JPH087212A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPH087212A JPH087212A JP13844594A JP13844594A JPH087212A JP H087212 A JPH087212 A JP H087212A JP 13844594 A JP13844594 A JP 13844594A JP 13844594 A JP13844594 A JP 13844594A JP H087212 A JPH087212 A JP H087212A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 接合部の隙間やガラス割れを生じないＭＩＧ
型磁気ヘッドの製造方法を提供する。 【構成】 コアブロック１４の表面にフロントギャップ
形成面１１に沿ってデプス規制溝８と巻線溝７を、バッ
クギャップ形成面１２に沿って切断溝１５を形成し、こ
れらの溝８、７、１５をガラスで埋設すると共にコアブ
ロック１４の表面上にガラスを被膜する。そして、フロ
ントギャップ形成面１１上とバックギャップ形成面１２
上を除いてガラス上にレジスト膜を被膜し、ガラスをエ
ッチングして、フロントギャップ形成面１１とバックギ
ャップ形成面１２を露呈させる。露呈した表面を含む全
面に金属磁性膜を被着する。次に、ガラス上のレジスト
膜を除去してコアブロック１４上に残余したガラスをエ
ッチングして除去する。このようにして得られたコアブ
ロック１４を突き合わせた状態でガラス接合する。
型磁気ヘッドの製造方法を提供する。 【構成】 コアブロック１４の表面にフロントギャップ
形成面１１に沿ってデプス規制溝８と巻線溝７を、バッ
クギャップ形成面１２に沿って切断溝１５を形成し、こ
れらの溝８、７、１５をガラスで埋設すると共にコアブ
ロック１４の表面上にガラスを被膜する。そして、フロ
ントギャップ形成面１１上とバックギャップ形成面１２
上を除いてガラス上にレジスト膜を被膜し、ガラスをエ
ッチングして、フロントギャップ形成面１１とバックギ
ャップ形成面１２を露呈させる。露呈した表面を含む全
面に金属磁性膜を被着する。次に、ガラス上のレジスト
膜を除去してコアブロック１４上に残余したガラスをエ
ッチングして除去する。このようにして得られたコアブ
ロック１４を突き合わせた状態でガラス接合する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は磁気ヘッド、特に強磁
性体のコアと非磁性体のギャップスペーサの間に高飽和
磁束密度のセンダスト等の金属磁性膜を形成したＭＩＧ
［メタルインギャップ］型磁気ヘッドの製造方法に関す
る。
性体のコアと非磁性体のギャップスペーサの間に高飽和
磁束密度のセンダスト等の金属磁性膜を形成したＭＩＧ
［メタルインギャップ］型磁気ヘッドの製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】例えば、ハードディスクなどの磁気記録
媒体に高記録密度で情報の読み書きをするＭＩＧ型磁気
ヘッドは、図７に示すようなコアチップ１からなってい
る。このコアチップ１は、フェライト等の強磁性体から
なる一対のコア半体２ａ，２ｂを、その頂部接合部位に
ギャップスペーサとなるＳｉＯ2 等の非磁性体膜３を介
して低融点ガラス４で接合一体化し、低融点ガラス４て
保護されて所定のトラック幅を有する作動ギャップｇを
形成する。更に、一対のコア半体２ａ，２ｂは接合面に
高飽和磁束密度の金属磁性膜５が形成され、この金属磁
性膜５上に非磁性体膜３を積層したもので、作動ギャッ
プｇの近傍に強磁性金属薄膜の金属磁性膜５を被着した
構造である。
媒体に高記録密度で情報の読み書きをするＭＩＧ型磁気
ヘッドは、図７に示すようなコアチップ１からなってい
る。このコアチップ１は、フェライト等の強磁性体から
なる一対のコア半体２ａ，２ｂを、その頂部接合部位に
ギャップスペーサとなるＳｉＯ2 等の非磁性体膜３を介
して低融点ガラス４で接合一体化し、低融点ガラス４て
保護されて所定のトラック幅を有する作動ギャップｇを
形成する。更に、一対のコア半体２ａ，２ｂは接合面に
高飽和磁束密度の金属磁性膜５が形成され、この金属磁
性膜５上に非磁性体膜３を積層したもので、作動ギャッ
プｇの近傍に強磁性金属薄膜の金属磁性膜５を被着した
構造である。
【０００３】上記構成からなるコアチップ１を製作する
に際しては、まず、図８に示すような長尺のフェライト
等の強磁性体からなる一対のコアブロック６（６ａ，６
ｂ）が用意され、接合面の中程に巻線溝７を刻設する。
尚、図中の８は頂部接合端面の作動ギャップｇ部に形成
されたテーパ状のデプス規制溝、９は下部接合端面の一
方のコアブロック６ａに形成されたテーパ状の接合溝で
