JPH0719347B2 - 固定磁気ディスク装置用コアスライダの製造法 - Google Patents
固定磁気ディスク装置用コアスライダの製造法Info
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- JPH0719347B2 JPH0719347B2 JP63239244A JP23924488A JPH0719347B2 JP H0719347 B2 JPH0719347 B2 JP H0719347B2 JP 63239244 A JP63239244 A JP 63239244A JP 23924488 A JP23924488 A JP 23924488A JP H0719347 B2 JPH0719347 B2 JP H0719347B2
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Description
【発明の詳細な説明】 （技術分野） 本発明は、固定磁気ディスク装置用コアスライダの製造
法に係り、特に、トラック幅を狭く成し得て、その精度
が向上され得ると共に、製造工数が有利に減少され得る
固定磁気ディスク装置用コアスライダの製造法に関する
ものである。
法に係り、特に、トラック幅を狭く成し得て、その精度
が向上され得ると共に、製造工数が有利に減少され得る
固定磁気ディスク装置用コアスライダの製造法に関する
ものである。
（背景技術） 従来から、固定磁気ディスク装置（RDD）に用いられ
る、バルク形状のコアを用いた浮上型磁気ヘッド用スラ
イダの一つとして、第１図に示される如きモノリシック
型スライダ１が知られている。このスライダ１は、スラ
イダ本体２とＣ字形状のヨーク部３とから一体的に構成
されており、その記録媒体との摺動面には、その摺動方
向に延びる所定高さの互いに平行な左右の空気ベアリン
グ部（面）4a、4bを有し、またそれら空気ベアリング部
4a、4bの間に、トラック部を与える同じ高さのセンター
レール５が設けられ、そしてこのセンターレール５の端
部に前記ヨーク部３が一体的に設けられて、それらヨー
ク部３とスライダ本体２にて磁気ヘッドのための閉磁路
が形成されている。
る、バルク形状のコアを用いた浮上型磁気ヘッド用スラ
イダの一つとして、第１図に示される如きモノリシック
型スライダ１が知られている。このスライダ１は、スラ
イダ本体２とＣ字形状のヨーク部３とから一体的に構成
されており、その記録媒体との摺動面には、その摺動方
向に延びる所定高さの互いに平行な左右の空気ベアリン
グ部（面）4a、4bを有し、またそれら空気ベアリング部
4a、4bの間に、トラック部を与える同じ高さのセンター
レール５が設けられ、そしてこのセンターレール５の端
部に前記ヨーク部３が一体的に設けられて、それらヨー
ク部３とスライダ本体２にて磁気ヘッドのための閉磁路
が形成されている。
しかしながら、このモノリシック型スライダ１は、フェ
ライトのみで構成されるため、低価格であるという優位
性を有しているものの、センターレール５のテーパー加
工によりトラック部が形成されるものであるところか
ら、トラック幅精度及び狭トラック化が得難く、近年、
高密度記録化に伴って要求されているトラック幅20μｍ
以下、トラック幅精度±２μｍ以内を達成することが困
難である。更にスライダがディスク上で浮上するために
は、空気ベアリング部4a、4bがディスクより外にはみ出
すことが出来ないところから、トラック部（５）がスラ
イダ中央部にあることが有効記録面積を減ずるという記
録容量上の欠点を有していた。
ライトのみで構成されるため、低価格であるという優位
性を有しているものの、センターレール５のテーパー加
工によりトラック部が形成されるものであるところか
ら、トラック幅精度及び狭トラック化が得難く、近年、
高密度記録化に伴って要求されているトラック幅20μｍ
以下、トラック幅精度±２μｍ以内を達成することが困
難である。更にスライダがディスク上で浮上するために
は、空気ベアリング部4a、4bがディスクより外にはみ出
すことが出来ないところから、トラック部（５）がスラ
イダ中央部にあることが有効記録面積を減ずるという記
録容量上の欠点を有していた。
また、スライダ本体とコアとを別体として、それらを組
み合わせてなる、所謂コンポジット型スライダも知られ
ている。このコンポジット型スライダは、トラック部が
直角に加工されたフェライトコアを非磁性のスライダ本
体に埋め込み、固定するものであるところから、トラッ
ク幅精度、狭トラック化が、前記モノリシック型に比べ
て得易いと言う利点を有しており、また空気ベアリング
部の延長上にトラック部を配することが可能であり、記
録容量上において有利ではあるものの、スライダ本体や
コアを個々に加工し、それらを接合一体化するという工
程の採用が必須となるため、コスト高となる欠点を有し
ている。
み合わせてなる、所謂コンポジット型スライダも知られ
ている。このコンポジット型スライダは、トラック部が
直角に加工されたフェライトコアを非磁性のスライダ本
体に埋め込み、固定するものであるところから、トラッ
ク幅精度、狭トラック化が、前記モノリシック型に比べ
て得易いと言う利点を有しており、また空気ベアリング
部の延長上にトラック部を配することが可能であり、記
録容量上において有利ではあるものの、スライダ本体や
コアを個々に加工し、それらを接合一体化するという工
程の採用が必須となるため、コスト高となる欠点を有し
ている。
一方、かかるコンポジット型スライダと同様な性能を持
たせ、また低コスト化を図るために、特開昭62−18615
号公報には、スライダ本体の空気ベアリング部の端部に
ヨーク部を一体的に設けて、コアを構成するようにした
構造のスライドが明らかにされている。そして、そのよ
うなスライダは、予めトラック規定溝にガラスを埋め込
んだ両ブロックを突き合わせて、接合一体化することに
より、ギャップ接合を行ない、その後、空気ベアリング
部及びヨーク部を形成するための溝加工を行なうことに
よって、製作されることとなる。
たせ、また低コスト化を図るために、特開昭62−18615
号公報には、スライダ本体の空気ベアリング部の端部に
ヨーク部を一体的に設けて、コアを構成するようにした
構造のスライドが明らかにされている。そして、そのよ
うなスライダは、予めトラック規定溝にガラスを埋め込
んだ両ブロックを突き合わせて、接合一体化することに
より、ギャップ接合を行ない、その後、空気ベアリング
部及びヨーク部を形成するための溝加工を行なうことに
よって、製作されることとなる。
しかしながら、この構造では、モノリシック型スライダ
に比べて、トラック部が空気ベアリング部の延長上にあ
るために、空気ベアリング部形成のための溝加工により
両者が同時に形成されるという利点を有するが、このス
ライダでは、一方のフェライトブロックのみのトラック
加工ではトラック位置合わせが不要なものの、ギャップ
エッジでのフリンジング効果が大きく、高密度化に不利
であると共に、両側のフェライトブロックのトラック加
工がある場合には、トラック位置合わせという煩雑な作
業が加わり、またヨーク部の断面積が前記したコンポジ
ット型スライダ、更には第１図の如きモノリシック型ス
ライダに比べて大きく、従ってインダクタンスが大きく
なって、高周波対応、換言すれば高密度記録に不利であ
ると言う問題を内在している。
に比べて、トラック部が空気ベアリング部の延長上にあ
るために、空気ベアリング部形成のための溝加工により
両者が同時に形成されるという利点を有するが、このス
ライダでは、一方のフェライトブロックのみのトラック
加工ではトラック位置合わせが不要なものの、ギャップ
エッジでのフリンジング効果が大きく、高密度化に不利
であると共に、両側のフェライトブロックのトラック加
工がある場合には、トラック位置合わせという煩雑な作
業が加わり、またヨーク部の断面積が前記したコンポジ
ット型スライダ、更には第１図の如きモノリシック型ス
ライダに比べて大きく、従ってインダクタンスが大きく
なって、高周波対応、換言すれば高密度記録に不利であ
ると言う問題を内在している。
しかも、上記の如き従来のコアスライダにおいて、その
左右の二つの空気ベアリング部やセンターレールを形成
するための溝加工やそれらの面取り加工は、何れも、ダ
イヤモンド砥石等による機械加工により行なわれること
となるところから、チップ１個当たり合計８ヶ所の砥石
加工を施す必要があり、そのため、全工程中の中でも最
も加工時間を必要とする工程であったのであり、また面
取り加工においては、ダイヤモンド砥石の割出し誤差に
加えて、製品の高さや接着誤差等により、空気ベアリン
グ部及びトラック（センターレール）の幅に±３μｍの
誤差の発生が避けられ得ず、更にダイヤモンド砥石の加
工面には、大きさ:1μｍ以上のチッピングの発生が避け
られ得ない等という問題も内在しているのである。
左右の二つの空気ベアリング部やセンターレールを形成
するための溝加工やそれらの面取り加工は、何れも、ダ
イヤモンド砥石等による機械加工により行なわれること
となるところから、チップ１個当たり合計８ヶ所の砥石
加工を施す必要があり、そのため、全工程中の中でも最
も加工時間を必要とする工程であったのであり、また面
取り加工においては、ダイヤモンド砥石の割出し誤差に
加えて、製品の高さや接着誤差等により、空気ベアリン
グ部及びトラック（センターレール）の幅に±３μｍの
誤差の発生が避けられ得ず、更にダイヤモンド砥石の加
工面には、大きさ:1μｍ以上のチッピングの発生が避け
られ得ない等という問題も内在しているのである。
（解決課題） ここにおいて、本発明は、かかる事情を背景として為さ
れたものであって、その解決すべき課題とするところ
は、固定磁気ディスク装置用コアスライダにおいて、ト
ラック幅を狭く成し得て、その精度を向上せしめると共
に、オフトラック時における隣接トラックからの信号の
読み取り（クロストーク）を極めて小さくして、高密度
記録化を有利に達成せしめ、また製造時のトラック部に
おけるチッピング（稜部の欠け）の発生を無くし、更に
このようなコアスライダの製造工数を格段に低減して、
製造コストの低下を有利に図ることにある。
れたものであって、その解決すべき課題とするところ
は、固定磁気ディスク装置用コアスライダにおいて、ト
ラック幅を狭く成し得て、その精度を向上せしめると共
に、オフトラック時における隣接トラックからの信号の
読み取り（クロストーク）を極めて小さくして、高密度
記録化を有利に達成せしめ、また製造時のトラック部に
おけるチッピング（稜部の欠け）の発生を無くし、更に
このようなコアスライダの製造工数を格段に低減して、
製造コストの低下を有利に図ることにある。
（解決手段） そして、本発明は、かかる課題解決のために、所定高さ
の互いに平行な左右の空気ベアリング部をディスク摺動
面に備えたスライダ本体と、該スライダ本体に対して一
体的に設けられたヨーク部とを有し、それらヨーク部と
スライダ本体にて磁気ヘッドのための閉磁路が構成され
ると共に、該スライダ本体と該ヨーク部との間に所定間
隙の磁気ギャップが形成されてなる固定磁気ディスク装
置用コアスライダを、前記スライダ本体を与える第一の
フェライトブロックと前記ヨーク部を与える第二のフェ
ライトブロックとを突き合わせて製造するに際して、第
一のフェライトブロックと第二のフェライトブロックと
が一体化されたブロック組合せ体のディスク摺動面側の
面に、二つのフェライトブロックに跨がるように、少な
くとも二つのトラック幅規制用の溝を、レーザ誘起エッ
チングにより平行に設け、それら溝間に所定幅のトラッ
ク部を形成せしめる工程と、かかるレーザ誘起エッチン
グにより形成されたブロック組合せ体のトラック幅規制
用の溝内に非磁性材を充填した後、該ブロック組合せ体
のディスク摺動面側の面に所定のマスクを施して、或い
は前記非磁性材を充填することなく、かかるマスクを施
す際に、該マスクの一部を前記トラック幅規制用の溝内
に充填して、化学エッチング処理することにより空気ベ
アリング部並びに前記トラック部の形成部位を同様な高
さにおいて突出、形成せしめる工程とを含むことを特徴
とする固定磁気ディスク装置用コアスライダの製造法
