JPH01184609A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

磁気ヘッドの製造方法

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JPH01184609A
JPH01184609A JP396788A JP396788A JPH01184609A JP H01184609 A JPH01184609 A JP H01184609A JP 396788 A JP396788 A JP 396788A JP 396788 A JP396788 A JP 396788A JP H01184609 A JPH01184609 A JP H01184609A
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JP
Japan
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glass
magnetic
cores
thin film
blocks
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Pending
Application number
JP396788A
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English (en)
Inventor
Shigeru Kagayama
加賀山 茂
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Brother Industries Ltd
Original Assignee
Brother Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、磁気ヘッドの製造方法に関し、特に、磁性薄
膜をギャップ対向面に挟み込んだメタルインギャップ型
磁気ヘッドの製造方法に関するものである。
[従来技術] 従来、磁気ヘッドとしてはフェライトのみの単一素材を
用いたようなバルクヘッドが多かった。
しかし、高密度化の要求が高くなってくるにつれて飽和
磁束密度の劣るフェライトでは十分な記録が不可能にな
ってきた。その改良としてヘッドのギャップ対向面に磁
気特性の良好なセンダスト、Co系アモルファス合金を
スパッタリング等でつけ、磁気ヘッドの性能向上を計っ
たメタルインギャップ(以下MIGと称する)型ヘッド
が多くなってきた。
MIG型ヘッドの製造方法を第4図に示す、フェライト
素材より加工されてきた一対のIコア2゜4がある(a
)0次に一方のIコア2にのみ加工を施しCコア2に成
形する(b)、更にこのCコア2とIコア4のギャップ
対向面にセンダスト薄膜3を10〜20μm程度スパッ
タリングによって形成する(C)、その膜厚はセンダス
ト薄膜の渦電流損失等も考慮して決定される。
ここでセンダスト薄膜3は各コア2.4の表面の一部に
付着せしめられているが、全面につけることもできる。
更に、この後の工程で!コア4、Cコア2は互いに位置
決めしつつ接着剤で仮固定され、炉中で熱処理されるこ
とによりガラス接合を行う、このガラス接合により磁気
ヘッドに必要な磁気ギャップを形成することができる。
その後このコアブロック2.4はスライス加工、ラップ
加工等が施され、チップコアとなりスライダー、コイル
等を設けられ磁気ヘッドの完成品となる。
[発明が解決しようとする問題点] しかしながら、一般にセンダスト合金等の磁性材料はガ
ラス接合に使用する低融点ガラス7に対し、濡れ性即ち
界面エネルギーが高いため、第3図に示すように、低融
点ガラス7がギャップ内に殆ど侵入せずヘッドとして使
用できなかった。この濡れ性を改善するために、磁性薄
[3の成分を変更し、濡れ性を改良したり、磁性薄Wi
43の上に濡れ性の良好なCrをつけたりすることが行
われていた。しかし、前者は磁性薄膜の磁気特性を減少
させる恐れがあり、また後者は製造工程上問題も多かっ
た。
[発明の目的] 本発明は、上述した問題点を解決するためになされたも
のであり、量産化に適し、高密度記録可能な信頼性の高
い磁気ヘッドを得ることができる磁気ヘッドの製造方法
を提供することを目的とし゛ている。
[問題点を解決するための手段] この目的を達成するために本発明の磁気ヘッドの製造方
法は、磁性体ブロックの一面に所定の磁性薄膜を形成す
る工程と、前記ブロックから略C形状コアと略■形状コ
アとを加工する工程と、所定の磁気ギャップが形成され
るようにガラス接着してコアブロックを形成する工程と
よりなっている。
[作用] 上記の構成を有する発明により、略C形状コアと略I形
状コアとを接着する際に、ガラスが濡れ性の良くない磁
性薄膜に接することがないため、容易に且つ確実に強固
なギャップが形成でき、また、磁気特性の優れた磁性薄
膜がヘッドコアの大部分を占めるため、ヘッドの性能も
向上する。
[実施例] 以下、本発明を具体化した一実施例を図面を参照して説
明する。
第2図は本発明の製造工程を示す説明図で、第4図と同
一部分には同一の符号を付している。
先ず、第2図(a)に示すように、MIG型ヘッドの母
体となるMn−Znフェライトで作られたフェライトブ
ロック2.4がある。
第2図(b)において、フェライトブロック2゜4°の
記憶媒体(図示せず)と対向する側上面にセンダスト4
WA3をスパッタリング、真空蒸着等で形成する。この
センダスト11膜3の膜厚はギャップ深さ加工代と、ギ
ャップ深さ約5〜30μm程度の和となるようにし、最
終加工終了時にはアペックス6以下のギャップ深さとな
る部分が□すべてセンダスト薄膜3になる。
次に、第2図(C)に示すように、センダスト薄膜3を
形成したフェライトブロック2.4をスライシング、研
削、ラップ、ポリッシュ等の加工を行い、略C形状コア
2、略■形状コア4を作成する。この時、略C形状コア
2のアペックス部6においてフェライトブロック2とセ
ンダスト薄膜3の界面になるように設定しておく。
その後、略C形状コア2、略I形状コア4のギャップ対
向面に低融点ガラス若しくは2酸化ケイ素等をスパッタ
リングで形成し、ギャップのスペーサ並びに接合剤とす
る。そして、略C形状コア2と略I形状コア4とを位置
決めして仮止めを行い、低融点ガラス7を載置した後、
治具(図示せず)に固定され約600℃で熱処理がなさ
れる。
接合ガラス7は濡れ性のよいフェライトブロック2.4
に接しながら溶融するため、第1図に示すように、極め
て良好にギャップ部分を接合できる。
ヌ、本発明で得られる磁気ヘッドは、ヘッドコアのかな
りの割合を磁気特性に優れたセンダスト薄WA3が占め
ており非常に性能の良いヘッドとなる。
[発明の効果] 以上詳述したことから明らかなように、本発明によれば
、高精度で且つ一対のコアがガラスにより確実に接着さ
れた磁気ヘッドを量産的に得ることができる効果を有す
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明により得られた磁気ヘッドの一部拡大図
、第2図(a)乃至(c)は本発明を具体化した磁気ヘ
ッドの製造工程を示す図、第3図は従来の製造方法によ
り得られた磁気ヘッドの一部拡大図、第4図(a)乃至
(c)は従来の磁気ヘッドの製造工程を示す図である。 図中、2は略C形状コア、3はセンダスト薄膜、4は略
C形状コアである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一対の磁性体ブロック(2、4)の一面に磁性薄膜
    (3)を形成する工程と、 前記ブロック(2、4)から略C形状コア(2)と略I
    形状コア(4)とを加工する工程と、前記略C形状コア
    (2)と前記略I形状コア(4)とを所定の磁気ギャッ
    プが形成されるようにガラス接着してコアブロックを形
    成する工程とを備えていることを特徴とする磁気ヘッド
    の製造方法。
JP396788A 1988-01-12 1988-01-12 磁気ヘッドの製造方法 Pending JPH01184609A (ja)

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