JPH0546920A

JPH0546920A - 磁気ヘツドの製造方法

Info

Publication number: JPH0546920A
Application number: JP20061591A
Authority: JP
Inventors: Tatsutoshi Suenaga; 辰敏末永
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1991-08-09
Filing date: 1991-08-09
Publication date: 1993-02-26

Abstract

(57)【要約】【目的】磁気ヘッドを、より低コストで高精度に製造
する事のできる製造方法を提供する。【構成】一方の半体コア１０には、巻線溝３と、軟磁
性合金薄膜６・ギャップ部材４・軟磁性合金薄膜６の多
層構造の薄膜と、トラック規制溝１６を形成し、またも
う一方の半体コア１１にもトラック規制溝１６を形成
し、両半体コアをトラック合わせをしてガラス１７によ
り接合する。その後、所定厚さに切断して、磁気ヘッド
を得る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ＶＴＲやＤＡＴまたは
ＦＤＤ等の高密度磁気録再装置に好適な磁気ヘッドの製
造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、磁気記録技術の動向は、ビデオヘ
ッド等、高周波領域での特性が要求されるに従い、最短
記録波長が１μｍ以下のシステムへ充分対応できる磁気
ヘッドおよび記録媒体が要望されている。

【０００３】そこで、より高密度記録を達成するため、
媒体においては、より高い保持力を有した純鉄系のメタ
ル媒体（ＭＰテ−プ）や垂直用媒体が開発され、その一
部はＤＡＴや８ｍｍＶＴＲ等に実用化されている。

【０００４】一方、記録再生素子である磁気ヘッドにお
いては、これら高保持力の磁性媒体や垂直媒体に安定し
た記録を行なうには、従来のVHS-VTR ヘッド等に使用さ
れているフェライトヘッドでは、前記媒体を磁化するに
充分な飽和磁束密度を有していない事が知られており、
ＭＰテ−プ等高保持力媒体の対応ヘッドには、センダス
トあるいはアモルファスといった軟磁性合金薄膜を主磁
路とする磁気ヘッドが各社で提案され、従来より高効率
な磁気ヘッドとして実用化されている。

【０００５】以下、図面を参照し従来の磁気ヘッドの製
造方法について説明する。図６は、磁気ギャップ近傍部
に数μｍの軟磁性合金薄膜を配して成る従来の磁気ヘッ
ドの製造方法を示す工程図である。

【０００６】図６（ａ）は、対で磁気ヘッドとなる第１
コア半体３９と第２コア半体４０を示すものであり、ど
ちらか一方のコア半体には所定形状の巻線溝４１加工が
施され、ギャップ材を介して対向する両コア半体の接合
界面は鏡面研磨されている（図では省略）。

【０００７】また図６（ｂ）において、前記両コア半体
は所定のトラック規制を行なうためトラック規制溝４２
を接合界面に加工され、図６（ｃ）において、前記両コ
ア半体はその接合界面にスパッタリング等の手法で軟磁
性合金薄膜４３とギャップ部材（図では省略）を等分に
所定厚被着し図６（ｄ）において、前記両コア半体はギ
ャップ部材（図では省略）を介して対接され所定の封着
温度でモ−ルドガラス４４を溶融し接合一体化しコアブ
ロック４５とする。

【０００８】その後、図６（ｅ）において、前記コアブ
ロック４５は所定のサイズに切断され（Ｘ−Ｘ平面に沿
って切断）、図６（ｆ）に示すヘッドチップ４６とな
る。

【０００９】また、図では省略するが切断されたヘッド
チップ４６は、その後、金属ベ−ス等に接着すると共に
搭載するシステムに応じた曲率に媒体との摺動面を前面
研磨し所定の巻線を完了して磁気ヘッドとして完成す
る。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】従来の磁気ヘッドプロ
セスにあっては、磁気ヘッドの民生機器搭載を考えた場
合、ヘッドの低コスト化は必須の課題であり、低コスト
化を達成するには、プロセスの簡略化による工数低減
と、歩留り向上による単価低減との方策がある。