を、その要旨とするものである。
の互いに平行な左右の空気ベアリング部をディスク摺動
面に備えたスライダ本体と、該スライダ本体に対して一
体的に設けられたヨーク部とを有し、それらヨーク部と
スライダ本体にて磁気ヘッドのための閉磁路が構成され
ると共に、該スライダ本体と該ヨーク部との間に所定間
隙の磁気ギャップが形成されてなる固定磁気ディスク装
置用コアスライダを、前記スライダ本体を与える第一の
フェライトブロックと前記ヨーク部を与える第二のフェ
ライトブロックとを突き合わせて製造するに際して、第
一のフェライトブロックと第二のフェライトブロックと
が一体化されたブロック組合せ体のディスク摺動面側の
面に、二つのフェライトブロックに跨がるように、少な
くとも二つのトラック幅規制用の溝を、レーザ誘起エッ
チングにより平行に設け、それら溝間に所定幅のトラッ
ク部を形成せしめる工程と、かかるレーザ誘起エッチン
グにより形成されたブロック組合せ体のトラック幅規制
用の溝内に非磁性材を充填した後、該ブロック組合せ体
のディスク摺動面側の面に所定のマスクを施して、或い
は前記非磁性材を充填することなく、かかるマスクを施
す際に、該マスクの一部を前記トラック幅規制用の溝内
に充填して、化学エッチング処理することにより空気ベ
アリング部並びに前記トラック部の形成部位を同様な高
さにおいて突出、形成せしめる工程とを含むことを特徴
とする固定磁気ディスク装置用コアスライダの製造法
を、その要旨とするものである。
なお、かかる固定磁気ディスク装置用コアスライダの製
造法においては、前記第一及び第二のフェライトブロッ
クの少なくとも一方のものの少なくとも磁気ギャップ形
成部位に、所定厚さの金属磁性材層を配置することも可
能である。
造法においては、前記第一及び第二のフェライトブロッ
クの少なくとも一方のものの少なくとも磁気ギャップ形
成部位に、所定厚さの金属磁性材層を配置することも可
能である。
（発明の具体的構成・実施例） 以下、図面に示される本発明に従う幾つかの具体例に基
づき、本発明を更に具体的に明らかにすることとする。
づき、本発明を更に具体的に明らかにすることとする。
先ず、本発明に従って固定磁気ディスク装置用コアスラ
イダを得るために、第一及び第二のフェライトブロック
が準備される。第一のフェライトブロックはスライダ本
体を与え、また第二のフェライトブロックはヨーク部を
与えるものである。そして、それらフェライトブロック
には、従来からの高透磁率フェライト材が用いられ、ま
たそれらフェライトブロックは、一般に複数のコアスラ
イダが製造され得るように、所定厚さの長手板状のブロ
ックとして用いられて、それらの突き合わせによって磁
気ヘッドのための閉磁路、換言すれば環状の磁路が構成
せしめられる。なお、高透磁率のフェライトブロックと
しては、Mn−Znフェライト、Ni−Znフェライト等の単結
晶体或いは多結晶体が用いられ、また単結晶体と多結晶
体の複合体も有利に用いられる。また、通常空気ベアリ
ング部の幅精度は±15μｍ以内であることが要求される
ので、単結晶体を用いるにあたっては、特願昭62−1716
66号において本出願が提案したように、エッチング稜
部、即ち空気ベアリング部の長手方向の稜部の直線性の
乱れを±15μｍ以内に維持し、且つ空気ベアリング部の
斜面を対称にするべく、以下の空気ベアリング面及び空
気ベアリング部の長手稜部の組合せが、結晶面及び結晶
方位として選択される。即ち、（100）と〈100〉，（10
0）と〈110〉，（100）と〈100〉，〈110〉と（110），
（311）と〈332〉，（332）と〈311〉，（611）と〈33
1〉，（331）と〈611〉，（211）と〈111〉の組合せが
好適に選択されることとなる。
イダを得るために、第一及び第二のフェライトブロック
が準備される。第一のフェライトブロックはスライダ本
体を与え、また第二のフェライトブロックはヨーク部を
与えるものである。そして、それらフェライトブロック
には、従来からの高透磁率フェライト材が用いられ、ま
たそれらフェライトブロックは、一般に複数のコアスラ
イダが製造され得るように、所定厚さの長手板状のブロ
ックとして用いられて、それらの突き合わせによって磁
気ヘッドのための閉磁路、換言すれば環状の磁路が構成
せしめられる。なお、高透磁率のフェライトブロックと
しては、Mn−Znフェライト、Ni−Znフェライト等の単結
晶体或いは多結晶体が用いられ、また単結晶体と多結晶
体の複合体も有利に用いられる。また、通常空気ベアリ
ング部の幅精度は±15μｍ以内であることが要求される
ので、単結晶体を用いるにあたっては、特願昭62−1716
66号において本出願が提案したように、エッチング稜
部、即ち空気ベアリング部の長手方向の稜部の直線性の
乱れを±15μｍ以内に維持し、且つ空気ベアリング部の
斜面を対称にするべく、以下の空気ベアリング面及び空
気ベアリング部の長手稜部の組合せが、結晶面及び結晶
方位として選択される。即ち、（100）と〈100〉，（10
0）と〈110〉，（100）と〈100〉，〈110〉と（110），
（311）と〈332〉，（332）と〈311〉，（611）と〈33
1〉，（331）と〈611〉，（211）と〈111〉の組合せが
好適に選択されることとなる。
そして、かかる選択された第一及び第二のフェライトブ
ロックの少なくとも一方のものに対して、その少なくと
も一方の突合せ面に、少なくとも１条のコイル巻線用の
溝を形成する工程が実施される。例えば、第２図（ａ）
及び（ｂ）に示される如き形状の第一及び第二のフェラ
イトブロック10,12のそれぞれの突合せ面（ギャップ対
向面）14に対して、第３図（ａ）及び（ｂ）に示される
ようなコイル巻線用の溝24が設けられるのである。ま
た、かかるコイル巻線用の溝24は、第一及び第二のフェ
ライトブロックが一体化されたブロック組合せ体の２個
取りのために、それらフェライトブロック10,12の磁気
ギャップ形成部位18の両側に、それぞれ設けられてい
る。そして、その後、それらフェライトブロック10,12
の互いに突き合わされるギャップ対向面（14）には、必
要に応じて表面研磨が施されて、最終仕上げが行なわれ
る。
ロックの少なくとも一方のものに対して、その少なくと
も一方の突合せ面に、少なくとも１条のコイル巻線用の
溝を形成する工程が実施される。例えば、第２図（ａ）
及び（ｂ）に示される如き形状の第一及び第二のフェラ
イトブロック10,12のそれぞれの突合せ面（ギャップ対
向面）14に対して、第３図（ａ）及び（ｂ）に示される
ようなコイル巻線用の溝24が設けられるのである。ま
た、かかるコイル巻線用の溝24は、第一及び第二のフェ
ライトブロックが一体化されたブロック組合せ体の２個
取りのために、それらフェライトブロック10,12の磁気
ギャップ形成部位18の両側に、それぞれ設けられてい
る。そして、その後、それらフェライトブロック10,12
の互いに突き合わされるギャップ対向面（14）には、必
要に応じて表面研磨が施されて、最終仕上げが行なわれ
る。
次いで、かかる工程の終了した二つのフェライトブロッ
ク10,12を、それぞれの突合せ面14,14において、それら
の磁気ギャップ形成部位18,18を対向させて突き合わ
せ、環状の磁路を構成せしめ、コイル巻線用溝24、更に
必要に応じて設けられた後部溝に、ガラス棒（28）をそ
れぞれ差し込み、加熱・加圧することにより、それらの
溝に入れたガラス棒を溶融させて、それら二つのフェラ
イトブロック10,12を接合する。例えば、軟化点360℃の
ガラスを用い、500℃で接合するのである。尤も、この
ようなガラスを用いた接合一体化方式に代えて、よく知
られている固相反応を利用したフェライトの焼結接合方
式を用いて、二つのフェライトブロック10,12を、それ
らの突合せに面おいて直接に焼結接合せしめる手法も採
用可能である。
ク10,12を、それぞれの突合せ面14,14において、それら
の磁気ギャップ形成部位18,18を対向させて突き合わ
せ、環状の磁路を構成せしめ、コイル巻線用溝24、更に
必要に応じて設けられた後部溝に、ガラス棒（28）をそ
れぞれ差し込み、加熱・加圧することにより、それらの
溝に入れたガラス棒を溶融させて、それら二つのフェラ
イトブロック10,12を接合する。例えば、軟化点360℃の
ガラスを用い、500℃で接合するのである。尤も、この
ようなガラスを用いた接合一体化方式に代えて、よく知
られている固相反応を利用したフェライトの焼結接合方
式を用いて、二つのフェライトブロック10,12を、それ
らの突合せに面おいて直接に焼結接合せしめる手法も採
用可能である。
第４図には、このようにして得られた第一のフェライト
ブロック10と第二のフェライトブロック12との接合体26
が示されており、またこの接合体26には、それを構成す
る第一のフェライトブロック10の磁気ギャップ形成部位
18と第二のフェライトブロック12の磁気ギャップ形成部
位18との間に所定間隙の磁気ギャップ30が形成されるこ
ととなる。なお、第４図において、28は、ガラス棒の溶
融によって形成された接合ガラスである。また、この接
合ガラス28が、その溶融時に磁気ギャップ30の間隙内に
侵入して充填していることによって、磁気ギャップ30自
体を保護する機能も果たすこととなる。
ブロック10と第二のフェライトブロック12との接合体26
が示されており、またこの接合体26には、それを構成す
る第一のフェライトブロック10の磁気ギャップ形成部位
18と第二のフェライトブロック12の磁気ギャップ形成部
位18との間に所定間隙の磁気ギャップ30が形成されるこ
ととなる。なお、第４図において、28は、ガラス棒の溶
融によって形成された接合ガラスである。また、この接
合ガラス28が、その溶融時に磁気ギャップ30の間隙内に
侵入して充填していることによって、磁気ギャップ30自
体を保護する機能も果たすこととなる。
なお、この所定間隙の磁気ギャップ30は、通常、第一或
いは第二のフェライトブロック10,12の少なくとも一方
の磁気ギャップ形成部位18部分が、前記のコイル巻線用
溝の形成工程の前後に、予め、所定量研磨されたり、或
いはエッチング処理が施されたりして形成される他、そ
れら磁気ギャップ形成部位18の少なくとも一方に、ガラ
ス等の非磁性材からなる非磁性層（ギャップ形成層）が
所定厚さで設けられることによって、形成されることと
なる。例えば、第一及び第二のフェライトブロック10,1
2の少なくとも一方のものの突合せ面の少なくとも磁気
ギャップ形成部位18に、SiO2,ガラス等のギャップ形成
用非磁性材が、所定厚さにスパッタリング等にて適用さ
れ、所定厚さの非磁性層として形成された後、それら第
一及び第二のフェライトブロックを接合、一体化せしめ
ることによって、該非磁性層に対応した間隙を有する磁
気ギャップ30が形成されるのである。
いは第二のフェライトブロック10,12の少なくとも一方
の磁気ギャップ形成部位18部分が、前記のコイル巻線用
溝の形成工程の前後に、予め、所定量研磨されたり、或
いはエッチング処理が施されたりして形成される他、そ
れら磁気ギャップ形成部位18の少なくとも一方に、ガラ
ス等の非磁性材からなる非磁性層（ギャップ形成層）が
所定厚さで設けられることによって、形成されることと
なる。例えば、第一及び第二のフェライトブロック10,1
2の少なくとも一方のものの突合せ面の少なくとも磁気
ギャップ形成部位18に、SiO2,ガラス等のギャップ形成
用非磁性材が、所定厚さにスパッタリング等にて適用さ
れ、所定厚さの非磁性層として形成された後、それら第
一及び第二のフェライトブロックを接合、一体化せしめ
ることによって、該非磁性層に対応した間隙を有する磁
気ギャップ30が形成されるのである。
そして、このような二つのフェライトブロックからなる
接合体26は、それより、第５図に示される如きブロック
組合せ体、所謂ギャップバー32を得るために、第４図に
示される切断線34に沿って二分割され、これによって第
５図に示されるように、ディスク摺動側の面36に磁気ギ
ャップ30を露呈せしめたブロック組合せ体32の二つが形
成されるのである。
接合体26は、それより、第５図に示される如きブロック
