JPH01166304A - Ｖ溝を有する磁気ヘッド基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気ディスク装置用の磁気ヘッドに係り、特に
高保磁力記録媒体に対して高密度な記録再生を行なうに
好適な磁気ヘッド構造に関する。

〔従来の技術〕

最近の記憶装置ではより高密度な記録を実現するために
高保磁力媒体を使用し、高飽和磁束密度を有する金属磁
性材を用いた磁気ヘッドが提案されている。このような
磁気ヘッドとして特開昭５９−２０７４１５号公報にて
詳細に述べられている。このようなＶＴＲ用複合形磁気
ヘッドの製造方法の各工程の説明図を第４図（α）〜（
Ａ）に示す。

第４図（α）は高透磁率フェライトなるブロック２１の
ギャップ突き合せ面となる面にコイル巻線用溝を形成す
る工程である。面は予め鏡面研磨しておく。ここで高透
磁率フェライトはＭα−ＺＴＬ、　Ｎｉ　−Ｚｎの単結
晶又は多結晶からなる。巻線溝２２は少なくとも先端が
傾斜しており後部も傾斜しておくと母性体膜形成する時
に有効である。

工程（，６）は前記（α）の工程で得られコイル巻線溝
２２に直交してギャップ突き合せ面となる面にトラック
幅より狭い突起を残して隣接する２本の溝２３を組とす
る複数組の溝を平行に設ける工程である。

溝は先端が１字もしくはＵ字状に成形されたメタルボン
ド砥石あるいはレジボンド砥石が用いラレ高速ダイサ等
によって加工される。ここでは各組の溝の間に残された
平坦部は後工程たとえば工程（６］の研磨や工程（Ａｌ
のブロックの接合時における金属磁性膜の補強部であり
基準面となる。

（Ｃ）は（、ｆｉｌの工程で得られた溝部２３ｔ−含め
ギャップ突き合せ面全面にフェライトより飽和磁束密度
の高い金属磁性体膜２４をスパッタリングによって堆積
させる工程である。金属磁性体膜２４はＦｇ　−８ｉ　
。

Ｆｔ　−Ａｔ　−Ｓｇ　（センダヌト）　、Ｎｉ　−Ｆ
ａ　（パーマロイ）等で代表される結晶質合金であり、
非結晶質合金はＣｏ−Ｚｒ、　Ｃｏ　−Ｍｏ−Ｚｒ、　
Ｃｏ　−Ｎｈ−Ｚｖ等の周知のメタル−メタル系合金等
が用いられる。

工程（ｄ）は工程（ｃ）で得られた金属磁性体膜２４の
上に少なくとも残りの溝部が埋まる程度に非磁性材２５
を充填する工程である。非磁性材はガラス２５が用いら
れる。

工程（ｇ）は工程（ｄ）で得られたブロックの不要の非
磁性材２５と金属磁性体膜２４を除去し、ギャップ形成
面２６を露呈させる工程である。この時研磨により所要
のトラック幅ｔを形成する。

工程ωは工程（−）で得られたコイル巻線溝を有する一
方のコアブロックの＄Ｆ視図を示す。工程（イ）はこの
ような一対のコアブロックの少なくとも一方のコアブロ
ックのギャップ形成面２６に８ｉ０２を所要の厚さをス
パッタリングしてギャップ形成膜２７とする工程である
。

工程（ｇｌは前記一対のブロック２１のギャップ突き合
せ面２７を互いにトラック部が合う様に突き合せて加熱
、加圧しながら接合一体化する工程である。

（Ａｌは（ｇｌ）で得られた接合ブロックのテープ摺動
面を示す。工程（Ａ）はトラック幅ｔを中心にして点線
で示す所要のコア幅Ｔになるように切断して第５図（α
）（ｈ）図に示す複合型磁気ヘッドを複数個得る工程で
ある。

このような方法にて製造される磁気へヴドの問題点は、
トラック幅ｔの寸法ａ′度を確保するためと、コンタ−
効果の影響をさけるために磁性体膜をつけるフェライト
ブロック２１の突起部をＶ溝２３形状に形成するに多大
の加工時間を要する上に。

さらに１寸法精度不良や欠は不良による歩留りの低下を
きたすことである。またこれらの不良を改善するには、
■溝入れ砥石のドレッシング回数の増加、砥石の寿命、
加工条件を管理する等きわめて問題になる事が多くある
。

以上述べてきたように、特開昭５９−２０７４１号と同
様な方法で磁気ディスク装置用磁気ヘッドを製造する場
合は生産効率の低下を考慮し、できるだけ容易に加工が
できて歩留りの良好なヘッド製造方法を検討する必要が
ある。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上記従来技術は磁気ディスク装置用磁気ヘッドを同様な
方法で製造した場合１歩留りの低下及び生産効率の低下
をきたし、Ｉｋ産性ＪＰｉ価面に問題があり九。