【００１１】そして、ヘッドにおける歩留まりは、トラ
ック精度とＧａｐＬｅｎｇｔｈ（以下ＧＬと記す）精
度に代表される如く、その加工精度とコア半体の接合精
度がキ−ポイントとなる。

【００１２】本発明は、上記課題解決のため、より低コ
ストで高精度のヘッドプロセスを提供することを目的と
している。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の磁気ヘッドおよび製造方法においては、母
材となる磁性基板(一般的にはフェライト基板)の少なくとも
一方に巻線用溝加工を施し鏡面に仕上げたコア半体に、
軟磁性合金薄膜とギャップ部材および軟磁性合金薄膜を
連続的に被着することと、磁路として成立させるため前
記コア半体にアペックス加工の如き面取り加工を行った
後、トラック規制溝加工で同様のトラック規制を行った
他方のコア半体とを、接合一体化することでプロセスの
簡略化と高歩留まりの磁気ヘッドプロセスを得ようとす
るものである。

【００１４】また、トラック規制後軟磁性合金薄膜やギ
ャップ部材を被着するヘッドプロセスにおいては、トラ
ックの幅方向の両端に膜厚に依存する面ダレが生じ正確
なトラック規制が行えないという課題を有しているが、
成膜後のトラック規制と片方のコア半体に連続して成膜
する本ヘッドにおいてはトラック幅精度に優れた磁気へ
ッドを提供できる。

【００１５】

【作用】軟磁性合金薄膜およびギャップ部材を同一装置
で連続的に被着するため、不純物が混在しない磁気特性
に優れ安定した膜が得られる。

【００１６】また、ＧＬはギャップ部材の膜厚のみで規
制され、従来の如き突き合わせ条件によって生じる不安
定さを一掃できる事から、ＧＬ精度の高い磁気ヘッドが
得られる。

【００１７】

【実施例】

（実施例１）以下、本発明の一実施例について図面を用
いて説明する。

【００１８】図１（ａ）、図１（ｂ）はそれぞれ、本発
明の磁気ヘッドの製造方法により製造された磁気ヘッド
の構成を示す外観図およびギャップ近傍部のＡ矢視拡大
図である。図１（ａ）の外観図に示すように、ヘッドの
全体構成は、第１コア半体チップ１と第２コア半体チッ
プ２から成り、どちらか一方のコア半体チップには巻線
溝３を加工し（本実施例では第１コア半体チップ）、こ
れらコア半体チップの接合界面には、主磁路となる軟磁
性合金薄膜６とギャップ部材層４を連続的に被着し、モ
−ルドガラス５を所定の封着条件で溶融することにより
一対のコア半体チップは圧着接合されて磁気ヘッドとな
る。

【００１９】図１（ｂ）は、図１（ａ）のＡ矢視図であ
り、トラック部のみを拡大して示したものである。図示
の通り、第１コア半体チップ１の接合界面には、軟磁性
合金薄膜６とギャップ部材４が交互に連続的に被着され
ている。

【００２０】次に、図２、図３は１組で、図１の磁気ヘ
ッドの製造工程を示すものである。従って、図２、図３
の工程は、連続して実施されるものである。

【００２１】図２（ａ）は、略コ形状の巻線溝３を加工
した第１コア半体１０と第２コア半体１１を示し、その
接合界面１２ａ、１２ｂは鏡面に加工してある。

【００２２】その後、図２（ｂ）に示す様に、スパッタ
リング等の手法で、軟磁性合金薄膜６とギャップ部材４
を交互に連続的に前記第１コア半体１０の接合界面１２
ａに被着する。図２（ｃ）に、被着された薄膜６、４の
詳細構造を示す。

【００２３】図２（ｄ）において、磁路構成とアペック
ス規制を兼用すべく、アペックス部に面取り１５を形成
する。

【００２４】また両コア半体には、図３（ａ）におい
て、所定サイズのトラック規制をすべくトラック規制溝
１６を同時加工し、図３（ｂ）において、両コア半体は
トラックを高精度で突き合わせた後、モ−ルドガラス片
１７を巻線溝３より軟化させ充填させることで封着さ
れ、図３（ｃ）に示すコアブロック１８となる。なお、
図３（ｃ）は、図２（ｂ）を上下反転した位置関係で描
いている。

