JPS63146203A - 磁気ヘツドコア - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、磁気ギャップを形成する一対のハーフコアの
突合せ面を金属磁性体とし、一対のハーフコアをガラス
によって接合するとともに、一方のハーフコアに磁気ギ
ャップ深さ規制溝を形成しこの規制溝の一部に存在する
ガラスが他方のハーフコアの金属磁性体と接合するタイ
プの磁気ヘッドコアに関する〇 〔従来技術およびその問題点〕 磁気ギャップを形成する一対のハーフコアの突合せ面を
金属磁性体としたタイプの磁気ヘッドコアとして、従前
出願人自ら、第３図ａ％　ｂに示すような磁気ヘッドコ
アを提案した（特願昭６１−２１４７５５号）。この磁
気ヘッドは、磁気ギャップ１２を形成する一対のハーフ
コア１１の突合せ面を金属磁性体１４で構成し、磁気ギ
ャップ１２の幅をトラッり幅規制溝１５に充填したガラ
ス１６で規制している。

磁気ギャップ１２の深さは、磁気ギャップ深さ規制溝１
８で頬制され、この溝に存在するガラス１６が他方のハ
ーフコア１１の金属磁性体１４の突合せ面１４ａに接し
ている。なお、磁気ギャップ１２の長さはハーフコア１
１の突合せ面にスパッタリング等の薄膜形成手段により
Ｓ１０．が付着され、この８ｉ０．がギャップスペーサ
−１２ａとして磁気ギャップ１２の長さを規制している
。

なお、２０は突合せ面１４ａ以外の金属磁性体１４上に
形成した侵食防止膜で、該侵食防止膜２０は前記ガラス
１６による金属磁性体１４の侵食を防止している。また
、該磁気ヘッドの製造方法は前記出願（特願昭６１−２
１４７５５号）を参照されたい。

このような磁気ヘッドコアでは、第３図ｂｉｃ磁気ギャ
ップ１２付近を拡大して模式的に示すように、金ＪＩＪ
ｉａ１性体１４の突合せ面１４Ｈには侵食防止膜２０が
形成されておらず、該突合せ面１４８が磁気ギャップ深
さ規制溝１８に存在するガラス１６と接している。

この場合、ギャップスペーサ−１２８はガラス１６に溶
解する為、金属磁性体１４の突合せ面１４ａはガラス１
６と直接接触し、侵食され、その結果、ガラス１６内に
気泡２１を発生させる。この気泡２１は溶融しているガ
ラス１６内を移動し、磁気ギャップ１２の両脇に位置し
、磁気特性を劣化するという問題があった。

〔発明の目的〕

本発明は、従来のこの種の磁気ヘッドコアの問題点であ
る、磁気ギャップ深さ規制溝に存在するカラスによる金
属磁性体の突合せ面への侵食を防止し、気泡の防止によ
る磁気特性の向上、を図ることを目的としている。

〔発明の概要〕

本発明は、従前の磁気ヘッドコアの問題点が、磁気ギャ
ップを形成する金属母性体の突合せ面力入磁気ギャップ
粂さ規制溝に存在するガラスに１１接接触してしまうた
めに生じるとの認識の下に完成されたものである。

すなわち、本発明による磁気ヘッドは、山気ギャップを
形成する金属磁性体の突合せ而にギャップスペーサ−の
代用、あるいは、その一部として侵食防止膜を形成し、
磁気ギャップ深さ規制溝に存在するガラスによる金ｘｉ
性体突合せ面の侵食を防止するようにしたことを特徴と
する。

〔発明の実施例〕

以下に、本発明による磁気ヘッドコアの一実施例を第１
図ａ、ｂに基いて説明する。なお、第３図ａ、ｂにおい
て共通する部材には、同一符号を付して説明を省略する
。

本発明では、ハーフコア１１の金属磁性体１４の突合せ
面１４ａに活性化金属の単層膜または活性化金属と、金
属酸化物の積層膜からなる侵食防止膜１７を形成してい
る。また侵食防止膜１７を活性化金属・金搗酸化物の袢
合体から構成してもよい。この場合、活性化金属として
は、Ｃｒ、　Ｔｉ、　Ｚｒ、紺等が好ましく、金属酸化
物としてはＳｉｎ、　、　’ｌ’ａｌ（Ｊ、などが好ま
しい。活性化金属・金属酸化物の複合体としては、例え
ばＯｒと８ｉＵ、の複合体焼結ターゲットをスパッタリ
ングして形成する。この場合、浸食防止１１！！！１７
の厚さは、はぼ磁気ギャップ１２の長さに相当すること
になるが、侵食防止膜１７としては数１０ＯＡでよく、
一般に磁気ギャップＩ２としては数１００ＯＡが必要と
されるところから、侵食防止＃１７の厚さは、磁気ギャ
ップ１２として必要な任意の厚さに設定することが可能
である。

次に、本発明による磁気ヘッドコアの製造方法を、製造
工程順に説明する。

第１工程で、ハーフコアブロック１１の突合せ而１１ａ
に、くさび状の′Ｉｌ！膜付ｙＩｉ溝１３が形成される
（第２図ａ）。

＄２工程で、このＷＬＨＩｋ付着溝１３に、Ｆｅ−ん−
Ｓｉ系合金等よりなる金ｍｓ性体１４がスパッタリング
等により付着形成される（第２図ｂ）。

第３工糧で、金＊＠性体１４かラップ研Ｈされ、薄膜付
Ｍ溝１３内の金属孔性膜１４たけか残される（第２図Ｃ
）。

第４工程で、金属−性体１４の付着された薄膜付層＠１
３に隣接し、この薄膜付着溝１３の一部を切り欠くよう
に、トラック幅規１ｔｌＪ溝１５が加工形成される（第
２幽ｄ）。

次の第５の工程で、侵食防止ｆｆ１２Ｑが、金属磁性体
１４とトラック幅親制＄１５にスパッタリング等の薄膜
付着手段により形成される（第２図ｅ）。このような侵
食防止１！１１２０は、次の工程であるガラス１６の＃
Ｍ充填時に、バー７コアブロツク１１の材料であるフエ
ライ）ｌや金属磁性体１４の材料である１”ｅ　−ＡＩ
　−Ｓｉ系合金等が、ガラス１６により侵食されるのを
防ぐものである。

第５工程で侵食防止膜２０の形成が終了した稜、紺６エ
程では、この侵食防止膜２０上にガラス１６が溶融充填
される。こわで、ガラス１６は、侵食防止膜２０を介し
て、金ｘｉ性体１４と侵食防止膜加の空間に光埴ざｎる
（第２図ｆ）。

そして、第７エ程で、ガラス１６は、金ｓｔｉ性勝１４
の接合面１４ｂかＰｊＴ５￥：量露出するまで砥石によ
りラップ研磨され、磁気ギャップ１２のギャップ幅か決
定される（＠２図ｇ）。

第８工程で、接合面１４ｂの研磨の終了した一万のハー
フコアブロック１１に、褥び、浸食防止膜１７をスパッ
タリング等のｒＩ！膜付溜手段により形成される（第２
図ｈ）。なお、侵食防止膜１７の匣さを磁気ギャップ１
２の＃−さより薄くシた場合は、その上にＳｉｎ、を付
着してギャップ長とすれば良い。

婦後の第９工程でや方のハーフコアブロック１１にトラ
ック＠却、制溝１へ七直交するように磁気ギャップ深さ
規制＃１８を設け、両ブロック１１の８気ギヤツプ１２
となるべき突合せ面１４ａを位置決めして突き合わされ
、両ハーフコアブロック１１が接合されて、接合コアブ
ロックとなる（第２図ｉ）。この接合コアフロックを切
断ＭＡ−Ｈに沿って所定幅Ｓで切断すると、駈１図ａで
示すような磁気ヘッドコアが得られる。

〔発明の効果〕

以上説明したように１本発明の磁気ヘッドコアは、金Ｆ
Ｉ４ａ性体突合せ面に、侵食防止膜を形成することによ
り突合せ面の金ｘｉ性体とガラスの接触を避けたもので
ある、よってガラスによる金属磁性体への侵食をこの侵
食防止膜により防ぐことができ、この（−山気ヘッドの
砲気特性は向上する。

【図面の簡単な説明】 第１図ａは本発明による磁気ヘッドコアの斜視図、第１
図すは第１図ａのギャップ付近の拡大平面図、第２図ａ
ないしｉは本発明による磁気ヘッドコアの製造方法の工
程を犀次示すもので、ａないしｈは斜視図、ｉは正面向
、第３図ａは従来の磁気ヘッドコアの斜視図、第３図す
は第３図ａのギャップ付近の拡大平面図である。 １１・・・ハーフコア １２・・・磁気ギャップ １２ａ・・・ギャップスペーサ−（Ｓｉ０２）１３・・
・薄膜付着溝 １４・・・金属磁性体 １４ａ・・・金楓磁性体突合せ面 １５・・・トラック幅規制溝 １６・・・ガラス １７・・・侵食防止膜（ギャップスペーサ−）１８・・
・磁気ギャップ深さ規制溝 ２０・・・侵食防止膜 寥　１　図 第　２　図 （ｂ） 第　２　図 （ｄン （ｆ） ′ＩｆＩ２　　図 弔　３　図 （ｂ）

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）磁気ギャップを形成する一対のハーフコアの突合
   せ面の少くとも一方の突合せ面を金属磁性体とするとと
   もに上記磁気ギャップの幅をトラック幅規制溝に充填し
   たガラスによって規制し、上記磁気ギャップの深さを他
   方のハーフコアに形成した磁気ギャップ深さ規制溝で規
   制し、且つ上記金属磁性体の突合せ面と上記磁気ギャッ
   プ深さ規制溝に存在するガラスが接触するような磁気ヘ
   ッドにおいて、上記金属磁性体の突合せ面に侵食防止膜
   形成させたことを特徴とする磁気ヘッドコア。
2. （２）特許請求の範囲第一項において、上記侵食防止膜
   が活性化金属の単層からなっている磁気ヘッドコア。
3. （３）特許請求の範囲第１項において、上記侵食防止膜
   が活性化金属と金属酸化物の積層膜からなっている磁気
   ヘッドコア。
4. （４）特許請求の範囲第１項において、上記侵食防止膜
   が活性化金属・金属酸化物の複合体からなっている磁気
   ヘッドコア。