JPS58194164A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドの製造方法Info
- Publication number
- JPS58194164A JPS58194164A JP7564782A JP7564782A JPS58194164A JP S58194164 A JPS58194164 A JP S58194164A JP 7564782 A JP7564782 A JP 7564782A JP 7564782 A JP7564782 A JP 7564782A JP S58194164 A JPS58194164 A JP S58194164A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- head
- magnetic head
- floating
- magnetic
- jig
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/60—Fluid-dynamic spacing of heads from record-carriers
- G11B5/6005—Specially adapted for spacing from a rotating disc using a fluid cushion
Landscapes
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の対象
本発明は磁気ヘッドの製造方法に関し、特に浮動型磁気
ヘッドの製造工程のうち、成形加工工程を改良し、高精
度の浮上面を形成することを可能とした磁気ヘッドの製
造方法に関する。
ヘッドの製造工程のうち、成形加工工程を改良し、高精
度の浮上面を形成することを可能とした磁気ヘッドの製
造方法に関する。
従来技術
計算機システムの記憶装置として用いられる磁気ディス
ク装置の磁気ヘッドは、高記録密度化に伴い浮動＃ＭＮ
１ｍｌ磁気ヘッド（以下、単に「磁気ヘッド」という）
が主流になりつつある。
ク装置の磁気ヘッドは、高記録密度化に伴い浮動＃ＭＮ
１ｍｌ磁気ヘッド（以下、単に「磁気ヘッド」という）
が主流になりつつある。
磁気へラド１は第１図に示す如く、浮動部となるスライ
ダーの素子形成面ＩＡｋ−４１！技術によりｖｆＩ成さ
れた磁気変換ｆ！６１Ｂを有するもので、通常、４１体
（ｒヘッドブロック」と呼ばれる）に複数個の前記磁気
変換部を形成した後、切断することにより１１４の磁気
ヘッドに分離される。
ダーの素子形成面ＩＡｋ−４１！技術によりｖｆＩ成さ
れた磁気変換ｆ！６１Ｂを有するもので、通常、４１体
（ｒヘッドブロック」と呼ばれる）に複数個の前記磁気
変換部を形成した後、切断することにより１１４の磁気
ヘッドに分離される。
第２図はヘッドブロックに前記磁気変換部を形成した後
に、個々の磁気ヘッドに分離する際における従来の加工
工程を説明するものである。
に、個々の磁気ヘッドに分離する際における従来の加工
工程を説明するものである。
まず、磁気ヘッド５−１０個分の大きさを有するヘッド
プロッタを加工治具に接着し、ヘッドブロックの晶面に
研削、ラップ等により加工基準面を形成した後、剥離・
反転して最終切断砥石の逃は溝を有する加工治具に接着
する。
プロッタを加工治具に接着し、ヘッドブロックの晶面に
研削、ラップ等により加工基準面を形成した後、剥離・
反転して最終切断砥石の逃は溝を有する加工治具に接着
する。
第３図はこの状況を示すものであり、２はへラドプロッ
タ、３は砥石逃げ満３Ａｔ−有゛する加工治具である。
タ、３は砥石逃げ満３Ａｔ−有゛する加工治具である。
次に、前記ヘッドブロック２の表向に研削、うツブ等に
より洋上面（ディスク対向面）を形成した後、切断して
各ヘッドに分離する。
より洋上面（ディスク対向面）を形成した後、切断して
各ヘッドに分離する。
第４５！Ｊはこの状況を示す本のであり、４Ａ、４Ｂは
浮上面、４Ｃ，４Ｄは溝である（第１図＃■）。
浮上面、４Ｃ，４Ｄは溝である（第１図＃■）。
ここで問題となるのけ、ヘッドブロック２は厚みが１〜
２ ｍｍ と薄いため、加工治具３に接層した吠態に
おいて、加工治具の砥石逃は溝３Ａのある部分とない部
分とで接着用ワックスの冷却途度に差が生じ、これによ
って前記ヘッドブロック２が変形することである。
２ ｍｍ と薄いため、加工治具３に接層した吠態に
おいて、加工治具の砥石逃は溝３Ａのある部分とない部
分とで接着用ワックスの冷却途度に差が生じ、これによ
って前記ヘッドブロック２が変形することである。
磁気ヘッドは磁気ディスク表面から０．３〜０．５μｍ
程度の空隙を以て浮動する必要があるため、磁気ヘッド
の浮上面の平面度＃−ｉｏ、０５〜０．１μＩ！１程度
の精度が斐求される。 しかしながら、前述の如く変形
が生じた場合には、前記平面度Ｆ１ｏ、ｌＰｍを越える
ことになし、特性不良あるいはタプッシュの原因となる
。
程度の空隙を以て浮動する必要があるため、磁気ヘッド
の浮上面の平面度＃−ｉｏ、０５〜０．１μＩ！１程度
の精度が斐求される。 しかしながら、前述の如く変形
が生じた場合には、前記平面度Ｆ１ｏ、ｌＰｍを越える
ことになし、特性不良あるいはタプッシュの原因となる
。
発明の目的
本発明は上記事情に鑑みてなされた屯ので、その目的と
するところは、従来の磁気ヘッドの一造方法における上
述の如き間騙を解消し、高精度の浮上面を形成すること
を可能とした磁気ヘッドのｓｕｉ方法を提供することに
ある。
するところは、従来の磁気ヘッドの一造方法における上
述の如き間騙を解消し、高精度の浮上面を形成すること
を可能とした磁気ヘッドのｓｕｉ方法を提供することに
ある。
発明の総括的脱明
本発明の上記目的は、素子を連続形成した薄板材を形成
加工した後、これを複数個に分離する磁気ヘッドの製造
方法において、前記成形加工に際し予めＪ１面に切断用
の溝加工を胤した後、その反対（３）を成形加工すると
ともに、―σ記−而面施した切断用の溝に合致する位置
で切断・分離することを特徴とする磁気ヘッドの製造方
法によって達成される。
加工した後、これを複数個に分離する磁気ヘッドの製造
方法において、前記成形加工に際し予めＪ１面に切断用
の溝加工を胤した後、その反対（３）を成形加工すると
ともに、―σ記−而面施した切断用の溝に合致する位置
で切断・分離することを特徴とする磁気ヘッドの製造方
法によって達成される。
発明の実施例
ｆＪｓ５図は本発明の一実施例である磁気ヘッドの加工
上程を示１ものである。 ５〜１０個分の大自さを有す
るヘッドブロック（長さ２５〜４Ｑ ｍ ｍ。
上程を示１ものである。 ５〜１０個分の大自さを有す
るヘッドブロック（長さ２５〜４Ｑ ｍ ｍ。
輔４〜５１１１ｆｆ＋、厚さ１〜２ｍ１）を浮上面とな
る側を下にして加工治具に接層する。研削、ラップ略に
より加工基準面を形成した後、切断用の溝加工を、浮上
面から０．３〜Ｑ、５ ａｍ 程度を残す如く行う。
る側を下にして加工治具に接層する。研削、ラップ略に
より加工基準面を形成した後、切断用の溝加工を、浮上
面から０．３〜Ｑ、５ ａｍ 程度を残す如く行う。
第６図はこの状況を示すものであり、２はヘッドブロッ
ク、２ Ａ Ｖ！切断用の溝（「切断溝、」ともいう）
、３′は加工治具である。
ク、２ Ａ Ｖ！切断用の溝（「切断溝、」ともいう）
、３′は加工治具である。
次に、前記へラドプロッタ２を加工治具３′から剥離１
反転し、再び加工治具３′に接着する。
反転し、再び加工治具３′に接着する。
第７図はこの状況を示す亀のである。
次いで、前記へラドプロッタ２の表面に、研削、ラップ
等により浮上面を形成した後、先に形成した切断溝２Ａ
に合致する位置で切断し、各ヘッドを分離する。
等により浮上面を形成した後、先に形成した切断溝２Ａ
に合致する位置で切断し、各ヘッドを分離する。
第８図はこの状況を示す亀のである。この後、更に表面
仕上げ等を行い、加工治具から剥離する。
仕上げ等を行い、加工治具から剥離する。
本実施例に示した加工工程によった場合には、前記浮上
面の平面度は０．０５μｍ以下という値が貴男性よく得
られた。
面の平面度は０．０５μｍ以下という値が貴男性よく得
られた。
上記実施例においては、各ヘッドを切断１分離後浮上面
の仕上けを行っているが、浮上面の仕上けを先に行った
後、各ヘッドを切断するようにしても良いことは言うま
でもない。また、浮上面形成工程は溝４０．４Ｄを加工
することにより行うが、これはそれぞれを別に行っても
良く、組合わせ砥石により一度に加工しても良く、ある
いは切断二■二程と組合わせて行うようにしても良い。
の仕上けを行っているが、浮上面の仕上けを先に行った
後、各ヘッドを切断するようにしても良いことは言うま
でもない。また、浮上面形成工程は溝４０．４Ｄを加工
することにより行うが、これはそれぞれを別に行っても
良く、組合わせ砥石により一度に加工しても良く、ある
いは切断二■二程と組合わせて行うようにしても良い。
１だ、上記実施例においては、薄膜ヘッドを例にとって
説明したが、本加工方法はこｔｌに限らず、いわゆるモ
ノリシック・ヘッドの加工にも有効である。
説明したが、本加工方法はこｔｌに限らず、いわゆるモ
ノリシック・ヘッドの加工にも有効である。
発明の効果
以上述べた如く、本発明によれば、素子を連続形成した
薄板材を成形加工し５た後、これを複数個に分離する磁
気ヘッドの製造方法において、前記成形加工に際し予め
裏面に切断用の溝加工を施し念後、その反対向を成形加
工するとともに、前記裏面にｈした切断用の溝に合致す
る位置で切断。
薄板材を成形加工し５た後、これを複数個に分離する磁
気ヘッドの製造方法において、前記成形加工に際し予め
裏面に切断用の溝加工を施し念後、その反対向を成形加
工するとともに、前記裏面にｈした切断用の溝に合致す
る位置で切断。
分−するようにしたので、加工工程におけるヘッドの変
形を防止することができｉ！６精度の浮上面を形成する
ことが６丁能となる他、加工治具として特別に溝加工し
たものを用意しなくても良いという効果もある。
形を防止することができｉ！６精度の浮上面を形成する
ことが６丁能となる他、加工治具として特別に溝加工し
たものを用意しなくても良いという効果もある。
給１図は山気−・ラドを拡大して示す斜視図、第２図は
従来の磁気ヘッド支持体の加工工ＩＱ＆示す図、第３図
、第４図は同加工工程中の状況を示ｊ図、第５図は本発
明の一実施例である磁気ヘッド支持体の加工工程を示す
図、第６回〜第８図を１同加工工程中の状況を示す図で
ある。 １：磁気ヘッド、ＩＡ：素子形成面、ＩＢ：磁気変換部
、２：ヘッドブロック、２人：切断溝、３．３’＋加工
治具、３Ａｊ逃げ溝、４Ａ、４Ｂ二浮上面、４０ 、４
Ｄ ： Ｎ 。 特許出願人 株式会社 日立−作所 代 理 人 弁理士 磯 村 雅 俊 第１図 ＩＡ 第３図 第４図 第２図 第５図 （
