JPS6371908A - 複合型録画再生用磁気ヘツド - Google Patents
複合型録画再生用磁気ヘツドInfo
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- JPS6371908A JPS6371908A JP21694186A JP21694186A JPS6371908A JP S6371908 A JPS6371908 A JP S6371908A JP 21694186 A JP21694186 A JP 21694186A JP 21694186 A JP21694186 A JP 21694186A JP S6371908 A JPS6371908 A JP S6371908A
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Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、磁性半体の突合せ部先端面に、磁性半体より
も高透磁率を有する磁性薄膜を、該磁性薄膜形成面がギ
ャップに平行となるように形成してなる複合型録画再生
用磁気ヘットに関する。
も高透磁率を有する磁性薄膜を、該磁性薄膜形成面がギ
ャップに平行となるように形成してなる複合型録画再生
用磁気ヘットに関する。
（従来の技術）
近年、高保磁力、高飽和磁束密度のメタルテープか出現
しており、該メタルテープに対する録画再生用磁気ヘッ
トとして、単結晶フェライトでなる磁性半体の突合せ面
に高透磁率を有する磁性薄膜を形成した複合型の磁気ヘ
ットが使用されて来ている。この従来の磁気ヘットは、
第４図の平面図に示すような記録媒体摺動面の構造を有
している。第４図において、１．２はフェライト等てな
る対をなす磁性半体、３，４は狭幅に形成された磁性半
体１．２の各突合せ部先端面７，８にスパッタリング等
により形成された高透磁率の磁性薄膜、５は磁性薄膜３
，４の先端面に形成されたＳｉＯ□等のＦＪ膜を突合わ
せてなる作動ギャップ、６は磁性半体１．２を一体に接
合する低融点溶着ガラス等でなる接合剤である。
しており、該メタルテープに対する録画再生用磁気ヘッ
トとして、単結晶フェライトでなる磁性半体の突合せ面
に高透磁率を有する磁性薄膜を形成した複合型の磁気ヘ
ットが使用されて来ている。この従来の磁気ヘットは、
第４図の平面図に示すような記録媒体摺動面の構造を有
している。第４図において、１．２はフェライト等てな
る対をなす磁性半体、３，４は狭幅に形成された磁性半
体１．２の各突合せ部先端面７，８にスパッタリング等
により形成された高透磁率の磁性薄膜、５は磁性薄膜３
，４の先端面に形成されたＳｉＯ□等のＦＪ膜を突合わ
せてなる作動ギャップ、６は磁性半体１．２を一体に接
合する低融点溶着ガラス等でなる接合剤である。
（発明が解決しよ°うとする問題点）
しかし、このような複合型磁気ヘッドにおいては、磁性
薄膜３．４を形成した磁性半体１．２の突合せ部先端面
（すなわち各磁性半体１．２と磁性薄膜３，４との境界
面）７．８と作動ギャップ５とがほぼ平行となり、この
ため、これらの境界面か疑似ギャップとして作用し、第
５図に示すように、境界面７．８の部分で磁界が強くな
り、このために、記録、再生効率が低下するという問題
点がある。
薄膜３．４を形成した磁性半体１．２の突合せ部先端面
（すなわち各磁性半体１．２と磁性薄膜３，４との境界
面）７．８と作動ギャップ５とがほぼ平行となり、この
ため、これらの境界面か疑似ギャップとして作用し、第
５図に示すように、境界面７．８の部分で磁界が強くな
り、このために、記録、再生効率が低下するという問題
点がある。
このような問題点を解決するため、第６図に示すように
、磁性半体１，２を加工する際に、境界面９，１０に断
面彊状の凹部を加工した例があるが、このような加工は
