JP2964706B2 - 磁気ヘッドの製造方法及びその製造方法を用いて製造した磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法及びその製造方法を用いて製造した磁気ヘッドInfo
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＶＴＲ、ＤＡＴ、ＦＤ
Ｄ等に使用される磁気ヘッドおよびその製造方法に関す
る。
Ｄ等に使用される磁気ヘッドおよびその製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気記録技術の動向はビデオヘッ
ド等、高周波領域での特性が要求されるに従い、サブミ
クロンの記録波長に十分対応できる磁気ヘッドおよび記
録媒体が要望されている。このような現状の中で磁気ヘ
ッドは、保磁力Hcの高い記録媒体（例えばメタル、Ba-F
eテープ）に十分な書き込みを行うため、フェライト等
の非金属磁性材料と比べより飽和磁束密度Bsの高い軟磁
性合金薄膜（例えばセンダスト、非晶質材料など）をフ
ェライトのギャップ近傍に配した構造の磁気ヘッドの開
発が行われ一部は実用化され、８mmやＤＡＴ用に搭載さ
れている。
ド等、高周波領域での特性が要求されるに従い、サブミ
クロンの記録波長に十分対応できる磁気ヘッドおよび記
録媒体が要望されている。このような現状の中で磁気ヘ
ッドは、保磁力Hcの高い記録媒体（例えばメタル、Ba-F
eテープ）に十分な書き込みを行うため、フェライト等
の非金属磁性材料と比べより飽和磁束密度Bsの高い軟磁
性合金薄膜（例えばセンダスト、非晶質材料など）をフ
ェライトのギャップ近傍に配した構造の磁気ヘッドの開
発が行われ一部は実用化され、８mmやＤＡＴ用に搭載さ
れている。
【０００３】以下、図面を参照しながら従来の磁気ヘッ
ドの製造方法について説明する。図７は、磁気ギャップ
近傍に数μmの軟磁性合金薄膜を配する従来の磁気ヘッ
ドの製造方法を示す工程図であり、同図(a)は、一対で
磁気ヘッドとなるコア半体14の少なくともどちらか一方
に巻き線溝15が加工され、ギャップ接合面は鏡面に研磨
されている。
ドの製造方法について説明する。図７は、磁気ギャップ
近傍に数μmの軟磁性合金薄膜を配する従来の磁気ヘッ
ドの製造方法を示す工程図であり、同図(a)は、一対で
磁気ヘッドとなるコア半体14の少なくともどちらか一方
に巻き線溝15が加工され、ギャップ接合面は鏡面に研磨
されている。
【０００４】同図(b)は、ギャップ接合面にトラック幅
規制溝16が加工されたコア半体14である。
規制溝16が加工されたコア半体14である。
【０００５】同図(c)は、ギャップ接合面に軟磁性合金
薄膜17とギャップ材としてSiO2,ガラス膜（図では省
略）を形成したコア半体14である。
薄膜17とギャップ材としてSiO2,ガラス膜（図では省
略）を形成したコア半体14である。
【０００６】同図(d)は、ギャップ接合面を突き合わせ
た状態で、ガラス18をトラック幅規制溝16にモールドし
た磁気コア19であり、以後所定のサイズ（図中のＸ線に
そって）に切断し、同図(e)に示すヘッドチップ20を得
る。
た状態で、ガラス18をトラック幅規制溝16にモールドし
た磁気コア19であり、以後所定のサイズ（図中のＸ線に
そって）に切断し、同図(e)に示すヘッドチップ20を得
る。
【０００７】また図では省略しているが、切断されたヘ
ッドチップは、その後、金属ベース等に接着するととも
に搭載するシステムに応じた曲率に媒体との摺動面を前
面研磨し巻線を行い磁気ヘッドとして完成する。
ッドチップは、その後、金属ベース等に接着するととも
に搭載するシステムに応じた曲率に媒体との摺動面を前
面研磨し巻線を行い磁気ヘッドとして完成する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
のギャップ面に軟磁性合金薄膜17を用いた磁気ヘッドで
は、ギャップ形成時にガラス18と軟磁性合金薄膜17の反
応からガラス18が脆くなり、チップ切断やテープ摺動面
研磨などの加工負荷により、ギャップ面で剥離が生じた
り、また反応層の影響からギャップ深さ(GapDepth)が正
確に測定できないという課題があった。
のギャップ面に軟磁性合金薄膜17を用いた磁気ヘッドで
は、ギャップ形成時にガラス18と軟磁性合金薄膜17の反
応からガラス18が脆くなり、チップ切断やテープ摺動面
研磨などの加工負荷により、ギャップ面で剥離が生じた
り、また反応層の影響からギャップ深さ(GapDepth)が正
