JPS6295710A - 複合磁気ヘツド - Google Patents
複合磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS6295710A JPS6295710A JP23611385A JP23611385A JPS6295710A JP S6295710 A JPS6295710 A JP S6295710A JP 23611385 A JP23611385 A JP 23611385A JP 23611385 A JP23611385 A JP 23611385A JP S6295710 A JPS6295710 A JP S6295710A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- layer
- gap
- core
- head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、ビデオテープレフーグなどの磁気記録／再生
装置に用いられる複合磁気へ・／ド１こ関°ｒる。
装置に用いられる複合磁気へ・／ド１こ関°ｒる。
背景技術
近年の高密度記録システムの発展に伴なって、磁気テー
プに高抗磁力（Ｈｃ＝ １５００エルステッド）の合金
磁性粉を塗布したいわゆるメタルテープが使用されつつ
ある。このようなメタルテープを用いると、従来の単結
晶フェライトのみから成る磁気記録／再生ヘッドでは、
磁束密度が不足し、このため磁気飽和による記録／再生
ができず、メタルテープの性能を充分に生かし切れない
という問題がある。
プに高抗磁力（Ｈｃ＝ １５００エルステッド）の合金
磁性粉を塗布したいわゆるメタルテープが使用されつつ
ある。このようなメタルテープを用いると、従来の単結
晶フェライトのみから成る磁気記録／再生ヘッドでは、
磁束密度が不足し、このため磁気飽和による記録／再生
ができず、メタルテープの性能を充分に生かし切れない
という問題がある。
そこで第１３図に示されるような複合磁気ヘッド１が考
案されている。この複合磁気へラド１は、チップ状のヘ
ッドコア２と、ヘッドコア２に巻回されるフィル（図示
せず）とを含み、ヘッドコア２は、一対のコア半体３と
、コア半体３内に形成される磁性層４とを含む。コア牛
体３は、単結晶フェライトから成り、ギャップ９を跨ぐ
磁気経路７を形成する。各コア半体３は、高融点ガラス
８によって相互に溶着され・る。磁性層４は、単結晶フ
ェライトよりも飽和磁束密度が高いセンダスト合金（Ｆ
ｅ−ＡＡ！’−８ｉ合金）から成り、トラック幅と等し
い膜厚を有する。磁性層４をコア半体３内にそれぞれ形
成することによって、磁束密度の不足が解消され、これ
によってメタルテープの性能を十分に生かし切ることが
でき、記録効率の向上を図ることができる。
案されている。この複合磁気へラド１は、チップ状のヘ
ッドコア２と、ヘッドコア２に巻回されるフィル（図示
せず）とを含み、ヘッドコア２は、一対のコア半体３と
、コア半体３内に形成される磁性層４とを含む。コア牛
体３は、単結晶フェライトから成り、ギャップ９を跨ぐ
磁気経路７を形成する。各コア半体３は、高融点ガラス
８によって相互に溶着され・る。磁性層４は、単結晶フ
ェライトよりも飽和磁束密度が高いセンダスト合金（Ｆ
ｅ−ＡＡ！’−８ｉ合金）から成り、トラック幅と等し
い膜厚を有する。磁性層４をコア半体３内にそれぞれ形
成することによって、磁束密度の不足が解消され、これ
によってメタルテープの性能を十分に生かし切ることが
でき、記録効率の向上を図ることができる。
発明が解決しようとする問題点
このような先行技術では、磁性層４をコア半体３．４内
にそれぞれ形成するにあたっては、スパッタリング法に
より磁性層４をトラック幅と等しい厚みに形成する必要
があり、このためスパッタリングに時間がかかり、極め
て生産効率に劣ることとなる。
にそれぞれ形成するにあたっては、スパッタリング法に
より磁性層４をトラック幅と等しい厚みに形成する必要
があり、このためスパッタリングに時間がかかり、極め
て生産効率に劣ることとなる。
本発明の目的は、上述の技術的課題を解決し、スパッタ
リング時間を短縮化し、これによって生産効率の向上を
図ることができるようにした複合磁気ヘッドを提供する
ことである。
リング時間を短縮化し、これによって生産効率の向上を
図ることができるようにした複合磁気ヘッドを提供する
ことである。
問題点を解決するだめの手段
本発明は、一定のギャップを有し、このギャップを跨ぐ
磁気経路が形成されるヘッドコアと、前記ヘッドコア内
に形成され、ヘッドコアの材料よりも飽和磁束密度が大
きい材料から成る複数の磁性層とを含み、 前記磁性層は、ギャップの近傍位置で、ギャップの長手
方向に交差して形成されていることを特徴とする複合磁