ある。そして、両コアブロック６の接合面に、所定のト
ラック幅を残して複数のトラック溝１０を刻設する。
に際しては、まず、図８に示すような長尺のフェライト
等の強磁性体からなる一対のコアブロック６（６ａ，６
ｂ）が用意され、接合面の中程に巻線溝７を刻設する。
尚、図中の８は頂部接合端面の作動ギャップｇ部に形成
されたテーパ状のデプス規制溝、９は下部接合端面の一
方のコアブロック６ａに形成されたテーパ状の接合溝で
ある。そして、両コアブロック６の接合面に、所定のト
ラック幅を残して複数のトラック溝１０を刻設する。
【０００４】そして、図９に示すように、コアブロック
６の接合する内面側に、金属磁性膜５およびギャップス
ペーサとなるＳｉＯ2 等の非磁性体膜３をスパッタ等に
より積層して被着した上で、図１０に示すように、両コ
アブロック６を上下逆にした状態で突き合わせ、デプス
規制溝８と接合溝９に棒状の低融点ガラス４を配置す
る。そして、両コアブロック６ａ，６ｂを外側から加圧
した状態で加熱し、低融点ガラス４を溶融させてトラッ
ク溝１０に充填することにより、コアブロック６を接合
一体化した後、図８に鎖線で図示するように、コアブロ
ック６の側部を所定ピッチでスライスすることにより、
図７に示すコアチップ１を得ていた。
６の接合する内面側に、金属磁性膜５およびギャップス
ペーサとなるＳｉＯ2 等の非磁性体膜３をスパッタ等に
より積層して被着した上で、図１０に示すように、両コ
アブロック６を上下逆にした状態で突き合わせ、デプス
規制溝８と接合溝９に棒状の低融点ガラス４を配置す
る。そして、両コアブロック６ａ，６ｂを外側から加圧
した状態で加熱し、低融点ガラス４を溶融させてトラッ
ク溝１０に充填することにより、コアブロック６を接合
一体化した後、図８に鎖線で図示するように、コアブロ
ック６の側部を所定ピッチでスライスすることにより、
図７に示すコアチップ１を得ていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うにコアブロック６の接合面に金属磁性膜５を被着し
て、低融点ガラス４で両コアブロック６を接着して製作
される上記コアチップ１は、コアブロック６と金属磁性
膜５間で熱膨張係数が大きく異なるために、接合時の熱
処理でコアブロック６が反って接合面に隙間ができ、作
動ギャップｇのギャップ幅のコントロールが困難であっ
た。また、低融点ガラス４部分が割れて、コアチップ１
が２つに分かれてしまうといった問題があった。
うにコアブロック６の接合面に金属磁性膜５を被着し
て、低融点ガラス４で両コアブロック６を接着して製作
される上記コアチップ１は、コアブロック６と金属磁性
膜５間で熱膨張係数が大きく異なるために、接合時の熱
処理でコアブロック６が反って接合面に隙間ができ、作
動ギャップｇのギャップ幅のコントロールが困難であっ
た。また、低融点ガラス４部分が割れて、コアチップ１
が２つに分かれてしまうといった問題があった。
【０００６】このため、コアブロックの突き合わせ部と
その近傍部分のみに金属磁性膜を被着し、その他のトラ
ック溝のガラスが埋設される部分や巻線溝部分には金属
磁性膜を被着しないようにして、接合時のコアブロック
の応力歪みの発生を極力低減することが提案されてい
る。
その近傍部分のみに金属磁性膜を被着し、その他のトラ
ック溝のガラスが埋設される部分や巻線溝部分には金属
磁性膜を被着しないようにして、接合時のコアブロック
の応力歪みの発生を極力低減することが提案されてい
る。
【０００７】例えば、特開平２−１３９７０５号公報に
は、図１１に示すように、一対の強磁性体のコアブロッ
ク６の表面に、金属磁性膜５、非磁性体膜３を順次全面
に積層し、その上面のコアブロックの磁気通路となる接
合面部分、つまりフロントギャップ形成面１１やバック
ギャップ形成面１２にレジスト膜１３を所定パターンで
被覆して、不要部分の金属磁性膜５や非磁性体膜３をエ
ッチングにより除去する。その後、図１２に示すよう
に、レジスト膜１３を剥離すると共に、コアブロック６
の表面のフロントギャップ形成面１１とバックギャップ
形成面１２に沿って巻線溝７と接合溝９を、またフロン
トギャップ形成面１１の両側にトラック溝１０をそれぞ
れ刻設することにより、一対の強磁性体のコアブロック
６を構成する方法が採用されている。
は、図１１に示すように、一対の強磁性体のコアブロッ
ク６の表面に、金属磁性膜５、非磁性体膜３を順次全面
に積層し、その上面のコアブロックの磁気通路となる接
合面部分、つまりフロントギャップ形成面１１やバック
ギャップ形成面１２にレジスト膜１３を所定パターンで
被覆して、不要部分の金属磁性膜５や非磁性体膜３をエ
ッチングにより除去する。その後、図１２に示すよう
に、レジスト膜１３を剥離すると共に、コアブロック６
の表面のフロントギャップ形成面１１とバックギャップ