組合せ体、所謂ギャップバー32を得るために、第４図に
示される切断線34に沿って二分割され、これによって第
５図に示されるように、ディスク摺動側の面36に磁気ギ
ャップ30を露呈せしめたブロック組合せ体32の二つが形
成されるのである。
なお、このように形成されたブロック組合せ体32のディ
スク摺動側の面36には、必要に応じて研磨操作が施され
る。この研磨操作によって、最終ギャップデプス長（磁
気ギャップ30のデプス長）まで研磨しても差支えはない
が、続いて実施されるレーザ誘起エッチング操作によ
り、ディスク摺動側の面36に加工生成物等が飛散したり
すること等を考慮して、ディスク摺動側の面36を最終ギ
ャップデプス長まで研磨する操作は、レーザ誘起エッチ
ング操作の後、後述する化学エッチング処理に先立って
行なわれることが望ましい。
スク摺動側の面36には、必要に応じて研磨操作が施され
る。この研磨操作によって、最終ギャップデプス長（磁
気ギャップ30のデプス長）まで研磨しても差支えはない
が、続いて実施されるレーザ誘起エッチング操作によ
り、ディスク摺動側の面36に加工生成物等が飛散したり
すること等を考慮して、ディスク摺動側の面36を最終ギ
ャップデプス長まで研磨する操作は、レーザ誘起エッチ
ング操作の後、後述する化学エッチング処理に先立って
行なわれることが望ましい。
次いで、このブロック組合せ体32のディスク摺動側の面
36に、レーザ誘起エッチング操作が施されることによっ
て、例えば、第６図に示されるように、第一及び第二の
フェライトブロック10、12に跨がるように、少なくとも
二つのトラック幅規制用の溝38,38が互いに平行に設け
られ、以て、それら溝の間に所定幅のトラック部40を形
成せしめる工程が実施される。なお、第６図において
は、ブロック組合せ体32から複数の固定スライダを得る
べく、かかるブロック組合せ体32には複数組のトラック
幅規制用溝38が形成されている。
36に、レーザ誘起エッチング操作が施されることによっ
て、例えば、第６図に示されるように、第一及び第二の
フェライトブロック10、12に跨がるように、少なくとも
二つのトラック幅規制用の溝38,38が互いに平行に設け
られ、以て、それら溝の間に所定幅のトラック部40を形
成せしめる工程が実施される。なお、第６図において
は、ブロック組合せ体32から複数の固定スライダを得る
べく、かかるブロック組合せ体32には複数組のトラック
幅規制用溝38が形成されている。
このように、トラック幅規制用溝38の形成をレーザ誘起
エッチングにて行なうことにより、幅が狭く、制度の高
いトラック加工が可能となり、しかも溝側面（トラック
部40側の側面）の角度を略垂直（80〜90゜）に加工する
ことができるため、オフトラック時の隣接トラックから
の信号読み取り（クロストーク）を極めて小さく出来、
また摺動面の研磨によってもトラック幅が変化せず、更
に砥石加工の場合に起こる、トラック部のチッピング
（稜部の欠け）や、磁気ギャップ近傍に金属磁性材を配
した所謂メタルインギャップヘッドにおける金属磁性材
のバリ等が生じ難いこと等、多くの利点を得ることがで
きるのである。
エッチングにて行なうことにより、幅が狭く、制度の高
いトラック加工が可能となり、しかも溝側面（トラック
部40側の側面）の角度を略垂直（80〜90゜）に加工する
ことができるため、オフトラック時の隣接トラックから
の信号読み取り（クロストーク）を極めて小さく出来、
また摺動面の研磨によってもトラック幅が変化せず、更
に砥石加工の場合に起こる、トラック部のチッピング
（稜部の欠け）や、磁気ギャップ近傍に金属磁性材を配
した所謂メタルインギャップヘッドにおける金属磁性材
のバリ等が生じ難いこと等、多くの利点を得ることがで
きるのである。
なお、前述したように、このレーザ誘起エッチング操作
によりトラック幅規制用溝を形成する工程に先立って、
必要に応じてブロック組合せ体32のディスク摺動側の面
36に対して研磨が施されるが、かかる研磨操作において
最終ギャップデプス長まで研磨されない場合には、かか
るトラック幅規制用溝を形成する工程の後、ブロック組
合せ体32のディスク摺動側の面36には再び研磨操作が施
され、最終ギャップデプス長が規定される。このように
すれば、レーザ誘起エッチング操作で、ディスク摺動面
36に飛散粒子等が付着しても、その後の最終ギャップデ
プス長までの研磨により、飛散粒子等を有利に取り除く
ことができるのである。
によりトラック幅規制用溝を形成する工程に先立って、
必要に応じてブロック組合せ体32のディスク摺動側の面
36に対して研磨が施されるが、かかる研磨操作において
最終ギャップデプス長まで研磨されない場合には、かか
るトラック幅規制用溝を形成する工程の後、ブロック組
合せ体32のディスク摺動側の面36には再び研磨操作が施
され、最終ギャップデプス長が規定される。このように
すれば、レーザ誘起エッチング操作で、ディスク摺動面
36に飛散粒子等が付着しても、その後の最終ギャップデ
プス長までの研磨により、飛散粒子等を有利に取り除く
ことができるのである。
ところで、前記したレーザ誘起エッチング手法によるト
ラック幅規制用の溝入れ加工は、通常、波長が１μｍ以
下であるアルゴンレーザ等が用いられ、50〜150TorrのC
Cl4（四塩化炭素）ガス雰囲気下において好適に行なわ
れる。また、溝38の深さとしては、好ましくは、コイル
巻線用溝24に達する深さで、少なくとも３μｍ以上の溝
深さ、そして溝38の長さとしては、磁気ギャップ30から
の長さ（第10図中、ｌ）の２倍が、最長記録波長以上、
一般に10μｍ以上、好ましくは20μｍ以上の長さとなる
ように、それぞれ一組のトラック幅規制用溝38,38が形
成されるのである。かかるトラック幅規制用溝38の最終
的な深さが、３μｍよりも浅いと、次工程での化学エッ
チングによりトラック部の斜面に棚部42が生じた場合
（第８図（ｂ）参照）、この棚部42でディスクの信号を
再生してしまうという不都合が生じるからであり、また
磁気ギャップ30からの長さ:lが短いと、第10図中ａで示
される部位において再生時に隣接トラックの信号を拾い
易く、ノイズが発生するという不都合が生じるからであ
る。なお、第８図（ａ）及び（ｂ）に示される一点鎖線
は、エッチング後のフェライト面を表わすものである。
ラック幅規制用の溝入れ加工は、通常、波長が１μｍ以
下であるアルゴンレーザ等が用いられ、50〜150TorrのC
Cl4（四塩化炭素）ガス雰囲気下において好適に行なわ
れる。また、溝38の深さとしては、好ましくは、コイル
巻線用溝24に達する深さで、少なくとも３μｍ以上の溝
深さ、そして溝38の長さとしては、磁気ギャップ30から
の長さ（第10図中、ｌ）の２倍が、最長記録波長以上、
一般に10μｍ以上、好ましくは20μｍ以上の長さとなる
ように、それぞれ一組のトラック幅規制用溝38,38が形
成されるのである。かかるトラック幅規制用溝38の最終
的な深さが、３μｍよりも浅いと、次工程での化学エッ
チングによりトラック部の斜面に棚部42が生じた場合
（第８図（ｂ）参照）、この棚部42でディスクの信号を
再生してしまうという不都合が生じるからであり、また
磁気ギャップ30からの長さ:lが短いと、第10図中ａで示
される部位において再生時に隣接トラックの信号を拾い
易く、ノイズが発生するという不都合が生じるからであ
る。なお、第８図（ａ）及び（ｂ）に示される一点鎖線
は、エッチング後のフェライト面を表わすものである。
レーザ誘起エッチングの加工条件としては、通常、レー
ザーパワーが30〜300mW、スキャンスピードが２〜60μm
/sec、ビーム径が10μｍ以下とされることとなる。けだ
し、トラック幅の精度を±２μｍ以内に抑える必要上、
スキャンスピードが速すぎたり、ビーム径が大き過ぎた
り、レーザーパワーが大き過ぎたりすることは好ましく
なく、またトラック幅規制用溝38のトラック部40側の斜
面（以下、トラック部側面と称する）43の角度を80〜90
゜にする必要上、スキャンスピードが速すぎたり、ビー
ム径が大き過ぎたりすると、溝が擂鉢断面形状になって
好ましくなく、更にトラック幅規制用溝38の深さを３μ
ｍ以上にする必要上、レーザーパワーが低過ぎたり、ス
キャンスピードが速すぎたりすることは好ましくないか
らである。
ザーパワーが30〜300mW、スキャンスピードが２〜60μm
/sec、ビーム径が10μｍ以下とされることとなる。けだ
し、トラック幅の精度を±２μｍ以内に抑える必要上、
スキャンスピードが速すぎたり、ビーム径が大き過ぎた
り、レーザーパワーが大き過ぎたりすることは好ましく
なく、またトラック幅規制用溝38のトラック部40側の斜
面（以下、トラック部側面と称する）43の角度を80〜90
゜にする必要上、スキャンスピードが速すぎたり、ビー
ム径が大き過ぎたりすると、溝が擂鉢断面形状になって
好ましくなく、更にトラック幅規制用溝38の深さを３μ
ｍ以上にする必要上、レーザーパワーが低過ぎたり、ス
キャンスピードが速すぎたりすることは好ましくないか
らである。
なお、このレーザ誘起エッチング操作に先立って、既に
ディスク摺動側の面36が最終ギャップデプス長まで研磨
されている場合には、ディスク摺動側の面36に加工生成
物等が付着したり、トラック部40のエッジ（稜部）のだ
れが２μｍを越えないように、また変質層が形成された
りするような不都合が無いように、通常、レーザーパワ
ーは30〜200mW、スキャンスピードは２〜30μm/sec、ビ
ーム径は５μｍ以下とされることとなる。
ディスク摺動側の面36が最終ギャップデプス長まで研磨
されている場合には、ディスク摺動側の面36に加工生成
物等が付着したり、トラック部40のエッジ（稜部）のだ
れが２μｍを越えないように、また変質層が形成された
りするような不都合が無いように、通常、レーザーパワ
ーは30〜200mW、スキャンスピードは２〜30μm/sec、ビ
ーム径は５μｍ以下とされることとなる。
また、レーザ誘起エッチング操作の後に最終ギャップデ
プス長までの研磨が為される場合には、溝38の深さを３
μｍ＋研磨代以上にするため、また研磨によるトラック
幅の変動を少なくするべくトラック部側面43の角度を垂
直に近づけるため、通常、レーザーパワーは50〜300m
W、スキャンスピードは２〜60μm/sec、ビームは径は10
μｍ以下とされる。なお、このようにレーザ誘起エッチ
ング操作の後に最終ギャップデプス長までの研磨が為さ
れる場合には、液中（燐酸水溶液や水酸化カリウム水溶
液等）におけるレーザ加工も可能であり、特願昭63−47
540号において、本出願人が提案したように、濃度10〜9
0wt％のリン酸水溶液中で、ビーム径50μｍ以下、パワ
ー:Pが50〜1900mW、走査速度:Vが２〜200μm/secの範囲
で、Ｖ≦0.31P＋34の関係式と、Ｖ≦−0.14P＋271の関
係式を同時に成立させるパワーと走査速度の下で行なう
ことにより、良好なトラック幅規制用溝38を形成するこ
とができる。
プス長までの研磨が為される場合には、溝38の深さを３
μｍ＋研磨代以上にするため、また研磨によるトラック
幅の変動を少なくするべくトラック部側面43の角度を垂
直に近づけるため、通常、レーザーパワーは50〜300m
W、スキャンスピードは２〜60μm/sec、ビームは径は10
μｍ以下とされる。なお、このようにレーザ誘起エッチ
ング操作の後に最終ギャップデプス長までの研磨が為さ
れる場合には、液中（燐酸水溶液や水酸化カリウム水溶
液等）におけるレーザ加工も可能であり、特願昭63−47
540号において、本出願人が提案したように、濃度10〜9
0wt％のリン酸水溶液中で、ビーム径50μｍ以下、パワ
ー:Pが50〜1900mW、走査速度:Vが２〜200μm/secの範囲
で、Ｖ≦0.31P＋34の関係式と、Ｖ≦−0.14P＋271の関
係式を同時に成立させるパワーと走査速度の下で行なう
ことにより、良好なトラック幅規制用溝38を形成するこ
とができる。
その後、かかるトラック幅規制用溝38,38によってトラ
ック部40がディスク摺動側の面36に設けられたブロック
組合せ体32には、更にかかるディスク摺動側の面36に、
目的とするコアスライダに与えられる左右一対の空気ベ