気ヘッドである。
磁気経路が形成されるヘッドコアと、前記ヘッドコア内
に形成され、ヘッドコアの材料よりも飽和磁束密度が大
きい材料から成る複数の磁性層とを含み、 前記磁性層は、ギャップの近傍位置で、ギャップの長手
方向に交差して形成されていることを特徴とする複合磁
気ヘッドである。
作 用
本発明に従えば、一定のギャップを有するヘッドコア内
に、ヘッドコアの材料よりも飽和磁束密度が大きい材料
から成る複数の磁性層を形成し、この磁性層を、ギャッ
プの近傍位置で、ギャップの長手方向に交差して形成す
るようにしたので、磁性層の膜厚はトラック幅よりも少
ない膜厚ですみ、スパッタリングに要する時間の短縮化
を図ることができる。
に、ヘッドコアの材料よりも飽和磁束密度が大きい材料
から成る複数の磁性層を形成し、この磁性層を、ギャッ
プの近傍位置で、ギャップの長手方向に交差して形成す
るようにしたので、磁性層の膜厚はトラック幅よりも少
ない膜厚ですみ、スパッタリングに要する時間の短縮化
を図ることができる。
実施例
第１図は、本発明の一実施例の斜視図である。
本発明に従う複合磁気へラド１５は、基本的には、一定
のギャップ１６を有するヘッドコア２２と、ヘッドコア
２２内にそれぞれ形成され、ヘッドコア２２の材料より
も飽和磁束密度が大きい材料から成る一対の磁性層１７
とを含む。ヘッドコア２２は、一対のコア半休１８によ
って構成される。
のギャップ１６を有するヘッドコア２２と、ヘッドコア
２２内にそれぞれ形成され、ヘッドコア２２の材料より
も飽和磁束密度が大きい材料から成る一対の磁性層１７
とを含む。ヘッドコア２２は、一対のコア半休１８によ
って構成される。
コア半休１８は、単結晶７エライトから成り、ギャップ
１６を跨ぐ磁気経路１４を形成する。各コア半休１８は
、高融点ガラス２５によって相互に溶着される。コア半
休１８には、凹溝２３，２４がそれぞれ形成されており
、この凹！２３．２４にコイル（図示せず）が巻回され
る。
１６を跨ぐ磁気経路１４を形成する。各コア半休１８は
、高融点ガラス２５によって相互に溶着される。コア半
休１８には、凹溝２３，２４がそれぞれ形成されており
、この凹！２３．２４にコイル（図示せず）が巻回され
る。
磁性層１７は、単結晶７エライトよりも飽和磁束密度が
高いセンダスト合金あるいはアモルファス合金などから
成り、トラック幅Ｍに対して一定の膜厚Ｎ（＝Ｍ／２）
をそれぞれ有する。この磁性層１７は、ヘッドコア２２
の摺動面３４からその反対側の面３５に亘ってそれぞれ
延びており、その軸直角断面はＶ字状に形成される。こ
の磁性層１７は、ギャップ１６の近傍位置においでＸ字
状に交差するようにその各頂部が相互に突き合わされて
いる。これによって後述するように、ギャップ１６の近
傍位置における磁性Ｗｉ１７の総膜Ｉｒ！、２Ｎを、ト
ラック幅Ｍと等しくすることができる。
高いセンダスト合金あるいはアモルファス合金などから
成り、トラック幅Ｍに対して一定の膜厚Ｎ（＝Ｍ／２）
をそれぞれ有する。この磁性層１７は、ヘッドコア２２
の摺動面３４からその反対側の面３５に亘ってそれぞれ
延びており、その軸直角断面はＶ字状に形成される。こ
の磁性層１７は、ギャップ１６の近傍位置においでＸ字
状に交差するようにその各頂部が相互に突き合わされて
いる。これによって後述するように、ギャップ１６の近
傍位置における磁性Ｗｉ１７の総膜Ｉｒ！、２Ｎを、ト
ラック幅Ｍと等しくすることができる。
第２図〜第１２図を参照して、本発明に従う複合磁気ヘ
ッド１５の製造過程を説明する。まず第２図に示される
単結晶フェライトから成るブロック状のコア半水２Ｇを
準備する。次にコア半休２Ｇの両側面２７．２８に第３
図で示されるフィル用の凹溝２３ａ、２４を形成し、一
方の側面２７に鏡面研磨を施こす。次に第４図に示され
るように、その側面２７に、軸直角断面がＶ字状である
Ｖ溝２９を複数個（本実施例では４本）形成する。これ
ら■溝２９は、前記凹溝２３ａと直交する方向に延び、
かっ凹溝２３ａの長手方向（第４図の左右方向）に相互
に隣接して形成される。この■溝２９の各頂部３０は、
側面２７と同一面内に形成され、また各谷部３１は、凹
溝２３ａを含む面よりも下方、すなわちコア半休２６の
深さ方向（第４図の下方）に達するように形成される。
ッド１５の製造過程を説明する。まず第２図に示される
単結晶フェライトから成るブロック状のコア半水２Ｇを
準備する。次にコア半休２Ｇの両側面２７．２８に第３
図で示されるフィル用の凹溝２３ａ、２４を形成し、一
方の側面２７に鏡面研磨を施こす。次に第４図に示され
るように、その側面２７に、軸直角断面がＶ字状である
Ｖ溝２９を複数個（本実施例では４本）形成する。これ
ら■溝２９は、前記凹溝２３ａと直交する方向に延び、
かっ凹溝２３ａの長手方向（第４図の左右方向）に相互