本発明の目的は歩留り向上、生産効率の向上により、信
頼性が高くかつ廉価なる磁気ヘッドを提供することにあ
る。

〔問題点を解決するための手段〕

磁性体膜をつけるフェライトブロックの突起部をＶ溝形
状に形成するには、Ｖ字状に成形されたメタルボンド砥
石又はレジンボンド砥石を用いて高速ダイサーにより機
械加工を行なっている。このような加工においては、■
溝形状尖端部の欠けや寸法不良が多く発生し歩留りの低
下を招いている。上記目的はＶ溝形状の形成方法を従来
の高速ダイサーによる機械加工より、Ｖ溝の雄型を作製
して焼結及びプレス成形にすることにより達成される。

■溝の雄型を作製することにより１機械加工工数の低減
、欠は不良の低減１寸法不良の低減等の効果があり、廉
価なるヘッドを提供するものである。

〔作用〕

■溝形状は第４図（ｂ）に示す如く三角形頂部の尖端部
が重要である。このような形状を加工形成すると脆性材
料特有の尖端部の欠けや０粒径の脱落が生ずる。

このような問題を解決するＫは、加工形成を行なわずに
三角形頂部を形成可能な雄型を作製し。

焼結法やプレス成形にて形成する方法にある。

〔実施例〕

以下１本発明の実施例を第１図（α）〜（Ｃ）、第２図
（α）〜（ｈ）、第３図（σ）〜ωにより詳細に説明す
る。

第１図（α）と第２図（ａ）は０本発明による磁気ディ
スク装置用磁気ヘッドの外観図を示す。第１図（α）は
双胴スライダ一部各々にヘッドの電磁気変換素子を形成
したモノリシックヘッドを示し、第２図（α）はもう一
つのヘッド構造であるセンターレール部処ヘッドの電磁
気変換素子を形成したモノリシックヘッドを示している
。第１図（ｂ）　（Ａ）　（Ｃ）　（ｃ）及び第２図＜
ｈ）ｔｂｓはそれらモノリシックヘッドを製造する際の
製造方法を説明する図を示す。第３図（α）〜ωは第１
図、第２図に示す磁気ヘッドを製造するうえの製造工程
図を示す。

第３図体１　（ａｒは各々複数個のヘッドがとれる大き
さ（本図の場合３ヘツド）のブロックを示している。本
ブロックの材質は磁性材又は用途に応じて非磁性材を使
用する。磁性材ならばＮｉ−Ｚｎ、Ｍｎ−２ｒＬフエラ
イトを用い、非磁性材ならばアルミナチタンカーバイト
や、チタン酸カルシウム等を用いる。（α）図ブロック
は磁気ヘッドの浮動部を司どる九め以下スライダーブロ
ック１と称し、　（ａｔ　図９１１１のブロックを巻線
部を形成するために（ａ）′図に示すようにＣ形の巻線
溝１０を設けることＫよりＣエアブロツク２と称す。ス
ライダーブロック１及びＣコアブロック２には（α）（
αｉに示す如（Ｖ＠９が形成されている。スライダーブ
ロック１に形成されるＶ溝９は雄型３に予め同様なＶ溝
９を形成しておき、ブロック形状となるフェライトやセ
ラミックを形成する時、同時に形成するものである。Ｃ
コアブロック２に形成されるＶ＠９もスライダーブロッ
クと同様に形成するものである。併せて巻線溝１０も同
時に雄型３により形成するものである。

Ｖ溝９はスライダーブロック１とＣコアブロック２に同
ピツチ寸法に入れ、ピッチ寸法は磁気ヘッドのスライダ
ー幅方向寸法、切断寸法、加工寸゛法を加えて大略５■
程度である。以上述べてきたようなヘッドのＶ溝と雄型
のＶ溝の関係を第１図（Ａ）　（ｂ）　（Ｃ１（ｃ）及
び第２図（，６）　（ｂ）に示す。

第１図（Ａ）　（ｂｌと（Ｃ）（Ｃ１は双胴スライダ一
部にヘッド素子を形成した時のスライダーブロックとＣ
コアブロックを合わした図とそれに対応する雄型とスラ
イダーブロック、Ｃコアブロックを合わした図を表わし
ている。（ｂ）　＜ｂ；−ｔｃ）＜ｃ）′はガラス６充
填部によ゛り雄型の形状が異なる。同様に第２図（，６
１（，６）’はセンターレール部にヘッド素子を形成し
た場合のブロック形状と雄型形状を示している。

