JPS62145515A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS62145515A JPS62145515A JP28643785A JP28643785A JPS62145515A JP S62145515 A JPS62145515 A JP S62145515A JP 28643785 A JP28643785 A JP 28643785A JP 28643785 A JP28643785 A JP 28643785A JP S62145515 A JPS62145515 A JP S62145515A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- core
- magnetic
- soft magnetic
- film
- glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/21—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features the pole pieces being of ferrous sheet metal or other magnetic layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は高密度記録型磁気ヘッドの構造に関する。
本発明は高密度記鎌型磁気ヘッドの構造において、高透
磁率酸化物磁性材料にて形成した磁気ヘッドコアーの媒
体摺動面側に軟磁性金属膜を非磁性層と共に積層するこ
とにより磁気ギャップ全形成する構造としたことにより
、従来のギヤップボンデイングエ８を無くシ、アらゆる
軟磁性金属膜をガラス融着等の高温プロセスを用いずに
精度良いギャップ部を維持しつつ磁気ヘッドとして形成
出来るようにしたものである。
磁率酸化物磁性材料にて形成した磁気ヘッドコアーの媒
体摺動面側に軟磁性金属膜を非磁性層と共に積層するこ
とにより磁気ギャップ全形成する構造としたことにより
、従来のギヤップボンデイングエ８を無くシ、アらゆる
軟磁性金属膜をガラス融着等の高温プロセスを用いずに
精度良いギャップ部を維持しつつ磁気ヘッドとして形成
出来るようにしたものである。
最近磁気記録の高密度化に伴ない高抗磁力媒体（例えは
メタル塗布媒体は抗磁力Ｈｃ ＝ １４００エルステツ
ド）の登場によ）高飽和磁束密度（ＢＳが媒体のＨｃの
５〜６倍）材料による磁気ヘッドが出現している。主た
るものとしては、ニッケル・鉄合金（Ｎ ｉ −Ｆ ｅ
）のパーマロイ、鉄、シリコン、アルミ三元合金（Ｆ
ｅ−８ｉ −Ａｌ ）のセンダスト、鉄（Ｆｅ）もしく
はコバルト（Ｃｏ）系アモルファスなどが高Ｂｓ材料と
してあげられる。１／２インチＶＴＲ用ヘッドとして広
く用いられているフェライト材料は酸化物磁性体のため
材料のもつ電気比抵抗ρが１以上と高いのであるが、前
述の軟磁性金属材料はρが１０−５以下と非常に低い為
に高周波での渦電流損失が発生する点に問題があり、実
開昭６０−２６６０９等のごとくフェライト材と金属磁
性膜とを複合した磁気ヘッドが提案されている。第２図
が複合材を用いた磁気ヘッドである。
メタル塗布媒体は抗磁力Ｈｃ ＝ １４００エルステツ
ド）の登場によ）高飽和磁束密度（ＢＳが媒体のＨｃの
５〜６倍）材料による磁気ヘッドが出現している。主た
るものとしては、ニッケル・鉄合金（Ｎ ｉ −Ｆ ｅ
）のパーマロイ、鉄、シリコン、アルミ三元合金（Ｆ
ｅ−８ｉ −Ａｌ ）のセンダスト、鉄（Ｆｅ）もしく
はコバルト（Ｃｏ）系アモルファスなどが高Ｂｓ材料と
してあげられる。１／２インチＶＴＲ用ヘッドとして広
く用いられているフェライト材料は酸化物磁性体のため
材料のもつ電気比抵抗ρが１以上と高いのであるが、前
述の軟磁性金属材料はρが１０−５以下と非常に低い為
に高周波での渦電流損失が発生する点に問題があり、実
開昭６０−２６６０９等のごとくフェライト材と金属磁
性膜とを複合した磁気ヘッドが提案されている。第２図
が複合材を用いた磁気ヘッドである。
フェライト板２０に軟磁性金属膜２６を挾持した材料を
用い、２１エコアと２２Ｃコアに加工しギャップ突合せ
面２５を鏡面仕上し５ｉＯｚ−等の非磁性膜を形成した
後、■コア２１とＣコア２２を突合せ融着するという製
法が一般的である。また、フェライト材と軟磁性金属膜
の複合材を用いた別の従来例としては、第３図に示すＭ
Ｉ Ｇ （メタルイン・ギャップ）タイプがある。こ
の磁気ヘッドは、フェライトのエコア３１とＣコア５２
の突合せ面を鏡面仕上した後軟磁性金属膜３３．３５及
び非磁性膜３４を蓋積もしくはスパッタにて形成し、突
合せ融着するというものである。これらの磁気ヘッドは
いずれもキャップ近傍が高Ｂｓ材料である軟磁性金属膜
にて形成されているため前述の高Ｈｃ媒体であるメタル
塗布媒体等に磁気記録する事が可能である。また、いず
れも軟磁性金属を薄膜として用いる為に高周波域での透
磁率の劣化が少いので高密度記録に適している。
用い、２１エコアと２２Ｃコアに加工しギャップ突合せ
面２５を鏡面仕上し５ｉＯｚ−等の非磁性膜を形成した
後、■コア２１とＣコア２２を突合せ融着するという製
法が一般的である。また、フェライト材と軟磁性金属膜
の複合材を用いた別の従来例としては、第３図に示すＭ
Ｉ Ｇ （メタルイン・ギャップ）タイプがある。こ
の磁気ヘッドは、フェライトのエコア３１とＣコア５２
の突合せ面を鏡面仕上した後軟磁性金属膜３３．３５及
び非磁性膜３４を蓋積もしくはスパッタにて形成し、突
合せ融着するというものである。これらの磁気ヘッドは
いずれもキャップ近傍が高Ｂｓ材料である軟磁性金属膜
にて形成されているため前述の高Ｈｃ媒体であるメタル
塗布媒体等に磁気記録する事が可能である。また、いず
れも軟磁性金属を薄膜として用いる為に高周波域での透
磁率の劣化が少いので高密度記録に適している。
しかし、前述の従来技術では、いずれのタイプにてもエ
コアとＣコアの突合せ融着が軟磁性膜形成後に行われる
ため多くの問題が発生する。第一に、融着時の熱工程に
よる軟磁性膜の劣化がめげられる。磁気ヘッドは耐久性
が非常に重視される為に、融着はカラスボンディングが
用いられる。
コアとＣコアの突合せ融着が軟磁性膜形成後に行われる
ため多くの問題が発生する。第一に、融着時の熱工程に
よる軟磁性膜の劣化がめげられる。磁気ヘッドは耐久性
が非常に重視される為に、融着はカラスボンディングが
用いられる。
融着ガラスは作業温度（融着時にワークにかける温度）
が３００℃〜９００℃程度１であるが、一般に高融点に
なる程強度がある。ところが、軟磁性金属膜は酸化され
やすく、またアモルファス等のように熱工程によシ結晶
化してしまうものがある為に、本来の特性がヘッド完成
時に出ない場合が多い。第二に、同じく突合せ融着時の
融着ガラスと軟磁性金属膜とのぬれ性の問題がある。本
来ガラスボンディングは酸化物磁性材であるフェライト
の融着用として様々な融点のガラスが開発されてきたも
ので、ガラスと７エライトは相互拡散作用の結果非常に
強固に接合される。ところが金属に対してガラスは拡散
しないため、ぬれ性、接合強度は非常に弱く、例えばセ
ンダスト材の接合には銀ろう溶着等が用いられるなどし
ていた。その為、ガラス融着を用いる場合には、金属膜
への酸化物コーティング等が必要であり、特にフェライ
トと複合してヘッドを製造する場合強度上の大きな問題
が残る。第三にトラックずれの問題がある。■コアとＣ
コアは突合せ融着時には棒状になっており、突合せ融着
後ヘツド単品に切断される。通常一本の突合せ済みコア
から数十枚のベッドチップがスライスされる。ところが
、突合せ融着時にエバー（棒状のエコア）とＣバー（棒
状のＣコア）の位置合わせが必要なので、治具や顕微鏡
等を用いて行い、棒状の融着ガラスをセットするなどし
て融着炉に投入するという手順のなかで、エバーとＣバ
ーの相対位置ずれが発生し、単品スライス時にはヘッド
のトラックすれとなって現われる。
が３００℃〜９００℃程度１であるが、一般に高融点に
なる程強度がある。ところが、軟磁性金属膜は酸化され
やすく、またアモルファス等のように熱工程によシ結晶
化してしまうものがある為に、本来の特性がヘッド完成
時に出ない場合が多い。第二に、同じく突合せ融着時の
融着ガラスと軟磁性金属膜とのぬれ性の問題がある。本
来ガラスボンディングは酸化物磁性材であるフェライト
の融着用として様々な融点のガラスが開発されてきたも
ので、ガラスと７エライトは相互拡散作用の結果非常に
強固に接合される。ところが金属に対してガラスは拡散
しないため、ぬれ性、接合強度は非常に弱く、例えばセ
ンダスト材の接合には銀ろう溶着等が用いられるなどし
ていた。その為、ガラス融着を用いる場合には、金属膜
への酸化物コーティング等が必要であり、特にフェライ
トと複合してヘッドを製造する場合強度上の大きな問題
が残る。第三にトラックずれの問題がある。■コアとＣ