に隣接して形成される。この■溝２９の各頂部３０は、
側面２７と同一面内に形成され、また各谷部３１は、凹
溝２３ａを含む面よりも下方、すなわちコア半休２６の
深さ方向（第４図の下方）に達するように形成される。
側面２７に前述のように鏡面研磨を施こすことによって
、Ｖ溝２９を容易に形成することができる。
、Ｖ溝２９を容易に形成することができる。
次に、凹溝２３ａおよびＶ２苺２９の全表面を充分にク
リーニングし、次に第５図で示されるように、凹溝２３
ａおよび■溝２９の全表面に亘って、センダスト合金か
ら成る磁性１１７を形成する。
リーニングし、次に第５図で示されるように、凹溝２３
ａおよび■溝２９の全表面に亘って、センダスト合金か
ら成る磁性１１７を形成する。
このセンダスト合金は、スパッタリングなどの薄膜技術
を用いて一定の膜厚Ｎたとえば７．５μ噛となるように
形成する。次に、第６図に示されるように、磁性Ｎ１７
の全表面に亘って高融点ガラス３２を過剰に埋め込む。
を用いて一定の膜厚Ｎたとえば７．５μ噛となるように
形成する。次に、第６図に示されるように、磁性Ｎ１７
の全表面に亘って高融点ガラス３２を過剰に埋め込む。
次に第７図で示されるように、余分な高融点〃ラス３２
をガラス研磨によって取り除き、コア半休２６のギャッ
プ形成面３３を形成する。このときＶ字状の磁性層１７
の各頂部における幅りが、トラック幅Ｍたとえば１５μ
諭と等しくなるように鏡面研磨によって注意深く研磨す
る。このときの研磨面の仕上がり精度は、約１００Å以
下の面粗さを目差す。
をガラス研磨によって取り除き、コア半休２６のギャッ
プ形成面３３を形成する。このときＶ字状の磁性層１７
の各頂部における幅りが、トラック幅Ｍたとえば１５μ
諭と等しくなるように鏡面研磨によって注意深く研磨す
る。このときの研磨面の仕上がり精度は、約１００Å以
下の面粗さを目差す。
次にコア半休２６のギャップ形成面３３に、第８図で示
されるように、ガラス研磨によってフィル用の凹溝２３
を、前記凹溝２３ａ上に形成する。
されるように、ガラス研磨によってフィル用の凹溝２３
を、前記凹溝２３ａ上に形成する。
次に、第９図で示されるように、凹溝２３を除いたギャ
ップ形成面３３の全表面に亘って、スパッタリングなど
によって酸化珪素（Ｓ ｉｏ ２）から成る非磁性ＮＪ
３７を約２５００〜３５００人程度の薄膜状に形成する
。
ップ形成面３３の全表面に亘って、スパッタリングなど
によって酸化珪素（Ｓ ｉｏ ２）から成る非磁性ＮＪ
３７を約２５００〜３５００人程度の薄膜状に形成する
。
このように磁性層１７が形成されるブロック状のコア半
休２６を２個作成した後、第１０図に示されるように、
前記非磁性層３７を介して各ギャップ形成面３３を突き
合わせた状態で、２個のコア半休２６を相互にガラス溶
融によって固着する。
休２６を２個作成した後、第１０図に示されるように、
前記非磁性層３７を介して各ギャップ形成面３３を突き
合わせた状態で、２個のコア半休２６を相互にガラス溶
融によって固着する。
このときＶ字状の磁性層１７の各頂部が相互に対向して
、摺動面３４において磁性層１７がＸ字状に交差するよ
うに位置決めする。これによって磁性Ｎ１７の幅Ｌ（＝
トラフ２幅Ｍ）と等しい長さを有するギャップ１６を得
ることができる。
、摺動面３４において磁性層１７がＸ字状に交差するよ
うに位置決めする。これによって磁性Ｎ１７の幅Ｌ（＝
トラフ２幅Ｍ）と等しい長さを有するギャップ１６を得
ることができる。
その後、第１１図で示されるｑｗＩＩ部３８に沿ってス
ライシングを行なうことによって、第１２図で示される
チップ状の複合磁気へラド１５を量産することができる
。
ライシングを行なうことによって、第１２図で示される
チップ状の複合磁気へラド１５を量産することができる
。
このように磁性層１７の軸直角断面をＶ字状にに形成し
、その頂部をトラック幅Ｍと等しい幅に研磨し、これら
頂部を相互に突き合わせるようにしたので、各磁性層１
７の膜厚Ｎはトラック幅Ｍの約２分の１で足りることと
なり、この結果スパッタリングに要する時間が半分で済
むこととなる。
、その頂部をトラック幅Ｍと等しい幅に研磨し、これら
頂部を相互に突き合わせるようにしたので、各磁性層１
７の膜厚Ｎはトラック幅Ｍの約２分の１で足りることと
なり、この結果スパッタリングに要する時間が半分で済
むこととなる。
本発明者の実験によれば、トラック幅Ｍがたとえば１５
μ鴫であるとき、１５μＩの膜厚を有する磁性層１７を
得るために水平面に対して垂直方向に５００人／分の速
度でスパッタリングを行なった場合、約５時開栓度の連
続スパッタリングを必要とする。さらに本実施例のよう
に約４５度傾斜したＶ溝２９の傾斜面に対しては、ＪＴ
ｆ、１の約７時間の連続スパッタリングが必要となる。
μ鴫であるとき、１５μＩの膜厚を有する磁性層１７を