【００２５】そして、接合したコアブロック１８はＸ−
Ｘ平面に沿って切断され、図３（ｄ）に示すヘッドチッ
プ１９となる。

【００２６】尚、完成したヘッドチップ１９はその後、
図では省略するが金属ベ−スに接着され所定形状の前面
研磨、巻線等の工程を経て磁気ヘッドとして完成する。

【００２７】（実施例２）図４は、実施例１で得られる
磁気ヘッドの製造方法を加工技術的に簡略化する構成の
磁気ヘッドである。図１〜図３と同様な構成要素には、
同一符号を付して、その詳細な説明は省略する。

【００２８】図４（ａ）におけるヘッドの全体構成は、
第１コア半体チップ２０と第２コア半体チップ２１から
成り、どちらか一方のコア半体には巻線溝３を加工し
（本実施例では第１コア半体チップ）、接合界面には、
主磁路となる軟磁性合金薄膜６とギャップ部材層４をト
ラック規制後連続的に被着し、モ−ルドガラス５で封着
し磁気ヘッドとする。図４（ｂ）は、図４（ａ）のＡ矢
視の拡大詳細図である。

【００２９】ただし、主磁路となる軟磁性合金薄膜６と
ギャップ部材層４は、図４（ｂ）に示す如く形成し、前
記構成は前記巻線溝３を加工し母材をフェライト材とす
る第１コア半体チップ２０の接合界面に軟磁性合金薄膜
６とギャップ部材４を交互に連続的にスパッタリング等
の手法で被着する構造となっている。

【００３０】図５は、図４の磁気ヘッドの製造方法を示
す工程図であり、図５（ａ）は、略コ形状の巻線溝３を
加工した第１コア半体２９と第２コア半体３０を示し、
その接合界面３１ａ、３１ｂは鏡面に加工してある。

【００３１】また両コア半体は、図５（ｂ）において、
前記第１コア半体２９と第２コア半体３０には、所定サ
イズのトラック規制をすべくトラック規制溝３４を同時
加工し、その後、図５（ｃ）において、スパッタリング
等の手法で第１コア半体２９の接合界面３１ａに軟磁性
合金薄膜６とギャップ部材４を交互に連続的に被着す
る。図５（ｄ）に、被着された薄膜の詳細構造を示す。

【００３２】また、図５（ｅ）において、磁路構成とア
ペックス規制を兼用すべく、前記アペックス部に面取り
３５を加工する。

【００３３】図５（ｆ）において、前記両コア半体はト
ラックを高精度で突き合わせた後、モ−ルドガラス片１
７を巻線溝３より軟化させ充填させることで封着され、
図５（ｇ）に示すコアブロック３７となる。

【００３４】また、接合したコアブロック３７はＸ−Ｘ
平面に沿って切断され、図５（ｈ）に示すヘッドチップ
３８となる。

【００３５】尚、完成したヘッドチップ３８はその後、
実施例１と同様に仕上げられ磁気ヘッドとして完成す
る。

【００３６】

【発明の効果】以上のように、本発明は片側のコア半体
に主磁路となる軟磁性合金薄膜およびギャップ部材を連
続的に被着し磁気ヘッドとすることから、プロセス上は
安定したＧＬとトラック幅精度の高いヘツドが得られる
一方、磁気特性的にも同一装置で真空状態を維持しなが
ら軟磁性合金薄膜とギャップ部材を被着することから極
力不純物の混在しない安定した磁性膜作製が可能であ
る。

【００３７】また、コスト面でも非常に簡略化した工程
でヘッド化できるため低コスト化が容易である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気ヘッドの製造方法の第１の実施例
により製造された磁気ヘッドの構成を示す外観図

