JPS62234214A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドの製造方法Info
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- JPS62234214A JPS62234214A JP61077266A JP7726686A JPS62234214A JP S62234214 A JPS62234214 A JP S62234214A JP 61077266 A JP61077266 A JP 61077266A JP 7726686 A JP7726686 A JP 7726686A JP S62234214 A JPS62234214 A JP S62234214A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、磁気ヘッドの製造方法、特に磁気ディスク等
の磁気記録媒体に対向し僅かに浮上してエアベアリング
を形成しながら情報を記録再生する浮動式磁気ヘッドを
製造する方法に関する。
の磁気記録媒体に対向し僅かに浮上してエアベアリング
を形成しながら情報を記録再生する浮動式磁気ヘッドを
製造する方法に関する。
磁気ディスク等の磁気記録媒体に対して情報を記録再生
する浮動式磁気ヘッドは、磁気ヘッドを磁気記録媒体か
ら浮上させるために磁気ヘッドの磁気記録媒体に対向す
る面に浮上用エアベアリング部を精度良く形成すること
が必要であるとともに、高密度記録を行うために記録再
生トラック幅を極力狭く、かつ精度良く形成することが
必要である。
する浮動式磁気ヘッドは、磁気ヘッドを磁気記録媒体か
ら浮上させるために磁気ヘッドの磁気記録媒体に対向す
る面に浮上用エアベアリング部を精度良く形成すること
が必要であるとともに、高密度記録を行うために記録再
生トラック幅を極力狭く、かつ精度良く形成することが
必要である。
従来、このような浮動式磁気ヘッドは機械加工によって
エアベアリング部および記録再生トラフり幅部を形成し
て製造されている。すなわち、この従来の機械加工によ
る製造方法においては、まず第４図（ａｌに示すように
、磁性材からなる直方体状のコアブロック３１と略Ｃ字
状のＣコア３２とを設け、Ｃコア３２の一面に形成され
ている溝部３２ａをコアブロック３１の一面に対向させ
て両者を溶融ガラス等で接合する。次に、この接合した
ブロックを第４図（ｂｌに示すように機械加工により複
数の溝部３３ａ、３３ｂ、３４ａ、３４ｂを切り出して
形成する。それから、第４図（Ｃ１に示すように一対の
溝部３３ａと３３ｂ、３４ａと３４ｂでそれぞれ挟まれ
た凸状部３３ｃ、３４Ｃを残してＣコア３２に相当する
部分を切り落とし、更に３５で示すように接合ブロック
を切断して各ユニット状の磁気ヘッドを複数形成する。
エアベアリング部および記録再生トラフり幅部を形成し
て製造されている。すなわち、この従来の機械加工によ
る製造方法においては、まず第４図（ａｌに示すように
、磁性材からなる直方体状のコアブロック３１と略Ｃ字
状のＣコア３２とを設け、Ｃコア３２の一面に形成され
ている溝部３２ａをコアブロック３１の一面に対向させ
て両者を溶融ガラス等で接合する。次に、この接合した
ブロックを第４図（ｂｌに示すように機械加工により複
数の溝部３３ａ、３３ｂ、３４ａ、３４ｂを切り出して
形成する。それから、第４図（Ｃ１に示すように一対の
溝部３３ａと３３ｂ、３４ａと３４ｂでそれぞれ挟まれ
た凸状部３３ｃ、３４Ｃを残してＣコア３２に相当する
部分を切り落とし、更に３５で示すように接合ブロック
を切断して各ユニット状の磁気ヘッドを複数形成する。
次に、チャンフｙ−３４ｄ、３４ｅ、３４ｆ、３４ｇ、
３４ｈ、３４ｉに示される側を斜めに研磨しチンピング
等の防止加工を行う。このように一対の溝部３３ａと３
３ｂ、３４ａと３４ｂがエアベアリング部を形成し、ま
たこれらの各一対の溝部で形成された凸状部３３Ｃ１３
４ｃ等が記録再生トラック幅部３７を形成し、この記録
再生トラック幅部３７の前記接合部が磁気ギャップ３８
を形成しているものである。
３４ｈ、３４ｉに示される側を斜めに研磨しチンピング
等の防止加工を行う。このように一対の溝部３３ａと３