コアは突合せ融着時には棒状になっており、突合せ融着
後ヘツド単品に切断される。通常一本の突合せ済みコア
から数十枚のベッドチップがスライスされる。ところが
、突合せ融着時にエバー（棒状のエコア）とＣバー（棒
状のＣコア）の位置合わせが必要なので、治具や顕微鏡
等を用いて行い、棒状の融着ガラスをセットするなどし
て融着炉に投入するという手順のなかで、エバーとＣバ
ーの相対位置ずれが発生し、単品スライス時にはヘッド
のトラックすれとなって現われる。
そこで本発明はこのよ、うな問題点を解決するもので、
その目的とするところは、従来のギャップボンディング
工程を無くシ、あらゆる軟磁性金属膜をガラス融着等の
高温プロセスを用いずに精度良いギャップ部を維持した
磁気ヘッドを提供するところにある。
その目的とするところは、従来のギャップボンディング
工程を無くシ、あらゆる軟磁性金属膜をガラス融着等の
高温プロセスを用いずに精度良いギャップ部を維持した
磁気ヘッドを提供するところにある。
本発明の磁気ヘッドは、軟磁性金属膜と高透磁率酸化物
磁性材料とを複合して成る磁気ヘッドにおいて該軟磁性
金属膜を磁気ヘッドコアーの摺動面にて非磁性層と積層
することによシ磁気ギャップを形成して成ることを特徴
とする。
磁性材料とを複合して成る磁気ヘッドにおいて該軟磁性
金属膜を磁気ヘッドコアーの摺動面にて非磁性層と積層
することによシ磁気ギャップを形成して成ることを特徴
とする。
第１図は本発明の一実施例における磁気ヘッドの斜視図
である。この磁気ヘッドは、高透磁率酸化物磁性体であ
るフェライトと、軟磁性金属膜としてＣｏ−系アモルフ
ァスとの複合磁性材料で構成されている。磁気コア半休
のＣコア（フェライト）１１、＋、１１が―着ガラス１
４．１５にて接合されておシ、媒体当接面に軟磁性金属
膜１２が非磁性層（ＳｉＣ）ｚ）１３をギャップとして
形成されている。
である。この磁気ヘッドは、高透磁率酸化物磁性体であ
るフェライトと、軟磁性金属膜としてＣｏ−系アモルフ
ァスとの複合磁性材料で構成されている。磁気コア半休
のＣコア（フェライト）１１、＋、１１が―着ガラス１
４．１５にて接合されておシ、媒体当接面に軟磁性金属
膜１２が非磁性層（ＳｉＣ）ｚ）１３をギャップとして
形成されている。
従来例ではコアがエコアとＣコアであったが、フェライ
ト１０．１１をＣコアとすることによりｉ気的に完全に
分離し１４にて接合することにより磁束がｃｏ−系アモ
ルファス１２へと流れこむことが特徴である。次に、こ
のように構成される上記磁気ヘッドの形成過程を第４図
乃至第１０図に基づき説明する。第４図はフェライト材
から加工されたＣバー４１．４２を突合わせ、後部融着
溝に融着ガラス棒４５、前部融着溝に同様に融着ガラス
棒を挿入した図である。Ｃバー４１．４２の突合せ面４
５にはあらかじめスパッタによシ融着ガラス（４３，４
４よシ作業温度がやや低目のもの）を形成しておき、管
状融着炉等に投入して確実に融着する。この工程におい
てはまだ金属磁性膜が形成されていないために・融着条
件は任意であり、コア材に適した融着ガラスと作業温度
が選択出来る為、確実な融着が出来る。第５図は融着後
のコアの横断面図であり、ここで破線部まで切断もしく
は研削によりコア上部を除去する。ガラス部５４がコア
上面（媒体当接側）Ｋ現われた後に、ラップ、ポリッシ
ュ加工にてコア上面を鏡面仕上加工する。第６図は鏡面
仕上加工されたコア上面の断面を拡大したものである。
ト１０．１１をＣコアとすることによりｉ気的に完全に
分離し１４にて接合することにより磁束がｃｏ−系アモ
ルファス１２へと流れこむことが特徴である。次に、こ
のように構成される上記磁気ヘッドの形成過程を第４図
乃至第１０図に基づき説明する。第４図はフェライト材
から加工されたＣバー４１．４２を突合わせ、後部融着
溝に融着ガラス棒４５、前部融着溝に同様に融着ガラス
棒を挿入した図である。Ｃバー４１．４２の突合せ面４
５にはあらかじめスパッタによシ融着ガラス（４３，４
４よシ作業温度がやや低目のもの）を形成しておき、管
状融着炉等に投入して確実に融着する。この工程におい
てはまだ金属磁性膜が形成されていないために・融着条
件は任意であり、コア材に適した融着ガラスと作業温度
が選択出来る為、確実な融着が出来る。第５図は融着後
のコアの横断面図であり、ここで破線部まで切断もしく
は研削によりコア上部を除去する。ガラス部５４がコア
上面（媒体当接側）Ｋ現われた後に、ラップ、ポリッシ
ュ加工にてコア上面を鏡面仕上加工する。第６図は鏡面