アリング部並びに該トラック部40の形成部位を、それぞ
れ同様な高さにおいて突出、形成せしめる工程が実施さ
れる。本発明においては、この工程として、次のような
化学エッチング処理によって、ディスク摺動面（36）に
空気ベアリング部やトラック部を与える突起部を形成せ
しめる手法が採用される。
ック部40がディスク摺動側の面36に設けられたブロック
組合せ体32には、更にかかるディスク摺動側の面36に、
目的とするコアスライダに与えられる左右一対の空気ベ
アリング部並びに該トラック部40の形成部位を、それぞ
れ同様な高さにおいて突出、形成せしめる工程が実施さ
れる。本発明においては、この工程として、次のような
化学エッチング処理によって、ディスク摺動面（36）に
空気ベアリング部やトラック部を与える突起部を形成せ
しめる手法が採用される。
すなわち、エッチング手法によって空気ベアリング部や
トラック部を与える突起部を形成せしめる工程を実施す
るに際しては、先ず、第７図に示されるように、ブロッ
ク組合せ体32のディスク摺動側の面36に対して、その空
気ベアリング部の形成部位及びトラック部の形成部位
に、それぞれ、所定パターンのマスク44a,44bが施さ
れ、以下に述べるエッチング操作を行なうことによっ
て、かかるマスク44a,44bの施されていないディスク摺
動側の面36のフェライト面を所定深さにエッチングする
ことにより、空気ベアリング部及びトラック部となる突
起部がそれぞれ所定の高さにおいて形成されることとな
るのである。
トラック部を与える突起部を形成せしめる工程を実施す
るに際しては、先ず、第７図に示されるように、ブロッ
ク組合せ体32のディスク摺動側の面36に対して、その空
気ベアリング部の形成部位及びトラック部の形成部位
に、それぞれ、所定パターンのマスク44a,44bが施さ
れ、以下に述べるエッチング操作を行なうことによっ
て、かかるマスク44a,44bの施されていないディスク摺
動側の面36のフェライト面を所定深さにエッチングする
ことにより、空気ベアリング部及びトラック部となる突
起部がそれぞれ所定の高さにおいて形成されることとな
るのである。
なお、この化学エッチングによって得られた空気ベアリ
ング部の長手方向の稜部の直線性の乱れを±15μｍ以内
に維持するために、特開昭62−83483号、特願昭62−171
666号、特願昭63−75744号において、本出願人が提案し
たように、好ましくは、マスク44a,44bの施される前
に、ディスク摺動側の面は、鏡面に加工されると共に、
マスクの施される表面部分の加工歪を除去するために、
熱処理や化学エッチング等の前処理が施されるのであ
る。
ング部の長手方向の稜部の直線性の乱れを±15μｍ以内
に維持するために、特開昭62−83483号、特願昭62−171
666号、特願昭63−75744号において、本出願人が提案し
たように、好ましくは、マスク44a,44bの施される前
に、ディスク摺動側の面は、鏡面に加工されると共に、
マスクの施される表面部分の加工歪を除去するために、
熱処理や化学エッチング等の前処理が施されるのであ
る。
この熱処理は、フェライトの平衡酸素濃度若しくはそれ
以下の酸素濃度の雰囲気中において、少なくとも200
℃、一般に200〜1300℃の温度下で実施される。また化
学エッチングは、リン酸、塩酸等の各種の酸性水溶液に
より実施可能であるが、エッチング後の鏡面の維持及び
作業の簡便さから、好ましくは、特開昭62−83483号に
開示されている如く、水分量20wt％以上のリン酸主体水
溶液中に浸漬することにより実施されるのである。更に
また熱処理と化学エッチングを併用することにより、よ
り効果的に歪が除去され得るのである。
以下の酸素濃度の雰囲気中において、少なくとも200
℃、一般に200〜1300℃の温度下で実施される。また化
学エッチングは、リン酸、塩酸等の各種の酸性水溶液に
より実施可能であるが、エッチング後の鏡面の維持及び
作業の簡便さから、好ましくは、特開昭62−83483号に
開示されている如く、水分量20wt％以上のリン酸主体水
溶液中に浸漬することにより実施されるのである。更に
また熱処理と化学エッチングを併用することにより、よ
り効果的に歪が除去され得るのである。
ところで、この所定パターンのマスク44a,44bの形成に
は、スクリーン印刷等の公知の手法が必要精度と経済性
の点から適宜に選択され、中でも、好適には、パターン
精度と工程の簡便さからフォトレジストを用いて露光に
よる方法が採用され、例えばレジストをディスク摺動側
の面36に塗布した後、空気ベアリング部の形成部位及び
トラック部の形成部位、そしてトラック幅規制用溝38に
埋設されたレジストを残して、それら以外の部位のフェ
ライト面が露出せしめられるようにすること等によっ
て、実施されることとなる。また、かかるマスク44a,44
bには、ポジ型或いはネガ型のフォトレジストや、真空
蒸着、スパッタリング若しくはCVD法等によって形成さ
れたCr等の金属やSiO若しくはSiO2等の各種のマスクを
使用することが可能であり、操作性，経済性と併わせ
て、マスクのフェライト表面への密着性等の点から適宜
に選択されることとなる。
は、スクリーン印刷等の公知の手法が必要精度と経済性
の点から適宜に選択され、中でも、好適には、パターン
精度と工程の簡便さからフォトレジストを用いて露光に
よる方法が採用され、例えばレジストをディスク摺動側
の面36に塗布した後、空気ベアリング部の形成部位及び
トラック部の形成部位、そしてトラック幅規制用溝38に
埋設されたレジストを残して、それら以外の部位のフェ
ライト面が露出せしめられるようにすること等によっ
て、実施されることとなる。また、かかるマスク44a,44
bには、ポジ型或いはネガ型のフォトレジストや、真空
蒸着、スパッタリング若しくはCVD法等によって形成さ
れたCr等の金属やSiO若しくはSiO2等の各種のマスクを
使用することが可能であり、操作性，経済性と併わせ
て、マスクのフェライト表面への密着性等の点から適宜
に選択されることとなる。
また、かかる所定パターンのマスク44a,44bが付与され
たブロック組合せ体32には、その露出せしめられたフェ
ライト部分を介して、所定深さのエッチング処理が施さ
れ、第９図及びその要部を拡大して示す第10図から明ら
かなように、それぞれのマスク44a,44bに対応する形状
の突起部が形成され、マスク44aからは空気ベアリング
部46が、またマスク44bからはトラック突起48が、それ
ぞれ所定高さにおいて形成されるのである。なお、この
ようなエッチング処理によって、かかる空気ベアリグ部
46やトラック突起48の周囲には、傾斜面50が形成される
ようになるが、一方、トラック部40のギャップ近傍にお
けるトラック部側面43は、トラック幅規制用溝38内にマ
スク44bが埋設されることによってエッチングから守ら
れ、略垂直な状態に保たれるのである（第８図参照）。
たブロック組合せ体32には、その露出せしめられたフェ
ライト部分を介して、所定深さのエッチング処理が施さ
れ、第９図及びその要部を拡大して示す第10図から明ら
かなように、それぞれのマスク44a,44bに対応する形状
の突起部が形成され、マスク44aからは空気ベアリング
部46が、またマスク44bからはトラック突起48が、それ
ぞれ所定高さにおいて形成されるのである。なお、この
ようなエッチング処理によって、かかる空気ベアリグ部
46やトラック突起48の周囲には、傾斜面50が形成される
ようになるが、一方、トラック部40のギャップ近傍にお
けるトラック部側面43は、トラック幅規制用溝38内にマ
スク44bが埋設されることによってエッチングから守ら
れ、略垂直な状態に保たれるのである（第８図参照）。
このようなエッチング処理は、通常の化学エッチングに
て行なわれることとなるが、特に有利には、リン酸主体
水溶液を用いて実施される。なお、このリン酸の濃度と
しては、50〜85wt％が望ましく、50wt％以下ではエッチ
ング時間が長くなって生産性が悪くなり、85wt％以上で
は、エッチング深さがバラツキ、幅精度が悪くなるので
ある。一方、リン酸水溶液の温度としては50〜90℃が望
ましく、90℃以上になると、リン酸主体水溶液の水分量
の変化が著しくなると共に、溶液内での温度分布が不均
一になって、エッチング深さがバラツキ、幅精度が悪く
なり、50℃以下では、エッチング時間が長くなり、生産
性が悪くなるのである。
て行なわれることとなるが、特に有利には、リン酸主体
水溶液を用いて実施される。なお、このリン酸の濃度と
しては、50〜85wt％が望ましく、50wt％以下ではエッチ
ング時間が長くなって生産性が悪くなり、85wt％以上で
は、エッチング深さがバラツキ、幅精度が悪くなるので
ある。一方、リン酸水溶液の温度としては50〜90℃が望
ましく、90℃以上になると、リン酸主体水溶液の水分量
の変化が著しくなると共に、溶液内での温度分布が不均
一になって、エッチング深さがバラツキ、幅精度が悪く
なり、50℃以下では、エッチング時間が長くなり、生産
性が悪くなるのである。
このように、空気ベアリング部46及びトラック突起48
が、化学エッチングにより一度に形成されると同時に傾
斜面50が形成されるところから、砥石加工等の如き機械
加工のように多数の研削操作を行なう必要がなく、加工
時間が大幅に短縮でき、しかもチッピングも発生しない
のである。また、ディスクの摺動時には、トラック部40
の延長上の両側に幅広の空気ベアリング部46及びそれと
同じ高さを有する幅広のトラック突起48を有するので、
ギャップ近傍のトラック部側面43が略90゜であっても、
トラック部40は、それら双方により保護されて、機械的
強度が保障されるのである。
が、化学エッチングにより一度に形成されると同時に傾
斜面50が形成されるところから、砥石加工等の如き機械
加工のように多数の研削操作を行なう必要がなく、加工
時間が大幅に短縮でき、しかもチッピングも発生しない
のである。また、ディスクの摺動時には、トラック部40
の延長上の両側に幅広の空気ベアリング部46及びそれと
同じ高さを有する幅広のトラック突起48を有するので、
ギャップ近傍のトラック部側面43が略90゜であっても、
トラック部40は、それら双方により保護されて、機械的
強度が保障されるのである。
そして、その後、ブロック組合せ体32は、所定長さのコ
アスライダを与えるように、更に必要に応じて、ブロッ
ク幅方向の所定位置において、例えば、第11図に示され
る破線52,52位置で切断せしめられた後、それぞれの空
気ベアリング部46のリーディング部に所定長さで且つ所
定角度のテーパー面（傾斜面）54を与えるべく研磨が施
される（第12図参照）。
アスライダを与えるように、更に必要に応じて、ブロッ
ク幅方向の所定位置において、例えば、第11図に示され
る破線52,52位置で切断せしめられた後、それぞれの空
気ベアリング部46のリーディング部に所定長さで且つ所
定角度のテーパー面（傾斜面）54を与えるべく研磨が施
される（第12図参照）。
そして、かくして得られた第12図に示される如き、空気
ベアリング部46やトラック突起48を有するブロック組合
せ体32には、第13図に示される如く、トラック突起48の
形成部位を残して他の部分を切除せしめることにより、
ヨーク部56が形成される。換言すれば、トラック突起48
を有するヨーク部56が、ブロック組合せ体32の幅方向の
一端部に、切除操作によって一体的に形成されることと
なるのである。そして、このヨーク部56が形成されたブ
ロック組合せ体32は、図示の如く、二つの空気ベアリン
グ部46,46が対となるように、切断線58,58によってブロ
ック幅方向に平行に切断せしめられることにより、第14
図に示される、本発明の目的とする固定磁気ディスク用
コアスライダ60の少なくとも１個が切り出されることと
なるのである。
ベアリング部46やトラック突起48を有するブロック組合
せ体32には、第13図に示される如く、トラック突起48の
形成部位を残して他の部分を切除せしめることにより、
ヨーク部56が形成される。換言すれば、トラック突起48
を有するヨーク部56が、ブロック組合せ体32の幅方向の