確に測定できないという課題があった。
【０００９】本発明は、このような従来の課題を解決す
るもので、信頼性の高い磁気ヘッドとその製造方法を提
供することを目的とする。
るもので、信頼性の高い磁気ヘッドとその製造方法を提
供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の製造方法は、一対で磁気ヘッドとなるコア半
体の少なくとも一方に巻き線溝を形成しギャップ形成面
を鏡面に研磨する工程と、トラック幅規制溝を加工する
工程と、軟磁性合金薄膜を形成する工程と、ギャップ材
を所定のギャップ幅になるように形成する工程と、コア
半体の接合条件として、一対のコア半体のギャップ面を
突き合わせた状態でガラスの転移点付近まで酸素を含む
雰囲気とし、以降は不活性ガス雰囲気で溶融するもので
ある。もしくは、溶融条件として、不活性ガス中に１％
以下の酸素を含んだ雰囲気でガラスの溶融を行うもので
ある。また、本発明の磁気ヘッドは上記方法により製造
されたことを特徴とするものである。
に本発明の製造方法は、一対で磁気ヘッドとなるコア半
体の少なくとも一方に巻き線溝を形成しギャップ形成面
を鏡面に研磨する工程と、トラック幅規制溝を加工する
工程と、軟磁性合金薄膜を形成する工程と、ギャップ材
を所定のギャップ幅になるように形成する工程と、コア
半体の接合条件として、一対のコア半体のギャップ面を
突き合わせた状態でガラスの転移点付近まで酸素を含む
雰囲気とし、以降は不活性ガス雰囲気で溶融するもので
ある。もしくは、溶融条件として、不活性ガス中に１％
以下の酸素を含んだ雰囲気でガラスの溶融を行うもので
ある。また、本発明の磁気ヘッドは上記方法により製造
されたことを特徴とするものである。
【００１１】
【作用】したがって本発明によれば、ギャップ形成時の
条件を上記の雰囲気にすることによって、ガラスの濡れ
が良くなり、トラック幅規制溝に十分モールドできるよ
うになる。このようにして工程数の少ない製造方法でガ
ラスと軟磁性合金薄膜との反応のない信頼性の高い磁気
ヘッドを得ることができる。
条件を上記の雰囲気にすることによって、ガラスの濡れ
が良くなり、トラック幅規制溝に十分モールドできるよ
うになる。このようにして工程数の少ない製造方法でガ
ラスと軟磁性合金薄膜との反応のない信頼性の高い磁気
ヘッドを得ることができる。
【００１２】
【実施例】以下、一参考例の磁気ヘッドについて図面を
参照しながら説明する。図１（ａ）は、一参考例におけ
る磁気ヘッドの構成を示すものであり、図１（ｂ）は同
磁気ヘッドのギャップ近傍の構造を示す拡大図である。
図に示すように、フェライトコア材１のギャップ面にセ
ンダスト膜等よりなる軟磁性合金薄膜２が成膜され、セ
ンダスト膜２の上にはギャップ材としてSiO2膜３、ガラ
ス膜４が形成されている。フェライトコア材１には、巻
き線窓５が加工され、一対のフェライトコア材１の接合
用としてFe2O3を２〜１５wt％含有したガラス６が用い
られている。
参照しながら説明する。図１（ａ）は、一参考例におけ
る磁気ヘッドの構成を示すものであり、図１（ｂ）は同
磁気ヘッドのギャップ近傍の構造を示す拡大図である。
図に示すように、フェライトコア材１のギャップ面にセ
ンダスト膜等よりなる軟磁性合金薄膜２が成膜され、セ
ンダスト膜２の上にはギャップ材としてSiO2膜３、ガラ
ス膜４が形成されている。フェライトコア材１には、巻
き線窓５が加工され、一対のフェライトコア材１の接合
用としてFe2O3を２〜１５wt％含有したガラス６が用い
られている。
【００１３】図２は、ベースガラスとして、重量比でPb
O-86、SiO2-10、ZnO-３と他の微元素を含むものに、Fe2
O3を添加したガラス６を用いて、厚さ４μmのセンダス
ト膜２、厚さ0.1μmのSiO2膜３を形成した基板上でガラ
ス６を溶融したときの反応層を測定したものである。こ
の図２からFe2O3を２wt％以上添加するとセンダスト膜
２とガラス６の反応は減少することがわかるが、一方15
wt％を超えるとGapDepthの測定ができない程ガラス６が
茶色に着色された。このように、フェライトコア材１の
接合用としてFe2O3を２〜15wt％含有したガラス６を用
いた磁気ヘッドは、センダスト膜２とガラス６の反応の
ない信頼性の高いものであった。
O-86、SiO2-10、ZnO-３と他の微元素を含むものに、Fe2
O3を添加したガラス６を用いて、厚さ４μmのセンダス
ト膜２、厚さ0.1μmのSiO2膜３を形成した基板上でガラ
ス６を溶融したときの反応層を測定したものである。こ
の図２からFe2O3を２wt％以上添加するとセンダスト膜
２とガラス６の反応は減少することがわかるが、一方15
wt％を超えるとGapDepthの測定ができない程ガラス６が
茶色に着色された。このように、フェライトコア材１の
接合用としてFe2O3を２〜15wt％含有したガラス６を用
いた磁気ヘッドは、センダスト膜２とガラス６の反応の
ない信頼性の高いものであった。
【００１４】次に本発明の一実施例の磁気ヘッドの製造
方法について図面を参照しながら説明する。図３は、本
発明の一実施例の磁気ヘッドの製造方法を示す工程図で
あり、同図(a)は、一対で磁気ヘッドとなるフェライト
コア材１の少なくとも一方に巻き線溝７を形成した後、
ギャップ突き合わせ面８を鏡面に加工した磁気コア９で
ある。同図(b)は、フェライトコア材１のギャップ突き
合わせ面８にトラック幅規制溝10を形成した状態を示す
ものであり、同図(c)は、ギャップ突き合わせ面８にFe-
Al-Si系合金またはCoaMbまたはFeaMbで表され厚み方向
に窒素の組成変調された構造よりなる軟磁性合金薄膜２
を形成し、その上に、ギャップ材としてSiO2膜３と、ガ
ラス膜４を形成した状態（図では省略）を示すものであ
る。
方法について図面を参照しながら説明する。図３は、本
発明の一実施例の磁気ヘッドの製造方法を示す工程図で
あり、同図(a)は、一対で磁気ヘッドとなるフェライト
コア材１の少なくとも一方に巻き線溝７を形成した後、
ギャップ突き合わせ面８を鏡面に加工した磁気コア９で
ある。同図(b)は、フェライトコア材１のギャップ突き
合わせ面８にトラック幅規制溝10を形成した状態を示す
ものであり、同図(c)は、ギャップ突き合わせ面８にFe-
Al-Si系合金またはCoaMbまたはFeaMbで表され厚み方向
に窒素の組成変調された構造よりなる軟磁性合金薄膜２
を形成し、その上に、ギャップ材としてSiO2膜３と、ガ
ラス膜４を形成した状態（図では省略）を示すものであ
る。
【００１５】なお、上記CoaMbで表される軟磁性合金薄
膜２において、MはNb,Ta,Zr,Hf,Ti,Mo,Wから選ばれる１
種類以上の元素からなり、原子比で表されるａおよびｂ
がそれぞれ0.80≦ａ≦0.95、0.05≦ｂ≦0.20で、ａ＋ｂ
＝1.0であるか、またはFeaMbで表される軟磁性合金薄膜
２の場合は、MがNb,Ta,Zr,Hf,Ti,Mo,Cr,W,Mn,Re,Ruから
選ばれる１種類以上の元素からなり、ａおよびｂがそれ
ぞれ0.70≦ａ≦0.95、0.05≦ｂ≦0.30で、ａ＋ｂ＝1.0
とする。
膜２において、MはNb,Ta,Zr,Hf,Ti,Mo,Wから選ばれる１
種類以上の元素からなり、原子比で表されるａおよびｂ
がそれぞれ0.80≦ａ≦0.95、0.05≦ｂ≦0.20で、ａ＋ｂ
＝1.0であるか、またはFeaMbで表される軟磁性合金薄膜
２の場合は、MがNb,Ta,Zr,Hf,Ti,Mo,Cr,W,Mn,Re,Ruから
選ばれる１種類以上の元素からなり、ａおよびｂがそれ
ぞれ0.70≦ａ≦0.95、0.05≦ｂ≦0.30で、ａ＋ｂ＝1.0
とする。
【００１６】なお、ギャップ形成時の温度条件は図４に
示す通りで、ギャップ面を突き合わせた状態でガラス６
をトラック幅規制溝10にモールドする時に、図に示すよ
うにガラス６の転移点（図中のAt点）までは大気中で、
以降は不活性ガス(N2またはAr）雰囲気中で熱処理を行
うか、または不活性ガス中に酸素を１％以下含有した雰
囲気中で行う。
示す通りで、ギャップ面を突き合わせた状態でガラス６
をトラック幅規制溝10にモールドする時に、図に示すよ
うにガラス６の転移点（図中のAt点）までは大気中で、
以降は不活性ガス(N2またはAr）雰囲気中で熱処理を行
うか、または不活性ガス中に酸素を１％以下含有した雰
囲気中で行う。
【００１７】図３(c)の工程に引き続いて、同図(d)はギ
ャップ11が形成された磁気コア９であり、ガラス６で接
合されている状態を示す。以降所定のサイズ（図中に示
すＸ−Ｘ線）に切断され、最終的には同図(e)に示すよ
うにテープ摺動面12を有するヘッドチップ13を得ること
ができる。
ャップ11が形成された磁気コア９であり、ガラス６で接
合されている状態を示す。以降所定のサイズ（図中に示
すＸ−Ｘ線）に切断され、最終的には同図(e)に示すよ
うにテープ摺動面12を有するヘッドチップ13を得ること
ができる。
【００１８】上記本実施例における製造工程において、
図４に示すような雰囲気とすることによって、図５に示