３ｂ、３４ａと３４ｂがエアベアリング部を形成し、ま
たこれらの各一対の溝部で形成された凸状部３３Ｃ１３
４ｃ等が記録再生トラック幅部３７を形成し、この記録
再生トラック幅部３７の前記接合部が磁気ギャップ３８
を形成しているものである。
上述したように、従来の浮動式磁気ヘッドは機械加工に
よって製造されているため、磁気ヘッドの記録再生用ｌ
・ラック幅部の公差が精々±５μｍ程度しか出せないと
ともに、エアヘアリング部も精度良く形成できないし、
またトラック幅部の配置も限定されて融通性がないので
、高密度記録再生化、高精度化を達成し難いという問題
点があるとともに、また高密度化を達成するために磁気
ヘッドは比較的小型であるため、機械的加工が比較的困
難であるとともに、磁気ヘッドの製造途中等において機
械加工部分が欠けたり、歪んだり、ピッチング等の不良
を発生するという問題点もある。
よって製造されているため、磁気ヘッドの記録再生用ｌ
・ラック幅部の公差が精々±５μｍ程度しか出せないと
ともに、エアヘアリング部も精度良く形成できないし、
またトラック幅部の配置も限定されて融通性がないので
、高密度記録再生化、高精度化を達成し難いという問題
点があるとともに、また高密度化を達成するために磁気
ヘッドは比較的小型であるため、機械的加工が比較的困
難であるとともに、磁気ヘッドの製造途中等において機
械加工部分が欠けたり、歪んだり、ピッチング等の不良
を発生するという問題点もある。
本発明の目的は、上記従来の問題点を解決し、高密度記
録再生化、高精度化を達成することができ、かつ比較的
簡単かつ経済的に製造できる磁気ヘッドの製造方法を提
供することにある。
録再生化、高精度化を達成することができ、かつ比較的
簡単かつ経済的に製造できる磁気ヘッドの製造方法を提
供することにある。
本発明の磁気ヘッドの製造方法は、磁気ディスク用磁気
ヘッドにおいて、ディスクに接するエアベアリング部と
記録および再生を行うコア部トラック幅とを、フォトプ
ロセス等のマスクを形成しこのマスクを施していない部
分を食刻することにより形成することを特徴とする。
ヘッドにおいて、ディスクに接するエアベアリング部と
記録および再生を行うコア部トラック幅とを、フォトプ
ロセス等のマスクを形成しこのマスクを施していない部
分を食刻することにより形成することを特徴とする。
また、本発明の磁気ヘッドの製造方法は、磁気ディスク
用磁気ヘッドにおいて、記録および再生を行うコア部ト
ラック幅を、フォトプロセス等のマスクを形成しこのマ
スクを施していない部分を食刻することにより形成する
ことを特徴とする。
用磁気ヘッドにおいて、記録および再生を行うコア部ト
ラック幅を、フォトプロセス等のマスクを形成しこのマ
スクを施していない部分を食刻することにより形成する
ことを特徴とする。
本発明の磁気ヘッドの製造方法においては、一対の磁性
材を接合した接合ブロックの表面に接合部に跨がるよう
に第１のマスクを、この第１のマスクに並行でかつ接合
部に直角な方向に第２のマスクを形成した後、該接合ブ
ロックの表面にエツチングを施して、第１のマスクを形
成した表面部分に磁気ヘッドの録音再生トラック幅部を
形成するとともに第２のマスクが形成されている表面部
分にエアヘアリング部を形成している。
材を接合した接合ブロックの表面に接合部に跨がるよう
に第１のマスクを、この第１のマスクに並行でかつ接合
部に直角な方向に第２のマスクを形成した後、該接合ブ
ロックの表面にエツチングを施して、第１のマスクを形
成した表面部分に磁気ヘッドの録音再生トラック幅部を
形成するとともに第２のマスクが形成されている表面部
分にエアヘアリング部を形成している。
以下、図面を用いて本発明の詳細な説明する。
第１図は本発明の磁気ヘッドの製造方法により製造され
る途中の磁気ヘッドの一例を示すものである。同図の磁
気ヘッドは一例として磁気ディスク等の磁気記録媒体に
対して情報を記録再生する浮動式磁気ヘッドを示してい
るものである。この浮動式磁気ヘッドは磁気記録媒体に
対して対向して僅かに浮上しながら情報の記録再生を行
うものであり、そのために磁気記録媒体に対向する面に
エアベアリング部を形成することが必要であるとともに