■溝９及び巻線溝１０はフェライト又はセラミックを成
形する際予め高圧及び高温に耐えうる材料のＡ１２ｏｓ
及び８ｉＣ等の型材料にて第３図（ａ）（α）′に示す
雄型３を形成する。雄型３のＶ＠及び巻線溝形状は機械
加工等により精度良く形成しておく。その後フェライト
材又はセラミック材料を原料−混練−子焼一粉砕一造粒
という一連の作製工程を通したのち、雄型３を使用して
高圧にて成形し高温・真空中にて焼結することによＬＶ
ｉ１１９及び巻線＠ＩＱを有するヘッド基板材なるスラ
イダーブロック１及びＣコアブロック２を形成すること
ができる。

以上述べたようにＶ＠及び巻線溝を有する雄型を作製す
ることにより、多数のＶ＠・巻線溝を有するヘッド基板
材が製造可能となる。

第３図（ｂ）＜ｂｉ’はスライダーブロック１及びＣコ
アブロック２のＶ＠９１巻線＠ＩＱを含めた突き合せ面
に、高飽和磁束密度を有し、低保磁力なる金属磁性材料
５として例えばアモルファスやセンダストをスパッタの
手法にて２０〜３０ミクロン堆積させる。

次に（ＣＩ　（Ｃ１は金属磁性材料５の保護及び後工程
のにおけるスライダーブロック１とＣコアブロック２を
突き合せ接合を行なうためのガラス６を充填する。ガラ
ス材６は金属磁性材料の種類によりアモルファスならば
低融点のガラスを、又センダストならば高融点のガラス
を選択する必要がある。

（ｄ）（ｒｔ；はガラス充填された突き合せ面を研削及
び研磨にて加工し、金属雄性材料５がなくなりスライダ
ーブロック及びＣコアブロック面が露出するまで加工す
る。この時各ブロックの突き合せ面には金属磁性材料の
突き合せ面即ちトラック１１４８が露出し所定の寸法精
度が確保されている。

（ｔｌ（ｇｌは各々のブロックの突き合せ面にギャップ
７を形成している図を示す。ギヤツアー７は狭ギャツブ
長を形成するために例えば５ｉｃｈをスパッタ手法にて
１μｍ以下に形成する。

ωはスライダーブロック１とＣコアブロック２を５Ｌ０
２ギヤツプを介してトラック幅８を突き合せ、トラック
幅方向に位置決めして有効トラック幅８ｆ：確保する。

その後両ブロック１．２を加圧しながら加熱し充填ガラ
スの溶融でスライダーブロック１とＣコアブロックを接
合して一体化を図る。

その後（０図の一点鎖線に示す如く切断し、１ブｌロツ
クより多数（［！！（この場合３ヘツド）のヘッドを作
製する。その後第１図（α）及び第２図（α）に示す如
く媒体とヘッドの浮上を司どるスライダ一部を形成する
ために溝４を入れ加工を行ない、浮上滑面輸を確保する
ことにより磁気ディスク装置用磁気ヘッドを製造する。

以上述べてき九ように、従来機械加工で形成していたＶ
＠９及び巻線溝１０を、雄型で珍成することにより量産
性に優れ、加工工数の低減による原価低減、欠は不良９
寸法不良等の低減による歩留り向上等の効果が望まれる
。

〔発明の効果〕

本発明によれば、磁気ディスク装置用磁気ヘッドに於い
て（１）磁気コア部が高飽和磁束密度の金属磁性材料で
磁路が形成されているため、高Ｈｃ媒体への記録、再生
に適し高密度磁気記録が期待される。（２）磁気コア部
のＶ溝の形成を機械加工法より雄型を使用する型成形法
にすることにより、加工工数の低減１歩留り向上等の原
価の低減が図られる。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図は本発明の一実施例の磁気ヘッドの外観
図とヘッドのＶ溝を形成するための雄型外観図、第３図
（α）〜ωは本磁気ヘッドを製造するうえでの製造工程
図、第４図（α）〜（Ａｌは従来のＶＴＲ用磁気ヘッド
の製造工程図、第５図（α）（６）はＶＴＲ用磁気ヘッ
ドの外観図である。 １・・・スライダーブロック、２・・・Ｃコアブ（’：
ｌ　＝ｐり３・・・金型、４・・・溝、５・・・金属母
性材料、６・・・ガラス、７・・・ギャップ、８・・・
トラック幅、９・・・Ｖ溝９１０・・・巻線溝。 ｉ′ 代理人弁理士　小　川　勝　男〈 第２　Ｌ ｔａ） 昭和　　年　　月　　口

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、軟磁気特性を有する焼結材料あるいは、非磁性の焼
   結材料を基板材料とし、コイル巻線用の窓部とトラック
   を形成するための溝があり、この溝に金属磁性膜を堆積
   し加工した２つのコア半体を接合した後切断により製造
   する磁気ヘッドにおいて、基板に形成する窓形状、溝形
   状を予め形成した雄型により、焼結及びプレス成形する
   ことを特徴とする磁気ヘッド基板の製造方法。