得るために水平面に対して垂直方向に５００人／分の速
度でスパッタリングを行なった場合、約５時開栓度の連
続スパッタリングを必要とする。さらに本実施例のよう
に約４５度傾斜したＶ溝２９の傾斜面に対しては、ＪＴ
ｆ、１の約７時間の連続スパッタリングが必要となる。
しかしながら本発明においては、トラック幅Ｍの約１７
２の膜厚Ｎすなわち７．５μｍの磁性層１７をそれぞれ
形成し、ギャップ１６イ」近において相互に交差させて
膜厚Ｎを２倍にするようにしたので、スパッタリングに
要する時間は、従来の７時間の半分の約３．５時間で足
りることとなる。したがってスパッタリング時間の短縮
化を図ることができ、これによって生産効率の向上を図
ることができる。
２の膜厚Ｎすなわち７．５μｍの磁性層１７をそれぞれ
形成し、ギャップ１６イ」近において相互に交差させて
膜厚Ｎを２倍にするようにしたので、スパッタリングに
要する時間は、従来の７時間の半分の約３．５時間で足
りることとなる。したがってスパッタリング時間の短縮
化を図ることができ、これによって生産効率の向上を図
ることができる。
コア半体２６の側面２６上に形成されるＶ溝２９の数は
、前記実施例のように４本に限定されない。またトラッ
ク幅Ｍは、１５μ鴫以上または以下であってもよく、こ
のトラック幅Ｍに応じて磁性Ｊｒ！１１７の幅Ｎ（＝Ｍ
／２）を選ぶようにすればより１ 。
、前記実施例のように４本に限定されない。またトラッ
ク幅Ｍは、１５μ鴫以上または以下であってもよく、こ
のトラック幅Ｍに応じて磁性Ｊｒ！１１７の幅Ｎ（＝Ｍ
／２）を選ぶようにすればより１ 。
効 果
以上のように本発明によれば、一定のギャップを有する
ヘッドファ内に、ヘッドコアの材料よりも飽和磁束密度
が大きい材料から成る複数の磁性層を、ギャップの近傍
位置で、ギャップの長手方向に交差して形成するように
したので、磁性層はトラック幅よりも少ない膜厚で足り
、これによって磁性層の形成に要する時間の短縮化を図
ることができる。
ヘッドファ内に、ヘッドコアの材料よりも飽和磁束密度
が大きい材料から成る複数の磁性層を、ギャップの近傍
位置で、ギャップの長手方向に交差して形成するように
したので、磁性層はトラック幅よりも少ない膜厚で足り
、これによって磁性層の形成に要する時間の短縮化を図
ることができる。
第１図は本発明に従う複合磁気へラド１５の斜視図、第
２図はブロック状のコア半休２６の斜視図、第３図は凹
溝２３の形成状態を示す図、第４図はＶ溝２９の形晟状
態を示す図、第５図は磁性層１７の形成状態を示す図、
ＰＩＳ６図は高融、α〃クラス２の形成状態を示す図、
第７図はギャップ形成面３３の形成状態を示す図、第８
図は凹溝２３の形成状態を示す図、第９図は非磁性／ｌ
［ｆｆ３７の形成状態を示す図、第１０図は２個のコア
牛体２６を重ね合わせた状態を示す図、第１１図はスラ
イシング加工を施す状態を示す図、＠１２図はチップ状
複合磁気ヘッド１５の斜視図、第１３図は先行技術の複
合磁気へラド１の斜視図である。 １．１５・・・複合磁気ヘッド、２．２２・・・ヘッド
コア、３，１８・・・コア半休、５，１７・・・磁性層
、９゜１６・・・ギャップ、２９・・・■溝、３３・・
・ギャップ形成面 代理人 弁理士 西教 圭一部 第１図 第６図 第７図 第８図 第９図
２図はブロック状のコア半休２６の斜視図、第３図は凹
溝２３の形成状態を示す図、第４図はＶ溝２９の形晟状
態を示す図、第５図は磁性層１７の形成状態を示す図、
ＰＩＳ６図は高融、α〃クラス２の形成状態を示す図、
第７図はギャップ形成面３３の形成状態を示す図、第８
図は凹溝２３の形成状態を示す図、第９図は非磁性／ｌ
［ｆｆ３７の形成状態を示す図、第１０図は２個のコア
牛体２６を重ね合わせた状態を示す図、第１１図はスラ
イシング加工を施す状態を示す図、＠１２図はチップ状
複合磁気ヘッド１５の斜視図、第１３図は先行技術の複
合磁気へラド１の斜視図である。 １．１５・・・複合磁気ヘッド、２．２２・・・ヘッド
コア、３，１８・・・コア半休、５，１７・・・磁性層
、９゜１６・・・ギャップ、２９・・・■溝、３３・・
・ギャップ形成面 代理人 弁理士 西教 圭一部 第１図 第６図 第７図 第８図 第９図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一定のギャップを有し、このギャップを跨ぐ磁気経路が
形成されるヘッドコアと、 前記ヘッドコア内に形成され、ヘッドコアの材料よりも
飽和磁束密度が大きい材料から成る複数の磁性層とを含
み、 前記磁性層は、ギャップの近傍位置で、ギャップの長手
方向に交差して形成されていることを特徴とする複合磁
気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23611385A JPS6295710A (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | 複合磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23611385A JPS6295710A (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | 複合磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6295710A true JPS6295710A (ja) | 1987-05-02 |
Family
ID=16995929
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23611385A Pending JPS6295710A (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | 複合磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6295710A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01189006A (ja) * | 1988-01-22 | 1989-07-28 | Nec Kansai Ltd | 磁気ヘッドの製造方法 |
-
1985
- 1985-10-21 JP JP23611385A patent/JPS6295710A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01189006A (ja) * | 1988-01-22 | 1989-07-28 | Nec Kansai Ltd | 磁気ヘッドの製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6295710A (ja) | 複合磁気ヘツド | |
| US4731299A (en) | Composite magnetic material | |
| JP2900635B2 (ja) | 複合型磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS62222412A (ja) | 磁気ヘツド及びその製造方法 | |
| JPS59203210A (ja) | 磁気コアおよびその製造方法 | |
| KR100193623B1 (ko) | 자기헤드와 그의 제조방법 | |
| JPH0352114A (ja) | 浮上型磁気ヘッド | |
| JPS6371908A (ja) | 複合型録画再生用磁気ヘツド | |
| JPH0227506A (ja) | 複合型磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JPH05342522A (ja) | 磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPS63104208A (ja) | 複合型磁気ヘッドとその製造方法 | |
| JPS63288407A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPS6288112A (ja) | 再生出力の安定な浮上型磁気ヘツド | |
| JPH03238605A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPS61289512A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPS6139907A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JPH0553006B2 (ja) | ||
| JPH02132612A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH03120605A (ja) | 浮動型磁気ヘッド | |
| JPH04129005A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPS63112813A (ja) | 複合磁気ヘツド及びその製法 | |
| JPS6050705A (ja) | 磁気ヘツド及びその製造方法 | |
| JPS6342007A (ja) | 複合型磁気ヘツド | |
| JPS63164010A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH02239409A (ja) | 磁気ヘッド |