形成面１２に沿って巻線溝７と接合溝９を、またフロン
トギャップ形成面１１の両側にトラック溝１０をそれぞ
れ刻設することにより、一対の強磁性体のコアブロック
６を構成する方法が採用されている。
【０００８】しかしながら、上記金属磁性膜５はＦｅＴ
ａＮなどタンタルの窒素膜で形成されており、一般にタ
ンタル化合物はエッチングされ難い性質がある。このた
め、適当なエッチング液がなかった。従って、上記特開
平２−１３９７０５号公報においてはイオンビームによ
るドライエッチング法を採用しているが、一般にドライ
エッチングは厚膜エッチングに耐えるレジスト膜がな
く、６μｍ以上の厚膜の金属磁性膜５のエッチングは困
難なものであった。
ａＮなどタンタルの窒素膜で形成されており、一般にタ
ンタル化合物はエッチングされ難い性質がある。このた
め、適当なエッチング液がなかった。従って、上記特開
平２−１３９７０５号公報においてはイオンビームによ
るドライエッチング法を採用しているが、一般にドライ
エッチングは厚膜エッチングに耐えるレジスト膜がな
く、６μｍ以上の厚膜の金属磁性膜５のエッチングは困
難なものであった。
【０００９】従って、本発明は上記一対のコアブロック
の接合面に金属磁性膜を所定パターンで形成させる問題
点に鑑みなされたものであり、コアブロックの表面に金
属磁性膜を選択的に形成して、接合部の隙間やガラス割
れを生じさせないようになし、磁気ギャップｇを精度よ
くコントロールすると共にチップ割れなどが生じないＭ
ＩＧ型磁気ヘッドの製造方法を提供することを目的とし
ている。
の接合面に金属磁性膜を所定パターンで形成させる問題
点に鑑みなされたものであり、コアブロックの表面に金
属磁性膜を選択的に形成して、接合部の隙間やガラス割
れを生じさせないようになし、磁気ギャップｇを精度よ
くコントロールすると共にチップ割れなどが生じないＭ
ＩＧ型磁気ヘッドの製造方法を提供することを目的とし
ている。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は一対のコアブロックの突き合わせ部とその
近傍部を除く部分、即ち非接合部分で金属磁性膜の被着
不要部分をガラス膜で被覆する。そして、コアブロック
の突き合わせ部とその近傍部、即ちフロントギャップ形
成面とその近傍部およびバックギャップ形成面など金属
磁性膜の被着要部は上記ガラス膜から露出させて金属磁
性膜を被着する。その後、金属磁性膜の被着不要部のガ
ラス膜およびガラス膜上に被着した金属磁性膜を除去し
て、上記金属磁性膜の被着要部のみに金属磁性膜を被着
形成するように構成したもので、具体的に次のように構
成する。即ち、本発明の磁気ヘッドの製造方法は、一対
の強磁性体のコア半体の接合面に高飽和磁束密度の金属
磁性膜と非磁性体膜とを積層し、一対のコア半体を接合
一体化して作動ギャップの近傍に強磁性金属膜を被着形
成したコアチップを有するＭＩＧ型磁気ヘッドの製造方
法において、 一対の強磁性体のコアブロックの表面に
フロントギャップ形成面に沿ってデプス規制溝と巻線溝
を、バックギャップ形成面に沿って切断溝をそれぞれ形
成し、前記デプス規制溝、巻線溝および切断溝上にガラ
スを埋設すると共に前記コアブロックの表面上にガラス
を被膜する工程と、前記フロントギャップ形成面とバッ
クギャップ形成面を除いたガラス上にレジスト膜を被膜
した後、前記ガラスをエッチングすることにより、フロ
ントギャップ形成面とバックギャップ形成面のコアブロ
ックの表面を露呈させる工程と、前記露呈したコアブロ
ックの表面を含む全面に金属磁性膜を被着した後、前記
レジスト膜を除去すると共にコアブロックの表面上に残
余したガラスをエッチングで除去する工程とを含み、前
記ガラスのエッチング除去された一対のコアブロックを
突き合わせた状態でガラス接合することを特徴としてい
る。また、本発明の磁気ヘッドの製造方法は、一対の強
磁性体のコア半体の接合面に高飽和磁束密度の金属磁性
膜と非磁性体膜とを積層し、一対のコア半体を接合一体
化して作動ギャップの近傍に強磁性金属膜を被着形成し
たコアチップを有するＭＩＧ型磁気ヘッドの製造方法に
おいて、 一対の強磁性体のコアブロックの表面にフロ
ントギャップ形成面に沿ってデプス規制溝と巻線溝を、
バックギャップ形成面に沿って切断溝を、またフロント
ギャップ形成面の両側にギャップ幅を規制するトラック
溝をそれぞれ形成し、前記デプス規制溝、巻線溝および
トラック溝にそれぞれガラスを充填すると共にガラスが
充填されたコアブロックの表面を面一に研磨する工程
と、前記デプス規制溝及びトラック溝の前記フロントギ
ャップ形成面に沿う周縁部を残してガラス上にレジスト
膜を被膜した後、前記ガラスをエッチングすることによ
り、前記フロントギャップ形成面に沿うデプス規制溝の
周縁部と両側のトラック溝の周縁分を露呈させる工程