、このエアベアリング部の中程に記録再生用トラック幅
部を形成するものであるが、これらの形成を高精度に行
うため本発明の方法においては従来の機械加工を使用せ
ずに磁気ヘッドを構成する磁性材料からなる接合ブロッ
ク１の表面ｌａ上にフォトマスク２ａ、２ｂおよび３を
形成した後、この表面１ａ上にエツチングを施すことに
より第２図に示すようにフォトマスク２ａ、２ｂ。
る途中の磁気ヘッドの一例を示すものである。同図の磁
気ヘッドは一例として磁気ディスク等の磁気記録媒体に
対して情報を記録再生する浮動式磁気ヘッドを示してい
るものである。この浮動式磁気ヘッドは磁気記録媒体に
対して対向して僅かに浮上しながら情報の記録再生を行
うものであり、そのために磁気記録媒体に対向する面に
エアベアリング部を形成することが必要であるとともに
、このエアベアリング部の中程に記録再生用トラック幅
部を形成するものであるが、これらの形成を高精度に行
うため本発明の方法においては従来の機械加工を使用せ
ずに磁気ヘッドを構成する磁性材料からなる接合ブロッ
ク１の表面ｌａ上にフォトマスク２ａ、２ｂおよび３を
形成した後、この表面１ａ上にエツチングを施すことに
より第２図に示すようにフォトマスク２ａ、２ｂ。
３が施されていない部分を食刻し、すなわち表面から所
定の厚さ削り取るように除去し、これにより浮動式磁気
ヘッド１０が製造される。このようにエツチングを施す
ことにより接合ブロック１の表面にはフォトマスク２ａ
、２ｂ、３が形成されていた部分のみが隆起した凸状部
として残る。この結果、フォトマスク３が形成されてい
た凸状部は記録再生用トラック幅部４を形成し、フォト
マスク２ａ、２ｂが形成されていた凸状部は一対のレー
ル部５ａ、５ｂを形成し、このレール部５ａ。
定の厚さ削り取るように除去し、これにより浮動式磁気
ヘッド１０が製造される。このようにエツチングを施す
ことにより接合ブロック１の表面にはフォトマスク２ａ
、２ｂ、３が形成されていた部分のみが隆起した凸状部
として残る。この結果、フォトマスク３が形成されてい
た凸状部は記録再生用トラック幅部４を形成し、フォト
マスク２ａ、２ｂが形成されていた凸状部は一対のレー
ル部５ａ、５ｂを形成し、このレール部５ａ。
５ｂの間にレール溝部６が形成される。なお、第２図に
おいて記録再生用トラック部４の中程には後述するよう
に形成される接合ブロック１の接合部からなる磁気ギャ
ップ４ａが形成されている。
おいて記録再生用トラック部４の中程には後述するよう
に形成される接合ブロック１の接合部からなる磁気ギャ
ップ４ａが形成されている。
また、エツチングによって形成される接合ブロック１の
表面からの食刻の深さ、すなわち接合ブロック１の元の
表面からエツチング面までの深さはエアベアリングとし
ては１μｍ程度あれば十分であるが、その他の点を考慮
した第２図に拡大断面で丸内に示すように０．５〜１０
μｍ程度のエツチングを行うことが望ましい。
表面からの食刻の深さ、すなわち接合ブロック１の元の
表面からエツチング面までの深さはエアベアリングとし
ては１μｍ程度あれば十分であるが、その他の点を考慮
した第２図に拡大断面で丸内に示すように０．５〜１０
μｍ程度のエツチングを行うことが望ましい。
次に、第２図に示す磁気ヘッド１ｏの更に詳細な製造方
法について第３（ａ）〜（ｇｌ図を参照して説明する。
法について第３（ａ）〜（ｇｌ図を参照して説明する。
まず、第３図（ａｌに示すように、コアブロック３１お
よびＣコア３２を溶融ガラス等で接合して接合ブロック
１を形成する。この工程は上述した従来の磁気ヘッドの
製造方法と同じである。なお、コアブロック３１とＣコ
ア３２とを接合した接合部１ｇが前記磁気ギャップ４ａ
を形成することになる０次に、第３図（ｂｌにおいて２
点鎖線７で示す深さまで、接合ブロック１の表面１ａを
鏡面研磨し、記録再生ギャップ１ｇに対して所定のギヤ
ップディブスを形成する。接合ブロック１の表面１ａを
研磨してギャップディブスを形成する工程までは従来の
方法と同じである。それから、第３図（Ｃ１に示すよう
に、接合ブロック１の表面ｌａにフォトレジスト等のマ
スク用材を塗布し、さらに第３図ｆｄｌおよび第１図に
示すように、前記トラック幅形成部８および該トラック
