JPS63144402A - 磁気ヘツドコアの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「技術分野」 本発明は、ハーフコアの突合わせ面に対しで傾斜した薄
膜付着溝を形成し、この薄膜付着溝に付着ざぜた金属磁
性膜の投合面を磁気ギャップとし、コイル巻線溝か磁気
ギャップのギヤ・ンブデブスを規制するタイプの磁気ヘ
ッドコアの製造方法に関する。

「従来技術およびその問題点」 この種の磁気ヘッドヘッドコアの一例として、従来では
、第５図に示すものが提案されでいる。

フェライト等の酸化物磁性体からなる一対のハーフコア
１１の突合せ面には、それぞれ形成すべき磁気ギャップ
１２に対し傾斜した薄膜付着溝１３が上下関係を逆（ご
して形成されており、この薄膜付着溝１３に、スパッタ
リング、蒸着等の薄膜形成手段により、センダスト等の
金ａ性薄膜１４が保護膜１５とともに付着されでいる。

ざらに、ハーフコア１１の突合せ面には、トラック幅規
制溝１６が、薄膜付着溝１３に対向して対称関係に形成
されでいる。このトラック幅規制溝１５は、隣り合う薄
膜付着溝１３の一部を切り欠くように形成されでいる。

磁気ギャップ１２は、薄膜付着溝１３に付着形成された
金ａ磁性膜１４の端面を付き合わせで形成されている。

そして、はぼＶ字状をなす金属磁性膜１４の空間とトラ
・ンク幅規制溝１６の空間には、ガラス等の非磁性酸化
物接合材料（以下、単にガラスという）１７が充填され
、一対のハーフコア１１か接合固着されている。

ざらに、上記のような磁気ヘッドコアの一方のハーフコ
ア１］の突合せ面には、コイル巻線溝１８か、薄膜付着
溝］３の形成方向と直交して形成されでいる。このコイ
ル巻線溝１８のＭ５図における上端面（アペックスａ）
は、磁気ギャップ１２のギャップデプスを規制する役割
を果たしでいる。

このような磁気ヘッドは、例えば第４図（ａ）ないしく
９）に示す工程に従って製造される。

まず、ハーフコアブロック１１の突合せ面１１ａに対し
、Ｖ字状の薄膜付着溝１３を形成（第４図（ａ）Ｌ、こ
の薄膜付着溝１３に対し、センダスト等の金属磁性膜１
４をスパッタリング等の方法で付着形成する（第４図（
ｂ））。

次に、突合わせ面１１ａをラップ研磨して薄膜付着溝１
３内にこの金属磁性膜１４＠残した後、薄膜付着溝１３
にｗ４接させ、かつ−側が金属磁性膜１４の一部にかか
るように、トラック幅規制溝１６を加工形成する（第４
図（ｃ））。

次に、金属磁性膜１４の付着された薄膜付着溝およびト
ラック幅規制溝１６に対して、保護膜１５をスパッタリ
ング等の方法で付着形成した後、この保護膜１５を介し
た金属磁性膜１４のＶ字状空間とトラック幅規制溝１５
の空間に、ガラス１７を溶融充填する（第４図（ｄ））
。

その後、突合せ面側から、薄膜付着溝の形成方向と直交
させて、ハーフコアブロック１１に至る深さで所定のコ
イル巻線溝１８を形成する（第４図（ｅ））。

次に、突合わせ面１１８！ラップ研磨しで、ガラス１７
を、金属磁性膜１４のＶ字状空間とトラック幅規制溝１
５の空間に残し、磁気ギャップ１２となるべき金属磁性
膜１４端面のギャップ幅を決定する（第４図（ｆ））。

最債に、突き合せ面１１ａにスパッタリング等の方法で
ギャップスペーサを形成し、磁気ギャップ１２を形成す
べく金属磁性膜１４端面を突合せ、位置決めしてハーフ
コアブロック１１を接合ガラスによって接合する。そし
て、磁気記録媒体（図示省略）との摺接面１９そ所定幅
で凸型加工し、その債、磁気ギャップ１２毎に切断線Ｘ
−Ｙにン台っで切断し、磁気コアチップを切り出す（第
４図（９乃ことによって、第５図に示す磁気ヘッドコア
か得られる。

このような工程によって製造される従来の磁気ヘッドコ
アは、磁気ギャップ１２のギャップデプスを規制するコ
イル巻線溝１８の上端部分、別言すれば金属磁性膜１４
双方の接合部内端（アペックスａ）付近が、第６図に拡
大して模式的に示すような構造になっている。すなわち
、磁気ギャップ１２そ形成しでいる金属磁性膜１４のう
ちの一方の内端部か、コイル巻線溝１８に露出した状態
となっている。そのため、金属磁性膜１４の露出した部
分で接合ガラスの気泡Ａか発生し易くなっている。この
気泡Ａは、磁気ギャップ１２のアペックスａよつ上方に
入り込んで、ギャップデプスを不正確にする。

また、コイル巻線溝１８の加工工程においでは、ガラス
］７とこれより硬度の高いフェライトよりなるハーフコ
アブロック１１の双方を研磨しなければならないので、
砥石も硬度の高いフェライトに合わせた、粒径か比較的
荒い堅めのものを用いる必要がある。ところが、このよ
うな砥石でコイル巻線溝１８の加工を行なうと、アペッ
クス近傍において金属磁性膜１４と接合しているハーフ
コアブロック１１の接合部付近にチッピングＢが入つ易
くなる。

ざらに、コイル巻線溝１８の加工は、ギャップデプスの
規制をも兼ねで行なわれるため、コイル巻線溝１８のギ
ャップデプス規制側の面内に残すガラスの量に自由度が
なくなっている。

「発明の目的」 本発明は、従来のこの種の磁気ヘッドコアの製造方法に
より生じる上記問題点を解消し、アペックス近傍におけ
る金属磁性膜からの気泡の発生を低減させ、金属磁性膜
との接合部付近のハーフコアのチッピングの発生を抑え
、コイル巻線溝のギャップデプス規制側の面に必要なガ
ラス！を残すことのできる磁気ヘッドコアの製造方法を
提供することを目的とする。

「発明の概要」 本発明は、従来の磁気ヘッドコアの製造方法の問題点が
、ガラス充填後にあけるコイル巻線溝の形成によって、
磁気ギャップのギャップデプスをも同時に規制しようと
するため、せっかく形成した保護膜が効果的に活かせな
いとの問題意識の下に完成されたものである。

そのため、本発明による磁気ヘッドの製造方法は、一対
のハーフコアブロックの突合せ面に薄膜付着溝を形成し
、この薄膜付着溝に磁気ギャップを形成すべき金属磁性
膜を付着させた後、この薄膜付着溝と直交させてギャッ
プデプスを規制するデプス規制溝を形成し、このデプス
規制溝に跨つ、かつ薄膜付着溝にＩＩＦｌ接させてトラ
ック幅規制溝を形成し、次に上記デプス規制溝と薄膜付
着溝およびトラック幅規制溝の全面を覆うように保護膜
を形成してから、この保護膜を形成したデプス牌制溝と
薄膜付着溝およびトラック幅規制溝内にガラスを溶融充
填し、次に保：Ｊ膜を付着させたデプス規制溝のデプス
規制面にガラスを残してこのデプス規制溝に重ねてコイ
ル巻線溝を形成し、しかる後、突合せ面を研磨して磁気
ギャップとなる金属磁性膜の端面を露出させた後、この
金属磁性膜の端面を突合せてハーフコアブロックを接合
し、その後にこの接合コアブロックを磁気ギャップ毎に
切断することを特徴とする。

「発明の実施例」 以下に、本発明による磁気ヘッドコアの製造方法の一実
施例を篤１図（ａ）ないしくｈ）の工程順に説明する。

まず、ハーフコアブロック１１の突合せ面１１ａに対し
、Ｖ字状の薄膜付着溝１３を形成（第１図（ａ））シ、
この薄膜付着溝１３に対し、センダスト等の金属磁性膜
１４をスパッタリング等の方法で付着形成する（第２図
（ｂ））、これまでの工程は従来例と同様である。