【図２】本発明の磁気ヘッドの製造方法の第１の実施例
の一部工程図

【図３】図２と併せて同実施例の製造工程の全体を示す
もので、図２に引続き実施される工程図

【図４】本発明の磁気ヘッドの製造方法の第２の実施例
により製造された磁気ヘッドの構成を示す外観図

【図５】本発明の磁気ヘッドの製造方法の第２の実施例
を示す製造工程図

【図６】磁気ヘッドの製造方法の従来例を示す製造工程
図

【符号の説明】

３巻線溝４軟磁性合金薄膜５モ−ルドガラス６ギャップ部材１０、２９第１コア半体１１、３０第２コア半体１６、３４トラック規制溝１７モ−ルドガラス片

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一対のコア半体を磁気ギャップを介して接
合すると共に磁性基板の磁気ギャップ近傍部に数μｍの
軟磁性合金薄膜を被着した構造の磁気ヘッドの製造方法
であって、前記一対のコア半体の内、巻線溝加工を施し
ギャップ面を鏡面加工した第１のコア半体に軟磁性合金
薄膜とギャップ部材を交互に３層連続被着し、前記コア
半体のアペックス部に磁路を構成すべく面取り加工を施
すと共に、所定のトラック幅規制を両コア半体に同時加
工し、磁性基板のみの第２のコア半体をギャップ面を介
し対接し所定の封着条件によって、接合一体化すること
を特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【請求項２】巻線溝加工後ギャップ面を鏡面加工し所定
のトラック幅規制をした一対のコア半体の内、巻線溝加
工した第１のコア半体に軟磁性合金薄膜とギャップ部材
を交互に３層連続被着し、前記コア半体のアペックス部
に磁路を構成すべく面取り加工を施し、磁性基板のみの
第２のコア半体をギャップ面を介し対接し所定の封着条
件によって、接合一体化することを特徴とする磁気ヘッ
ドの製造方法。
【請求項３】一対のコア半体の少なくとも一方のコア半
体に巻線用溝加工を施す工程と、前記一対のコア半体を
鏡面加工する工程と、前記巻線溝を形成した第１のコア
半体に軟磁性合金薄膜を所定厚スパッタリング等の手法
で被着する工程と、前記第１のコア半体にギャップ部材
を所定厚スパタリング等の手法で連続被着する工程と、
前記第１のコア半体にさらに軟磁性合金薄膜を所定厚ス
パッタリング等の手法で連続被着する工程と、前記一対
のコア半体に所定のトラック規制溝を加工する工程と、
前記第１のコア半体のアペックス部に面取りの如き加工
を行う工程と、前記第１のコア半体と一方の磁性基板の
みの第２コア半体をギャップ面を介し対接し、所定の封
着条件により接合一体化する工程と、前記一体化したコ
アブロックを所定形状に切断しヘッドチップとすること
を特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドの製造方法。
【請求項４】一対のコア半体の少なくとも一方のコア半
体に巻線用溝加工を施す工程と、前記一対のコア半体を
鏡面加工する工程と、前記一対のコア半体に所定のトラ
ック規制溝を加工する工程と、前記巻線溝を形成した第
１のコア半体に軟磁性合金薄膜を所定厚スパッタリング
等の手法で被着する工程と、前記第１のコア半体にギャ
ップ部材を所定厚スパッタリング等の手法で連続被着す
る工程と、前記第１のコア半体にさらに軟磁性合金薄膜
を所定厚スパッタリング等の手法で連続被着する工程
と、前記第１のコア半体のアペックス部に面取りの如き
加工を行う工程と、前記第１のコア半体と一方の磁性基
板のみの第２のコア半体をギャップ面を介し対接し、所
定の封着条件により接合一体化する工程と、前記一体化
したコアブロックを所定形状に切断しヘッドチップとす
ることを特徴とする請求項２記載の磁気ヘッドの製造方
法。
【請求項５】軟磁性合金薄膜としてＦｅを主成分とする
合金薄膜およびＣｏを主成分とする合金膜またＮｉを主
成分とする合金薄膜の何れかを用いることを特徴とする
請求項１〜４の何れかに記載の磁気ヘッドの製造方法。