幅形成部８の両側に相当するコアブロック３１側の表面
ｌａ上にそれぞれフォトマスク３．２ａ、２ｂを形成す
る。
よびＣコア３２を溶融ガラス等で接合して接合ブロック
１を形成する。この工程は上述した従来の磁気ヘッドの
製造方法と同じである。なお、コアブロック３１とＣコ
ア３２とを接合した接合部１ｇが前記磁気ギャップ４ａ
を形成することになる０次に、第３図（ｂｌにおいて２
点鎖線７で示す深さまで、接合ブロック１の表面１ａを
鏡面研磨し、記録再生ギャップ１ｇに対して所定のギヤ
ップディブスを形成する。接合ブロック１の表面１ａを
研磨してギャップディブスを形成する工程までは従来の
方法と同じである。それから、第３図（Ｃ１に示すよう
に、接合ブロック１の表面ｌａにフォトレジスト等のマ
スク用材を塗布し、さらに第３図ｆｄｌおよび第１図に
示すように、前記トラック幅形成部８および該トラック
幅形成部８の両側に相当するコアブロック３１側の表面
ｌａ上にそれぞれフォトマスク３．２ａ、２ｂを形成す
る。
このようにフォトマスクを接合ブロックｌの表面１ａ上
に形成した後、接合ブロック１の表面ｌａにエツチング
を施すことにより該表面１ａのフォトマスクが形成され
ていない部分は食刻、すなわちエツチングされて削り取
られるように除去され、第３図＋１１１に示されるよう
なエツチング成形ブロックが形成される。次に、第３図
（ｆｌに示される破線のように砥石による成形切出しを
行うと、第３図（ｇｌおよび第２図に示されるような磁
気ヘッド１０が形成される。
に形成した後、接合ブロック１の表面ｌａにエツチング
を施すことにより該表面１ａのフォトマスクが形成され
ていない部分は食刻、すなわちエツチングされて削り取
られるように除去され、第３図＋１１１に示されるよう
なエツチング成形ブロックが形成される。次に、第３図
（ｆｌに示される破線のように砥石による成形切出しを
行うと、第３図（ｇｌおよび第２図に示されるような磁
気ヘッド１０が形成される。
このように形成される磁気ヘッド１０の記録再生用トラ
ック幅部４のトラック幅Ｔｗは従来のような機械加工で
なくフォトエツチング等によって形成されているので、
非常に精度良く形成され、加工精度としては例えば±１
μｍ程度は十分可能であり、従来の±３〜５μｍに比較
して非常に良くなっている。
ック幅部４のトラック幅Ｔｗは従来のような機械加工で
なくフォトエツチング等によって形成されているので、
非常に精度良く形成され、加工精度としては例えば±１
μｍ程度は十分可能であり、従来の±３〜５μｍに比較
して非常に良くなっている。
第５図（ａｌは本発明の方法で製造した磁気ヘッドの別
の例を示すものである。前記第２図に示した磁気ヘッド
１０においては記録再生用トラック部４をレール部５ａ
、５ｂの間の略中央に形成しているが、第５図ｆａｔの
磁気ヘッド２１においては一対のレール部５ａ、５ｂ’
の一方の上に記録再生用トラック幅部２２が形成されて
いる点が異なるのみである。また、第５図（ｂｌに示す
例では、前述のごとく磁気ヘッドトラック部４をレール
部５ａ、５ｂの一方の上に形成するのみならず、レール
部５ａ、５ｂのエアベアリング部をディスク内外周速差
補正のために幅を変えたものである。さらに、第５図（
Ｃ１に示す例は、薄膜ヘッドにおいて前述同様にトラッ
ク加工を行った例である。
の例を示すものである。前記第２図に示した磁気ヘッド
１０においては記録再生用トラック部４をレール部５ａ
、５ｂの間の略中央に形成しているが、第５図ｆａｔの
磁気ヘッド２１においては一対のレール部５ａ、５ｂ’
の一方の上に記録再生用トラック幅部２２が形成されて
いる点が異なるのみである。また、第５図（ｂｌに示す
例では、前述のごとく磁気ヘッドトラック部４をレール
部５ａ、５ｂの一方の上に形成するのみならず、レール
部５ａ、５ｂのエアベアリング部をディスク内外周速差
補正のために幅を変えたものである。さらに、第５図（
Ｃ１に示す例は、薄膜ヘッドにおいて前述同様にトラッ
ク加工を行った例である。
このように本発明の方法により記録再生用トラック幅部
は磁気ヘッドの中央に形成するだけでなく、片寄って端
部側の例えばレール上でも、またはその他のいずれの所
にも簡単に設けることができ、さらに、レール部５ａ、