、ヘッドが小さい部品であるから高い加工精度を要する
上、加工工程が増加し、さらに、このような四部を加工
した場合には、磁性薄膜３．４を従来よりも厚く成膜し
なければならないという問題点かある。
、磁性半体１，２を加工する際に、境界面９，１０に断
面彊状の凹部を加工した例があるが、このような加工は
、ヘッドが小さい部品であるから高い加工精度を要する
上、加工工程が増加し、さらに、このような四部を加工
した場合には、磁性薄膜３．４を従来よりも厚く成膜し
なければならないという問題点かある。
（問題点を解決するための手段）
本発明は、上記の問題点を解決するため、磁性半体の突
合せ部先端面に、磁性半体よりも高透磁率を有する磁性
薄膜を、該磁性薄膜形成面がギャップに平行となるよう
に形成してなる複合型録画再生用磁気ヘッドにおいて、
前記磁性薄膜を形成する境界面を、表面粗さが１〜２０
ミクロンとなる粗面に形成し、該粗面上に前記磁性薄膜
を形成したことを特徴とする。
合せ部先端面に、磁性半体よりも高透磁率を有する磁性
薄膜を、該磁性薄膜形成面がギャップに平行となるよう
に形成してなる複合型録画再生用磁気ヘッドにおいて、
前記磁性薄膜を形成する境界面を、表面粗さが１〜２０
ミクロンとなる粗面に形成し、該粗面上に前記磁性薄膜
を形成したことを特徴とする。
（実施例）
以下本発明の一実施例を図面により説明する。
第１図は本発明によるｒｊｉ気ヘットの平面図である。
第１図において、１．２は対をなす磁性半体であり、フ
ェライト、パーマロイ、センダスト等のブロックでなる
。本発明においては、従来と異なり、磁性半体１．２の
突合せ部先端面１１，１２を図示のように粗面に形成す
る。そして該粗面１１．１２上にスパッタリング、蒸着
、メッキその他の薄膜形成技術により、Ｃｏ−Ｚｒ系、
Ｆｅ−Ａｌ−５ｉ系、Ｆｅ−Ｎｉ系その他の各種アモル
ファス合金膜でなる高透磁率の磁性Ｆ１ｊ膜３，４をそ
れぞれ形成し、各磁性薄膜３，４の先端面にそれぞれＳ
ｉ ０２やＡｌ２Ｏ□等でなる非磁性薄膜５ａ、５ｂ
を前記薄膜形成技術により形成し、これらの薄膜５ａ、
５ｂによって形成される作動ギャップ５等の側部を溶着
ガラス等でなる接合剤６により接合する。
ェライト、パーマロイ、センダスト等のブロックでなる
。本発明においては、従来と異なり、磁性半体１．２の
突合せ部先端面１１，１２を図示のように粗面に形成す
る。そして該粗面１１．１２上にスパッタリング、蒸着
、メッキその他の薄膜形成技術により、Ｃｏ−Ｚｒ系、
Ｆｅ−Ａｌ−５ｉ系、Ｆｅ−Ｎｉ系その他の各種アモル
ファス合金膜でなる高透磁率の磁性Ｆ１ｊ膜３，４をそ
れぞれ形成し、各磁性薄膜３，４の先端面にそれぞれＳ
ｉ ０２やＡｌ２Ｏ□等でなる非磁性薄膜５ａ、５ｂ
を前記薄膜形成技術により形成し、これらの薄膜５ａ、
５ｂによって形成される作動ギャップ５等の側部を溶着
ガラス等でなる接合剤６により接合する。
このように、磁性半体１．２と磁性ｔＩＮ３．４との境
界面１１．１２を粗面に形成すれば、第２図に示すよう
に、境界面１１．１２における磁界強度を弱め、記録、
再生効率を高め、Ｃ／Ｎ比を向上させることかできる。
界面１１．１２を粗面に形成すれば、第２図に示すよう
に、境界面１１．１２における磁界強度を弱め、記録、
再生効率を高め、Ｃ／Ｎ比を向上させることかできる。
一例として、磁性半体１．２としてＭｎ−Ｚｎ系フェラ
イトを用い、磁性ｆｌ膜３，４としてＣ。
イトを用い、磁性ｆｌ膜３，４としてＣ。
−Ｚｒ系アモルファス磁性材を用い、境界面１１．１２
をＧＣ砥粒＄８００（’ｌ’均粒径２゜ＪＬｍ）てラッ
ピングを実施し、表面粗さＲｗａｘ（表面の凹凸の高さ
の最大値）をｌｏＪＬｍとしたところ、境界面１１．１
２を鏡面に形成した場合に比較し、再生時の出力電圧を
１．５倍に増加させることができた。前記境界面１１．