仕上加工されたコア上面の断面を拡大したものである。
フェライトコアーが６２．６６でガラスによる非磁性部
が６１である。第７図はコア上部にスパッタにて軟磁性
金属膜であるｃｏ−系アモルファス７１（以下アモルフ
ァス膜とする）を形成する工程を示す図である。
が６１である。第７図はコア上部にスパッタにて軟磁性
金属膜であるｃｏ−系アモルファス７１（以下アモルフ
ァス膜とする）を形成する工程を示す図である。
アモルファス膜７１は、密着強度がコア面の清浄度に大
きく左右されるために、半導体ウェファプロセスによる
洗浄・及び逆スパツタによるクリーニングの後スパッタ
を行う。アモルファスの膜厚は本発明の磁気ヘッドにお
いてはキャップ深さとなるために、ヘッドの寿命等考慮
して、２０〜４０μｍとした。第８図はギヤツブ部非磁
性層形成図である。第７図のアモルファス膜の片側８１
をマスクし、ドライエツチング等にて反対側を除去し、
その後に非磁性層である５ｉＯｚ８２（Ｎｚ０３でも良
い）をスパッタしてやる。さらに、アモルファス膜８１
とは反対側のコアにスパッタされたＳｉｎｇ−８２を除
去して、全体に８１と同じアモルファス膜をスパッタし
たものが第９図に示されている。第１０図は最終仕上研
磨工程で、破線に至るまでテープ研磨等により所望の先
端形状加工を施し、単品切断することによって第１図に
示された磁気ヘッドが得られる。
きく左右されるために、半導体ウェファプロセスによる
洗浄・及び逆スパツタによるクリーニングの後スパッタ
を行う。アモルファスの膜厚は本発明の磁気ヘッドにお
いてはキャップ深さとなるために、ヘッドの寿命等考慮
して、２０〜４０μｍとした。第８図はギヤツブ部非磁
性層形成図である。第７図のアモルファス膜の片側８１
をマスクし、ドライエツチング等にて反対側を除去し、
その後に非磁性層である５ｉＯｚ８２（Ｎｚ０３でも良
い）をスパッタしてやる。さらに、アモルファス膜８１
とは反対側のコアにスパッタされたＳｉｎｇ−８２を除
去して、全体に８１と同じアモルファス膜をスパッタし
たものが第９図に示されている。第１０図は最終仕上研
磨工程で、破線に至るまでテープ研磨等により所望の先
端形状加工を施し、単品切断することによって第１図に
示された磁気ヘッドが得られる。
以上述べたように本発明によれば、従来磁気ヘッド袈造
上不可決であったギャップホンティング工程が不要であ
る構造のために、ボンディング時の軟磁性金属膜の磁気
的劣化、膜の剥離等が無いばかりでなく、フェライト部
の強固な融着より得られるヘッドチップの強度及びトラ
ックすれが発。
上不可決であったギャップホンティング工程が不要であ
る構造のために、ボンディング時の軟磁性金属膜の磁気
的劣化、膜の剥離等が無いばかりでなく、フェライト部
の強固な融着より得られるヘッドチップの強度及びトラ
ックすれが発。
生ぜず、コアブロックから多数個数れるなど量産面、特
性共に非常に優れた磁気ヘッドが得られるという効果を
有する。
性共に非常に優れた磁気ヘッドが得られるという効果を
有する。
第１図は本発明の磁気ヘッドの一実施例を示す斜視図。
１０．１１・・・フェライトＣコア、１２・・・軟磁性
金属膜、１３・・・非磁性層、１４．１５・・・ガラス
融着部。 第２図は従来の磁気ヘッドを示す斜視図。 ２１・・・エコア、２２・・・Ｃコア、２３・・・軟磁
性金属膜、２４・・・非磁性部、２５・・・ギャップ。 第３図は従来の磁気ヘッド（ＭＩＧ）’に示す斜視図。 ３１・・・エコア、３２・・・Ｃコア、３３．３５・・
・軟磁性金属膜、３４・・・非磁性部。 第４図から第１０図は本発明の磁気ヘッドの製造工程を
説明するもので、 第４図−フェライトコア融着工程を示す斜視図。 ４１．４２・・・フェライトコア、４３．４４・・・融
着ガラス、ス、４５・・・突合せ面。 第５図−コア断面図。５４・・・ガラス第６図−コア断
面拡大図。６１・・・ガラス、６２．６３・・・フェラ
イト。 第７図−軟磁性金属膜形成工程断面図。７１・・・軟磁
性金属膜。 第８図−非磁性層形成工程断面図。８１・・・軟磁性金
属膜、８２・・・非磁性膜。 第９図−軟磁性金属膜形成工程断面図。 第１０図−先端形状加工工程断面図。 以上 Ｌユ久へ一７ｒ４仇筏図 第 １１２］ イ茨」Ｌ合′１石１ス５ヘッ １ｓ っ遼１ン兄り口
看 ２ 図 コア吋面拡尺凹 冨 ２ 囚 殖・庄匣形族工程罫面■ ７７ 目 計区・匡ルＭ９Ｒ工垣吋企図 案 ？ ■ Ｌｆｉ住晟彰ベエイｉ往ｆ［面図 隋 ′？ 図 先鳴１像１ｑエエ経軒面図 ネ ＩＱ 口