５ｂの幅およびトラツク幅部４も容易に設定可能であり
、精度の良いものが得られるものである。
は磁気ヘッドの中央に形成するだけでなく、片寄って端
部側の例えばレール上でも、またはその他のいずれの所
にも簡単に設けることができ、さらに、レール部５ａ、
５ｂの幅およびトラツク幅部４も容易に設定可能であり
、精度の良いものが得られるものである。
以上説明したように、本発明によれば、一対の磁性材か
らなる接合ブロックの表面に第１および第２のマスクを
形成し、該表面にエツチングを施して前記マスクの施さ
れていない部分を食刻することにより第１のマスクを施
した部分に記録再生用トラック幅部を形成し、第１およ
び第２のマスクを施した部分に食刻によりエアベアリン
グ部を形成しているので、記録再生用トラック幅部およ
びエアベアリング部の形成に従来のような機械加工を使
用しないため、極めて高い精度で記録再生用トラック幅
部およびエアベアリング部等を形成することができると
ともに、狭いトラック幅の形成も可能となって高密度記
録再生化も達成でき、また比較的簡単かつ経済的で信頼
性の高い磁気ヘッドを製造することができる。
らなる接合ブロックの表面に第１および第２のマスクを
形成し、該表面にエツチングを施して前記マスクの施さ
れていない部分を食刻することにより第１のマスクを施
した部分に記録再生用トラック幅部を形成し、第１およ
び第２のマスクを施した部分に食刻によりエアベアリン
グ部を形成しているので、記録再生用トラック幅部およ
びエアベアリング部の形成に従来のような機械加工を使
用しないため、極めて高い精度で記録再生用トラック幅
部およびエアベアリング部等を形成することができると
ともに、狭いトラック幅の形成も可能となって高密度記
録再生化も達成でき、また比較的簡単かつ経済的で信頼
性の高い磁気ヘッドを製造することができる。
さらに、本発明の方法によれば、従来不可能であったモ
ノリシックタイプの記録再生用トラック幅部の位置をス
ライダー、すなわちレールの片端に形成することができ
るため、磁気記録媒体を有効的に利用でき、この磁気ヘ
ッドを使用することにより記憶容量を大幅に向上するこ
とができる。
ノリシックタイプの記録再生用トラック幅部の位置をス
ライダー、すなわちレールの片端に形成することができ
るため、磁気記録媒体を有効的に利用でき、この磁気ヘ
ッドを使用することにより記憶容量を大幅に向上するこ
とができる。
また、従来、比較的困難とされていたモノリシックタイ
プの狭トラックにおいて１０００ＴＰ １以上のものも
節単に実施できる。さらに、エアベアリング部も高精度
に形成され、その寸法の制御も１μｍ以下に精度良く制
御できるので、記録媒体に対する磁気ヘッドの内外周の
周速差の補正も簡単になる。
プの狭トラックにおいて１０００ＴＰ １以上のものも
節単に実施できる。さらに、エアベアリング部も高精度
に形成され、その寸法の制御も１μｍ以下に精度良く制
御できるので、記録媒体に対する磁気ヘッドの内外周の
周速差の補正も簡単になる。
またさらに、ヘッド前面の機械加工工程を最後に行わな
いため、磁気ヘッドが歪んだり、欠けたり、チッピング
等の不良が発生し難くなっている。
いため、磁気ヘッドが歪んだり、欠けたり、チッピング
等の不良が発生し難くなっている。
第１図はこの発明の方法で製造される磁気ヘッドの途中
の製造段階における磁気ヘッドの斜視図、第２図は第１
図の磁気ヘッドの完成斜視図、第３図ｔａ＋〜（ａは磁
気ヘッドの製造工程を示す斜視図、 第４図（ａｌ〜＋ｄｉは従来の磁気ヘッドの製造工程を
示す斜視図、 第５図＋ａｌ〜（Ｃ１は本発明の方法で製造される磁気
ヘッドの他の例を示す斜視図である。 図において、 ■・・・・・・接合ブロック、 ２ａ、２ｂ、３・・・フォトマスク、 ４・・・・・記録再生用トラック幅部、５ａ、５ｂ・レ
ール部、 ３１・・・・コアブロック、 ３２・・・・Ｃコアである。 第１図 第２図 第３図（ａ） 第３図 （ｄ） 第３図（ｅ） 第３図（ｆ） 第３図１ｇ） 第４図（０） 第４図（ｂ） 手続補正書（自発） 昭和６１年（０月斗日 １、事件の 表示 昭和６１年特許願第７７２６６号
２、発明の名称 磁気ヘッドの製造方法３、補正をす