一端部に、切除操作によって一体的に形成されることと
なるのである。そして、このヨーク部56が形成されたブ
ロック組合せ体32は、図示の如く、二つの空気ベアリン
グ部46,46が対となるように、切断線58,58によってブロ
ック幅方向に平行に切断せしめられることにより、第14
図に示される、本発明の目的とする固定磁気ディスク用
コアスライダ60の少なくとも１個が切り出されることと
なるのである。
要するに、第14図に示されるように、互いに平行な空気
ベアリング部46,46を左右に有するスライダ本体62と、
該スライダ本体62に対して一体的に設けられたＣ字形状
のヨーク部56とを有し、それらヨーク部56とスライダ本
体62にて磁気ヘッドのための閉磁路が構成されると共
に、該スライダ本体62と該ヨーク部56との間に、所定間
隙の磁気ギャップ30が形成されてなる固定磁気ディスク
装置用コアスライダ60が、前記工程を経たブロック組合
せ体32より切り出されるのである。
ベアリング部46,46を左右に有するスライダ本体62と、
該スライダ本体62に対して一体的に設けられたＣ字形状
のヨーク部56とを有し、それらヨーク部56とスライダ本
体62にて磁気ヘッドのための閉磁路が構成されると共
に、該スライダ本体62と該ヨーク部56との間に、所定間
隙の磁気ギャップ30が形成されてなる固定磁気ディスク
装置用コアスライダ60が、前記工程を経たブロック組合
せ体32より切り出されるのである。
ところで、前記具体例では、化学エッチング処理にて、
空気ベアリング部並びにトラック部形成部位を突出、形
成せしめる工程が行なわれるに際して、トラック部（ト
ラック部側面）の保護が、トラック部形成部位に施され
るマスク材料をトラック幅規制用溝内に埋設することに
よって為されたが、トラック幅規制用溝を形成する工程
の終了の後、このようなトラック幅規制用溝内に、ガラ
スの如き非磁性材を埋設して、トラック部を保護し、続
いてブロック組合せ体のディスク摺動側の面を最終ギャ
ップデプス長まで研磨し、その後化学エッチング処理を
行なう手法も好適に採用されることとなる。
空気ベアリング部並びにトラック部形成部位を突出、形
成せしめる工程が行なわれるに際して、トラック部（ト
ラック部側面）の保護が、トラック部形成部位に施され
るマスク材料をトラック幅規制用溝内に埋設することに
よって為されたが、トラック幅規制用溝を形成する工程
の終了の後、このようなトラック幅規制用溝内に、ガラ
スの如き非磁性材を埋設して、トラック部を保護し、続
いてブロック組合せ体のディスク摺動側の面を最終ギャ
ップデプス長まで研磨し、その後化学エッチング処理を
行なう手法も好適に採用されることとなる。
すなわち、前記した具体的と同様な工程を経て製造され
た、化学エッチング処理が実施される前のトラック幅規
制用溝が形成されたブロック組合せ体に対して、そのデ
ィスク摺動面における最終ギャップデプス長までの研磨
操作に先立って、かかるトラック規制用溝の内部に、所
定の非磁性材を埋設するのである。
た、化学エッチング処理が実施される前のトラック幅規
制用溝が形成されたブロック組合せ体に対して、そのデ
ィスク摺動面における最終ギャップデプス長までの研磨
操作に先立って、かかるトラック規制用溝の内部に、所
定の非磁性材を埋設するのである。
例えば、第６図に示されるようなトラック幅規制用溝38
が形成されたブロック組合せ体32に対して、そのトラッ
ク幅規制用溝38内に、ガラス等の非磁性材64が所定の手
法により埋設されるのである（第15図参照）。その後、
余分な非磁性材64を除去せしめるべく、ブロック組合せ
体32のディスク摺動側の面36に対して、最終ギャップデ
プス長までの研磨操作が施され、第15図に示されるよう
なブロック組合せ体32が製造されることとなる。
が形成されたブロック組合せ体32に対して、そのトラッ
ク幅規制用溝38内に、ガラス等の非磁性材64が所定の手
法により埋設されるのである（第15図参照）。その後、
余分な非磁性材64を除去せしめるべく、ブロック組合せ
体32のディスク摺動側の面36に対して、最終ギャップデ
プス長までの研磨操作が施され、第15図に示されるよう
なブロック組合せ体32が製造されることとなる。
そして、このように、トラック部40の両側のトラック幅
規制用溝38に非磁性材64が埋め込まれたブロック組合せ
体32に対して、続いて、前記した具体例と同様にして、
空気ベアリング部及びトラック部形成部位を突出、形成
せしめる工程が施されるのである。すなわち、第16図に
示される如き前記と同様の所定パターンのマスク44a、4
4bが施され、そして前記と同様のエッチング操作を行な
うことによって、かかるマスク44a、44bの施されていな
いディスク摺動側の面36のフェライト面が、例えば第17
図における一点鎖線で示される面まで化学エッチングさ
れることにより、空気ベアリング部46及びトラック突起
48がそれぞれ形成されるのである。このように、トラッ
ク幅規制用溝38内に非磁性材64を埋設した状態で、化学
エッチング操作を施すことから、第17図からも明らかな
ように、この非磁性材64によって、トラック部40（トラ
ック部側面43）がエッチング作用から良好に保護される
のである。
規制用溝38に非磁性材64が埋め込まれたブロック組合せ
体32に対して、続いて、前記した具体例と同様にして、
空気ベアリング部及びトラック部形成部位を突出、形成
せしめる工程が施されるのである。すなわち、第16図に
示される如き前記と同様の所定パターンのマスク44a、4
4bが施され、そして前記と同様のエッチング操作を行な
うことによって、かかるマスク44a、44bの施されていな
いディスク摺動側の面36のフェライト面が、例えば第17
図における一点鎖線で示される面まで化学エッチングさ
れることにより、空気ベアリング部46及びトラック突起
48がそれぞれ形成されるのである。このように、トラッ
ク幅規制用溝38内に非磁性材64を埋設した状態で、化学
エッチング操作を施すことから、第17図からも明らかな
ように、この非磁性材64によって、トラック部40（トラ
ック部側面43）がエッチング作用から良好に保護される
のである。
その後、前記と同様、第18図に示される如き所定形状の
固定磁気ディスク装置用コアスライダ60が製造されるこ
ととなるが、この非磁性材64は、ディスク摺動時におけ
る、トラック部40のエッジ部の欠け等を良好に防止する
利点をも享受するのである。なお、上記した如き手法と
は逆に、化学エッチング処理によって空気ベアリング部
並びにトラック部となる突起部を形成した後、レーザ誘
起エッチングにて、トラック幅規制用の溝を形成するこ
とが考えられるが、その場合にあっては、初めの化学エ
ッチング処理にて形成されるトラック部形成用突起部
が、磁気ギャップ部位において、側方に突出する出張り
現象を生じたり、内方に凹む（狭幅化する）凹み現象を
生じたりする、該突起部の幅が凹凸変化する問題があ
り、そしてそれが出張った場合には、それを後のレーザ
誘起エッチングにて加工しなければならないために、加
工時間の短縮にはならず、また凹んだ場合には、レーザ
誘起エッチング加工前に既にトラック幅以下となってし
まい、不良となる問題を惹起することとなるのである。
固定磁気ディスク装置用コアスライダ60が製造されるこ
ととなるが、この非磁性材64は、ディスク摺動時におけ
る、トラック部40のエッジ部の欠け等を良好に防止する
利点をも享受するのである。なお、上記した如き手法と
は逆に、化学エッチング処理によって空気ベアリング部
並びにトラック部となる突起部を形成した後、レーザ誘
起エッチングにて、トラック幅規制用の溝を形成するこ
とが考えられるが、その場合にあっては、初めの化学エ
ッチング処理にて形成されるトラック部形成用突起部
が、磁気ギャップ部位において、側方に突出する出張り
現象を生じたり、内方に凹む（狭幅化する）凹み現象を
生じたりする、該突起部の幅が凹凸変化する問題があ
り、そしてそれが出張った場合には、それを後のレーザ
誘起エッチングにて加工しなければならないために、加
工時間の短縮にはならず、また凹んだ場合には、レーザ
誘起エッチング加工前に既にトラック幅以下となってし
まい、不良となる問題を惹起することとなるのである。
さらに、本発明に従う、前述した幾つかの固定磁気ディ
スク装置用スライダの製造法の具体例において、前記第
一及び第二のフェライトブロックを接合せしめる工程に
先立って、それらフェライトブロックの少なくとも一方
のものの少なくとも磁気ギャップ形成部位に、所定厚さ
の金属磁性材層を形成せしめる一方、それらフェライト
ブロックの少なくとも一方のものの突合せ面の少なくと
も磁気ギャップ形成部位に所定厚さの非磁性層を形成せ
しめるようにしても良い。
スク装置用スライダの製造法の具体例において、前記第
一及び第二のフェライトブロックを接合せしめる工程に
先立って、それらフェライトブロックの少なくとも一方
のものの少なくとも磁気ギャップ形成部位に、所定厚さ
の金属磁性材層を形成せしめる一方、それらフェライト
ブロックの少なくとも一方のものの突合せ面の少なくと
も磁気ギャップ形成部位に所定厚さの非磁性層を形成せ
しめるようにしても良い。
すなわち、所定厚さの長手板形状の第一のフェライトブ
ロック及び第二のフェライトブロックの少なくとも一方
のものに対して、先ず、その突合せ面の磁気ギャップ形
成部位を除く他の部位に、前記マスク44a,44bと同様な
所定のマスクを施して、前記と同様なエッチング処理を
することにより、かかるマスクの施されていない磁気ギ
ャップ形成部位が、所定深さにエッチングされるのであ
る。第19図及び第20図には、そのような工程の一例が示
されており、そこでは、ヨーク部を与える第二のフェラ
イトブロック12の突合せ面14に対して、所定パターン
で、マスク66が施されている。なお、ここで、第一及び
第二のフェライトブロックより二つのブロック組合せ体
を得るために、磁気ギャップ形成部位18が第二のフェラ
イトブロック12の突合せ面14の中央部位に帯状において
位置させられている。
ロック及び第二のフェライトブロックの少なくとも一方
のものに対して、先ず、その突合せ面の磁気ギャップ形
成部位を除く他の部位に、前記マスク44a,44bと同様な
所定のマスクを施して、前記と同様なエッチング処理を
することにより、かかるマスクの施されていない磁気ギ
ャップ形成部位が、所定深さにエッチングされるのであ
る。第19図及び第20図には、そのような工程の一例が示
されており、そこでは、ヨーク部を与える第二のフェラ
イトブロック12の突合せ面14に対して、所定パターン
で、マスク66が施されている。なお、ここで、第一及び
第二のフェライトブロックより二つのブロック組合せ体
を得るために、磁気ギャップ形成部位18が第二のフェラ
イトブロック12の突合せ面14の中央部位に帯状において
位置させられている。
次いで、かかる所定パターンのマスク66が付与された第
二のフェライトブロック12には、その露出せしめられた
フェライト部分を介して、前記と同様なエッチング処理
が施され、これによって、第20図に示される如く、マス
ク66の施されていない中央の磁気ギャップ形成部位18に
所定深さのエッチング凹所68が形成されるのである。
二のフェライトブロック12には、その露出せしめられた
フェライト部分を介して、前記と同様なエッチング処理
が施され、これによって、第20図に示される如く、マス
ク66の施されていない中央の磁気ギャップ形成部位18に
所定深さのエッチング凹所68が形成されるのである。
続いて、かかる第二のフェライトブロック12のエッチン
グ処理された突合せ面14には、所定の金属磁性材が所定
厚さで被着せしめられる。この金属磁性材としては、Fe
−Si（Si:6.5重量％）、Fe−Al−Si合金（センダス
ト）、Ni−Fe合金（パーマロイ）等で代表される公知の
結晶質合金があり、一方、非晶質合金としても、例えば
Fe−Co−Si−Ｂ系で代表される周知のメタル−メタロイ
ド系合金やCo−Zr、Co−Zr−Nb系等の周知のメタル−メ
タル系合金等が用いられる。なお、Fe−Si、Fe−Si−Al
系合金を用いる場合には、耐食性向上のために、５重量
％以下のCr,Ti,Ta等の元素添加が適宜行なわれる。ま
た、このような磁性材の被着には、他に真空蒸着、イオ
ンプレーティング、CVD、メッキ等でも可能であるが、
組成変動等が大きいことや被着物質が限定されることか
ら、スパッタリング法が好適に採用される。
グ処理された突合せ面14には、所定の金属磁性材が所定
厚さで被着せしめられる。この金属磁性材としては、Fe
−Si（Si:6.5重量％）、Fe−Al−Si合金（センダス
ト）、Ni−Fe合金（パーマロイ）等で代表される公知の
結晶質合金があり、一方、非晶質合金としても、例えば
Fe−Co−Si−Ｂ系で代表される周知のメタル−メタロイ
ド系合金やCo−Zr、Co−Zr−Nb系等の周知のメタル−メ
タル系合金等が用いられる。なお、Fe−Si、Fe−Si−Al
系合金を用いる場合には、耐食性向上のために、５重量
％以下のCr,Ti,Ta等の元素添加が適宜行なわれる。ま
た、このような磁性材の被着には、他に真空蒸着、イオ
ンプレーティング、CVD、メッキ等でも可能であるが、
組成変動等が大きいことや被着物質が限定されることか
ら、スパッタリング法が好適に採用される。
なお、このような金属磁性材の被着に先立ち、フェライ
トブロック（12）の突合せ面（14）上に、中間層として
ガラス層を、例えば数十Å〜100Å程度の厚さにおいて
被着せしめることにより、かかる金属磁性材の層の密着
性をより高めることが可能である。また、この中間ガラ
ス層の厚みが100Å以下ならば、擬似ギャップとしての
作用は小さく、実用上問題はないのであり、また中間層
としてFe,Ni,Co等のうち少なくとも一種の元素を用いれ
ば、密着上有利となる。更に、これらの磁性材の場合、
1000Å以下ならば、擬似ギャップとしての作用は小さ
く、実用上問題とはならないのである。
トブロック（12）の突合せ面（14）上に、中間層として
ガラス層を、例えば数十Å〜100Å程度の厚さにおいて
被着せしめることにより、かかる金属磁性材の層の密着
性をより高めることが可能である。また、この中間ガラ
ス層の厚みが100Å以下ならば、擬似ギャップとしての
作用は小さく、実用上問題はないのであり、また中間層
としてFe,Ni,Co等のうち少なくとも一種の元素を用いれ
ば、密着上有利となる。更に、これらの磁性材の場合、
1000Å以下ならば、擬似ギャップとしての作用は小さ
く、実用上問題とはならないのである。
そして、かかる金属磁性材の被着されたフェライトブロ
ック（12）には、そのギャップ対向面である突合せ面
（14）に対して、通常の切削・研磨操作が施され、かか
るフェライトブロック（12）に被着した金属磁性材の不
要部及び一部のフェライト部分が除去せしめられる。即
ち、この金属磁性材の被着されたフェライトブロック
（12）の突合せ面（14）の所定厚さ部分を除去すること
により、第21図に示されるように、エッチング凹所68内
に埋設された金属磁性材70の被着層を所定厚さで残しつ
つ、磁気ギャップ形成部位18以外の突合せ面14のフェラ
イト面が露出せしめられるのである。
ック（12）には、そのギャップ対向面である突合せ面
（14）に対して、通常の切削・研磨操作が施され、かか
るフェライトブロック（12）に被着した金属磁性材の不
要部及び一部のフェライト部分が除去せしめられる。即
ち、この金属磁性材の被着されたフェライトブロック
（12）の突合せ面（14）の所定厚さ部分を除去すること
により、第21図に示されるように、エッチング凹所68内
に埋設された金属磁性材70の被着層を所定厚さで残しつ
つ、磁気ギャップ形成部位18以外の突合せ面14のフェラ
イト面が露出せしめられるのである。
また、第一及び第二のフェライトブロックに対しては、
その少なくとも一方の突合せ面14に、少なくとも１条の
コイル巻線用の溝を形成する第一の工程が実施され、例
えば、フェライトブロック12には、第22図に示される如
き溝24が形成されるのである（フェライトブロック10に
ついては、第３図（ａ）と同様）。なお、かかる例にあ
っては、第一及び第二のフェライトブロック10,12の何
れにも、コイル巻線用溝24が設けられており、しかもブ
ロック組合せ体の２個取りのために、それらフェライト
ブロック10,12の磁気ギャップ形成部位18の両側にコイ
ル巻線用溝24が、それぞれ設けられているのである。そ
して、その後、それらフェライトブロック10,12の互い
に突き合わされるギャップ対向面（14）には、必要に応
じて表面研磨が施されて、最終仕上げが行なわれる。
その少なくとも一方の突合せ面14に、少なくとも１条の
コイル巻線用の溝を形成する第一の工程が実施され、例
えば、フェライトブロック12には、第22図に示される如
き溝24が形成されるのである（フェライトブロック10に
ついては、第３図（ａ）と同様）。なお、かかる例にあ
っては、第一及び第二のフェライトブロック10,12の何
れにも、コイル巻線用溝24が設けられており、しかもブ
ロック組合せ体の２個取りのために、それらフェライト
ブロック10,12の磁気ギャップ形成部位18の両側にコイ
ル巻線用溝24が、それぞれ設けられているのである。そ
して、その後、それらフェライトブロック10,12の互い
に突き合わされるギャップ対向面（14）には、必要に応
じて表面研磨が施されて、最終仕上げが行なわれる。
その後、かくして得られた第一及び第二のフェライトブ
ロック10,12の少なくとも一方のものの突合せ面の少な
くとも磁気ギャップ形成部位18に、SiO2,ガラス等のギ
ャップ形成用非磁性材が、所定厚みにスパッタリング等
にて適用され、所定厚さの非磁性層（ギャップ形成層）
が形成されることとなる。
ロック10,12の少なくとも一方のものの突合せ面の少な
くとも磁気ギャップ形成部位18に、SiO2,ガラス等のギ
ャップ形成用非磁性材が、所定厚みにスパッタリング等
にて適用され、所定厚さの非磁性層（ギャップ形成層）
が形成されることとなる。
そして、前記と同様に、第一及び第二のフェライトブロ
ックが一体化されたブロック組合せ体を得て、その後、
レーザ誘起エッチングによるトラック幅規制用溝を形成
する工程と、化学エッチング処理により空気ベアリング
部及びトラック突起を突出、形成せしめる工程とが、順
次に実施され、そして所定の形状に切り出されて、第23
図に示されるような、磁気ギャップ近傍に高飽和磁束密
度を有する金属磁性材料を配した複合型ヘッド、所謂メ
タルインギャップヘッドを与える固定磁気ディスク装置
用スライダが製造されることとなる。
ックが一体化されたブロック組合せ体を得て、その後、
レーザ誘起エッチングによるトラック幅規制用溝を形成
する工程と、化学エッチング処理により空気ベアリング
部及びトラック突起を突出、形成せしめる工程とが、順
次に実施され、そして所定の形状に切り出されて、第23
図に示されるような、磁気ギャップ近傍に高飽和磁束密
度を有する金属磁性材料を配した複合型ヘッド、所謂メ
タルインギャップヘッドを与える固定磁気ディスク装置
用スライダが製造されることとなる。
このメタルインギャップヘッドを与える固定磁気スライ
ダの製造法においても、レーザ誘起エッチングにてトラ
ック幅規制用の溝を形成した後、化学エッチングにて空
気ベアリング部及びトラック部となる突起部を形成する
手法が採用される。即ち、、レーザ誘起エッチングにて
トラック幅規制用の溝を形成した後、次の化学エッチン
グによってトラック部となる突起部が形成する際に、ト
ラック幅規制用溝内にマスクが埋設されることによっ
て、化学エッチングからトラック部側面が保護され、略
垂直状態に保たれるのである。また、このようなトラッ
ク幅規制用溝内に、ガラスの如き非磁性材を埋設して、
トラック部を保護し、続いてブロック組合せ体のディス
ク摺動面側の面を最終ギャップデプス長まで研磨し、そ
の後、化学エッチング処理を行なう手法も好適に採用さ
れることとなる。
ダの製造法においても、レーザ誘起エッチングにてトラ
ック幅規制用の溝を形成した後、化学エッチングにて空
気ベアリング部及びトラック部となる突起部を形成する
手法が採用される。即ち、、レーザ誘起エッチングにて
トラック幅規制用の溝を形成した後、次の化学エッチン
グによってトラック部となる突起部が形成する際に、ト
ラック幅規制用溝内にマスクが埋設されることによっ
て、化学エッチングからトラック部側面が保護され、略
垂直状態に保たれるのである。また、このようなトラッ
ク幅規制用溝内に、ガラスの如き非磁性材を埋設して、
トラック部を保護し、続いてブロック組合せ体のディス
ク摺動面側の面を最終ギャップデプス長まで研磨し、そ
の後、化学エッチング処理を行なう手法も好適に採用さ
れることとなる。
なお、レーザ誘起エッチングは、CCl4（四塩化炭素）ガ
ス雰囲気下において好適に行なわれる。また、特願昭63
−53678号において、本出願人が提案したように、濃度
５〜55wt％のKOH水溶液中においても好適に行なわれ、
レーザ照射条件としては、ビーム径20μｍ以下、パワ
ー:Pが50〜1000mW、走査速度:Vが２〜130μm/secの範囲
で、Ｖ≦0.34P＋13およびＶ≦−0.19P＋190の関係式を
同時に成立させるパワーと走査速度の下で行なわれる。
一方、特願昭63−47540号において本出願人が提案した
ように、濃度50〜90wt％のリン酸水溶液にても好適に行
なわれ、レーザー照射条件としては、ビーム径10μｍ以
下、パワー:Pが50〜1900mW、走査速度:Vが２〜200μm/s
ecの範囲で、Ｖ≦0.31P＋34の関係式と、Ｖ≦−0.14P＋
271の関係式を同時に成立させるパワーと走査速度の下
で行なわれる。
ス雰囲気下において好適に行なわれる。また、特願昭63
−53678号において、本出願人が提案したように、濃度
５〜55wt％のKOH水溶液中においても好適に行なわれ、
レーザ照射条件としては、ビーム径20μｍ以下、パワ
ー:Pが50〜1000mW、走査速度:Vが２〜130μm/secの範囲
で、Ｖ≦0.34P＋13およびＶ≦−0.19P＋190の関係式を
同時に成立させるパワーと走査速度の下で行なわれる。
一方、特願昭63−47540号において本出願人が提案した
ように、濃度50〜90wt％のリン酸水溶液にても好適に行
なわれ、レーザー照射条件としては、ビーム径10μｍ以
下、パワー:Pが50〜1900mW、走査速度:Vが２〜200μm/s
ecの範囲で、Ｖ≦0.31P＋34の関係式と、Ｖ≦−0.14P＋
271の関係式を同時に成立させるパワーと走査速度の下
で行なわれる。
このような固定磁気ディスク装置用スライダの製造法に
よれば、先に述べた様々な長所を発揮し得ると共に、デ
ィスク摺動部近傍のみに金属磁性材が被着されることと
なり、これによって渦電流損失を小さく為し得る構造と
なって、ヘッド特性を効果的に向上せしめ得、トラック
部側面を略90゜としてクロストークを極めて小さく成し
得、高保磁力媒体に適した固定磁気ディスク装置用ヘッ
ドを与え得るのである。
よれば、先に述べた様々な長所を発揮し得ると共に、デ
ィスク摺動部近傍のみに金属磁性材が被着されることと
なり、これによって渦電流損失を小さく為し得る構造と
なって、ヘッド特性を効果的に向上せしめ得、トラック
部側面を略90゜としてクロストークを極めて小さく成し
得、高保磁力媒体に適した固定磁気ディスク装置用ヘッ
ドを与え得るのである。
なお、前記金属磁性層を形成する工程、磁気ギャップを
構成する非磁性層を形成する工程、そしてコイル巻線用
溝を形成する工程は、第一及び第二のフェライトブロッ
クの接合工程に先立って行なわれるならば、その順序に
関して特に限定されるものではない。
構成する非磁性層を形成する工程、そしてコイル巻線用
溝を形成する工程は、第一及び第二のフェライトブロッ
クの接合工程に先立って行なわれるならば、その順序に
関して特に限定されるものではない。
以上、本発明に従う固定磁気ディスク装置用コアスライ
ダの製造法について、その幾つかの具体例に基づき詳細
に説明してきたが、本発明が、これら例示の具体例にの
み限定して解釈されるものでは決してなく、本発明の趣
旨を逸脱しない限りにおいて、当業者の知識に基づいて
種々なる変更、修正、改良等を加えた形態において実施