次いで、突合わせ面１１ａ！ラップ研磨しで、薄膜付着
溝１３内に金属磁性膜１４を残した後、薄膜付着溝１３
の形成方向に直交させて、所定位置にデプス規制溝３０
を形成する（蔦１図（Ｃ））。

このデプス規制溝３０は、磁気ギャップ１２のギャップ
デプスを規制するためのものである。

デプス規制溝３０の形成後、このデプス規制溝３０に跨
からせ、かつ薄膜付着溝１３に近接させて、この薄膜付
着溝１３に付着形成された金属磁性膜１４の一部を切り
欠くように、トラック幅規制溝１６を加工形成する。（
第１図（ｄ））。

次に、金属磁性膜１４の形成された薄膜付着溝１３とデ
プス規制溝３０およびトラ・ンク幅規制溝１６に、スパ
ッタリング等の薄膜付着手段によって保護膜３１を形成
し、その上からガラス１７を溶融充填する（第１図（ｅ
））、保護膜３１は、Ｃｒ。

Ｔｉ、　２ｎ、　Ｈｆなどの活性化金属あるいはＳ　ｉ
Ｏ□、　Ｔａ２０５などの金Ｒ酸化物のいずれかを単層
に形成してもよいが、上記活性化金属と金庫酸化物を積
層に形成することもできる。積層形成の場合は、例えば
ますＣｒ％スパッタリングし、更にこの上からＳｉＯ□
をスパッタリングして形成する。また、保護膜３１は、
上記の活性化金属と金属酸化物の複合体により形成する
こともできる。この場合は、例えばＣｒとＳｉＯ□の複
合体焼結ターゲットをスパッタリングしで形成する。こ
のような保護膜３］は、ガラス１７の溶融充填時に、ハ
ーフコアブロック１１の材料であるフェライト等の酸化
物磁性体や、金属磁性膜１４の材料であるセンダスト等
が、ガラス１６により侵食されるのを防ぐものであると
同時に、金属磁性膜１４の巻線溝側への端部の露出を防
ぎ、露出による気泡の発生を抑制するものであって、本
発明の特徴とするものである。

次に、突合せ面１１ａ側から、デプス規制溝３０と平行
に、コイル巻線溝３２を形成する。このコイル巻線溝３
２は、保護膜３１の付着形成されたデプス規制溝３ｏの
一部を、デプス規制面３０ａ＠残して切り欠くように形
成される（第１図（ｆ））。

そして、次の工程で、突合わせ面１１ａを、金属磁性膜
１４の接合面が所定量露出するまで砥石によりラップ研
磨し、磁気ギャップ１２のギヤツブ幅を決定する（第１
図（９））。これて、デプス規制溝３０のデプス規制面
３０ａには、コイル巻線溝３２の研削幅に応じた量のガ
ラス１７が残される。

最後の工程で、接合面の研磨の終了した一対のハーフコ
アブロック１１を、磁気ギャップ１２となるべき接合面
を位胃決めして突き合わせ、接合ガラスにより接合して
接合コアブロックとする（第１図（ｈ））。そして、摺
接面１９１８所定幅で凸型に先端加工した後、この接合
コアブロックを切断線Ｘ−Ｙに沿って所定幅で切断する
ことで第２図で示すような磁気ヘッドコアか得られる。

上記の工程で得られた磁気ヘッドコアは、保護膜３１が
デプス規制溝３０のデプス規制面３０ａにも形成され、
このデプス規制面３０ａ上にはガラス１７も付着形成さ
れでいる。すなわち、保護膜３１は、突合わされて磁気
ギャップ１２＠形成する金届磁′注膜１４の一方で、ア
ペックス付近の端部にも形成されている。したがっで、
この保護膜３１により、金属磁性膜１４の端部か保護さ
れ、気泡の発生、あるいは気泡の磁気ギャップ内への侵
入を抑制することができる。また、コイル巻線溝３２は
、コイル巻線用にだけ形成され、ギャップデプスの規制
はデプス規制溝３０によってできるため、コイル巻線溝
３２の形成程度に応して、デプス規制面３０ａにガラス
１７の残る量を自由に調整することができる。ざら１こ
、コイル巻線溝３２は、その形成工程において、ギャッ
プデプス側の面を研削するときに、ガラス１７だけを研
削し、ハーフコアブロック１１には及ばない。したがっ
て、金属＠性膜１４との接合部付近でのチッどングの発
生を低減することができる。

「発明の効果」 以上説明したように、本発明の磁気ヘッドコアの製造方
法は、ギャップデプスを規制するためのデプス規制溝と
コイル巻線溝とを分け、両溝の形成を別工程で行ない、
保護膜を、その形成工程においでデプス規制溝にも形成
することで、アペックス近傍にあける金属磁性膜の端部
を覆うようにしたので、金属磁性膜端部からの気泡の発
生を低減することができるとともに、金属磁性膜と接す
るハーフコアのチッピングをも低減でき、デプス規制溝
に残されるガラスをコイル巻線溝の形成程度に応して必
要な量だけ残すことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）ないしくｈ）本発明による磁気ヘッドコア
の製造方法の一例を工程順に示す図、菌２図は第１図の
製造工程により得られた磁気ヘッドコアの斜視図、第３
図は第２図のＩ［Ｉ−ＩＩＩ線に沿う模式的断面図、第
４図（ａ）ないしく９）は従来の磁気ヘッドコアの製造
方法の工程１８順次示す図、第５図は第４図の製造工程
により得られた磁気ヘッドコアの斜視図、第６図は第５
図のＶｌ−Ｖｌに沿う模式的断面図である。 １１・・・ハーフコア（ハーフコアブロック）、１２・
・・磁気ギャップ、１３・・・薄膜付着溝、１４・・・
金属磁性膜、１５．３１・・・保護膜、１６・・・トラ
・ンク幅規制溝、１７・・・ガラス、１８．３２・・・
コイル巻線溝、３０・・・デプス規制溝、３０ａ・・・
デプス規制面。 （ａ） （ｂ） 第１図 ３゜ （ｃ） （ｄ） 第１図 （ｅ） （ｆ） 第１図 ３２　　　３０ｂ 第１図 第２図 第３図 １ａ （ａ） （ｂ） 第４図 （Ｃ） （ｄ） 第４図 （ｅ） （ｆ） 第４図 第４図

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）一対のハーフコアブロックの突合せ面に薄膜付着
   溝を形成し、この薄膜付着溝に磁気ギャップを形成すべ
   き金属磁性膜を付着させた後、この薄膜付着溝と直交さ
   せてギャップデプスを規制するデプス規制溝を形成し、
   このデプス規制溝に跨り、かつ薄膜付着溝に隣接させて
   トラック幅規制溝を形成し、次に上記デプス規制溝と薄
   膜付着溝およびトラック幅規制溝の全面を覆うように保
   護膜を形成してから、この保護膜を形成したデプス規制
   溝と薄膜付着溝およびトラック幅規制溝内にガラスを溶
   融充填し、次に保護膜を付着させたデプス規制溝のデプ
   ス規制面にガラスを残してこのデプス規制溝に重ねてコ
   イル巻線溝を形成し、しかる後、突合せ面を研磨して磁
   気ギャップとなる金属磁性膜の端面を露出させた後、こ
   の金属磁性膜の端面を突合せてハーフコアブロックを接
   合し、その後にこの接合コアブロックを磁気ギャップ毎
   に切断することを特徴とする磁気ヘッドコアの製造方法
   。
2. （２）特許請求の範囲第１項において、上記保護膜は活
   性化金属または金属酸化物の単層膜からなっている磁気
   ヘッドコアの製造方法。
3. （３）特許請求の範囲第１項において、上記保護膜は活
   性化金属と金属酸化物の積層膜からなっている磁気ヘッ
   ドコアの製造方法。
4. （４）特許請求の範囲第１項において、上記保護膜は活
   性化金属・金属酸化物の複合体からなっている磁気ヘッ
   ドコアの製造方法。