る者 ４、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄５、
補正の内容
の製造段階における磁気ヘッドの斜視図、第２図は第１
図の磁気ヘッドの完成斜視図、第３図ｔａ＋〜（ａは磁
気ヘッドの製造工程を示す斜視図、 第４図（ａｌ〜＋ｄｉは従来の磁気ヘッドの製造工程を
示す斜視図、 第５図＋ａｌ〜（Ｃ１は本発明の方法で製造される磁気
ヘッドの他の例を示す斜視図である。 図において、 ■・・・・・・接合ブロック、 ２ａ、２ｂ、３・・・フォトマスク、 ４・・・・・記録再生用トラック幅部、５ａ、５ｂ・レ
ール部、 ３１・・・・コアブロック、 ３２・・・・Ｃコアである。 第１図 第２図 第３図（ａ） 第３図 （ｄ） 第３図（ｅ） 第３図（ｆ） 第３図１ｇ） 第４図（０） 第４図（ｂ） 手続補正書（自発） 昭和６１年（０月斗日 １、事件の 表示 昭和６１年特許願第７７２６６号
２、発明の名称 磁気ヘッドの製造方法３、補正をす
る者 ４、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄５、
補正の内容
Claims (4)
- （１）磁気ディスク用磁気ヘッドにおいて、ディスクに
接するエアベアリング部と記録および再生を行うコア部
トラック幅とを、フォトプロセス等のマスクを形成しこ
のマスクを施していない部分を食刻することにより形成
することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。 - （２）前記マスクにより形成された一対のエアベアリン
グ部は、各々ディスク内外周の圧力を補正するように構
成されていることを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載の磁気ヘッドの製造方法。 - （３）磁気ディスク用磁気ヘッドにおいて、記録および
再生を行うコア部トラック幅を、フォトプロセス等のマ
スクを形成しこのマスクを施していない部分を食刻する
ことにより形成することを特徴とする磁気ヘッドの製造
方法。 - （４）前記記録および再生を行うコア部は、薄膜製造方
法等により形成された磁気ヘッド部を使用したことを特
徴とする特許請求の範囲第３項記載の磁気ヘッドの製造
方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61077266A JPS62234214A (ja) | 1986-04-03 | 1986-04-03 | 磁気ヘツドの製造方法 |
| KR1019860008908A KR900004744B1 (ko) | 1986-04-03 | 1986-10-24 | 자기헤드의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61077266A JPS62234214A (ja) | 1986-04-03 | 1986-04-03 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62234214A true JPS62234214A (ja) | 1987-10-14 |
Family
ID=13629039
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61077266A Pending JPS62234214A (ja) | 1986-04-03 | 1986-04-03 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62234214A (ja) |
| KR (1) | KR900004744B1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4875970A (en) * | 1988-03-29 | 1989-10-24 | Ngk Insulators, Ltd. | Method of forming recessed profile on ferrite single crystal by chemical etching |
