JPS62124684A - ヘツドスライダ - Google Patents
ヘツドスライダInfo
- Publication number
- JPS62124684A JPS62124684A JP26447985A JP26447985A JPS62124684A JP S62124684 A JPS62124684 A JP S62124684A JP 26447985 A JP26447985 A JP 26447985A JP 26447985 A JP26447985 A JP 26447985A JP S62124684 A JPS62124684 A JP S62124684A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- abs
- dry etching
- slider
- thin film
- head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
て産業上の利用分野〉
本発明は、磁気ディスク装置のへラドスライダの形成方
法に関する。
法に関する。
〈従来の技術〉
第6図(イ)、(ロ)は従来用いられているヘッドスラ
イダで、(イ)は全体斜視図、(ロ)は製造]二稈例を
示すものCある。これらの図において、1はディスクと
対向する面ABSであり(ABSは△ir 13ea
rinq 5urfaceの略)、2は面取り部、3
はテーパ面、5は1h、6はヘッド部である。(ロ)の
工程図に従って簡単に説明する。
イダで、(イ)は全体斜視図、(ロ)は製造]二稈例を
示すものCある。これらの図において、1はディスクと
対向する面ABSであり(ABSは△ir 13ea
rinq 5urfaceの略)、2は面取り部、3
はテーパ面、5は1h、6はヘッド部である。(ロ)の
工程図に従って簡単に説明する。
一■稈(1)基板20に所定の間隔を隔てて複数のヘッ
ド部6を形成する。
ド部6を形成する。
T程(■ Δ(3S(斜線部)1を研磨する。
■稈■ (−7)図に示Jテーパ面(斜線部)3を研m
IJ−る。
IJ−る。
1−稈■ 渦5を加工する。図において(a)は斜視図
、(b)は平面図、(C)は側面図である。
、(b)は平面図、(C)は側面図である。
T程(61面取り部2を研磨する。
工程Φ) 単体に切断する。
1ス十の■稈ににり製作していた。
・ぐ発明が解決しようとする問題点゛・近年、高記録密
度の要求が益々高くなり、この要求を満たすためヘッド
の低浮−V化〈浮上聞:0゜1μITI稈麿)が必要で
、ABSの精瓜はより高いものが要求されている。しか
しながら−F記従来例の製作方法においては、以下のよ
うな問題がある。
度の要求が益々高くなり、この要求を満たすためヘッド
の低浮−V化〈浮上聞:0゜1μITI稈麿)が必要で
、ABSの精瓜はより高いものが要求されている。しか
しながら−F記従来例の製作方法においては、以下のよ
うな問題がある。
(1) 精密切断加工装置としてダイシング・ソー等
を用いているがABSが小さくなると精度維持が困難と
なる。
を用いているがABSが小さくなると精度維持が困難と
なる。
(2)機械加L′C′あるため、ABSにチッピングに
にる欠【ノがと1−しるが、この欠けにより浮上量がば
らつくだ(Jでなく媒体面を傷付lまたり媒体上の突起
により欠【プを増すこともあり、この欠1′1−が媒体
の記録面をさらに傷イ4G)る恐れがある。
にる欠【ノがと1−しるが、この欠けにより浮上量がば
らつくだ(Jでなく媒体面を傷付lまたり媒体上の突起
により欠【プを増すこともあり、この欠1′1−が媒体
の記録面をさらに傷イ4G)る恐れがある。
(3〉 ABSの両側面に面取り加工2をIII!1
寸口とにより1〜記(2)の欠点を多少軽減することが
出来るが、ABSの形状@[σ維持に限界が生じる。
寸口とにより1〜記(2)の欠点を多少軽減することが
出来るが、ABSの形状@[σ維持に限界が生じる。
という問題がある。
〈発明が解決しJ:うとする問題点〉
この発明は、上記従来の問題点に鑑みて成されたもので
、ドライ・エツチングによる無歪み加工と、薄膜プロセ
スによる精密パターン形成により、ヘッドスライダのA
R8部分を精度J:り、かつ信頼性高く加工することを
目的どする。
、ドライ・エツチングによる無歪み加工と、薄膜プロセ
スによる精密パターン形成により、ヘッドスライダのA
R8部分を精度J:り、かつ信頼性高く加工することを
目的どする。
〈問題点を解決するための手段〉
」]記問題点を解決づるための本発明の構成は、浮動ヘ
ッドのスライダにおいて、前記スライダの磁気ディスク
どの対向面を、金属を薄膜プロセスにより積層し、ドラ
イエツチングにより段差。
ッドのスライダにおいて、前記スライダの磁気ディスク
どの対向面を、金属を薄膜プロセスにより積層し、ドラ
イエツチングにより段差。
形状を形成したことを特徴とするものl・ある。
・〈実施例−・
第1図(イ)、(lは本ブを明の一実施例を示すもので
、(イ)はへラドスライダの全体斜視図、([))は製
作T稈を示すものである。(図ではヘッド部を薄膜によ
り形成した状態のものを示す)図において、29はテー
パ部、31は溝、32はABS、33はヘッド部である
