JPS63266607A - 磁気ヘッド - Google Patents

磁気ヘッド

Info

Publication number
JPS63266607A
JPS63266607A JP27027387A JP27027387A JPS63266607A JP S63266607 A JPS63266607 A JP S63266607A JP 27027387 A JP27027387 A JP 27027387A JP 27027387 A JP27027387 A JP 27027387A JP S63266607 A JPS63266607 A JP S63266607A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
gap
thin film
width
tape sliding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP27027387A
Other languages
English (en)
Inventor
Masato Gomyo
正人 五明
Kazuyasu Kaneko
金子 一康
Tsuneo Sato
恒雄 佐藤
Manabu Sakamoto
学 坂本
Masanori Yamaoka
山岡 正規
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nidec Sankyo Corp
Original Assignee
Nidec Sankyo Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nidec Sankyo Corp filed Critical Nidec Sankyo Corp
Priority to JP27027387A priority Critical patent/JPS63266607A/ja
Publication of JPS63266607A publication Critical patent/JPS63266607A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Magnetic Heads (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は磁気ヘッドに関する。更に詳述すると、本発明
は、強磁性酸化物材料のコアと強磁性金属薄膜とを組合
せた複合磁性材料から成る薄膜磁気ヘッドに関する。
(従来の技術) 最近の磁気記録の高密度化に伴なって、より高い残留磁
束密度Brを有する磁気テープが使用され、これに対応
すべく高磁束密度でトラック幅の狭い磁気ヘッドが要望
されている。
このような磁気ヘッドとしては、従来、特開昭60−2
23012号に明らかなように、強磁性酸化物より成る
コアに強磁性金属の薄膜を真空薄膜形成技術により形成
し、強磁性金属の薄膜間で磁気ギャップを形成する薄膜
磁気ヘッドが知られている。
この薄膜磁気ヘッドの一対の磁気コアの突合せ接合に際
しては、通常、それらの間に5i02等のスペーサを介
在させているが、このS i 02は少面積となる程磁
気抵抗となり、大面積となる程磁気抵抗としては無視で
きる。そこで、第6図〜第7図に示すように、磁気ギャ
ップを形成するテープ摺接面の近傍領域(以下本明細書
ではフロントコア部という)とそれ以外の部分(以下本
明細書ではバックコア部という)との面積比を大きくし
て出力特性の向上を図る磁気ヘッドが提案されている。
ここで、第6図の磁気ヘッドは、ギャップ対向面(本明
細書では磁気ギャップgに対して平行な突合せ接合面を
いう)102にテープ摺接面103と直交させて高融点
ガラス104を充填する消105と強磁性金属薄膜10
6を形成するトラック溝107とを一部オーバラヴプさ
せて平行に形成して成る一対の磁気コア101を突合せ
接合したものからギャップに対して略直角の方向にスラ
イスして切出されたものである。この磁気ヘッドは強磁
性金属の薄膜106と高融点ガラス104及びボンディ
ングのための低融点ガラス108の層が接合面即ちギャ
ップ対向面102に沿って全域に形成されている。
また、第7図の磁気ヘッドは、磁気コア201のギャッ
プ対向面202上に、テープ摺接面203から離れるに
従って徐々に浅くなる平面形状三角形の多角形溝205
と強磁性金属の薄11206を形成するためのトラック
溝207とを一部重複するように形成し、該溝部分20
5,207を重ね合せるように一対の磁気コアを突合せ
て接合し、テープ摺接面203と同間隔またはそれより
狭い間隔で磁気ギャップgの両側に溝を形成した後スラ
イシングして切出したものである。この磁気ヘッドは、
フロントコア部209とバックコア部210との境界を
成す肩部211全域にまで強磁性金属薄膜206と非磁
性のガラス204.208が露出している。
また、第8図の磁気ヘッドは、テープ摺接面303上に
巻線溝312に達する程度の深さのトラック溝307と
高融点ガラス304を充填する疑似ギャップ防止のため
の溝305とをギャップ対向面302近傍で交差するよ
うに設け、テープ摺接面303にスパッタリング用ター
ゲットを対向させてトラック溝307に強磁性金属薄g
 306を形成した磁気コア311突合せ接合したもの
から成形されたものである。
これら従来の磁気ヘッドにおいて、磁気ギャップを形成
する薄膜は、テープ摺動方向に膜厚が均一であることが
磁気特性上必要不可欠なものと従来考えられていた。こ
のため従来の磁気ヘッドはテープ摺接面に露出する膜厚
ができるだけ均一となるように、例えば第6図及び第7
図に示す磁気ヘッドのように肩部全域に露出する薄膜を
形成するか、あるいは第8図に示すようにテープ摺接面
に向けてスパッタリングを行ないテープ摺動方向に膜厚
が均一となるように薄膜を形成していた。
(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、第6図の磁気ヘッドの場合、バックコア
部の接合面にまで非磁性体104,108が存在するた
め、磁気抵抗が高くなり出力特性が落ちる。また、フロ
ントコア部をバックコア部に比して幅狭とするための溝
加工時及びスライス時の双方に強磁性金属薄M106を
砥石が通過するため、類型WA106の剥がれやひび割
れ等が発生する虞が高い。
また、第7図の磁気ヘッドの場合、第7図(B)に示す
ように高融点ガラス204を充填する溝205と一部オ
ーバラププさせてトラ・yり渭205を加工しなければ
ならないが、ガラス204とフェライト201の硬さが
異なるため加工が難しく、またトラック溝207と高融
点ガラス204との成す稜線212とテープ摺接面20
3との間の角度θを90°に出すことが難しい、このた
め、磁気コア201を突合せて接合する際に、金属薄7
11206が合わず、最終仕上げのための削り代が変動
するとトラック幅が変わる虞がある。
また、第8図の磁気ヘッドの場合、テープ摺接面303
に対向させてスパッタリングを行ない強磁性金属N W
A306を形成するため、ギャップgの深さ方向に向け
て各層が薄くなりがちであり、トラック幅を奥に向うほ
ど狭くする傾向にある。このため、テープ摺接面303
を最終仕上するときに、その削り量によってトラック幅
が違ってしまう虞があり、仕上加工の精度を極めて高い
ものとしなければならない不利がある。
そこで、本発明は、テープ摺接面部の磁気性能を落とさ
ず、スライシングによる強磁性金属の薄膜への悪影響を
少ないものとしかつ磁気抵抗を小さくした磁気ヘッドを
提供することを目的とする。
(問題点を解決するための手段) かかる目的を達成するなめ、本発明の磁気ヘッドは、テ
ープ摺接面をヘッドチップ全体の幅より小さくする一方
、トラック溝の側壁面に該トラック溝とギャップ対向面
との成す稜線に沿って略均一なM厚の強磁性金属の薄膜
を形成すると共にこの金属薄膜の露出部の幅をテープ摺
接面以上でかつチップ全体の幅より狭くすると共に前記
薄膜の膜厚を前記ギャップから離れるに従い徐々に小さ
く形成している。
(実施例) 以下本発明の構成を図面に示す実施例に基づいて詳細に
説明する。
第1図に本発明の磁気ヘッドの一実施例を斜視図で示す
、この磁気ヘッドは、フェライト等の強磁性酸化物から
成る一対の磁気コア1をs i o2等の低透磁率材料
のスペーサ2を介在させて突合せ接合し、その接合面即
ちギャップ対向面3にスパッタリング等の真空薄膜形成
技術を用いて高透磁率の合金例えばセンダスト等から成
る強磁性金属の薄膜を形成し、この金属薄膜4によって
磁気ギャップgを形成して成る0強磁性金属薄7114
は、磁気ギャップgと平行なギャップ対向面3に対して
90〜100°の角度θ2を成しかつテープ摺接面5に
対して直交するトラック溝13の側壁面6に、ギャップ
対向面3と側壁面6とで構成される稜線7に沿って均一
な膜厚となるように公知の真空薄膜形成技術によって形
成されている。トラック溝工3は、例えば、第2図に示
すように、強磁性金属の薄膜を形成する側壁面6がギャ
ップ対向面3に対して100°の角度θ2を成すように
断面を台形状に形成することが好ましい、この場合、ス
パッタリング時の対ターゲット角度を実質的に小さくで
き、ギャップから離れなところでら膜厚がそれ程薄くな
らないという利点があるし、左右対象なのでどちらの面
に膜付けしても良い。
または、第3図に示すように、側壁面6がギャップ対向
面3に対して90゛の角度θ2を成す断面矩形状、ある
いは第4図に示すように側壁面6がギャップ対向面3及
びテープ摺接面5に対し夫々95°の角度θ2をとりか
つテープ摺接面5から離れるに従って浅くなるような溝
形状とすることも可能である。
そして、前記側壁面6の反対側には、前記磁気ギャップ
gのトラック幅を規制しかつ疑似ギャップの発生を抑え
る凹部8が隣接して形成され、この凹部8に非磁性材と
しての酸化ガラス15及び融着ガラス16が溶融充填さ
れている0本実施例の磁気ヘッドは所定のアジマス角度
を取るようにブロックからスライスして磁気ギャップg
が形成されている。また、トラック幅規制凹部8の側壁
面14の磁気ギャップgに対する傾斜角度θは、はぼ4
5°となっているが、20〜80″″程度の範囲内であ
れば任意に角度を変更できる。ここで20°以下の角度
であると隣接トラックからのクロストークが大きくなる
ので、望ましくは30゛以上の角度を持たせるのが良い
、また、傾斜角度を90°にした場合には耐摩耗性が劣
ることから80°以下とするのが良い。
まな、本発明の磁気ヘッドは、テープ摺接面5近傍のフ
ロントコア部9とそれ以外のバックコア部10とではチ
ップ幅を異にする0例えば、第1図に示すようにフロン
トコア部9とバックコア部10とは肩部11によって区
画されており、フロントコア部9の高さは100μm前
後に設定されている。即、ち、チップ全体幅W1に比べ
て肉薄のフロントコア部9はギャップ深さく20〜30
μm)の4倍程度に相当する範囲に形成されている6通
常、フロントコア部9の幅は60μm程度に取られ、そ
の左右に60μm程度の肩部11が形成されているが、
これに限定されるものではなく、トラック幅に応じて適
宜寸法・形状が選定される0強磁性金属薄膜4はギャッ
プ対向面とトラック溝13のnu面6とが成す稜線7に
沿って均一に膜厚を形成すべくギャップ対向面3にター
ゲットを斜め45°から向けてスパッタリングしている
ので、トラック溝工3の底に向かう程すなわちテープ摺
動方向に膜厚が薄くなっている。しかし、この金属薄膜
4の必要箇所はギャップgを形成するギャツブ対向面3
の近傍、即ちトラック溝13の表面近傍部分なのでギャ
ップgから離れた箇所が狭くなっても出力特性にそれ程
問題は生じないことが本発明者等の実験によって判明し
た。
強磁性金属薄pA4の露出部分は、テープ摺接面5の幅
以上でかつチップ全体幅W1よりも狭い範囲、好ましく
はテープ摺接面5より広くかつ肩部11の幅の173以
下程度に抑えられている。このときバックコア部10に
おいて、コア1,1同士が直接突合せられる面積が多く
なり磁気抵抗が小さくなる効果が顕著に出現する。また
、第3図に示すように、薄膜露出幅W2をテープ摺接面
5の幅と同じにする場合には、フロントコア部9を形成
する涌加工時にも金属薄膜4に研削砥石がほとんど接触
しないので、薄膜が剥がれたり、割れたりすることがな
い、一方、金属薄膜4の露出幅W2をテープ摺接面5の
幅未満に限定すると、トラック溝13の深さ及び大きさ
を浅く小さなものとしなければならず、スパッタリング
の際の対ターゲット角度との関係から膜厚の差がギャッ
プ近傍とそれから離れた箇所とでは大きくなりすぎて磁
気性能が悪化する虞がある。そこで、金属薄膜4の露出
幅はフロントコア部9よりも広くバックコア部10の幅
W1より狭い範囲、好ましくはフロントコア部9を越え
て若干広い程度、最も好ましくは肩部11の173以下
程度に抑えるように設定することである。
また、フロントコア部9の形状は第1図(A)に示すよ
うな凸型に限定されず、第1図(B)に示すようにテー
プ摺接面5のみを幅狭としてバックコア部10とは傾斜
面で連結した梯形形状のものあるいは第1図(C)に示
すように肩部11を一方にのみ設けて略し型としたもの
でも良い。
次に、上述の第1図に示す磁気ヘッドの製造工程を第5
図に示す加工フロー図に基づいて説明する。
まず、酸化物磁性材料の磁性体基板・磁気コア1に法面
方向・奥行き方向に向かってトラック溝13を形成する
[第5図(a)]、次にこれを洗浄し、真空薄膜形成技
術を用いて強磁性金属の磁性M4を形成する[第5図(
b)]、通常、磁性WA4はセンダスト合金等から成る
強磁性金属をスパッタリングによって膜付けする。この
膜付けは対ターゲツト角度45°程度でギャップ対向面
3にターゲットを向けて形成される。この膜付は方法に
よると、強磁性金属の薄膜4はテープ摺動方向に向かっ
て肉厚を漸次薄く形成されるが、ギャップ幅方向には所
定の膜厚を容易に形成し得、かつギャップ深さ方向には
一定の厚みの膜厚を形成し得る。この金属薄!4の必要
箇所はギャップgを形成するギャップ対向面3の近傍、
即ちトラック溝13の表面部分なのでギャップgから離
れた箇所が狭くなっても出力特性にそれ程問題は生じな
い0通常、トラック幅は、金属磁性WI44を数層に渡
って形成し、あるいは磁性膜と非磁性膜とを交互に形成
し、若しくは単一の磁性膜によって20μm+α程度に
形成される。
ついで、トラック?1113に高融点ガラス15を充填
して薄膜4を保護する[ガラスボンディング第5図(c
)]、その後、ギャップ対向面3及びテープ摺接面5を
研削して所定の面荒さの平坦な面とする。研削は通常ラ
ップによって行なわれ鏡面仕上げとされる。その後、前
述のトラック溝13の隣に該溝13に沿って疑似ギャッ
プを無くすためのトラック規制用凹部8が研削される。
この凹部8の研削の際に金属薄M4が構成するギャップ
幅が所定幅となるように調整する。尚、トラック規制用
凹部8は磁気ギャップgに対して40゜以上、好ましく
は45°程度の傾きを持つV型の溝である。その後、一
方の磁気コア1のギャップ対向面3に巻線溝12を形成
する[第5図(d)]。
この巻巻線溝2はディツプス寸法を規制する。尚、他方
の磁気コア1には巻線用溝12は形成されない、ついで
、両磁気コア1.1のギャップ対向面にSio2等の非
磁性材から成るスペーサ2をスパッタリングによって形
成する0次いで前述のトラック規制用凹部8に低融点ガ
ラス16を充填し、一対の磁気コア1.1を金属薄pI
A4を向い合せるように突合せた状態で接合する[ギャ
ップボンディング第5図(e)]、この時、ギャップ対
向而3側に露呈する強磁性金属薄膜4の側端面の間でギ
ャップgは構成されるので金属薄WA4が対向する正確
な位置合せが必要である。上述のギャップボンディング
の後、テープ摺接面5を円筒研摩し、テープ摺接面5を
曲面に仕上げるし第5図は)]。
次にギヤツブ清gがテープ摺動方向に対して所定のアジ
マス角度を取るように、B−B線に沿ってテープ摺動幅
を得る溝加工を行う、この加工によってテープ摺接面5
の両側に溝が形成される。この清は肩部の幅及び深さに
相当するものである。
その後、溝の外側から磁気コアをS−8線に沿ってスラ
イスし、多数の磁気チップを切り出す[第5図(g)]
、その後検査を経てサポート・ヘッドベースに取付け、
さらにトラック方向に馴染みを良くする摺動面仕上げ加
工を施して巻線する[第5図(h)]。
(発明の効果) 以上の説明から明らかなように、本発明の磁気ヘッドは
、テープ摺接面をヘッドチップ全体の幅より小さくする
一方、トラック溝のIll壁面に該トラック溝とギャッ
プ対向面との成す稜線に沿って略均一な膜厚の強磁性金
属の薄膜を形成すると共にこの金属薄膜の露出部の幅を
テープ摺接面以上でかつチップ全体の幅より狭く形成す
ると共に前記薄膜の膜厚を前記ギャップから離れるに従
い徐々に小さくしたことによって、磁気ギャップを形成
する部分とその近傍には膜厚の差がそれ程でない薄膜部
分でテープ摺接面を構成できかつバックコア部ではコア
同士を突合せて磁気抵抗を低減できるので、磁気ヘッド
全体の出力特性を従来に比べて向上させ得る6例えば第
1図に示す実施例のものにおいて、IMHzで10%程
度、5MHzで20%程度の出力向上が認められる。特
に、使用周波数帯域が高くなればなる程表皮効果が大き
くなり本発明の効果が顕著となる。また、強磁性金属薄
膜の露出部の幅がチップ全体の幅より狭いので、スライ
ス時に強磁性金属薄膜に砥石が当らないので薄膜が剥が
れなり、ひびが入ることがない6通常、肩部を形成する
溝加工は研削量が少ないので薄膜には余り大きな影響は
与えないが、これに比べてスライス時の切断加工は深く
切り込みF#膜への影響が大きいことから特に効果的で
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図(A)、 (B)、 (C)は本発明の磁気ヘッ
ドの一実施例を夫々示す斜視図、第2図(A)はギャッ
プ部分の一実施例を示すテープ摺接面の平面図、同図(
B)は第2図(A)のスライスラインS−8に沿って切
断した場合の側面図である。第3図(A)は他の実施例
を示す磁気コアのテープ摺接面の平面図、同図(B)は
第3図(A)のスライスラインに沿って切断した場合の
側面図である。 第4図(A)は更に他の実施例に係る磁気コアの斜視図
、同図(B)は同磁気コアを接合した状態のテープ摺接
面の平面図、同図(C)は同図(B)のスライスライン
に沿ってヘッドを作った際のC方向側面図である。第5
図(a)〜(h)は磁気ヘッドの加工フロー図である。 第6図、第7図及び第8図は従来の磁気ヘッドを示す斜
視図である。 1・・・磁気コア、2・・・スペーサ、3・・・ギャッ
プ対向面、4・・・強磁性金属薄膜、5・・・テープ摺
接面、6・・・側壁面・薄膜形成面、7・・・稜線、9
・・・フロントコア部、10・・・バックコア部、11
・・・肩部、13・・・トラック溝。 特許出願人  株式会社 三協精Irl1作所5BBS
    SBBS LJ”)()      り    Q      ”
Ov      v    v       v派 第7図(A) 第7図(B)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ギャップ対向面を突合せて接合することによってヘッド
    チップを構成する一対の強磁性酸化物から成る磁気コア
    の各々のギャップ対向面に穿溝されたトラック溝の側壁
    面に、前記ギャップ対向面とトラック溝との成す稜線に
    沿って略均一な膜厚の強磁性金属の薄膜を形成し、この
    強磁性金属薄膜のギャップ対向面側に露出する側端面で
    磁気ギャップを形成しかつテープ摺接面をヘッドチップ
    全体の幅より小さくした磁気ヘッドにおいて、前記強磁
    性金属薄膜の露出部の幅をテープ摺接面以上でかつチッ
    プ全体の幅より狭くすると共に前記薄膜の膜厚を前記ギ
    ャップから離れるに従い徐々に小さくしたことを特徴と
    する磁気ヘッド。
JP27027387A 1986-12-09 1987-10-28 磁気ヘッド Pending JPS63266607A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27027387A JPS63266607A (ja) 1986-12-09 1987-10-28 磁気ヘッド