と、前記露呈後コアブロックの表面上に金属磁性膜を被
覆した後、前記レジスト膜を除去する工程とを含み、前
記レジスト膜の除去された一対のコアブロックを突き合
わせた状態でガラス接合することを特徴としている。ま
た、前記金属磁性膜はそれぞれＦｅＴａＮで形成された
ことを特徴としている。
め、本発明は一対のコアブロックの突き合わせ部とその
近傍部を除く部分、即ち非接合部分で金属磁性膜の被着
不要部分をガラス膜で被覆する。そして、コアブロック
の突き合わせ部とその近傍部、即ちフロントギャップ形
成面とその近傍部およびバックギャップ形成面など金属
磁性膜の被着要部は上記ガラス膜から露出させて金属磁
性膜を被着する。その後、金属磁性膜の被着不要部のガ
ラス膜およびガラス膜上に被着した金属磁性膜を除去し
て、上記金属磁性膜の被着要部のみに金属磁性膜を被着
形成するように構成したもので、具体的に次のように構
成する。即ち、本発明の磁気ヘッドの製造方法は、一対
の強磁性体のコア半体の接合面に高飽和磁束密度の金属
磁性膜と非磁性体膜とを積層し、一対のコア半体を接合
一体化して作動ギャップの近傍に強磁性金属膜を被着形
成したコアチップを有するＭＩＧ型磁気ヘッドの製造方
法において、 一対の強磁性体のコアブロックの表面に
フロントギャップ形成面に沿ってデプス規制溝と巻線溝
を、バックギャップ形成面に沿って切断溝をそれぞれ形
成し、前記デプス規制溝、巻線溝および切断溝上にガラ
スを埋設すると共に前記コアブロックの表面上にガラス
を被膜する工程と、前記フロントギャップ形成面とバッ
クギャップ形成面を除いたガラス上にレジスト膜を被膜
した後、前記ガラスをエッチングすることにより、フロ
ントギャップ形成面とバックギャップ形成面のコアブロ
ックの表面を露呈させる工程と、前記露呈したコアブロ
ックの表面を含む全面に金属磁性膜を被着した後、前記
レジスト膜を除去すると共にコアブロックの表面上に残
余したガラスをエッチングで除去する工程とを含み、前
記ガラスのエッチング除去された一対のコアブロックを
突き合わせた状態でガラス接合することを特徴としてい
る。また、本発明の磁気ヘッドの製造方法は、一対の強
磁性体のコア半体の接合面に高飽和磁束密度の金属磁性
膜と非磁性体膜とを積層し、一対のコア半体を接合一体
化して作動ギャップの近傍に強磁性金属膜を被着形成し
たコアチップを有するＭＩＧ型磁気ヘッドの製造方法に
おいて、 一対の強磁性体のコアブロックの表面にフロ
ントギャップ形成面に沿ってデプス規制溝と巻線溝を、
バックギャップ形成面に沿って切断溝を、またフロント
ギャップ形成面の両側にギャップ幅を規制するトラック
溝をそれぞれ形成し、前記デプス規制溝、巻線溝および
トラック溝にそれぞれガラスを充填すると共にガラスが
充填されたコアブロックの表面を面一に研磨する工程
と、前記デプス規制溝及びトラック溝の前記フロントギ
ャップ形成面に沿う周縁部を残してガラス上にレジスト
膜を被膜した後、前記ガラスをエッチングすることによ
り、前記フロントギャップ形成面に沿うデプス規制溝の
周縁部と両側のトラック溝の周縁分を露呈させる工程
と、前記露呈後コアブロックの表面上に金属磁性膜を被
覆した後、前記レジスト膜を除去する工程とを含み、前
記レジスト膜の除去された一対のコアブロックを突き合
わせた状態でガラス接合することを特徴としている。ま
た、前記金属磁性膜はそれぞれＦｅＴａＮで形成された
ことを特徴としている。
【００１１】
【作用】一対のコアブロックはコアチップの磁気通路を
形成する接合表面およびその近傍部を除いてガラスで被
覆し、接合部表面およびその近傍部はガラスより露出さ
せた状態で、金属磁性膜を被着するように構成している
から、金属磁性膜は接合表面とその近傍部の金属磁性膜
の被着要部のみに容易に形成することができる。そし
て、金属磁性膜の被着不要部はガラスで被覆しているか
ら、ガラスをエッチングすることでガラス上に被着され
た金属磁性膜を容易に除去することができる。また、フ
ロントギャップ形成面の近傍周縁のデプス規制溝とトラ
ック溝の周縁部を露呈して金属磁性膜を被覆するから、
フロントギャップ形成面はデプス規制溝とトラック溝の
周縁部に金属磁性膜が被着され、作動ギャップの近傍周
縁に金属磁性膜が有効に被着形成される。
形成する接合表面およびその近傍部を除いてガラスで被
覆し、接合部表面およびその近傍部はガラスより露出さ
せた状態で、金属磁性膜を被着するように構成している
から、金属磁性膜は接合表面とその近傍部の金属磁性膜
の被着要部のみに容易に形成することができる。そし
て、金属磁性膜の被着不要部はガラスで被覆しているか
ら、ガラスをエッチングすることでガラス上に被着され
た金属磁性膜を容易に除去することができる。また、フ
ロントギャップ形成面の近傍周縁のデプス規制溝とトラ
ック溝の周縁部を露呈して金属磁性膜を被覆するから、