すようにトラック幅規制溝10にガラス６がモールドされ
やすくなり、また図６に示すように、上記雰囲気とする
ことによって、センダスト膜２とガラス６との反応が著
しく減少した。
図４に示すような雰囲気とすることによって、図５に示
すようにトラック幅規制溝10にガラス６がモールドされ
やすくなり、また図６に示すように、上記雰囲気とする
ことによって、センダスト膜２とガラス６との反応が著
しく減少した。
【００１９】このように上記実施例によれば、Fe2O3を
２〜15wt％含有するガス６を用いてフェライトコア材１
のトラック幅規制溝10をモールドしているため、製造さ
れたヘッドチップ13はセンダスト膜２とガラス６の反応
の極めて少ない信頼性の高いものであった。
２〜15wt％含有するガス６を用いてフェライトコア材１
のトラック幅規制溝10をモールドしているため、製造さ
れたヘッドチップ13はセンダスト膜２とガラス６の反応
の極めて少ない信頼性の高いものであった。
【００２０】
【発明の効果】本発明は、上記実施例より明らかなよう
に、溶融条件としてガラスの転移点付近まで大気中雰囲
気とし、以降は不活性ガス雰囲気中で処理するかまたは
不活性ガス中に酸素を１％以下含有した雰囲気中で処理
することによって、ガラスと軟磁性合金薄膜との反応を
抑制するとともに歩留まりの高い、しかも信頼性に優れ
た磁気ヘッドを得ることができる。
に、溶融条件としてガラスの転移点付近まで大気中雰囲
気とし、以降は不活性ガス雰囲気中で処理するかまたは
不活性ガス中に酸素を１％以下含有した雰囲気中で処理
することによって、ガラスと軟磁性合金薄膜との反応を
抑制するとともに歩留まりの高い、しかも信頼性に優れ
た磁気ヘッドを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 （ａ）は一参考例における磁気ヘッドの斜視図 （ｂ）は同参考例における磁気ヘッドを構成する磁気コ
アのギャップ近傍の要部拡大平面図
アのギャップ近傍の要部拡大平面図
【図２】一参考例におけるガラス中のFe2O3の添加量と
ガラスの反応層との関係を示す特性図
ガラスの反応層との関係を示す特性図
【図３】(a)は本発明の磁気ヘッドの製造方法の実施例
において用いるコア材の外観形状図 (b)は同実施例におけるコア材にトラック幅規制溝の形
成工程を実施した後のコア材の外観図 (c)は同実施例における薄膜形成工程後のコアの外観図 (d)は同実施例におけるコア接合工程後のコアブロック
の外観図 (e)は同実施例におけるチップ切断工程によりコアブロ
ックから得られた磁気ヘッドの外観図
において用いるコア材の外観形状図 (b)は同実施例におけるコア材にトラック幅規制溝の形
成工程を実施した後のコア材の外観図 (c)は同実施例における薄膜形成工程後のコアの外観図 (d)は同実施例におけるコア接合工程後のコアブロック
の外観図 (e)は同実施例におけるチップ切断工程によりコアブロ
ックから得られた磁気ヘッドの外観図
【図４】ギャップ形成時の温度条件を示す図
【図５】同磁気ヘッドの製造方法におけるガラス溶融雰
囲気条件とトラック幅規制溝へのガラスモールド率との
関係を示す特性図
囲気条件とトラック幅規制溝へのガラスモールド率との
関係を示す特性図
【図６】同じくガラス溶融雰囲気条件とガラスの反応層
との関係を示す特性図
との関係を示す特性図
【図７】(a)は従来の磁気ヘッドの製造方法において用
いるコア材の外観形状図 (b)は同従来例におけるコア材にトラック幅規制溝の形
成工程を実施した後のコア材の外観図 (c)は同従来例における薄膜形成工程後のコアの外観図 (d)は同従来例におけるコア接合工程後のコアブロック
の外観図 (e)は同従来例におけるチップ切断工程によりコアブロ
ックから得られた磁気ヘッドの外観図
いるコア材の外観形状図 (b)は同従来例におけるコア材にトラック幅規制溝の形
成工程を実施した後のコア材の外観図 (c)は同従来例における薄膜形成工程後のコアの外観図 (d)は同従来例におけるコア接合工程後のコアブロック
の外観図 (e)は同従来例におけるチップ切断工程によりコアブロ
ックから得られた磁気ヘッドの外観図
２ センダスト膜（軟磁性合金薄膜） ６ ガラス ８ ギャップ突き合わせ面 ９ 磁気コア １０ トラック幅規制溝
