JPH0325709A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

磁気ヘッドの製造方法

Info

Publication number
JPH0325709A
JPH0325709A JP16181289A JP16181289A JPH0325709A JP H0325709 A JPH0325709 A JP H0325709A JP 16181289 A JP16181289 A JP 16181289A JP 16181289 A JP16181289 A JP 16181289A JP H0325709 A JPH0325709 A JP H0325709A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
core
ferromagnetic
ferromagnetic metal
working gap
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP16181289A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0554168B2 (ja
Inventor
Ritsuo Takahane
高羽 律男
Yuuichi Oofuna
大船 雄一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Akai Electric Co Ltd
Original Assignee
Akai Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Akai Electric Co Ltd filed Critical Akai Electric Co Ltd
Priority to JP16181289A priority Critical patent/JPH0325709A/ja
Publication of JPH0325709A publication Critical patent/JPH0325709A/ja
Publication of JPH0554168B2 publication Critical patent/JPH0554168B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、VTR (ビデオテーブレコーダ)、DA
T (デジタルオーディオテーブレコーダ)等に用いる
、メタルテーブ等の高抗磁力磁気記録媒体用として好適
な磁気ヘッドの製造方法に間するものである。
[従来の技術] メタルテーブはその抗磁力が極めて高く、1000エル
ステッド程度である.このように高い抗磁力の磁気記録
媒体からその特性を充分に引出すには、磁気ヘッドとし
て飽和磁束密度の充分に高いものを用いる必要がある。
ところで、フエライト等の強磁性酸化物は耐摩耗性の点
では優れているが、その飽和磁束密度が低く、またセン
ダスト(登録商標〉、パーマロイ等のような強磁性金属
磁性材料は飽和磁束密度は高いが耐摩耗性に劣り、かつ
渦電流損失による高周波数特性が劣化するという欠点が
あった。
従来上記の欠点を除去するために、これら両系の磁性材
料を結合し、一対の強磁性酸化物からなるコアの各作動
ギャップ構成面側に、該強磁性酸化物よりも飽和磁束密
度の高い強磁性金属膜を結合してなる磁気ヘッドが提案
されている。
しかし、このように異質の磁性材料を結合すると、その
結合面間が疑似作動ギャップとして作用し、周波数特性
の劣化を招くという欠点があった.一般に、磁気へッド
コアのコア表面に異種の物質を蒸着等により結合する場
合には、そのコア表面を予め鏡面研磨して加工歪層を除
去してから行うのが普通であるが、その場合その結合面
が磁気ヘッドの作動ギャップ構成面と平行になってそれ
が疑似ギャップとして作用する. 従来、上記の疑似ギャップによる欠点を除去するものと
して、■前記強磁性酸化物からなるコアと前記強磁性金
属膜との結合面の形状をシグザグ状にして作動ギャップ
構成面に対して平行な面がないようにするもの(特開昭
55−58824号)。■前記強磁性金属膜としてフエ
ライトが混合されたものを用い、この混合物のフエライ
ト含有率を前記コア側ではフエライトが100%になる
ようにしたもの(特開昭55−58823号)。■前記
強磁性酸化物と強磁性金属膜として透磁率の略等しいも
のを用いるもの等が提案されている。
しかし、上記■〜■のものは、磁気ヘットの生産性が悪
いとか、疑似ギャップの発生を充分に防ぎ得ないという
欠点を有する。
本出願人は、先に上記した欠点を除去し、疑似ギャップ
の発生を充分に防ぎ得ると共に、生産性の良好な磁気ヘ
ッド及びその製造方法を1是供した。
このものは、一対の強磁性酸化物からなるコア半体の各
作動ギャップ構成面側に、該強磁性酸化物よりも飽和磁
束密度の高い強磁性金属膜を結合してなる磁気ヘッドに