フロントギャップ形成面はデプス規制溝とトラック溝の
周縁部に金属磁性膜が被着され、作動ギャップの近傍周
縁に金属磁性膜が有効に被着形成される。
【００１２】
【実施例】以下、本発明の各実施例を図１乃至図５を参
照しつつ詳述する。尚、図６乃至図１０を含む全図を通
じて同じ構成部品には同一参照符号を付している。
照しつつ詳述する。尚、図６乃至図１０を含む全図を通
じて同じ構成部品には同一参照符号を付している。
【００１３】本発明の第１実施例を図１乃至図３を参照
して詳述する。
して詳述する。
【００１４】まず、図１に示すように、幅広の強磁性体
のコアブロック１４の表面に、突合わせ部となるフロン
トギャップ形成面１１とバックギャップ形成面１２を複
数個等ピッチで配置し、フロントギャップ形成面１１に
沿ってテーパ状のデプス規制溝８と巻線溝７を、又バッ
クギャップ形成面１２に沿って切断溝１５をそれぞれ紙
面の縦列方向に刻設する。尚、切断溝１７は前縁側のバ
ックギャップ形成面１２に沿う部分がテーパ状に形成さ
れ、このテーパ部が接合溝９を形成する。
のコアブロック１４の表面に、突合わせ部となるフロン
トギャップ形成面１１とバックギャップ形成面１２を複
数個等ピッチで配置し、フロントギャップ形成面１１に
沿ってテーパ状のデプス規制溝８と巻線溝７を、又バッ
クギャップ形成面１２に沿って切断溝１５をそれぞれ紙
面の縦列方向に刻設する。尚、切断溝１７は前縁側のバ
ックギャップ形成面１２に沿う部分がテーパ状に形成さ
れ、このテーパ部が接合溝９を形成する。
【００１５】次に、コアブロック１４のデプス規制溝
８、巻線溝７および切断溝１５をガラス１６で埋設する
と共に、図２（ａ）に示すように、コアブロック１４の
表面上にガラス１６を均一な膜厚で被膜する。尚、図２
のＡ列とＢ列はそれぞれ図１のコアブロック１４の矢示
Ａ及び矢示Ｂより見た部分断面図である。
８、巻線溝７および切断溝１５をガラス１６で埋設する
と共に、図２（ａ）に示すように、コアブロック１４の
表面上にガラス１６を均一な膜厚で被膜する。尚、図２
のＡ列とＢ列はそれぞれ図１のコアブロック１４の矢示
Ａ及び矢示Ｂより見た部分断面図である。
【００１６】次に、同図（ｂ）に示すように、フロント
ギャップ形成面１１上とデプス規制溝８のフロントギャ
ップ形成面１１に沿う部分上及びバックギャップ形成面
１２（不図示）上を除いて、ガラス１６上にフォトリソ
グラフィ技術によりレジスト膜１３を被膜する。
ギャップ形成面１１上とデプス規制溝８のフロントギャ
ップ形成面１１に沿う部分上及びバックギャップ形成面
１２（不図示）上を除いて、ガラス１６上にフォトリソ
グラフィ技術によりレジスト膜１３を被膜する。
【００１７】次に、同図（ｃ）に示すように、例えば
４．５％濃度の塩酸液でガラス１６をエッチングする
と、レジスト膜１３を被膜した部分は周辺部がアンダー
カットされて断面きのこ状になってガラス１６が残り、
レジスト膜１３が被膜されていないフロントギャップ形
成面１１上とこのフロントギャップ形成面１１に沿うデ
プス規制溝８上及びバックギャップ形成面１２（不図
示）上のガラス１６がエッチングされ、コアブロック１
４の表面が露出する。この時、デプス規制溝８および切
断溝１５（不図示）はレジスト膜１３が被膜されていな
い部分の埋設されたガラス１６の表層部がエッチングさ
れ、フロントギャップ形成面１１に沿うデプス規制溝８
の周縁部８ａおよび切断溝１５前縁側のテーパ状の接合
溝９（不図示）の表面が露出する。
４．５％濃度の塩酸液でガラス１６をエッチングする
と、レジスト膜１３を被膜した部分は周辺部がアンダー
カットされて断面きのこ状になってガラス１６が残り、
レジスト膜１３が被膜されていないフロントギャップ形
成面１１上とこのフロントギャップ形成面１１に沿うデ
プス規制溝８上及びバックギャップ形成面１２（不図
示）上のガラス１６がエッチングされ、コアブロック１
４の表面が露出する。この時、デプス規制溝８および切
断溝１５（不図示）はレジスト膜１３が被膜されていな
い部分の埋設されたガラス１６の表層部がエッチングさ
れ、フロントギャップ形成面１１に沿うデプス規制溝８
の周縁部８ａおよび切断溝１５前縁側のテーパ状の接合
溝９（不図示）の表面が露出する。
【００１８】次に、同図（ｄ）に示すように、コアブロ
ック１４の表面上に金属磁性材料のＦｅＴａＮをスパッ
タリングして金属磁性膜５を被着し、更にその金属磁性
膜５上にギャップ長の半分の膜厚を有するＳｉＯ2 等の
非磁性体膜３（不図示）をスパッタリング等により被着
形成する。
ック１４の表面上に金属磁性材料のＦｅＴａＮをスパッ
タリングして金属磁性膜５を被着し、更にその金属磁性
膜５上にギャップ長の半分の膜厚を有するＳｉＯ2 等の
非磁性体膜３（不図示）をスパッタリング等により被着
形成する。