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平２−204344（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−28248（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−315109（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−229408（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−57758（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−260212（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−201715（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−165008（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−173211（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−151069（ＪＰ，Ａ) 特開 昭53−37008（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G11B 5/127 - 5/255
Claims (3)
- 【請求項１】 強磁性酸化物を主体とする磁気ヘッドの
製造方法において、一対で磁気ヘッドとなるコア半体の
少なくとも一方に巻き線溝を形成しギャップ形成面を鏡
面に研磨する工程と、トラック幅規制溝を加工する工程
と、軟磁性合金薄膜を形成する工程と、ギャップ材を所
定のギャップ幅になるように形成する工程と、コア半体
の接合条件として、一対のコア半体のギャップ面を突き
合わせた状態でガラスの転移点付近まで酸素を含む雰囲
気とし、以降は不活性ガス雰囲気で溶融することを特徴
とする磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項２】 コア半体の接合条件として、請求項１に
記載のコア半体の接合条件に代えて、不活性ガス中に１
％以下の酸素を含んだ雰囲気でガラスの溶融を行うこと
を特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項３】 請求項１または２記載の方法により製造
された磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14311991A JP2964706B2 (ja) | 1991-06-14 | 1991-06-14 | 磁気ヘッドの製造方法及びその製造方法を用いて製造した磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14311991A JP2964706B2 (ja) | 1991-06-14 | 1991-06-14 | 磁気ヘッドの製造方法及びその製造方法を用いて製造した磁気ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04366404A JPH04366404A (ja) | 1992-12-18 |
| JP2964706B2 true JP2964706B2 (ja) | 1999-10-18 |
Family
ID=15331360
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14311991A Expired - Fee Related JP2964706B2 (ja) | 1991-06-14 | 1991-06-14 | 磁気ヘッドの製造方法及びその製造方法を用いて製造した磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2964706B2 (ja) |
-
1991
- 1991-06-14 JP JP14311991A patent/JP2964706B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04366404A (ja) | 1992-12-18 |
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Legal Events
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| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |