．１３（２Ｈ，ｂｒｓ），７．２−
７．４（２Ｈ，ｍ），９．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ），１１．３（１Ｈ，ｂｒｓ）
−アセトキシイミノアセトアミド］−３−（（Ｚ）−３
−フェノキシ−１−プロペン−１−イル）−３−セフェ
ム−４−カルボン酸 （シン異性体）（５．６０ｇ）の
水（１７０ｍｌ）とメタノ−ル（１７ｍｌ）中懸濁液に
塩化アンモニウム（１．７８ｇ）を加える。混合物を炭
酸水素ナトリウム飽和水溶液でｐＨ８に保ちながら、室
温で２．５時間攪拌する。混合物を１Ｎの塩酸でｐＨ６
に調節し、メタノ−ルを減圧下で留去する。混合物を１
Ｎ の塩酸でｐＨ４．８に調整し、ＨＰ−２０を使用す
るクロマトグラフィ−に付し、１０−２０％ のイソプ
ロパノ−ル水溶液で溶出する。溶出液を凍結乾燥する。
粗生成物を分取しＨＰＬＣ とＨＰ−２０で精製して、
７β−［２−（２−アミノチアゾ−ル−４−イル）−２
−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−（（Ｚ）−３
−フェノキシ−１−プロペン−１−イル）−３−セフェ
ム−４−カルボン酸（シン異性体） （６９３ｍｇ）を
得る。 ＩＲ（ヌジョール）：１７２０ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．５４および３．７０
（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８Ｈｚ），４．５７（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝６，１５Ｈｚ），４．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
７，１５Ｈｚ），５．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），
５．７−５．９（２Ｈ，ｍ），６．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝１２Ｈｚ），６．６６（１Ｈ，ｓ），６．９−７．０
（３Ｈ，ｍ），７．１３（２Ｈ，ｂｒｓ），７．２−
７．４（２Ｈ，ｍ），９．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ），１１．３（１Ｈ，ｂｒｓ）
【００６３】実施例１２ 実施例１１と同様にして下記化合物を得る。 ７β−［２−（２−アミノチアゾ−ル−４−イル）−２
−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）−３
−（３−ピリジルオキシ）−１−プロペン−１−イル］
−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体） ＩＲ（ヌジョール）：１７５０ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．５４および３．７１
（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８Ｈｚ），４．６３および４．
７７（２Ｈ，ｄＡＢｑ，Ｊ＝６，１５Ｈｚ），５．２０
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．７−５．８（２Ｈ，
ｍ），６．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），６．６６
（１Ｈ，ｓ），７．１３（２Ｈ，ｂｒｓ），７．３−
７．４（２Ｈ，ｍ），８．２（１Ｈ，ｍ），８．３（１
Ｈ，ｍ），９．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），１１．
３（１Ｈ，ｂｒｓ）
−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）−３
−（３−ピリジルオキシ）−１−プロペン−１−イル］
−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体） ＩＲ（ヌジョール）：１７５０ｃｍ-1 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．５４および３．７１
（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８Ｈｚ），４．６３および４．
７７（２Ｈ，ｄＡＢｑ，Ｊ＝６，１５Ｈｚ），５．２０
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．７−５．８（２Ｈ，
ｍ），６．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），６．６６
（１Ｈ，ｓ），７．１３（２Ｈ，ｂｒｓ），７．３−
７．４（２Ｈ，ｍ），８．２（１Ｈ，ｍ），８．３（１
Ｈ，ｍ），９．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），１１．
３（１Ｈ，ｂｒｓ）
【００６４】実施例１３ ７β−ホルムアミド−３−メタンスルホニルオキシ−３
−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチル（３４．
０９ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３４０ｍ
ｌ）溶液に２−［（Ｅ）−３−トリ（ｎ−ブチル）スタ
ンニルアリルオキシ］アセトアミド（２８．２ｇ）と臭
化リチウム（無水物）（６．０６ｇ）を５℃で加え、混
合物を５℃で２０分間攪拌する。混合物を窒素で脱気
し、ビス（アセトニトリル）塩化パラジウム（ＩＩ）
（３６２ｍｇ）を加える。混合物を５℃で１時間、室温
で１６時間攪拌し、氷水（２ｌ）に注入する。沈殿物を
濾取し、水で洗浄する。粉末を、テトラヒドロフラン
（３００ｍｌ）と酢酸エチル（６００ｍｌ）に溶かし、
水（３００ｍｌ）を加える。有機層を分取し、食塩水で
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下で留
去する。残渣は、シリカゲルを使用するカラムクロマト
グラフィ−に付して、７β−ホルムアミド−３−
［（Ｅ）−３−カルバモイルメトキシ−１−プロペン−
１−イル」−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニル
メチル（６．９１ｇ）を得る。 ＩＲ（ヌジョール）：３２５０，１７５５，１７１５，
１６５０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：３．６７および３．９
０（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．６Ｈｚ），３．７６（２
Ｈ，ｓ），４．０３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），
５．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ），５．８５（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．８および４．９Ｈｚ），６．２３
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１６．１および５．５Ｈｚ），６．
７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．１Ｈｚ），６．９７（１
Ｈ，ｓ），７．１５および７．２７（２Ｈ，ｂｒｓ），
７．３−７．６（１０Ｈ，ｍ），８．１６（１Ｈ，
ｓ），９．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチル（３４．
０９ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３４０ｍ
ｌ）溶液に２−［（Ｅ）−３−トリ（ｎ−ブチル）スタ
ンニルアリルオキシ］アセトアミド（２８．２ｇ）と臭
化リチウム（無水物）（６．０６ｇ）を５℃で加え、混
合物を５℃で２０分間攪拌する。混合物を窒素で脱気
し、ビス（アセトニトリル）塩化パラジウム（ＩＩ）
（３６２ｍｇ）を加える。混合物を５℃で１時間、室温
で１６時間攪拌し、氷水（２ｌ）に注入する。沈殿物を
濾取し、水で洗浄する。粉末を、テトラヒドロフラン
（３００ｍｌ）と酢酸エチル（６００ｍｌ）に溶かし、
水（３００ｍｌ）を加える。有機層を分取し、食塩水で
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下で留
去する。残渣は、シリカゲルを使用するカラムクロマト
グラフィ−に付して、７β−ホルムアミド−３−
［（Ｅ）−３−カルバモイルメトキシ−１−プロペン−
１−イル」−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニル
メチル（６．９１ｇ）を得る。 ＩＲ（ヌジョール）：３２５０，１７５５，１７１５，
１６５０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：３．６７および３．９
０（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．６Ｈｚ），３．７６（２
Ｈ，ｓ），４．０３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），
５．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ），５．８５（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．８および４．９Ｈｚ），６．２３
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１６．１および５．５Ｈｚ），６．
７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．１Ｈｚ），６．９７（１
Ｈ，ｓ），７．１５および７．２７（２Ｈ，ｂｒｓ），
７．３−７．６（１０Ｈ，ｍ），８．１６（１Ｈ，
ｓ），９．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
【００６５】実施例１４（１） 実施例１と同様にして下記化合物を得る。 ７β−第三級−ブトキシカルボニルアミノ−３−
［（Ｚ）−（３Ｓ）−３−第三級−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−１−ブテン−１−イル］−３−セフェム−４
−カルボン酸ジフェニルメチル ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：０．０３（６Ｈ，
ｓ），０．９８（９Ｈ，ｓ），１．１１（３Ｈ，ｄ，Ｊ
＝５Ｈｚ），１．４７（９Ｈ，ｓ），３．５−４．０
（２Ｈ，ｍ），４．２５−４．３５（１Ｈ，ｍ），５．
２−５．３（１Ｈ，ｍ），５．３−５．４（１Ｈ，
ｍ），５．５−５．６（１Ｈ，ｍ），６．９１（１Ｈ，
ｓ），６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），７．２−
７．４（１０Ｈ，ｍ），８．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈ
ｚ）
［（Ｚ）−（３Ｓ）−３−第三級−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−１−ブテン−１−イル］−３−セフェム−４
−カルボン酸ジフェニルメチル ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：０．０３（６Ｈ，
ｓ），０．９８（９Ｈ，ｓ），１．１１（３Ｈ，ｄ，Ｊ
＝５Ｈｚ），１．４７（９Ｈ，ｓ），３．５−４．０
（２Ｈ，ｍ），４．２５−４．３５（１Ｈ，ｍ），５．
２−５．３（１Ｈ，ｍ），５．３−５．４（１Ｈ，
ｍ），５．５−５．６（１Ｈ，ｍ），６．９１（１Ｈ，
ｓ），６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），７．２−
７．４（１０Ｈ，ｍ），８．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈ
ｚ）
【００６６】実施例１４（２） 実施例１と同様にして下記化合物を得る。 ７β−第三級−ブトキシカルボニルアミノ−３−
［（Ｚ）−３−（Ｎ−トリチルカルバモイルメチルチ
オ）−１−プロペン−１−イル］−３−セフェム−４−
カルボン酸ジフェニルメチル ＩＲ（ヌジョール）：３２８０，１７６０，１５９０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：１．４１（９Ｈ，
ｓ），２．８−３．６（６Ｈ，ｍ），４．５４（１Ｈ，
ｍ），５．２５−５．４０（２Ｈ，ｍ），６．１０（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ），６．８８（１Ｈ，ｓ），
７．１−７．５（２５Ｈ，ｍ），７．９９（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．９Ｈｚ），８．６７（１Ｈ，ｓ）
［（Ｚ）−３−（Ｎ−トリチルカルバモイルメチルチ
オ）−１−プロペン−１−イル］−３−セフェム−４−
カルボン酸ジフェニルメチル ＩＲ（ヌジョール）：３２８０，１７６０，１５９０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：１．４１（９Ｈ，
ｓ），２．８−３．６（６Ｈ，ｍ），４．５４（１Ｈ，
ｍ），５．２５−５．４０（２Ｈ，ｍ），６．１０（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ），６．８８（１Ｈ，ｓ），
７．１−７．５（２５Ｈ，ｍ），７．９９（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．９Ｈｚ），８．６７（１Ｈ，ｓ）
【００６７】実施例１４（３） 実施例１と同様にして下記化合物を得る。 ７β−第三級−ブトキシカルボニルアミノ−３−
［（Ｚ）−３−ジメチルカルバモイルチオ−１−プロペ
ン−１−イル］−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェ
ニルメチル ＩＲ（ヌジョール）：１７６０，１６９０，１６３０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：１．４１（９Ｈ，
ｓ），２．９１（６Ｈ，ｓ），３．３−３．８（４Ｈ，
ｍ），５．１７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），５．
３−５．４５（１Ｈ，ｍ），５．５３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝９．１および４．８Ｈｚ），６．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝１１．３Ｈｚ），６．８８（１Ｈ，ｓ），７．２−
７．６（１０Ｈ，ｍ），８．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．
１Ｈｚ）
［（Ｚ）−３−ジメチルカルバモイルチオ−１−プロペ
ン−１−イル］−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェ
ニルメチル ＩＲ（ヌジョール）：１７６０，１６９０，１６３０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：１．４１（９Ｈ，
ｓ），２．９１（６Ｈ，ｓ），３．３−３．８（４Ｈ，
ｍ），５．１７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），５．
３−５．４５（１Ｈ，ｍ），５．５３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝９．１および４．８Ｈｚ），６．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝１１．３Ｈｚ），６．８８（１Ｈ，ｓ），７．２−
７．６（１０Ｈ，ｍ），８．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．
１Ｈｚ）
【００６８】実施例１４（４） 実施例１と同様にして下記化合物を得る。 ７β−第三級−ブトキシカルボニルアミノ−３−
［（Ｚ）−３−（３−トリクロロアセチルウレイド）−
１−プロペン−１−イル］−３−セフェム−４−カルボ
ン酸ジフェニルメチル ＩＲ（ヌジョール）：１７６０，１６９５，１５１５ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：１．４１（９Ｈ，
ｓ），３．５−３．８（４Ｈ，ｍ），５．１５（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ），５．４−５．６（２Ｈ，ｍ），
６．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ），６．８７
（１Ｈ，ｓ），７．２−７．５（１０Ｈ，ｍ），７．９
−８．１（２Ｈ，ｍ），１１．２５（１Ｈ，ｓ）
［（Ｚ）−３−（３−トリクロロアセチルウレイド）−
１−プロペン−１−イル］−３−セフェム−４−カルボ
ン酸ジフェニルメチル ＩＲ（ヌジョール）：１７６０，１６９５，１５１５ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：１．４１（９Ｈ，
ｓ），３．５−３．８（４Ｈ，ｍ），５．１５（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ），５．４−５．６（２Ｈ，ｍ），
６．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ），６．８７
（１Ｈ，ｓ），７．２−７．５（１０Ｈ，ｍ），７．９
−８．１（２Ｈ，ｍ），１１．２５（１Ｈ，ｓ）
【００６９】実施例１５ ７β−第三級−ブトキシカルボニルアミノ−３−
［（Ｚ）−（３Ｓ）−３−ヒドロキシ−１−ブテン−１
−イル］−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメ
チル（１０．５ｇ）のジクロロメタン（５２．５ｍｌ）
溶液に、トリクロロアセチルイソシアナ−ト（３．６９
ｇ）のジクロロメタン（１０ｍｌ）溶液を５℃で滴下
し、５℃で３０分間攪拌する。混合物の溶媒を減圧下で
留去し、残渣をクロロホルム（６５ｍｌ）とメタノ−ル
（６５ｍｌ）の混合物に溶かす。この溶液にシリカゲル
（５０ｇ）を加え、混合物を室温で１８時間激しく攪拌
する。シリカゲルを濾去し、濾液の溶媒を減圧下で留去
する。残渣をシリカゲルを使用するカラムクロマトグラ
フィに付し、７β−第三級−ブトキシカルボニルアミノ
−３−［（Ｚ）−（３Ｓ）−３−カルバモイルオキシ−
１−ブテン−１−イル］−３−セフェム−４−カルボン
酸ジフェニルメチル（６．１４ｇ）を得る。 ＩＲ（ヌジョール）：３３００，１７６５，１６９０，
１５９０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：０．７５（３Ｈ，ｄ，
Ｊ＝６Ｈｚ），１．４１（９Ｈ，ｓ），３．４９および
３．６９（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８Ｈｚ），４．９−
５．１（１Ｈ，ｍ），５．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈ
ｚ），５．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１および９Ｈ
ｚ），５．５６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９および５Ｈｚ），
６．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ），６．４４（２
Ｈ，ｂｒｓ），６．８９（１Ｈ，ｓ），７．２−７．５
（１０Ｈ，ｍ），８．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）
［（Ｚ）−（３Ｓ）−３−ヒドロキシ−１−ブテン−１
−イル］−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメ
チル（１０．５ｇ）のジクロロメタン（５２．５ｍｌ）
溶液に、トリクロロアセチルイソシアナ−ト（３．６９
ｇ）のジクロロメタン（１０ｍｌ）溶液を５℃で滴下
し、５℃で３０分間攪拌する。混合物の溶媒を減圧下で
留去し、残渣をクロロホルム（６５ｍｌ）とメタノ−ル
（６５ｍｌ）の混合物に溶かす。この溶液にシリカゲル
（５０ｇ）を加え、混合物を室温で１８時間激しく攪拌
する。シリカゲルを濾去し、濾液の溶媒を減圧下で留去
する。残渣をシリカゲルを使用するカラムクロマトグラ
フィに付し、７β−第三級−ブトキシカルボニルアミノ
−３−［（Ｚ）−（３Ｓ）−３−カルバモイルオキシ−
１−ブテン−１−イル］−３−セフェム−４−カルボン
酸ジフェニルメチル（６．１４ｇ）を得る。 ＩＲ（ヌジョール）：３３００，１７６５，１６９０，
１５９０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：０．７５（３Ｈ，ｄ，
Ｊ＝６Ｈｚ），１．４１（９Ｈ，ｓ），３．４９および
３．６９（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１８Ｈｚ），４．９−
５．１（１Ｈ，ｍ），５．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈ
ｚ），５．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１および９Ｈ
ｚ），５．５６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９および５Ｈｚ），
６．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ），６．４４（２
Ｈ，ｂｒｓ），６．８９（１Ｈ，ｓ），７．２−７．５
（１０Ｈ，ｍ），８．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）
【００７０】実施例１６ ７β−第三級−ブトキシカルボニルアミノ−３−
［（Ｚ）−３−（３−トリクロロアセチルウレイド）−
１−プロペン−１−イル］−３−セフェム−４−カルボ
ン酸ジフェニルメチル（１０．３ｇ）のクロロホルム
（２０ｍｌ）とメタノ−ル（２０ｍｌ）混合物中溶液に
シリカゲル（１０ｇ）を加え、混合物を、室温で４８時
間激しく攪拌する。シリカゲルを濾去し、濾液の溶媒を
減圧下で留去する。残渣をシリカゲルを使用するカラム
クロマトグラフィに付し、７β−第三級−ブトキシカル
ボニルアミノ−３−［（Ｚ）−３−ウレイド−１−プロ
ペン−１−イル］−３−セフェム−４−カルボン酸ジフ
ェニルメチル（４９０ｍｇ）を得る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：１．４（９Ｈ，ｓ），
３．５−３．８（４Ｈ，ｍ），５．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝４．４Ｈｚ），５．３−５．６（４Ｈ，ｍ），６．０
１（１Ｈ，ｍ），６．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．５Ｈ
ｚ），６．８６（１Ｈ，ｓ），７．２−７．５（１０
Ｈ，ｍ），８．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）
［（Ｚ）−３−（３−トリクロロアセチルウレイド）−
１−プロペン−１−イル］−３−セフェム−４−カルボ
ン酸ジフェニルメチル（１０．３ｇ）のクロロホルム
（２０ｍｌ）とメタノ−ル（２０ｍｌ）混合物中溶液に
シリカゲル（１０ｇ）を加え、混合物を、室温で４８時
間激しく攪拌する。シリカゲルを濾去し、濾液の溶媒を
減圧下で留去する。残渣をシリカゲルを使用するカラム
クロマトグラフィに付し、７β−第三級−ブトキシカル
ボニルアミノ−３−［（Ｚ）−３−ウレイド−１−プロ
ペン−１−イル］−３−セフェム−４−カルボン酸ジフ
ェニルメチル（４９０ｍｇ）を得る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：１．４（９Ｈ，ｓ），
３．５−３．８（４Ｈ，ｍ），５．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝４．４Ｈｚ），５．３−５．６（４Ｈ，ｍ），６．０
１（１Ｈ，ｍ），６．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．５Ｈ
ｚ），６．８６（１Ｈ，ｓ），７．２−７．５（１０
Ｈ，ｍ），８．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）
【００７１】実施例１７ ７β−第三級−ブトキシカルボニルアミノ−３−
［（Ｚ）−（３Ｓ）−３−第三級−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−１−ブテン−１−イル］−３−セフェム−４
−カルボン酸ジフェニルメチル（２２．６ｇ）のメタノ
−ル（２２６ｍｌ）溶液に、５℃で濃塩酸を滴下し、混
合物を室温で１．５時間攪拌する。混合物を酢酸エチル
と氷水の混合物に注入する。分取した有機層を水と食塩
水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下
で留去する。残渣をシリカゲルを使用するカラムクロマ
トグラフィに付し、７β−第三級−ブトキシカルボニル
アミノ−３−［（Ｚ）−（３Ｓ）−３−ヒドロキシ−１
−ブテン−１−イル］−３−セフェム−４−カルボン酸
ジフェニルメチル（１０．６ｇ）を得る。 ＩＲ（ヌジョール）：３３００，１７５０，１６９０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：０．７８（３Ｈ，ｄ，
Ｊ＝６Ｈｚ），１．４１（９Ｈ，ｓ），３．５−３．７
（２Ｈ，ｍ），４．０−４．１（１Ｈ，ｍ），４．７１
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４Ｈｚ），５．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
５Ｈｚ），５．３４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１２および９Ｈ
ｚ），５．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９および５Ｈｚ），
６．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），６．８７（１
Ｈ，ｓ），７．２−７．６（１０Ｈ，ｍ），８．０２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）
［（Ｚ）−（３Ｓ）−３−第三級−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−１−ブテン−１−イル］−３−セフェム−４
−カルボン酸ジフェニルメチル（２２．６ｇ）のメタノ
−ル（２２６ｍｌ）溶液に、５℃で濃塩酸を滴下し、混
合物を室温で１．５時間攪拌する。混合物を酢酸エチル
と氷水の混合物に注入する。分取した有機層を水と食塩
水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下
で留去する。残渣をシリカゲルを使用するカラムクロマ
トグラフィに付し、７β−第三級−ブトキシカルボニル
アミノ−３−［（Ｚ）−（３Ｓ）−３−ヒドロキシ−１
−ブテン−１−イル］−３−セフェム−４−カルボン酸
ジフェニルメチル（１０．６ｇ）を得る。 ＩＲ（ヌジョール）：３３００，１７５０，１６９０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：０．７８（３Ｈ，ｄ，
Ｊ＝６Ｈｚ），１．４１（９Ｈ，ｓ），３．５−３．７
（２Ｈ，ｍ），４．０−４．１（１Ｈ，ｍ），４．７１
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４Ｈｚ），５．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
５Ｈｚ），５．３４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１２および９Ｈ
ｚ），５．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９および５Ｈｚ），
６．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ），６．８７（１
Ｈ，ｓ），７．２−７．６（１０Ｈ，ｍ），８．０２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ）
【００７２】実施例１８（１） 実施例３と同様にして下記化合物を得る。 ７β−アミノ−３−［（Ｚ）−３−ウレイド−１−プロ
ペン−１−イル］−３−セフェム−４−カルボン酸・ト
リフルオロ酢酸塩。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：３．５−３．９（４
Ｈ，ｍ），５．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），
５．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），５．５４（１
Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１１．５および６．５Ｈｚ），６．１−
６．２（１Ｈ，ｍ），６．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．
５Ｈｚ）
ペン−１−イル］−３−セフェム−４−カルボン酸・ト
リフルオロ酢酸塩。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：３．５−３．９（４
Ｈ，ｍ），５．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），
５．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），５．５４（１
Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１１．５および６．５Ｈｚ），６．１−
６．２（１Ｈ，ｍ），６．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．
５Ｈｚ）
【００７３】実施例１８（２） 実施例３と同様にして下記化合物を得る。 ７β−アミノ−３−［（Ｚ）−（３Ｓ）−３−カルバモ
イルオキシ−１−ブテン−１−イル］−３−セフェム−
４−カルボン酸・トリフルオロ酢酸塩。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：１．１６（３Ｈ，ｄ，
Ｊ＝６Ｈｚ），３．４−３．８（３Ｈ，ｍ），５．１５
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
５Ｈｚ），５．２−５．３（１Ｈ，ｍ），６．１−６．
２（１Ｈ，ｍ），６．６−６．７（２Ｈ，ｍ）
イルオキシ−１−ブテン−１−イル］−３−セフェム−
４−カルボン酸・トリフルオロ酢酸塩。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：１．１６（３Ｈ，ｄ，
Ｊ＝６Ｈｚ），３．４−３．８（３Ｈ，ｍ），５．１５
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
５Ｈｚ），５．２−５．３（１Ｈ，ｍ），６．１−６．
２（１Ｈ，ｍ），６．６−６．７（２Ｈ，ｍ）
【００７４】実施例１８（３） 実施例３と同様にして下記化合物を得る。 ７β−アミノ−３−［（Ｚ）−３−カルバモイルメチル
チオ−１−プロペン−１−イル］−３−セフェム−４−
カルボン酸・トリフルオロ酢酸塩。 ＩＲ（ヌジョール）：１７５０，１６３０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：３．０−３．８（６
Ｈ，ｍ），５．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），
５．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），５．５−５．
７（１Ｈ，ｍ），６．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．２Ｈ
ｚ），７．０２（２Ｈ，ｂｒｓ）
チオ−１−プロペン−１−イル］−３−セフェム−４−
カルボン酸・トリフルオロ酢酸塩。 ＩＲ（ヌジョール）：１７５０，１６３０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：３．０−３．８（６
Ｈ，ｍ），５．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），
５．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），５．５−５．
７（１Ｈ，ｍ），６．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．２Ｈ
ｚ），７．０２（２Ｈ，ｂｒｓ）
【００７５】実施例１８（４） 実施例３と同様にして下記化合物を得る。 ７β−アミノ−３−［（Ｚ）−３−ジメチルカルバモイ
ルチオ−１−プロペン−１−イル］−３−セフェム−４
−カルボン酸・トリフルオロ酢酸塩。 ＩＲ（ヌジョール）：１７５５，１７００，１６１５ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：２．９２（６Ｈ，
ｓ），３．４−３．８（４Ｈ，ｍ），５．１５（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），５．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．
０Ｈｚ），５．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．４および
７．３Ｈｚ），６．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．４Ｈ
ｚ）
ルチオ−１−プロペン−１−イル］−３−セフェム−４
−カルボン酸・トリフルオロ酢酸塩。 ＩＲ（ヌジョール）：１７５５，１７００，１６１５ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：２．９２（６Ｈ，
ｓ），３．４−３．８（４Ｈ，ｍ），５．１５（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），５．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．
０Ｈｚ），５．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．４および
７．３Ｈｚ），６．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．４Ｈ
ｚ）
【００７６】実施例１９（１） 実施例５と同様にして下記化合物を得る。 ７β−［２−（２−アミノチアゾ−ル−４−イル）−２
−アセトキシイミノアセトアミド−３−［（Ｅ）−３−
カルバモイルメトキシ−１−プロペン−１−イル」−３
−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチル（シン異
性体） ＩＲ（ヌジョール）：１７３０，１６５０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：２．１９（３Ｈ，
ｓ），３．６４（２Ｈ，ｓ），３．６−３．９（２Ｈ，
ｍ），３．９−４．０（２Ｈ，ｍ），５．３０（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．９１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５，８
Ｈｚ），６．１−６．３（１Ｈ，ｍ），６．７１（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ），６．９７（１Ｈ，ｓ），７．
１２（１Ｈ，ｓ），７．２−７．４（１４Ｈ，ｍ），
９．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）
−アセトキシイミノアセトアミド−３−［（Ｅ）−３−
カルバモイルメトキシ−１−プロペン−１−イル」−３
−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチル（シン異
性体） ＩＲ（ヌジョール）：１７３０，１６５０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：２．１９（３Ｈ，
ｓ），３．６４（２Ｈ，ｓ），３．６−３．９（２Ｈ，
ｍ），３．９−４．０（２Ｈ，ｍ），５．３０（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．９１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５，８
Ｈｚ），６．１−６．３（１Ｈ，ｍ），６．７１（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ），６．９７（１Ｈ，ｓ），７．
１２（１Ｈ，ｓ），７．２−７．４（１４Ｈ，ｍ），
９．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）
【００７７】実施例１９（２） 実施例５と同様にして下記化合物を得る。 ７β−［２−（２−アミノチアゾ−ル−４−イル）−２
−アセトキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）−
（３Ｓ）−３−カルバモイルオキシ−１−ブテン−１−
イル］−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体） ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：１．１５（３Ｈ，ｄ，
Ｊ＝６Ｈｚ），２．２０（３Ｈ，ｓ），３．４−４．０
（３Ｈ，ｍ），５．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），
５．２−５．３（１Ｈ，ｍ），５．８３（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝８および５Ｈｚ），６．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１
Ｈｚ），６．６−６．７（２Ｈ，ｍ），７．２０（２
Ｈ，ｂｒｓ），９．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）
−アセトキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）−
（３Ｓ）−３−カルバモイルオキシ−１−ブテン−１−
イル］−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体） ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：１．１５（３Ｈ，ｄ，
Ｊ＝６Ｈｚ），２．２０（３Ｈ，ｓ），３．４−４．０
（３Ｈ，ｍ），５．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），
５．２−５．３（１Ｈ，ｍ），５．８３（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝８および５Ｈｚ），６．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１
Ｈｚ），６．６−６．７（２Ｈ，ｍ），７．２０（２
Ｈ，ｂｒｓ），９．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）
【００７８】実施例２０（１） 実施例１および１１と同様にして下記化合物を得る。 ７β−［２−（２−アミノチアゾ−ル−４−イル）−２
−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）−３
−（４−ピリジルオキシ）−１−プロペン−１−イル］
−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体） ＩＲ（ヌジョール）：１７５０，１５９０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：３．５５および３．７
３（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．７Ｈｚ），４．５−４．
８（２Ｈ，ｍ），５．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈ
ｚ），５．８３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１および４．８
Ｈｚ），５．７−５．８５（１Ｈ，ｍ），６．４６（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．６Ｈｚ），６．６７（１Ｈ，ｓ），
６．９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），７．１４（２
Ｈ，ｂｒｓ），８．４０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈ
ｚ），９．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），１１．
３３（１Ｈ，ｓ）
−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）−３
−（４−ピリジルオキシ）−１−プロペン−１−イル］
−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体） ＩＲ（ヌジョール）：１７５０，１５９０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：３．５５および３．７
３（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．７Ｈｚ），４．５−４．
８（２Ｈ，ｍ），５．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈ
ｚ），５．８３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１および４．８
Ｈｚ），５．７−５．８５（１Ｈ，ｍ），６．４６（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．６Ｈｚ），６．６７（１Ｈ，ｓ），
６．９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），７．１４（２
Ｈ，ｂｒｓ），８．４０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈ
ｚ），９．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），１１．
３３（１Ｈ，ｓ）
【００７９】実施例２０（２） 実施例１および１１と同様にして下記化合物を得る。 ７β−［２−（２−アミノチアゾ−ル−４−イル）−２
−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）−３
−（ピリミジン−５−イル）オキシ−１−プロペン−１
−イル］−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性
体） ＩＲ（ヌジョール）：１７５０，１６５０，１６００ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：３．５５および３．７
３（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．９Ｈｚ），４．７−４．
９５（２Ｈ，ｍ），５．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈ
ｚ），５．７９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２および４．９
Ｈｚ），５．７５−５．９（１Ｈ，ｍ），６．５０（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．９Ｈｚ），６．６６（１Ｈ，ｓ），
７．１３（２Ｈ，ｂｒｓ），８．５３（２Ｈ，ｓ），
８．８２（１Ｈ，ｓ），９．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
２Ｈｚ），１１．３１（１Ｈ，ｓ）
−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）−３
−（ピリミジン−５−イル）オキシ−１−プロペン−１
−イル］−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性
体） ＩＲ（ヌジョール）：１７５０，１６５０，１６００ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：３．５５および３．７
３（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．９Ｈｚ），４．７−４．
９５（２Ｈ，ｍ），５．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈ
ｚ），５．７９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２および４．９
Ｈｚ），５．７５−５．９（１Ｈ，ｍ），６．５０（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．９Ｈｚ），６．６６（１Ｈ，ｓ），
７．１３（２Ｈ，ｂｒｓ），８．５３（２Ｈ，ｓ），
８．８２（１Ｈ，ｓ），９．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
２Ｈｚ），１１．３１（１Ｈ，ｓ）
【００８０】実施例２０（３） 実施例１および１１と同様にして下記化合物を得る。 ７β−［２−（２−アミノチアゾ−ル−４−イル）−２
−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−（３−ウレイ
ド−１−プロペン−１−イル）−３−セフェム−４−カ
ルボン酸（シン異性体） ＩＲ（ヌジョール）：１７６０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：３．５−３．８（４
Ｈ，ｍ），５．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），
５．３５−５．５（３Ｈ，ｍ），５．７３（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝８．２および４．８Ｈｚ），６．１２（１Ｈ，
ｍ），６．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．６Ｈｚ），６．
６６（１Ｈ，ｓ），７．１３（２Ｈ，ｂｒｓ），９．４
５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），１１．３２（１Ｈ，
ｓ）
−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−（３−ウレイ
ド−１−プロペン−１−イル）−３−セフェム−４−カ
ルボン酸（シン異性体） ＩＲ（ヌジョール）：１７６０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：３．５−３．８（４
Ｈ，ｍ），５．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），
５．３５−５．５（３Ｈ，ｍ），５．７３（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝８．２および４．８Ｈｚ），６．１２（１Ｈ，
ｍ），６．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．６Ｈｚ），６．
６６（１Ｈ，ｓ），７．１３（２Ｈ，ｂｒｓ），９．４
５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），１１．３２（１Ｈ，
ｓ）
【００８１】実施例２０（４） 実施例１および１１と同様にして下記化合物を得る。 ７β−［２−（２−アミノチアゾ−ル−４−イル）−２
−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）−３
−ジメチルカルバモイルチオ−１−プロペン−１−イ
ル」−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体） ＩＲ（ヌジョール）：１７６０，１７２０，１６４０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：２．９２（６Ｈ，
ｓ），３．３５−３．７（２Ｈ，ｍ），３．４７および
３．６７（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．７Ｈｚ），５．１
８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），５．４９（１Ｈ，ｄ
ｔ，Ｊ＝１１．４および７．５Ｈｚ），５．７７（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２および４．８Ｈｚ），６．２４
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．４Ｈｚ），６．６６（１Ｈ，
ｓ），７．１３（２Ｈ，ｂｒｓ），９．４６（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）−３
−ジメチルカルバモイルチオ−１−プロペン−１−イ
ル」−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体） ＩＲ（ヌジョール）：１７６０，１７２０，１６４０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：２．９２（６Ｈ，
ｓ），３．３５−３．７（２Ｈ，ｍ），３．４７および
３．６７（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．７Ｈｚ），５．１
８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），５．４９（１Ｈ，ｄ
ｔ，Ｊ＝１１．４および７．５Ｈｚ），５．７７（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２および４．８Ｈｚ），６．２４
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．４Ｈｚ），６．６６（１Ｈ，
ｓ），７．１３（２Ｈ，ｂｒｓ），９．４６（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
【００８２】実施例２０（５） 実施例１および１１と同様にして下記化合物を得る。 ７β−［２−（２−アミノチアゾ−ル−４−イル）−２
−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）−３
−カルバモイルメチルチオ−１−プロペン−１−イル］
−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体） ＩＲ（ヌジョール）：３３００，１７４０，１６５０，
１５８０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：２．９７および３．０
８（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１４．３Ｈｚ），３．３３およ
び３．３９（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝９．４Ｈｚ），３．４
９および３．６６（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．９Ｈ
ｚ），５．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），５．５
６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１１．４および６．５Ｈｚ），
５．７７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２および４．８Ｈ
ｚ），６．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．４Ｈｚ），６．
６６（１Ｈ，ｓ），７．０６および７．４２（２Ｈ，ｂ
ｒｓ），７．１３（２Ｈ，ｂｒｓ），９．４８（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），１１．３１（１Ｈ，ｓ）
−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）−３
−カルバモイルメチルチオ−１−プロペン−１−イル］
−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体） ＩＲ（ヌジョール）：３３００，１７４０，１６５０，
１５８０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：２．９７および３．０
８（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１４．３Ｈｚ），３．３３およ
び３．３９（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝９．４Ｈｚ），３．４
９および３．６６（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．９Ｈ
ｚ），５．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），５．５
６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１１．４および６．５Ｈｚ），
５．７７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２および４．８Ｈ
ｚ），６．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．４Ｈｚ），６．
６６（１Ｈ，ｓ），７．０６および７．４２（２Ｈ，ｂ
ｒｓ），７．１３（２Ｈ，ｂｒｓ），９．４８（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），１１．３１（１Ｈ，ｓ）
【００８３】実施例２１ ７β−［２−（２−アミノチアゾ−ル−４−イル）−２
−アセトキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｅ）−３
−カルバモイルメトキシ−１−プロペン−１−イル］−
３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチル（シン
異性体）（３．２２ｇ）とアニソ−ル（３．２ｍｌ）と
のジクロロメタン（１６ｍｌ）溶液に５℃でトリフルオ
ロ酢酸（６．４ｍｌ）を加える。混合物を、５℃で１．
５時間攪拌する。反応混合物を、ジイソプロピルエ−テ
ルに注入する。沈殿物を濾取し、減圧下で乾燥して、７
β−［２−（２−アミノチアゾ−ル−４−イル）−２−
アセトキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｅ）−３−
カルバモイルメトキシ−１−プロペン−１−イル］−３
−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）・トリフル
オロ酢酸塩（２．０７ｇ）を得る。 ＩＲ（ヌジョール）：１７３０，１６４０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：２．１９（３Ｈ，
ｓ），３．６５（２Ｈ，ｓ），３．６−３．８（２Ｈ，
ｍ），４．１４（２Ｈ，ｓ），５．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝５Ｈｚ），５．８３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５，８Ｈ
ｚ），６．０−６．２（１Ｈ，ｍ），６．８５（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ），７．１１（１Ｈ，ｓ），７．１−
７．３（２Ｈ，ｍ），９．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）
−アセトキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｅ）−３
−カルバモイルメトキシ−１−プロペン−１−イル］−
３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチル（シン
異性体）（３．２２ｇ）とアニソ−ル（３．２ｍｌ）と
のジクロロメタン（１６ｍｌ）溶液に５℃でトリフルオ
ロ酢酸（６．４ｍｌ）を加える。混合物を、５℃で１．
５時間攪拌する。反応混合物を、ジイソプロピルエ−テ
ルに注入する。沈殿物を濾取し、減圧下で乾燥して、７
β−［２−（２−アミノチアゾ−ル−４−イル）−２−
アセトキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｅ）−３−
カルバモイルメトキシ−１−プロペン−１−イル］−３
−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）・トリフル
オロ酢酸塩（２．０７ｇ）を得る。 ＩＲ（ヌジョール）：１７３０，１６４０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：２．１９（３Ｈ，
ｓ），３．６５（２Ｈ，ｓ），３．６−３．８（２Ｈ，
ｍ），４．１４（２Ｈ，ｓ），５．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝５Ｈｚ），５．８３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５，８Ｈ
ｚ），６．０−６．２（１Ｈ，ｍ），６．８５（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ），７．１１（１Ｈ，ｓ），７．１−
７．３（２Ｈ，ｍ），９．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈ
ｚ）
【００８４】実施例２２（１） 実施例１１と同様にして下記化合物を得る。 ７β−［２−（２−アミノチアゾ−ル−４−イル）−２
−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）−
（３Ｓ）−３−カルバモイルオキシ−１−ブテン−１−
イル］−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体） ＩＲ（ヌジョール）：１７４０，１６５０，１５８０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：１．１６（３Ｈ，ｄ，
Ｊ＝５Ｈｚ），３．４５および３．６５（２Ｈ，ＡＢ
ｑ，Ｊ＝１７Ｈｚ），５．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈ
ｚ），５．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１および９Ｈ
ｚ），５．７５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８および５Ｈｚ），
６．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ），６．４３（２
Ｈ，ｂｒｓ），６．６５（１Ｈ，ｓ），７．１３（２
Ｈ，ｂｒｓ），９．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）
−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）−
（３Ｓ）−３−カルバモイルオキシ−１−ブテン−１−
イル］−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体） ＩＲ（ヌジョール）：１７４０，１６５０，１５８０ｃ
ｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：１．１６（３Ｈ，ｄ，
Ｊ＝５Ｈｚ），３．４５および３．６５（２Ｈ，ＡＢ
ｑ，Ｊ＝１７Ｈｚ），５．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈ
ｚ），５．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１および９Ｈ
ｚ），５．７５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８および５Ｈｚ），
６．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ），６．４３（２
Ｈ，ｂｒｓ），６．６５（１Ｈ，ｓ），７．１３（２
Ｈ，ｂｒｓ），９．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）
【００８５】実施例２２（２） 実施例１１と同様にして下記化合物を得る。 ７β−［２−（２−アミノチアゾ−ル−４−イル）−２
−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｅ）−３
−カルバモイルメトキシ−１−プロペン−１−イル］−
３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体） ＩＲ（ヌジョール）：１７４０，１６２０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：３．５５および３．７
６（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７Ｈｚ），３．８０（２Ｈ，
ｓ），４．１０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．１６
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．７５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝５Ｈｚ），６．０７（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝６，１６Ｈ
ｚ），６．６６（１Ｈ，ｓ），６．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝１６Ｈｚ），７．１４（２Ｈ，ｂｒｓ），７．２９
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ），９．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８Ｈｚ），１１．４（１Ｈ，ｂｒｓ）
−ヒドロキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｅ）−３
−カルバモイルメトキシ−１−プロペン−１−イル］−
３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体） ＩＲ（ヌジョール）：１７４０，１６２０ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６ ）δ：３．５５および３．７
６（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７Ｈｚ），３．８０（２Ｈ，
ｓ），４．１０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．１６
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．７５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝５Ｈｚ），６．０７（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝６，１６Ｈ
ｚ），６．６６（１Ｈ，ｓ），６．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝１６Ｈｚ），７．１４（２Ｈ，ｂｒｓ），７．２９
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６Ｈｚ），９．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８Ｈｚ），１１．４（１Ｈ，ｂｒｓ）
【００８６】実施例２３ ７β−ホルムアミド−３−［（Ｅ）−３−カルバモイル
メトキシ−１−プロペン−１−イル］−３−セフェム−
４−カルボン酸ジフェニルメチル（６．９ｇ）のメタノ
−ル（１００ｍｌ）中懸濁液に、濃塩酸（１７．０ｍ
ｌ）を５℃で加え、混合物を室温で１８時間攪拌する。
得られた溶液を酢酸エチルと氷水の混合物に注入し、５
Ｎ水酸化ナトリウム水溶液で、ｐＨ７に調整する。有機
層を分取し、水と食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥し、溶媒を減圧下で留去して、粗７β−アミノ−３
−［（Ｅ）−３−カルバモイルメトキシ−１−プロペン
−１−イル］−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニ
ルメチル（２．８８ｇ）を得る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：２．３７（２Ｈ，ｂｒ
ｓ），３．５−３．９（２Ｈ，ｍ），３．７４（２Ｈ，
ｓ），３．９７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），４．６
２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝５Ｈｚ），６．１５（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１６．１およ
び５．５Ｈｚ），６．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．１Ｈ
ｚ），６．９５（１Ｈ，ｓ），７．１４および７．３０
（２Ｈ，ｂｒｓ），７．２−７．６（１０Ｈ，ｍ）
メトキシ−１−プロペン−１−イル］−３−セフェム−
４−カルボン酸ジフェニルメチル（６．９ｇ）のメタノ
−ル（１００ｍｌ）中懸濁液に、濃塩酸（１７．０ｍ
ｌ）を５℃で加え、混合物を室温で１８時間攪拌する。
得られた溶液を酢酸エチルと氷水の混合物に注入し、５
Ｎ水酸化ナトリウム水溶液で、ｐＨ７に調整する。有機
層を分取し、水と食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥し、溶媒を減圧下で留去して、粗７β−アミノ−３
−［（Ｅ）−３−カルバモイルメトキシ−１−プロペン
−１−イル］−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニ
ルメチル（２．８８ｇ）を得る。 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：２．３７（２Ｈ，ｂｒ
ｓ），３．５−３．９（２Ｈ，ｍ），３．７４（２Ｈ，
ｓ），３．９７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），４．６
２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），５．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝５Ｈｚ），６．１５（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１６．１およ
び５．５Ｈｚ），６．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．１Ｈ
ｚ），６．９５（１Ｈ，ｓ），７．１４および７．３０
（２Ｈ，ｂｒｓ），７．２−７．６（１０Ｈ，ｍ）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 501/38 7602−4Ｃ
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式： 【化１】 ［式中、Ｒ1 はアミノ基またはアシルアミノ基、 Ｒ2 はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基、 Ｒ3 は水素、ヒドロキシ保護基、アリ−ル基、複素環
基、アシル基またはアシル（低級）アルキル基、 Ｒ7 は水素または低級アルキル基、および−Ｚ−は
−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＨ−をそれぞれ表す］で表さ
れる新規セフェム化合物およびその医薬として許容され
る塩。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5191164A JPH0748382A (ja) | 1993-08-02 | 1993-08-02 | 新規セフェム化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5191164A JPH0748382A (ja) | 1993-08-02 | 1993-08-02 | 新規セフェム化合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0748382A true JPH0748382A (ja) | 1995-02-21 |
Family
ID=16269970
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5191164A Pending JPH0748382A (ja) | 1993-08-02 | 1993-08-02 | 新規セフェム化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0748382A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7122693B2 (en) * | 1988-04-11 | 2006-10-17 | Shire Biochem Inc. | Acetaldehyde acetal compounds, their synthesis, and uses thereof |
-
1993
- 1993-08-02 JP JP5191164A patent/JPH0748382A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7122693B2 (en) * | 1988-04-11 | 2006-10-17 | Shire Biochem Inc. | Acetaldehyde acetal compounds, their synthesis, and uses thereof |
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