金属膜、１３・・・非磁性層、１４．１５・・・ガラス
融着部。 第２図は従来の磁気ヘッドを示す斜視図。 ２１・・・エコア、２２・・・Ｃコア、２３・・・軟磁
性金属膜、２４・・・非磁性部、２５・・・ギャップ。 第３図は従来の磁気ヘッド（ＭＩＧ）’に示す斜視図。 ３１・・・エコア、３２・・・Ｃコア、３３．３５・・
・軟磁性金属膜、３４・・・非磁性部。 第４図から第１０図は本発明の磁気ヘッドの製造工程を
説明するもので、 第４図−フェライトコア融着工程を示す斜視図。 ４１．４２・・・フェライトコア、４３．４４・・・融
着ガラス、ス、４５・・・突合せ面。 第５図−コア断面図。５４・・・ガラス第６図−コア断
面拡大図。６１・・・ガラス、６２．６３・・・フェラ
イト。 第７図−軟磁性金属膜形成工程断面図。７１・・・軟磁
性金属膜。 第８図−非磁性層形成工程断面図。８１・・・軟磁性金
属膜、８２・・・非磁性膜。 第９図−軟磁性金属膜形成工程断面図。 第１０図−先端形状加工工程断面図。 以上 Ｌユ久へ一７ｒ４仇筏図 第 １１２］ イ茨」Ｌ合′１石１ス５ヘッ １ｓ っ遼１ン兄り口
看 ２ 図 コア吋面拡尺凹 冨 ２ 囚 殖・庄匣形族工程罫面■ ７７ 目 計区・匡ルＭ９Ｒ工垣吋企図 案 ？ ■ Ｌｆｉ住晟彰ベエイｉ往ｆ［面図 隋 ′？ 図 先鳴１像１ｑエエ経軒面図 ネ ＩＱ 口
Claims (1)
- 軟磁性金属膜と高透磁率酸化物磁性材料とを複合して成
る磁気ヘッドにおいて該軟磁性金属膜を磁気ヘッドコア
ーの磁気媒体との摺動面にて非磁性層と積層することに
より磁気ギャップを形成して成ることを特徴とする磁気
ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28643785A JPS62145515A (ja) | 1985-12-19 | 1985-12-19 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28643785A JPS62145515A (ja) | 1985-12-19 | 1985-12-19 | 磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62145515A true JPS62145515A (ja) | 1987-06-29 |
Family
ID=17704374
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28643785A Pending JPS62145515A (ja) | 1985-12-19 | 1985-12-19 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62145515A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2633430A1 (fr) * | 1988-06-24 | 1989-12-29 | Europ Composants Electron | Procede de realisation d'une tete magnetique d'enregistrement/lecture a partir d'un substrat magnetique |
-
1985
- 1985-12-19 JP JP28643785A patent/JPS62145515A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2633430A1 (fr) * | 1988-06-24 | 1989-12-29 | Europ Composants Electron | Procede de realisation d'une tete magnetique d'enregistrement/lecture a partir d'un substrat magnetique |
| US4939836A (en) * | 1988-06-24 | 1990-07-10 | Compagnie Europeenne De Composants Electroniques Lcc | Method for the fabrication of a magnetic recording/reading head from a magnetic substrate |
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