おいて、前記コア半体の前記した強磁性金属膜の結合面
には、酸化膜を前記強磁性金属膜の下地膜として付着さ
せたことを特徴とする磁気ヘッドであり、 また、前記酸化膜は、2O−too人の厚さのAI2O
3、Si02、Z『0?、Ta2O5の群から選ばれた
1種類のものであることを特徴とする磁気ヘッドである
(平成元年6月2′2−日の特許出願〉.前記のように
構成された先に出願の磁気ヘッドでは、疑似作動ギャッ
プの発生を防止することができるが、その理由は次のよ
うに労えられる。磁気ヘッドの製造過程において、前記
一対のコアをガラス溶着により互いに結合する際に、そ
の熱により前記の強磁性金属膜が酸化するときの酸化の
ための酸素は、従来のように酸化膜がない場合には、強
磁性酸化物からなるコアから奪われてこれにより該コア
に非磁性層ができ、これが疑似ギャップ発生の一因にな
ると考えられていたが、前記酸化膜を付着させることに
より上記酸化のための酸素は該酸化膜から得られ、この
ため、前記の疑似ギャップの発生を防止できるものと乃
えられろ。
[発明が解決しようとする課題] この発明は、上記した本出願人の出願に係わる磁気ヘッ
ドの好適な製造方法を提供するものである。
[課題を解決するための手段] 上記の課題を解決するために、この発明では、一対の強
磁性酸化物からなるコア半体の各作動ギャップ構成面側
に、該強磁性酸化物よりも飽和磁束密度の高い強磁性金
属膜を結合した磁気ヘットの製造方法において、前記コ
ア半体となるコアブロックを用意し、該コアブロックの
前記作動ギャップ構成面となる側にトラック幅規制用の
一対の略V字状の複数の溝を刻設する工程と、前記コア
ブロックの前記溝を含む作動ギャップ構成面となる側に
、A I 2O3、S10?、Z「02、Ta2O5等
の群から選ばれた1種類からなる単層膜又は該単Pi膜
とSi3N4、Cr, Cu等の群から選ばれた1種類
からなる積層膜を付着する工程と、前記コアブロックの
前記作動ギャップ構成面となる側の前記溝と溝の問の平
面部を研磨して該平面部における前記単層膜又は積層膜
を除去すると同時にトラック幅規制を行う工程と、前記
コアブロックの前記作動ギャップ構成面となる側に前記
強磁性金属膜の下地膜となる酸化膜を付着する工程と、
この酸化膜上に前記の強磁性金属膜を結合して該強磁性
金属膜を有する前記のコア半体を構成する工程と、ギャ
ップスペーサ−を介して一対の該コア半体をガラス溶着
により互いに接合する工程とを含むことを特徴とする8
1気ヘッドの製造方法である。
[実施例] 以下に、この発明の実施例を図について説明する。第1
図〜第3(支)はこの発明の製造方法により製造された
磁気ヘッドを示すものである。図において、符号lはフ
エライト等の強磁性酸化物よりなるコア半体であり、も
う一方の強磁性酸化物よりなるコア半体2とにより一対
のコ・ア半体を構成している。3はガラス(Si02)
よりなるギャップ材により構成された作動ギャップであ
り、前記コア半体1、2の作動ギャップ3構成面には前
記強合されている.これらのコア半体l、2における前
記強磁性金属膜4、5の結合面には Si02等の酸化
膜6が前記強磁性金属膜4、5の下地膜として付着され
ている。7、8はS102膜とCr[lよりなる積層膜
であり、前記コア半体l、2の前記作動ギャップ3とは
平行でない部分における該コア半体と前記酸化膜6との
間に介在されて結合されている.このようなコア半体1
、2はガラス9、lOによるガラス溶普により互いに結
合され、第1図に示す磁気ヘッドが得られる.尚、第1
図において、符号1lはコイルの巻線用の孔であるが、
第1図では未だコイルの巻線されていない状態が示され
ている. この磁気ヘッドの製造工程について第4図及び第5図を
参照してさらに詳しく説明する。まず、第4図(a)に
示すように、前記コア半体l、2となるフエライト等の
強磁性酸化物よりなるコアブロックl2を用意し、該コ
アブロックの接合面13には複数の■溝14(図では3
本のみ示す)を刻設する。この刻設に際しては、周知の
ダイシングソーを用い、先端60”のダイヤモンドブレ
ードを使用する.次に、(b)に示すように、このコア
ブロック12の■溝14が設けられた接合面l3側には
周知の真空薄膜形成法により前記のS102膜7とC「
膜8よりなる積層膜となる積層膜l5を設ける。この積
層膜l5は、 AI2O3、Si02、ZrO2、Ta
2O5のグループから選ばれた一つの膜とS i 3N
4、C『、Cuのグループから選ばれた一つの膜との積
層膜でも良いし、またAI2O3、Sif2、Zr02
、Ta2O5のグループから選ばれた一つの膜よりなる
単層膜であっても良い。次に、(C)に示すように、前
記コアブロック12の接合面13を平面研磨し、前記作
動ギャップ3が形成される面と平行である前記強磁性金
属膜4、5の被着面の前記単層膜又は積層膜15を除去
し、同時に磁気ヘッドにおけるトラック幅規制を行う.