され得るものであることが、理解されるべきである。
ダの製造法について、その幾つかの具体例に基づき詳細
に説明してきたが、本発明が、これら例示の具体例にの
み限定して解釈されるものでは決してなく、本発明の趣
旨を逸脱しない限りにおいて、当業者の知識に基づいて
種々なる変更、修正、改良等を加えた形態において実施
され得るものであることが、理解されるべきである。
例えば、トラック幅規制用溝38の外側に、更に必要に応
じて、レーザ誘起エッチング等にて溝を形成して、トラ
ック幅規制用溝38を実質的に幅広くすることも可能であ
る。
じて、レーザ誘起エッチング等にて溝を形成して、トラ
ック幅規制用溝38を実質的に幅広くすることも可能であ
る。
また、上記した幾つかの具体例においては、ヨーク部56
が、左右の空気ベアリング部46,46の間に位置するよう
に、スライダ本体62に一体に設けられているが、また第
24図に示されるように、空気ベアリング部46の延長上に
位置するように設け、そしてかかる空気ベアリング部46
から同じ高さにおいて延びるトラック部40を含むトラッ
ク突起48が、かかるヨーク部56上に位置させられた構造
のスライダを製造することも可能である。このようなヨ
ーク部56、ひいてはトラック部40の配設形態を採用する
ことによって、有効記録面積が改善されて、記録容量上
における利点を享受することが出来る。
が、左右の空気ベアリング部46,46の間に位置するよう
に、スライダ本体62に一体に設けられているが、また第
24図に示されるように、空気ベアリング部46の延長上に
位置するように設け、そしてかかる空気ベアリング部46
から同じ高さにおいて延びるトラック部40を含むトラッ
ク突起48が、かかるヨーク部56上に位置させられた構造
のスライダを製造することも可能である。このようなヨ
ーク部56、ひいてはトラック部40の配設形態を採用する
ことによって、有効記録面積が改善されて、記録容量上
における利点を享受することが出来る。
（発明の効果） 以上の説明から明らかなように、本発明に従う固定磁気
ディスク装置用コアスライダの製造法にあっては、二つ
のフェライトブロックに対して、接合後、同時にトラッ
ク加工（溝入れ加工）が行なわれることとなるところか
ら、トラック位置合わせの必要が全くなく、トラック精
度を著しく向上せしめ得るのである。
ディスク装置用コアスライダの製造法にあっては、二つ
のフェライトブロックに対して、接合後、同時にトラッ
ク加工（溝入れ加工）が行なわれることとなるところか
ら、トラック位置合わせの必要が全くなく、トラック精
度を著しく向上せしめ得るのである。
また、本発明に従う製造手法によれば、レーザ誘起エッ
チングにてトラック加工が行なわれるため、トラック部
の狭小化と高精度化が図られ得、また溝側面（即ちトラ
ック部側面）の傾斜が略垂直（80〜90゜）とされるた
め、研磨によるトラック幅の変動を少なく為し得ると共
に、このような固定磁気ディスク装置用コアスライダに
おいて、オフトラック時の隣接トラックからの信号の読
み取り（クロストーク）が極めて小さくなり、従ってガ
ードバンド（信号の書いてない領域）を狭くできるた
め、信号の高密度化を有利に達成し得るのである。ま
た、砥石加工の如きチッピング（稜部の欠け）がなく、
信頼性の高いトラックを形成することができるのであ
る。
チングにてトラック加工が行なわれるため、トラック部
の狭小化と高精度化が図られ得、また溝側面（即ちトラ
ック部側面）の傾斜が略垂直（80〜90゜）とされるた
め、研磨によるトラック幅の変動を少なく為し得ると共
に、このような固定磁気ディスク装置用コアスライダに
おいて、オフトラック時の隣接トラックからの信号の読
み取り（クロストーク）が極めて小さくなり、従ってガ
ードバンド（信号の書いてない領域）を狭くできるた
め、信号の高密度化を有利に達成し得るのである。ま
た、砥石加工の如きチッピング（稜部の欠け）がなく、
信頼性の高いトラックを形成することができるのであ
る。
さらに、本発明法によれば、比較的精度の要求されない
空気ベアリング部及びトラック部の形成部位は化学エッ
チングによって突出、形成されるため、固定磁気ディス
ク装置用コアスライダの量産性が著しく向上され得るの
である。
空気ベアリング部及びトラック部の形成部位は化学エッ
チングによって突出、形成されるため、固定磁気ディス
ク装置用コアスライダの量産性が著しく向上され得るの
である。
第１図は、従来の固定磁気ディスク装置用モノリシック
型コアスライダの一例を示す斜視図である。 第２図乃至第14図は、本発明の一実施例に係る各工程の
説明図であって、第２図（ａ）及び（ｂ）は、それぞ
れ、組み合わされる二つのフェライトブロックを示す斜
視図であり、第３図（ａ）及び（ｂ）は、それぞれ、二
つのフェライトブロックに対してコイル巻線用の溝加工
が施された状態を示す斜視図であり、第４図は、二つの
フェライトブロックが接合一体化されてなる状態を示す
斜視図であり、第５図は、第４図に示される接合体を二
分割して得られるブロック組合せ体を示す斜視図であ
り、第６図は、かかるブロック組合せ体にトラック幅規
制用溝を設けた状態を示す斜視図であり、第７図は、空
気ベアリング部及びトラック突起を形成するために、ブ
ロック組合せ体のディスク摺動側の面にマスクを施した
状態を示す要部平面図であり、第８図（ａ）及び（ｂ）
は、共に、トラック幅規制用溝にマスクが埋設された状
態とフェライトのエッチング状態とを示す部分断面図で
あって、第８図（ａ）は、第７図におけるVIII−VIII断
面図、第８図（ｂ）は、第８図（ａ）に対応する別の状
態を示す断面図であり、第９図は、エッチング処理によ
り形成された空気ベアリング部及びトラック突起を示す
ブロック組合せ体の部分平面図であり、第10図は、第９
図の要部拡大説明図であり、第11図及び第12図は、それ
ぞれ、ブロック組合せ体の切断部位を示す部分平面図、
及びそのような切断操作及びテーパー加工の施されたブ
ロック組合せ体を示す部分平面図であり、第13図は、ヨ
ーク部の切り出し状態及びコアスライダの切り出しのた
めの切断部位を示すブロック組合せ体の部分平面図であ
り、第14図は、第13図のブロック組合せ体から切り出さ
れたコアスライダを示す平面図である。 また、第15図乃至第18図は、本発明の別の実施例に係る
各工程の一部を説明する図であって、第15図は、ブロッ
ク組合せ体のトラック幅規制用溝内に非磁性材が埋め込
まれた状態を示す斜視図であり、第16図は、空気ベアリ
ング部及びトラック突起を形成するために、かかるブロ
ック組合せ体のディスク摺動側の面にマスクが施された
状態を示す要部平面図であり、第17図は、トラック幅規
制用溝内に非磁性材が埋設された状態とフェライトのエ
ッチング状態とを示す部分断面図であって、第16図にお
けるXVII−XVII断面図であり、第18図は、このようなブ
ロック組合せ体から得られたコアスライダを示す平面図
である。 更にまた、第19図乃至第23図は、本発明の更に別の実施
例に係る各工程の一部を説明する図であって、第19図及
び第20図は、それぞれ、一方のフェライトブロックに対
してマスクが付与された状態を示す斜視図、及びエッチ
ング処理された状態を示す斜視図であり、第21図は、か
かるフェライトブロックに金属磁性材が被着せしめられ
た状態を示す斜視図であり、第22図は、かかるフェライ
トブロックに対してコイル巻線用の溝加工が施された状
態を示す斜視図であり、第23図は、そのようなフェライ
トブロックを用いて得られたコアスライダを示す平面図
である。 そして、第24図は、本発明手法によって製造されるコア
スライダの他の一例を示す平面図である。 10:第一のフェライトブロック 12:第二のフェライトブロック 14:突合せ面 18:磁気ギャップ形成部位 24:コイル巻線用溝、26:接合体 28:接合ガラス、30:磁気ギャップ 32:ブロック組合せ体 36:ディスク摺動側の面 38:トラック幅規制用溝 40:トラック部、42:棚部 43:トラック部側面 44a,44b:マスク 46:空気ベアリング部 48:トラック突起、50:傾斜面 54:テーパー面、56:ヨーク部 60:コアスライダ、62:スライダ本体 64:非磁性材、66:マスク 68:エッチング凹所、70:金属磁性材
型コアスライダの一例を示す斜視図である。 第２図乃至第14図は、本発明の一実施例に係る各工程の
説明図であって、第２図（ａ）及び（ｂ）は、それぞ
れ、組み合わされる二つのフェライトブロックを示す斜
視図であり、第３図（ａ）及び（ｂ）は、それぞれ、二
つのフェライトブロックに対してコイル巻線用の溝加工
が施された状態を示す斜視図であり、第４図は、二つの
フェライトブロックが接合一体化されてなる状態を示す
斜視図であり、第５図は、第４図に示される接合体を二
分割して得られるブロック組合せ体を示す斜視図であ
り、第６図は、かかるブロック組合せ体にトラック幅規
制用溝を設けた状態を示す斜視図であり、第７図は、空
気ベアリング部及びトラック突起を形成するために、ブ
ロック組合せ体のディスク摺動側の面にマスクを施した
状態を示す要部平面図であり、第８図（ａ）及び（ｂ）
は、共に、トラック幅規制用溝にマスクが埋設された状
態とフェライトのエッチング状態とを示す部分断面図で
あって、第８図（ａ）は、第７図におけるVIII−VIII断
面図、第８図（ｂ）は、第８図（ａ）に対応する別の状
態を示す断面図であり、第９図は、エッチング処理によ
り形成された空気ベアリング部及びトラック突起を示す
ブロック組合せ体の部分平面図であり、第10図は、第９
図の要部拡大説明図であり、第11図及び第12図は、それ
ぞれ、ブロック組合せ体の切断部位を示す部分平面図、
及びそのような切断操作及びテーパー加工の施されたブ
ロック組合せ体を示す部分平面図であり、第13図は、ヨ
ーク部の切り出し状態及びコアスライダの切り出しのた
めの切断部位を示すブロック組合せ体の部分平面図であ
り、第14図は、第13図のブロック組合せ体から切り出さ
れたコアスライダを示す平面図である。 また、第15図乃至第18図は、本発明の別の実施例に係る
各工程の一部を説明する図であって、第15図は、ブロッ
ク組合せ体のトラック幅規制用溝内に非磁性材が埋め込
まれた状態を示す斜視図であり、第16図は、空気ベアリ
ング部及びトラック突起を形成するために、かかるブロ
ック組合せ体のディスク摺動側の面にマスクが施された
状態を示す要部平面図であり、第17図は、トラック幅規
制用溝内に非磁性材が埋設された状態とフェライトのエ
ッチング状態とを示す部分断面図であって、第16図にお
けるXVII−XVII断面図であり、第18図は、このようなブ
ロック組合せ体から得られたコアスライダを示す平面図
である。 更にまた、第19図乃至第23図は、本発明の更に別の実施
例に係る各工程の一部を説明する図であって、第19図及
び第20図は、それぞれ、一方のフェライトブロックに対
してマスクが付与された状態を示す斜視図、及びエッチ
ング処理された状態を示す斜視図であり、第21図は、か
かるフェライトブロックに金属磁性材が被着せしめられ
た状態を示す斜視図であり、第22図は、かかるフェライ
トブロックに対してコイル巻線用の溝加工が施された状
態を示す斜視図であり、第23図は、そのようなフェライ
トブロックを用いて得られたコアスライダを示す平面図
である。 そして、第24図は、本発明手法によって製造されるコア
スライダの他の一例を示す平面図である。 10:第一のフェライトブロック 12:第二のフェライトブロック 14:突合せ面 18:磁気ギャップ形成部位 24:コイル巻線用溝、26:接合体 28:接合ガラス、30:磁気ギャップ 32:ブロック組合せ体 36:ディスク摺動側の面 38:トラック幅規制用溝 40:トラック部、42:棚部 43:トラック部側面 44a,44b:マスク 46:空気ベアリング部 48:トラック突起、50:傾斜面 54:テーパー面、56:ヨーク部 60:コアスライダ、62:スライダ本体 64:非磁性材、66:マスク 68:エッチング凹所、70:金属磁性材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭56−22217（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−76689（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−37819（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−215022（ＪＰ，Ａ) 実開 昭62−18015（ＪＰ，Ｕ) 特公 昭57−19500（ＪＰ，Ｂ２)