| US4948460A (en) * | 1988-09-24 | 1990-08-14 | Ngk Insulators, Ltd. | Method of producing head core slider for rigid magnetic disk drive, utilizing laser-induced etching |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51114111A (en) * | 1975-03-31 | 1976-10-07 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Method of manufacturing magnetic heads |
| JPS5337406A (en) * | 1976-09-17 | 1978-04-06 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Manufacture of magnetic head |
| JPS5634123A (en) * | 1979-08-29 | 1981-04-06 | Hitachi Ltd | Manufacture for magnetic head |
| JPS58181872A (ja) * | 1982-03-15 | 1983-10-24 | インタ−ナショナル ビジネス マシ−ンズ コ−ポレ−ション | 反応性イオンで食刻される構造体を形成する方法 |
-
1986
- 1986-04-03 JP JP61077266A patent/JPS62234214A/ja active Pending
- 1986-10-24 KR KR1019860008908A patent/KR900004744B1/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51114111A (en) * | 1975-03-31 | 1976-10-07 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Method of manufacturing magnetic heads |
| JPS5337406A (en) * | 1976-09-17 | 1978-04-06 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Manufacture of magnetic head |
| JPS5634123A (en) * | 1979-08-29 | 1981-04-06 | Hitachi Ltd | Manufacture for magnetic head |
| JPS58181872A (ja) * | 1982-03-15 | 1983-10-24 | インタ−ナショナル ビジネス マシ−ンズ コ−ポレ−ション | 反応性イオンで食刻される構造体を形成する方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4875970A (en) * | 1988-03-29 | 1989-10-24 | Ngk Insulators, Ltd. | Method of forming recessed profile on ferrite single crystal by chemical etching |
| US4948460A (en) * | 1988-09-24 | 1990-08-14 | Ngk Insulators, Ltd. | Method of producing head core slider for rigid magnetic disk drive, utilizing laser-induced etching |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR900004744B1 (ko) | 1990-07-05 |
| KR870010486A (ko) | 1987-11-30 |
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