次に、(d)に示すように、真空薄膜形成法によりAI
2O3、Si02、Zr02、TazOsのグループか
ら選ばれた一つの膜よりなる、前記の酸化膜6となる酸
化膜16を前記強磁性金属膜4、5の下地膜として2O
〜IOOA付着させる。この状態での積層膜15、酸化
膜16等の部分的な拡大図を第5図に示す。次に、(e
)に示すように、前記の付着された酸化膜l6の上に真
空薄膜形成法により前記の強磁性金属膜4、5となる強
磁性金属膜l7を被着形成する。次に、(f)に示すよ
うに、前記コアブロック12における前記■溝14のと
がった底部を削り、この底部の前記積Hi膜(又は単層
膜)15、酸化膜l6及び強磁性金属膜l7を除去して
コアブロックl2に至る溝18を形成する。尚、(f)
以降の工程を示す図では、膜l6、l7又は膜15、1
6、l7を各別に示すのが困難なため、一つの膜として
示してある。
次に、(g)のように、前記■溝14と溝18よりなる
溝19に前記のガラス9、10となるガラス2Oをモー
ルドする.このガラス2Oは後工程での加工の時のトラ
ック部の保護及び後述するように前記のコア半体同士を
接合するためのものである.次に、(h)に示すように
、前記溝19とは直交する方向に前記コイル巻線用の孔
11となる巻線用II21を形成し、しかる後に作動ギ
ャップ形成面を平面研磨により鏡面に仕上げる.次に、
第41!l(+)に示すように、前記の鏡面に仕上げら
れた作動ギャップ形成面に真空薄膜形成法により、前記
作動ギャップ3となる非磁性体のギャップスベーサ−2
2を所定厚みに形成する。次に、前記(1)に示すよう
に、前記の巻線用1!21が形成され、かつ前記ギャッ
プスベーサ−22が形成されたコアブロック12よりな
るコア半体lと、(g)に示す前記巻線用満21が形成
される前のコアブロックl2よりなるコア半体2とを、
(j)に示すように突き合わせ、この状態で溶着する。
これにより、コア半体lのガラス2Oとコア半体2のガ
ラス2Oが溶着されて結合し、また前記のギヤップスペ
ーサ−22により作動ギャップ3が形成される。これを
(j)に示す2点鎖線に沿ってワイヤーソー又はダイシ
ングソーでスライスし、ラッピングテーブを用いてテー
プ走行面をR状に仕上げることにより、第1図について
説明した磁気ヘツドが得られる。
上記のように構成された磁気ヘッドでは、前記の酸化膜
16により疑似作動ギャップの発生がない。また、ガラ
ス2Oのモールド時又はコア半体l、2をガラス溶着に
より互いに接合する際にはその熱による、コアブロック
l2と強磁性金属膜l7との膨張率の差によりコアブロ
ック12にクラックを生ずると共にコアブロックl2か
ら強磁性金属膜17が剥がれることがあるが、上記実施
例のように、コア半体l、2における作動キャップ3構
成面とは平行ではない部分に積層膜(又は単層FA)1
5を設けることにより、上記クラックの発生を防止する
ことができる。また、前記膨張率の差によるクラックの
発生又はコアブaツク12からの強磁性金属膜17の剥
がれは前記満18を設けることにより軽減される。これ
は前記溝18により強磁性金属膜l7が分断され、これ
により該強磁性金属膜の熱膨張の絶対値が小さくなるか
らである。
[発明の効果] この発明は上記したように、一対の強磁性酸化物からな
るコア半体の各作動ギャップ構成面側に、該強磁性酸化
物よりも飽和磁束密度の高い強磁性金属膜を結合した磁
スヘッドの製造方法において、前記コア半体となるコア
ブロックを用意し、該コアブロックの前記作動ギャップ
構成面となる側にトラック幅規制用の一刻の略■字状の
複数の溝を刻設する工程と、前記コアブロックの前記溝
を含む作動ギャップ構成面となる側に、AI2O3、S
102、Zr02、Ta2O5等の群から選ばれた1種
類からなる単層膜又は該単層膜とSi:+N4、C「、
Cu等の群から選ばれた111類からなる積層膜を付着
する工程と、前記コアブロックの前記作動ギャップ構成
面となる側の前記溝と溝の間の平面部を研磨して該平面
部における前記単層膜又は積層膜を除去すると同時にト
ラック幅規制を行う工程と、前記コアブロックの前記作
動ギャップ構成面となる側に前記強磁性金属膜の下地膜
となる酸化膜を付着する工程と、この酸化膜上に前記の
強磁性金属膜を結合して該強磁性金属膜を有する前記の
コア半体を構成する工程と、ギヤップスベーサーを介し
て一対の該コア半体をガラス溶着により互いに接合する
工程とを含むものであり、前記酸化膜による疑似キャッ
プのない磁気ヘッドが得られる。また、前記コア半体に
おける作動ギャップ構成面とは平行ではない部分に積層
膜(又は単層膜)を設けることにより、ガラス溶着時等
の熱による前記したクラックの発生を防止することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の製造方法によって製造された磁気ヘ
ッドの概略斜視図、第2図は第1図の作動ギャップの近
傍を示す概略拡大正面図、第3図は第2図の要部を示す
概略拡大正面図、第4図は第1図に示す磁気ヘッドの製
造工程を説明する模式図、第5図は第4図の工程におけ
る要部の概略拡大正面図である。 1、2:コア半体、3:作動ギャップ、4、5、17:
強磁性金属膜、6、6a,18:酸化膜、9、10,2
O:ガラス、l2:コアブロック、1 4 :V溝、 1 5 :積層膜。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一対の強磁性酸化物からなるコア半体の各作動ギ
    ャップ構成面側に、該強磁性酸化物よりも飽和磁束密度
    の高い強磁性金属膜を結合した磁気ヘッドの製造方法に
    おいて、前記コア半体となるコアブロックを用意し、該
    コアブロックの前記作動ギャップ構成面となる側にトラ
    ック幅規制用の一対の略V字状の複数の溝を刻設する工
    程と、前記コアブロックの前記溝を含む作動ギャップ構
    成面となる側に、Al_2O_3、SiO_2、ZrO
    _2、Ta_2O_5等の群から選ばれた1種類からな
    る単層膜又は該単層膜とSi_3N_4、Cr、Cu等
    の群から選ばれた1種類からなる積層膜を付着する工程
    と、前記コアブロックの前記作動ギャップ構成面となる
    側の前記溝と溝の間の平面部を研磨して該平面部におけ
    る前記単層膜又は積層膜を除去すると同時にトラック幅
    規制を行う工程と、前記コアブロックの前記作動ギャッ
    プ構成面となる側に前記強磁性金属膜の下地膜となる酸
    化膜を付着する工程と、この酸化膜上に前記の強磁性金
    属膜を結合して該強磁性金属膜を有する前記のコア半体
    を構成する工程と、ギャップスペーサーを介して一対の
    該コア半体をガラス溶着により互いに接合する工程とを
    含むことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
JP16181289A 1989-06-23 1989-06-23 磁気ヘッドの製造方法 Granted JPH0325709A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16181289A JPH0325709A (ja) 1989-06-23 1989-06-23 磁気ヘッドの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16181289A JPH0325709A (ja) 1989-06-23 1989-06-23 磁気ヘッドの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0325709A true JPH0325709A (ja) 1991-02-04
JPH0554168B2 JPH0554168B2 (ja) 1993-08-11

Family

ID=15742382

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16181289A Granted JPH0325709A (ja) 1989-06-23 1989-06-23 磁気ヘッドの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0325709A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102182457A (zh) * 2011-03-25 2011-09-14 杨景旺 采、掘机智能降尘装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102182457A (zh) * 2011-03-25 2011-09-14 杨景旺 采、掘机智能降尘装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0554168B2 (ja) 1993-08-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0325709A (ja) 磁気ヘッドの製造方法
JPS6143765B2 (ja)
JPH0325710A (ja) 磁気ヘッド及びその製造方法
JP2542946B2 (ja) 磁気ヘッド及びその製造方法
JPS63104208A (ja) 複合型磁気ヘッドとその製造方法
JPH0240113A (ja) 磁気ヘッドの製造方法
JPS63279406A (ja) 磁気ヘッド
JPH0156445B2 (ja)
JPS63108510A (ja) 磁気ヘツド
JPH03222108A (ja) 磁気ヘッド及びその製造方法
JPS6374104A (ja) 複合型磁気ヘッド及びその製造方法
JPS61110311A (ja) 磁気ヘツドの製造方法
JPH081115U (ja) 磁気ヘッド
JPH02193305A (ja) 磁気ヘッド
JPH06203323A (ja) 磁気ヘッド及びその製造方法
JPS61182616A (ja) 磁気ヘツド
JPH01245408A (ja) 磁気ヘッド及びその製造方法
JPS63288407A (ja) 磁気ヘツドの製造方法
JPS61144710A (ja) 合金磁気ヘツドの製造方法
JPH01166304A (ja) V溝を有する磁気ヘッド基板の製造方法
JPH01267808A (ja) 浮上型複合磁気ヘッドの製造方法
JPH0546920A (ja) 磁気ヘツドの製造方法
JPH04206007A (ja) 複合ヘッドおよびその製造方法
JPS63104209A (ja) 複合型磁気ヘッドとその製造方法
JPH0744846A (ja) 浮動型磁気ヘッド及びその製造方法