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29143686 1986-12-09
JP61-291436 1986-12-09
JP27027387A JPS63266607A (ja) 1986-12-09 1987-10-28 磁気ヘッド

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63266607A true JPS63266607A (ja) 1988-11-02

Family

ID=26549138

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP27027387A Pending JPS63266607A (ja) 1986-12-09 1987-10-28 磁気ヘッド

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63266607A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6912769B2 (en) * 1999-09-24 2005-07-05 Kabushiki Kaisha Toshiba Method a fabricating a magnetic head

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6912769B2 (en) * 1999-09-24 2005-07-05 Kabushiki Kaisha Toshiba Method a fabricating a magnetic head

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR920006124B1 (ko) 자기헤드 및 그 제조방법
JPS61129716A (ja) 磁気ヘツド
JPS63266607A (ja) 磁気ヘッド
JPH0475564B2 (ja)
JPS61280010A (ja) 磁気ヘツド
JPH02247816A (ja) 固定磁気ディスク装置用コアスライダの製造法
JPH0516083B2 (ja)
KR910005558B1 (ko) 자기헤드 코아의 제조방법
JPH0766491B2 (ja) 磁気ヘツド
JPS62298908A (ja) 磁気ヘツド
JPS63273203A (ja) 磁気ヘッドの製造方法
JPH0196810A (ja) 磁気ヘッド
JPH0253215A (ja) 磁気ヘッドの製造方法
JPS63304413A (ja) 薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法
JPH0778863B2 (ja) 固定磁気ディスク装置用コアスライダの製造法
JPH03130906A (ja) 磁気ヘッドの製造方法
JPS63112813A (ja) 複合磁気ヘツド及びその製法
JPS58169318A (ja) 磁気ヘツド及びその製造法
JPH0283807A (ja) 磁気ヘッドの製造方法
JPH0628613A (ja) 複合型磁気ヘッド
JPH087212A (ja) 磁気ヘッドの製造方法
JPH0775048B2 (ja) 磁気ヘツドの製造方法
JPH0554322A (ja) 磁気ヘツドチツプの製造方法
JPS58121118A (ja) 薄膜磁気ヘツド
JPH04167208A (ja) 磁気ヘッドおよびその製造方法