１２の表面粗さＲｗａｘは、１ｇｍ以下であれば前記効
果をあげることができず、２０ｆｉＬｍ以上であれば凹
凸か深すぎて、磁性薄膜３．４を成膜する際に要する時
間か長くかかってしまう。従って、前記表面粗さＲｗａ
ｘは１．ｃｍ〜２０ＪＬｍであることか好ましい。
をＧＣ砥粒＄８００（’ｌ’均粒径２゜ＪＬｍ）てラッ
ピングを実施し、表面粗さＲｗａｘ（表面の凹凸の高さ
の最大値）をｌｏＪＬｍとしたところ、境界面１１．１
２を鏡面に形成した場合に比較し、再生時の出力電圧を
１．５倍に増加させることができた。前記境界面１１．
１２の表面粗さＲｗａｘは、１ｇｍ以下であれば前記効
果をあげることができず、２０ｆｉＬｍ以上であれば凹
凸か深すぎて、磁性薄膜３．４を成膜する際に要する時
間か長くかかってしまう。従って、前記表面粗さＲｗａ
ｘは１．ｃｍ〜２０ＪＬｍであることか好ましい。
この磁気ヘッドは第３図の工程により作ることかできる
。まず（Ａ）に示すように、例えばＭｎ−Ｚｎ系単結晶
フェライト等でなる２枚の板状ブロックＩＡ（磁性半体
ｌの材料）および板状ブロック２Ａ （ｌｉ磁性半体の
材料）の突合せ面１１Ａ、１２Ａを該ブロックＩＡ、２
Ａの切削工程蒔に砥粒によってラッピングすることによ
り、表面を粗面とする。また少なくとも一方のブロック
ＩＡの面には巻線窓形成用溝１３を切削加工により形成
する。
。まず（Ａ）に示すように、例えばＭｎ−Ｚｎ系単結晶
フェライト等でなる２枚の板状ブロックＩＡ（磁性半体
ｌの材料）および板状ブロック２Ａ （ｌｉ磁性半体の
材料）の突合せ面１１Ａ、１２Ａを該ブロックＩＡ、２
Ａの切削工程蒔に砥粒によってラッピングすることによ
り、表面を粗面とする。また少なくとも一方のブロック
ＩＡの面には巻線窓形成用溝１３を切削加工により形成
する。
次に（Ｂ）、（Ｃ）に示すように、粗面１１Ａ、１２Ａ
上に磁性薄膜３Ａ、４Ａを前記薄膜形成技術により形成
する。
上に磁性薄膜３Ａ、４Ａを前記薄膜形成技術により形成
する。
次に（Ｄ）、（Ｅ）に示すように、ブロックＩＡ、２Ａ
に接合剤充填用の複数条のＵ字形（■字形であってもよ
い。）溝１４を切削加工により形成する。
に接合剤充填用の複数条のＵ字形（■字形であってもよ
い。）溝１４を切削加工により形成する。
次に（Ｆ）に示すように、前記溝１４および磁性薄膜３
Ａ、４Ａを覆うように、溶着ガラス６を充填し、冷却固
化させた後、線１５に示す部分まで研磨して磁性薄膜３
Ａ、４Ａの面出しを行ない、鏡面を形成し、続いて（Ｇ
）に示すように。
Ａ、４Ａを覆うように、溶着ガラス６を充填し、冷却固
化させた後、線１５に示す部分まで研磨して磁性薄膜３
Ａ、４Ａの面出しを行ない、鏡面を形成し、続いて（Ｇ
）に示すように。
鏡面に形成した薄膜３Ａ、４Ａ）ｚにギャップ形成膜５
ａ、５ｂをスパッタリング等により形成する。
ａ、５ｂをスパッタリング等により形成する。
次に（Ｈ）に示すように、両ブロックＩＡ、２Ａを重ね
、加熱して溶着ガラス６を溶着させて一体化し、線１６
に沿って切断することにより、各コアピースを得、組立
てを行なうことにより完成する。
、加熱して溶着ガラス６を溶着させて一体化し、線１６
に沿って切断することにより、各コアピースを得、組立
てを行なうことにより完成する。
（発明の効果）
以上述べたように、本発明においては、磁性半体の突合
せ部と磁性薄膜との境界面を１ミクロンないし２０ミク
ロンの表面粗さを有する粗面に形成したのて、磁気ヘッ
ドの記録、再生効率が向上すると共に、Ｃ／Ｎ比を向上
させることができる。また、前記境界面を鏡面形成に代
えて粗面に形成することはラッピングにより行なえ、凹
部を切削加工する場合に比較し、加工精度を要すること
なく、極めて容易であり、工程を増加させることなく安
価に実施てきる。
せ部と磁性薄膜との境界面を１ミクロンないし２０ミク