。
、(イ)はへラドスライダの全体斜視図、([))は製
作T稈を示すものである。(図ではヘッド部を薄膜によ
り形成した状態のものを示す)図において、29はテー
パ部、31は溝、32はABS、33はヘッド部である
。
工程に従って説明する。
工程(1) 基板30に所定の間隔を隔てて複数のヘ
ッド部33を形成Jる。
ッド部33を形成Jる。
工程■ ヘッド部33が直線状に並んだ箇所を切断する
。
。
T稈■ ABS (斜線部)を(111磨する。
工程(4) 研磨lノた八BSにスパッタや蒸着等に
よりマスクキング材34を形成覆る。
よりマスクキング材34を形成覆る。
工程■ マスキング材34の十に1ノジス1〜を塗布し
、化学エツチングにより△[38の形状にパターニング
する。
、化学エツチングにより△[38の形状にパターニング
する。
工程(4,)、(優を繰返し、マスキング材34を2〜
4/l m程度の早さに積層する。この場合、マスキン
グ材34は第2図(イ)に示すように1.2.3〜n番
目の順に−iηが順次短くなるようにマスキング材ノな
がらv4Mする。その結果ABSの一辺は第2図(ロ)
の一点鎖線で囲ったA部に示すように階段状となるがこ
の階段は極めて小さいため実質上はテーパ状となる。
4/l m程度の早さに積層する。この場合、マスキン
グ材34は第2図(イ)に示すように1.2.3〜n番
目の順に−iηが順次短くなるようにマスキング材ノな
がらv4Mする。その結果ABSの一辺は第2図(ロ)
の一点鎖線で囲ったA部に示すように階段状となるがこ
の階段は極めて小さいため実質上はテーパ状となる。
工程(Φ ドライ・エツチングにより所定の段差を形成
する。この場合、ドライ・エツチングは第3図に示すよ
うに基板30とともにマスキング材34もエツチングす
るので、1M目のマスキング材を多少残す時点(すなわ
ち、T稈■で示す研磨面が現れる前)で終了する。
する。この場合、ドライ・エツチングは第3図に示すよ
うに基板30とともにマスキング材34もエツチングす
るので、1M目のマスキング材を多少残す時点(すなわ
ち、T稈■で示す研磨面が現れる前)で終了する。
工程の 残ったマスキング材を除去する。
T稈■ 切断する。
hお、上記実施例においてはABSの一辺のみにテーパ
を形成したが例えば第4図に示すように八BSの側面(
第6図の2のテーパ部に相当)にテーパをつけることも
可能である。また、マスキング材のパターンを変更する
ことにより、第5図に示すようにABS而に四部40を
段は負圧用のヘッドどすることも出来る。
を形成したが例えば第4図に示すように八BSの側面(
第6図の2のテーパ部に相当)にテーパをつけることも
可能である。また、マスキング材のパターンを変更する
ことにより、第5図に示すようにABS而に四部40を
段は負圧用のヘッドどすることも出来る。
〈発明の効果〉
以]−1実施例とともに具体的に説明()たように本発
明の’)J選方法によれば、八BSの形成に機械加工を
使用していないので、A38部に欠けや応力歪みを生じ
ることがない。また、′y#膜プロセスを使用している
ため寸法精度の高いABSを形成することができる。
明の’)J選方法によれば、八BSの形成に機械加工を
使用していないので、A38部に欠けや応力歪みを生じ
ることがない。また、′y#膜プロセスを使用している
ため寸法精度の高いABSを形成することができる。
第1図(イ)、l)は本発明のへラドスライダの斜視図
および製作T稈の一実施例を示す図、第2図はマスキン
グ材の形成状態を示す図、第3図はドライ・エツチング
でのエツチング闇を示す図、第4図はABSの側面にテ
ーパを施した状態を示す図、第5図は八BSの形状を負
圧用とした状態を示す図、第6図(イ)、(ロ)は従来
例のへラドスライダの斜視図および製作工程を示す図で
ある。 29・・・テーパ部、31・・・溝、32・・・Art
s、36一 3・・・ヘッド部。 !! 5 石 ○
および製作T稈の一実施例を示す図、第2図はマスキン
グ材の形成状態を示す図、第3図はドライ・エツチング
でのエツチング闇を示す図、第4図はABSの側面にテ
ーパを施した状態を示す図、第5図は八BSの形状を負
圧用とした状態を示す図、第6図(イ)、(ロ)は従来
例のへラドスライダの斜視図および製作工程を示す図で
ある。 29・・・テーパ部、31・・・溝、32・・・Art
s、36一 3・・・ヘッド部。 !! 5 石 ○
Claims (1)
- 浮動ヘッドのスライダにおいて、前記スライダの磁気デ
ィスクとの対向面を、金属を薄膜プロセスにより積層し
、ドライエッチングにより段差、形状を形成したことを
特徴とするヘッドスライダ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26447985A JPS62124684A (ja) | 1985-11-25 | 1985-11-25 | ヘツドスライダ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26447985A JPS62124684A (ja) | 1985-11-25 | 1985-11-25 | ヘツドスライダ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62124684A true JPS62124684A (ja) | 1987-06-05 |