【００１９】後は、同図（ｅ）に示すように、レジスト
膜１３を剥離して、レジスト膜１３上の金属磁性膜５と
非磁性体膜３（不図示）を除去した後、コアブロック１
４の表面上に残余したガラス１６をエッチングで除去す
ると、同図（ｆ）に示すように、フロントギャップ形成
面１１上とバックギャップ形成面１２（不図示）および
その近傍上のみに金属磁性膜５が形成される。
膜１３を剥離して、レジスト膜１３上の金属磁性膜５と
非磁性体膜３（不図示）を除去した後、コアブロック１
４の表面上に残余したガラス１６をエッチングで除去す
ると、同図（ｆ）に示すように、フロントギャップ形成
面１１上とバックギャップ形成面１２（不図示）および
その近傍上のみに金属磁性膜５が形成される。
【００２０】そして、このように金属磁性膜５を被着形
成したコアブロック１４は、図３に示すように、デプス
規制溝８、巻線溝７および切断溝１５部に残余したガラ
ス１６を研削加工等により除去すると共に、フロントギ
ャップ形成面１１の両側にトラック溝１０を刻設してコ
アブロック１４を完成する。後は、従来と同様に、完成
した一対のコアブロック１４を突き合わせた状態でガラ
ス接合を行い、所定ピッチで切断分離すると、コアの突
き合わせ部とその近傍部のみに金属磁性膜５を被着形成
した磁気ヘッドが製作される。
成したコアブロック１４は、図３に示すように、デプス
規制溝８、巻線溝７および切断溝１５部に残余したガラ
ス１６を研削加工等により除去すると共に、フロントギ
ャップ形成面１１の両側にトラック溝１０を刻設してコ
アブロック１４を完成する。後は、従来と同様に、完成
した一対のコアブロック１４を突き合わせた状態でガラ
ス接合を行い、所定ピッチで切断分離すると、コアの突
き合わせ部とその近傍部のみに金属磁性膜５を被着形成
した磁気ヘッドが製作される。
【００２１】次に本発明の第２実施例を図４乃至図６を
参照して詳述する。
参照して詳述する。
【００２２】本発明の第２実施例は、図４に示すよう
に、上記第１実施例のコアブロック１４においてフロン
トギャップ形成面１１の両側にギャップ幅を規制するト
ラック溝１０を刻設した強磁性体のコアブロック１８を
用意する。即ち、このコアブロック１８はフロントギャ
ップ形成面１１に沿ったデプス規制溝８と巻線溝７およ
びバックギャップ形成面１２に沿った切断溝１５の他
に、これらの溝と直交して、フロントギャップ形成面１
１の両側にギャップ幅を規制するトラック溝１０を形成
する。
に、上記第１実施例のコアブロック１４においてフロン
トギャップ形成面１１の両側にギャップ幅を規制するト
ラック溝１０を刻設した強磁性体のコアブロック１８を
用意する。即ち、このコアブロック１８はフロントギャ
ップ形成面１１に沿ったデプス規制溝８と巻線溝７およ
びバックギャップ形成面１２に沿った切断溝１５の他
に、これらの溝と直交して、フロントギャップ形成面１
１の両側にギャップ幅を規制するトラック溝１０を形成
する。
【００２３】そして、まず、図５（ａ）に示すように、
デプス規制溝８、巻線溝７（不図示）およびトラック溝
１０にそれぞれガラス１６を充填すると共に、コアブロ
ック１８の表面を面一に研磨する。尚、図５のＣ列とＤ
列はそれぞれ図４のコアブロック１８の矢示Ｃ及び矢示
Ｄより見た部分断面図である。
デプス規制溝８、巻線溝７（不図示）およびトラック溝
１０にそれぞれガラス１６を充填すると共に、コアブロ
ック１８の表面を面一に研磨する。尚、図５のＣ列とＤ
列はそれぞれ図４のコアブロック１８の矢示Ｃ及び矢示
Ｄより見た部分断面図である。
【００２４】次に、図５（ｂ）に示すように、デプス規
制溝８及びトラック溝１０の前記フロントギャップ形成
面１１に沿う近傍周縁部を残してガラス１６上にレジス
ト膜１３を被膜した後、例えば４．５％濃度の塩酸液で
ガラス１６をエッチングすると、同図（ｃ）に示すよう
に、フロントギャップ形成面１１に沿うデプス規制溝８
の周縁部上とフロントギャップ形成面１１の両側のトラ
ック溝１０の周縁部上のガラス１６がエッチングされ、
フロントギャップ形成面１１に沿うデプス規制溝８の周
縁部８ａ及び両側のトラック溝１０の周縁部１０ａが露
出する。
制溝８及びトラック溝１０の前記フロントギャップ形成
面１１に沿う近傍周縁部を残してガラス１６上にレジス
ト膜１３を被膜した後、例えば４．５％濃度の塩酸液で
ガラス１６をエッチングすると、同図（ｃ）に示すよう
に、フロントギャップ形成面１１に沿うデプス規制溝８
の周縁部上とフロントギャップ形成面１１の両側のトラ
ック溝１０の周縁部上のガラス１６がエッチングされ、
フロントギャップ形成面１１に沿うデプス規制溝８の周
縁部８ａ及び両側のトラック溝１０の周縁部１０ａが露
出する。
【００２５】後は、上記第１実施例と同様に、コアブロ
ック１８の表面上に金属磁性膜５を被覆（同図ｄ）した
後，前記レジスト膜１３を剥離してレジスト膜１３上の
金属磁性膜５を除去しすると、同図（ｅ）に示すよう
に、フロントギャップ形成面１１とバックギャップ形成
面１２（不図示）およびその近傍上のみに金属磁性膜５
が形成される。
ック１８の表面上に金属磁性膜５を被覆（同図ｄ）した
後，前記レジスト膜１３を剥離してレジスト膜１３上の
金属磁性膜５を除去しすると、同図（ｅ）に示すよう
に、フロントギャップ形成面１１とバックギャップ形成
面１２（不図示）およびその近傍上のみに金属磁性膜５
が形成される。
【００２６】そして、このように金属磁性膜５を被着形
成したコアブロック１８は、図示しないが、巻線溝７に
残余したガラス１６を研削加工等により除去するとコア
ブロック１８が完成する。そして、上記実施例と同様に
して、完成した一対のコアブロック１８を突き合わせ状
態でガラス接合し、所定ピッチに切断分離すると、コア
の突き合わせ部とその近傍部のみに金属磁性膜５を被着
形成した磁気ヘッドが製作される。この実施例において
は、図６に示すように、フロントギャップ形成面の両側
のトラック溝１０の周縁部１０ａにも金属磁性膜５が被
着されるため、作動ギャップｇ近傍にはデプス規制溝の
周縁部を含めて、四方の接合面に高飽和磁束密度の金属
磁性膜５が近接して配置されるため、磁気特性の優れた
ＭＩＧ型磁気ヘッドが提供できる。
成したコアブロック１８は、図示しないが、巻線溝７に
残余したガラス１６を研削加工等により除去するとコア
ブロック１８が完成する。そして、上記実施例と同様に
して、完成した一対のコアブロック１８を突き合わせ状
態でガラス接合し、所定ピッチに切断分離すると、コア
の突き合わせ部とその近傍部のみに金属磁性膜５を被着
形成した磁気ヘッドが製作される。この実施例において
は、図６に示すように、フロントギャップ形成面の両側
のトラック溝１０の周縁部１０ａにも金属磁性膜５が被
着されるため、作動ギャップｇ近傍にはデプス規制溝の
周縁部を含めて、四方の接合面に高飽和磁束密度の金属
磁性膜５が近接して配置されるため、磁気特性の優れた
ＭＩＧ型磁気ヘッドが提供できる。
【００２７】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、コアブ
ロックの表面にガラスを被膜して、このガラスを金属磁
性膜形成の保護膜に使用して、コアブロックの突き合わ
せ部とその近傍部のみに金属磁性膜を被着形成するよう
に構成したから、エッチングの困難な金属磁性膜が容易
に所定のパターンで形成することができ、隙間やガラス
割れを生じさせることなくコアブロックの接合ができ
る。従って、磁気ギャップｇが精度よくコントロールで
きると共にチップ割れなどの生じないＭＩＧ型磁気ヘッ
ドを製造することができる。
ロックの表面にガラスを被膜して、このガラスを金属磁
性膜形成の保護膜に使用して、コアブロックの突き合わ
せ部とその近傍部のみに金属磁性膜を被着形成するよう
に構成したから、エッチングの困難な金属磁性膜が容易
に所定のパターンで形成することができ、隙間やガラス
割れを生じさせることなくコアブロックの接合ができ
る。従って、磁気ギャップｇが精度よくコントロールで
きると共にチップ割れなどの生じないＭＩＧ型磁気ヘッ
ドを製造することができる。
【図１】本発明の第１の実施例で、磁気ヘッド製作過程
のコアブロックの一部破断斜視図
のコアブロックの一部破断斜視図
【図２】図１の磁気ヘッド製作過程で、コアブロックに
金属磁性膜を被着形成する図
金属磁性膜を被着形成する図
【図３】図１の磁気ヘッド製作過程で、金属磁性膜の被
着形成後のコアブロックの斜視図
着形成後のコアブロックの斜視図
【図４】本発明の第２の実施例で、磁気ヘッド製作過程
のコアブロックの一部破断斜視図
のコアブロックの一部破断斜視図
【図５】図２の磁気ヘッド製作過程で、コアブロックに
金属磁性膜を被着形成する図
金属磁性膜を被着形成する図
【図６】図２の磁気ヘッド製作過程で、コアブロック接
合部の一部破断断面図
合部の一部破断断面図
【図７】従来の磁気ヘッドのコアチップを示す斜視図
【図８】従来の磁気ヘッドの製法を説明するためのもの
で、図７のコアチップの製作要領を説明 するコアブロ
ックの斜視図
で、図７のコアチップの製作要領を説明 するコアブロ
ックの斜視図
【図９】図８のコアチップの製作過程で、コアブロック
の斜視図
の斜視図
【図１０】図８のコアチップの製作過程で、接合段階の
コアブロックの斜視図
コアブロックの斜視図
【図１１】従来の他の磁気ヘッドの製法例で、金属磁性
膜エッチング時のコアブロックの斜視図
膜エッチング時のコアブロックの斜視図
【図１２】図１１の接合前段階のコアブロックの斜視図
1 コアチップ 2a コア半体 2b コア半体 3 非磁性体膜 4 低融点ガラス 5 金属磁性膜 7 巻線溝 8 デプス規制溝 9 接合溝 10 トラック溝 11 フロントギャップ形成面 12 バックギャップ形成面 13 レジスト膜 14 コアブロック 15 切断溝 16 ガラス
Claims (3)
- 【請求項１】 一対の強磁性体のコア半体の接合面に高
飽和磁束密度の金属磁性膜と非磁性体膜とを積層し、一
対のコア半体を接合一体化して作動ギャップの近傍に強
磁性金属膜を被着形成したコアチップを有するＭＩＧ型
磁気ヘッドの製造方法において、 一対の強磁性体のコアブロックの表面にフロントギャッ
プ形成面に沿ってデプス規制溝と巻線溝を、バックギャ
ップ形成面に沿って切断溝をそれぞれ形成し、前記デプ
ス規制溝、巻線溝および切断溝上にガラスを埋設すると
共に前記コアブロックの表面上にガラスを被膜する工程
と、前記フロントギャップ形成面とバックギャップ形成
面を除いたガラス上にレジスト膜を被膜した後、前記ガ
ラスをエッチングすることにより、フロントギャップ形
成面とバックギャップ形成面のコアブロックの表面を露
呈させる工程と、前記露呈したコアブロックの表面を含
む前面に金属磁性膜を被着した後、前記レジスト膜を除
去すると共にコアブロックの表面上に残余したガラスを
エッチングで除去する工程とを含み、前記ガラスのエッ
チング除去された一対のコアブロックを突き合わせた状
態でガラス接合することを特徴とする磁気ヘッドの製造
方法。 - 【請求項２】 一対の強磁性体のコア半体の接合面に高
飽和磁束密度の金属磁性膜と非磁性体膜とを積層し、一
対のコア半体を接合一体化して作動ギャップの近傍に強
磁性金属膜を被着形成したコアチップを有するＭＩＧ型
磁気ヘッドの製造方法において、 一対の強磁性体のコアブロックの表面にフロントギャッ
プ形成面に沿ってデプス規制溝と巻線溝を、バックギャ
ップ形成面に沿って切断溝を、またフロントギャップ形
成面の両側にギャップ幅を規制するトラック溝をそれぞ
れ形成し、前記デプス規制溝、巻線溝およびトラック溝
にそれぞれガラスを充填すると共にガラスが充填された
コアブロックの表面を面一に研磨する工程と、前記デプ
ス規制溝及びトラック溝の前記フロントギャップ形成面
に沿う周縁部を残してガラス上にレジスト膜を被膜した
後、前記ガラスをエッチングすることにより、前記フロ
ントギャップ形成面に沿うデプス規制溝の周縁部と両側
のトラック溝の周縁分を露呈させる工程と、前記露呈後
コアブロックの表面上に金属磁性膜を被覆した後、前記
レジスト膜を除去する工程とを含み、前記レジスト膜の
除去された一対のコアブロックを突き合わせた状態でガ
ラス接合することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項３】 前記金属磁性膜がＦｅＴａＮで形成され
たことを特徴とする請求項１及び請求項２記載の磁気ヘ
ッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13844594A JPH087212A (ja) | 1994-06-21 | 1994-06-21 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13844594A JPH087212A (ja) | 1994-06-21 | 1994-06-21 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH087212A true JPH087212A (ja) | 1996-01-12 |
Family
ID=15222174
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13844594A Withdrawn JPH087212A (ja) | 1994-06-21 | 1994-06-21 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH087212A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9490050B2 (en) | 2013-03-11 | 2016-11-08 | Southwire Company, Llc | Hybrid conductor core |
-
1994
- 1994-06-21 JP JP13844594A patent/JPH087212A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9490050B2 (en) | 2013-03-11 | 2016-11-08 | Southwire Company, Llc | Hybrid conductor core |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20010904 |