ロンの表面粗さを有する粗面に形成したのて、磁気ヘッ
ドの記録、再生効率が向上すると共に、Ｃ／Ｎ比を向上
させることができる。また、前記境界面を鏡面形成に代
えて粗面に形成することはラッピングにより行なえ、凹
部を切削加工する場合に比較し、加工精度を要すること
なく、極めて容易であり、工程を増加させることなく安
価に実施てきる。
第１図は本発明による磁気ヘットの一実施例を示す平面
図、第２図は該実施例のヘッド部位と磁界強度との関係
図、第３図（Ａ）〜（Ｈ）は該実施例の製造工程を説明
する図、第４図は従来の磁気ヘットを示す平面図、第５
図は該従来例のヘット部位と磁界強度との関係図、第６
図は従来の磁気ヘッドの他の例を示す平面図である。
図、第２図は該実施例のヘッド部位と磁界強度との関係
図、第３図（Ａ）〜（Ｈ）は該実施例の製造工程を説明
する図、第４図は従来の磁気ヘットを示す平面図、第５
図は該従来例のヘット部位と磁界強度との関係図、第６
図は従来の磁気ヘッドの他の例を示す平面図である。
Claims (1)
- 磁性半体の突合せ部先端面に、磁性半体よりも高透磁率
を有する磁性薄膜を、該磁性薄膜形成面がギャップに平
行となるように形成してなる複合型録画再生用磁気ヘッ
ドにおいて、前記磁性薄膜を形成する境界面を、表面粗
さか１〜２０ミクロンとなる粗面に形成し、該粗面上に
前記磁性薄膜を形成したことを特徴とする複合型録画再
生用磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21694186A JPS6371908A (ja) | 1986-09-15 | 1986-09-15 | 複合型録画再生用磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21694186A JPS6371908A (ja) | 1986-09-15 | 1986-09-15 | 複合型録画再生用磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6371908A true JPS6371908A (ja) | 1988-04-01 |
Family
ID=16696331
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21694186A Pending JPS6371908A (ja) | 1986-09-15 | 1986-09-15 | 複合型録画再生用磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6371908A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02183407A (ja) * | 1989-01-10 | 1990-07-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁器ヘッド及びその製造方法 |
| JPH0384905U (ja) * | 1989-12-12 | 1991-08-28 |
-
1986
- 1986-09-15 JP JP21694186A patent/JPS6371908A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02183407A (ja) * | 1989-01-10 | 1990-07-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁器ヘッド及びその製造方法 |
| JPH0384905U (ja) * | 1989-12-12 | 1991-08-28 |
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