従来の磁気ヘッド支持体の加工工ＩＱ＆示す図、第３図
、第４図は同加工工程中の状況を示ｊ図、第５図は本発
明の一実施例である磁気ヘッド支持体の加工工程を示す
図、第６回〜第８図を１同加工工程中の状況を示す図で
ある。 １：磁気ヘッド、ＩＡ：素子形成面、ＩＢ：磁気変換部
、２：ヘッドブロック、２人：切断溝、３．３’＋加工
治具、３Ａｊ逃げ溝、４Ａ、４Ｂ二浮上面、４０ 、４
Ｄ ： Ｎ 。 特許出願人 株式会社 日立−作所 代 理 人 弁理士 磯 村 雅 俊 第１図 ＩＡ 第３図 第４図 第２図 第５図 （
Claims (1)
- 素子を連続形成した薄鈑材を成形加工した後、これを豪
数個に分離する磁気ヘッドの製造方法において、前記成
形加工に際し予め裏面に切断用の溝加工を施した後、そ
の反対面を成形加工するとと奄に、前記裏面に施した切
断用の溝に合致する位置で切断０分離することを特徴と
する磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7564782A JPS58194164A (ja) | 1982-05-04 | 1982-05-04 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7564782A JPS58194164A (ja) | 1982-05-04 | 1982-05-04 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58194164A true JPS58194164A (ja) | 1983-11-12 |
Family
ID=13582254
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7564782A Pending JPS58194164A (ja) | 1982-05-04 | 1982-05-04 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58194164A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0463765A2 (en) * | 1990-06-29 | 1992-01-02 | Quantum Corporation | Thin film head slider fabrication process |
| US6097576A (en) * | 1992-05-06 | 2000-08-01 | Teac Corporation | Magnetic head |
| WO2002007154A2 (en) * | 2000-07-13 | 2002-01-24 | Seagate Technology Llc | Process and apparatus for finishing a magnetic slider |
-
1982
- 1982-05-04 JP JP7564782A patent/JPS58194164A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0463765A2 (en) * | 1990-06-29 | 1992-01-02 | Quantum Corporation | Thin film head slider fabrication process |
| USRE35477E (en) * | 1990-06-29 | 1997-03-18 | Quantum Corporation | Thin film head slider fabrication process |
| US6097576A (en) * | 1992-05-06 | 2000-08-01 | Teac Corporation | Magnetic head |
| WO2002007154A2 (en) * | 2000-07-13 | 2002-01-24 | Seagate Technology Llc | Process and apparatus for finishing a magnetic slider |
| WO2002007154A3 (en) * | 2000-07-13 | 2002-08-29 | Seagate Technology Llc | Process and apparatus for finishing a magnetic slider |
| GB2380049A (en) * | 2000-07-13 | 2003-03-26 | Seagate Technology Llc | Process and apparatus for finishing a magnetic slider |
| GB2380049B (en) * | 2000-07-13 | 2004-01-07 | Seagate Technology Llc | Process and apparatus for finishing a magnetic slider |
| US6843705B2 (en) | 2000-07-13 | 2005-01-18 | Seagate Technology Llc | Apparatus for finishing a magnetic slider |
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