Claims (6)
- 【請求項１】所定高さの互いに平行な左右の空気ベアリ
ング部をディスク摺動面に備えたスライダ本体と、該ス
ライダ本体に対して一体的に設けられたヨーク部とを有
し、それらヨーク部とスライダ本体にて磁気ヘッドのた
めの閉磁路が構成されると共に、該スライダ本体と該ヨ
ーク部との間に所定間隙の磁気ギャップが形成されてな
る固定磁気ディスク装置用コアスライダを、前記スライ
ダ本体を与える第一のフェライトブロックと前記ヨーク
部を与える第二のフェライトブロックとを突き合わせて
製造するに際して、 前記第一のフェライトブロック及び第二のフェライトブ
ロックが一体化されたブロック組合せ体のディスク摺動
面側の面に、これら第一及び第二の二つのフェライトブ
ロックに跨がるように、少なくとも二つのトラック幅規
制用の溝を、レーザ誘起エッチングにより平行に設け、
それら溝間に所定幅のトラック部を形成せしめる工程
と、かかるレーザ誘起エッチングにより形成されたブロ
ック組合せ体のトラック幅規制用の溝内に非磁性材を充
填した後、該ブロック組合せ体のディスク摺動面側の面
に所定のマスクを施して、或いは前記非磁性材を充填す
ることなく、かかるマスクを施す際に、該マスクの一部
を前記トラック幅規制用の溝内に充填して、化学エッチ
ング処理することにより、前記空気ベアリング部並びに
前記トラック部の形成部位を、同様な高さにおいて突
出、形成せしめる工程とを含むことを特徴とする固定磁
気ディスク装置用コアスライダの製造法。 - 【請求項２】前記第一及び第二のフェライトブロックの
少なくとも一方のものの少なくとも磁気ギャップ形成部
位に、所定厚さの金属磁性材層が配置されることを特徴
とする請求項（１）記載の固定磁気ディスク装置用コア
スライダの製造法。 - 【請求項３】前記金属磁性材層が配置されるに先立っ
て、前記第一及び第二のフェライトブロックの少なくと
も一方のものの磁気ギャップ形成部位に、中間ガラス層
が形成されることを特徴とする請求項（２）記載の製造
法。 - 【請求項４】前記金属磁性材層が配置されるに先立っ
て、前記第一及び第二のフェライトブロックの少なくと
も一方のものの磁気ギャップ形成部位に、中間層とし
て、少なくともFe,Ni及びCoのうち少なくとも１種の金
属を用いて、1000Å以下の厚さにおいて形成されること
を特徴とする請求項（２）記載の製造法。 - 【請求項５】前記トラック部の形成部位が、前記トラッ
ク部の幅方向において、前記一対の空気ベアリング部の
間に位置されることを特徴とする請求項（１）記載の製
造法。 - 【請求項６】前記トラック部の形成部位が、前記トラッ
ク部の長さ方向において前記一対の空気ベアリング部の
各延長上に位置されるように、該一対の空気ベアリング
部のそれぞれに設けられることを特徴とする請求項
（１）記載の製造法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63239244A JPH0719347B2 (ja) | 1988-09-24 | 1988-09-24 | 固定磁気ディスク装置用コアスライダの製造法 |
| KR1019890006921A KR920003482B1 (ko) | 1988-09-24 | 1989-05-24 | 고정자기 디스크 장치용 헤드 코아 슬라이더의 제조방법 |
| US07/409,946 US4948460A (en) | 1988-09-24 | 1989-09-20 | Method of producing head core slider for rigid magnetic disk drive, utilizing laser-induced etching |
| DE68919972T DE68919972T2 (de) | 1988-09-24 | 1989-09-22 | Herstellungsverfahren eines Magnetkerngleiters für Festplattenspeicher unter Anwendung von laserinduziertem Ätzen. |
| SG1995903928A SG59863G (en) | 1988-09-24 | 1989-09-22 | Method of producing head core slider for rigid magnetic disk drive utilizing laser-induced etching |
| EP89309679A EP0361809B1 (en) | 1988-09-24 | 1989-09-22 | Method of producing head core slider for rigid magnetic disk drive utilizing laser-induced etching |
| HK54995A HK54995A (en) | 1988-09-24 | 1995-04-11 | Method of producing head core slider for rigid magnetic disk drive utilizing laser-induced etching. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63239244A JPH0719347B2 (ja) | 1988-09-24 | 1988-09-24 | 固定磁気ディスク装置用コアスライダの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0287314A JPH0287314A (ja) | 1990-03-28 |
| JPH0719347B2 true JPH0719347B2 (ja) | 1995-03-06 |
Family
ID=17041882
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63239244A Expired - Lifetime JPH0719347B2 (ja) | 1988-09-24 | 1988-09-24 | 固定磁気ディスク装置用コアスライダの製造法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4948460A (ja) |
| EP (1) | EP0361809B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0719347B2 (ja) |
| KR (1) | KR920003482B1 (ja) |
| DE (1) | DE68919972T2 (ja) |
| HK (1) | HK54995A (ja) |
| SG (1) | SG59863G (ja) |
Families Citing this family (29)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0731780B2 (ja) * | 1989-09-08 | 1995-04-10 | 日本碍子株式会社 | 磁気ヘッド用コアの製造方法 |
| US5156704A (en) * | 1990-06-01 | 1992-10-20 | Computer And Communications Technology Corp. | Method for fabricating magnetic head air bearing sliders |
| US5427675A (en) * | 1991-10-29 | 1995-06-27 | Teijin Seiki Co., Ltd. | Method of manufacturing article having magnetic patterns |
| US5225033A (en) * | 1990-11-19 | 1993-07-06 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Process for producing magnetic head of the floating type |
| FR2669712A1 (fr) * | 1990-11-22 | 1992-05-29 | Applic Gaz Sa | Element d'ecoulement controle d'un fluide, et organes de commande d'un debit incorporant un tel element. |
| JP2543629B2 (ja) * | 1991-02-14 | 1996-10-16 | 日本碍子株式会社 | 磁気ディスク装置用コアスライダ及びその製造方法 |
| JPH04301205A (ja) * | 1991-03-28 | 1992-10-23 | Ngk Insulators Ltd | 磁気ヘッド用コアチップ及びそれを用いた磁気ヘッド用コアスライダの製造法 |
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| US5227204A (en) * | 1991-08-27 | 1993-07-13 | Northeastern University | Fabrication of ferrite films using laser deposition |
| JP3110092B2 (ja) * | 1991-09-04 | 2000-11-20 | 株式会社日立製作所 | 磁気ヘッド用スライダーの製造方法 |
| JP2543641B2 (ja) * | 1991-11-18 | 1996-10-16 | 日本碍子株式会社 | 固定磁気ディスク装置用コアスライダおよびその製造方法 |
| JPH05234014A (ja) * | 1992-02-20 | 1993-09-10 | Ngk Insulators Ltd | 磁気ヘッド用コアの製造法 |
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| US5413672A (en) * | 1992-07-22 | 1995-05-09 | Ngk Insulators, Ltd. | Method of etching sendust and method of pattern-etching sendust and chromium films |
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| US6937350B2 (en) * | 2001-06-29 | 2005-08-30 | Massachusetts Institute Of Technology | Apparatus and methods for optically monitoring thickness |
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|---|---|---|---|---|
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| JPS51114111A (en) * | 1975-03-31 | 1976-10-07 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Method of manufacturing magnetic heads |
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