Family
ID=17403799
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26447985A Pending JPS62124684A (ja) | 1985-11-25 | 1985-11-25 | ヘツドスライダ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62124684A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02126482A (ja) * | 1988-06-02 | 1990-05-15 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 負圧型磁気ヘッドスライダーの製造方法 |
JPH03273520A (ja) * | 1990-03-23 | 1991-12-04 | Ngk Insulators Ltd | 固定磁気ディスク装置用コアスライダ及びその製造方法 |
-
1985
- 1985-11-25 JP JP26447985A patent/JPS62124684A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02126482A (ja) * | 1988-06-02 | 1990-05-15 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 負圧型磁気ヘッドスライダーの製造方法 |
JPH03273520A (ja) * | 1990-03-23 | 1991-12-04 | Ngk Insulators Ltd | 固定磁気ディスク装置用コアスライダ及びその製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8111480B2 (en) | Electronic component and tape head having a closure | |
JPS62124684A (ja) | ヘツドスライダ | |
US6555294B1 (en) | Method for collective production of magnetic heads with rounded bearing surface | |
JPS638524B2 (ja) | ||
US5635082A (en) | Process for producing a thin film head of the floating type | |
JPS61172220A (ja) | デイスク基板の製造方法 | |
JP2680750B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
JP2964722B2 (ja) | 浮上型薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
JPS60205879A (ja) | 磁気ヘツド負圧スライダ−の製造方法 | |
JPS58194164A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
EP0617413A2 (en) | Magnetic head sliders and a process for producing the same | |
JPH048469A (ja) | 脆性材料の切断加工方法 | |
JPH02126482A (ja) | 負圧型磁気ヘッドスライダーの製造方法 | |
JPS62234214A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
JPH06349222A (ja) | 磁気ヘッド装置の製造方法 | |
JPS629572A (ja) | 負圧形浮動ヘツドスライダの製造方法 | |
JPS58158014A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
JPH05217119A (ja) | 浮上型薄膜磁気ヘッド | |
JPS62214507A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
JPH03273513A (ja) | 薄膜形磁気ヘッド | |
JPH05151736A (ja) | 薄膜磁気ヘツドスライダ | |
JPH03181011A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
JPS6240604A (ja) | 磁気ヘツド | |
JP2001143233A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法及び薄膜磁気ヘッド | |
JPH04103009A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |