JPH06162431A - 積層型磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
積層型磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPH06162431A JPH06162431A JP4308596A JP30859692A JPH06162431A JP H06162431 A JPH06162431 A JP H06162431A JP 4308596 A JP4308596 A JP 4308596A JP 30859692 A JP30859692 A JP 30859692A JP H06162431 A JPH06162431 A JP H06162431A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気ヘッドのヘッドチップ（３）に形成され
る媒体対向面（ｍ）となるレール部（５）のエッジ部分
（６）を、常に安定した丸み形状に確実に加工する製造
方法。 【構成】 ヘッドチップ（３）の頂面に矩形形断面のレ
ール部（５）を形成する。レール部（５）の上面を含む
ヘッドチップ（３）の頂面全域に液状のレジスト（７）
を塗布し乾燥させる。レジスト（７）をイオンミリング
法、パウダービーム法、プラズマエッチバック法のいず
れかでエッチングして、レジスト（７）からレール部
（５）のエッジ部分（６）を他より早く露呈させ、エッ
ジ部分（６）もエッチングして丸み加工する。最後に残
ったレジスト（７）を除去して、レール部（５）のエッ
ジ部分（６）の丸み加工が完了する。
る媒体対向面（ｍ）となるレール部（５）のエッジ部分
（６）を、常に安定した丸み形状に確実に加工する製造
方法。 【構成】 ヘッドチップ（３）の頂面に矩形形断面のレ
ール部（５）を形成する。レール部（５）の上面を含む
ヘッドチップ（３）の頂面全域に液状のレジスト（７）
を塗布し乾燥させる。レジスト（７）をイオンミリング
法、パウダービーム法、プラズマエッチバック法のいず
れかでエッチングして、レジスト（７）からレール部
（５）のエッジ部分（６）を他より早く露呈させ、エッ
ジ部分（６）もエッチングして丸み加工する。最後に残
ったレジスト（７）を除去して、レール部（５）のエッ
ジ部分（６）の丸み加工が完了する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＨＤＤ装置（ハードデ
ィスクドライブ装置）に使用される浮上式積層型磁気ヘ
ッドの製造方法で、詳しくは積層型磁気ヘッドにおける
ヘッドチップのレール部加工方法に関する。
ィスクドライブ装置）に使用される浮上式積層型磁気ヘ
ッドの製造方法で、詳しくは積層型磁気ヘッドにおける
ヘッドチップのレール部加工方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】コンピュータ用磁気ディスク装置として
賞用されているＨＤＤ装置は、ディスク状の磁気記録媒
体から僅かに浮上させて情報の記録、再生を行う浮上式
の積層型磁気ヘッドを使用している。この浮上式積層型
磁気ヘッドは、例えば図３に示すようなヘッドチップ
（３）に巻線して製造される。
賞用されているＨＤＤ装置は、ディスク状の磁気記録媒
体から僅かに浮上させて情報の記録、再生を行う浮上式
の積層型磁気ヘッドを使用している。この浮上式積層型
磁気ヘッドは、例えば図３に示すようなヘッドチップ
（３）に巻線して製造される。
【０００３】図３のヘッドチップ（３）は再生用、また
は、記録用のもので、積層構造の磁性薄膜（１）を挾ん
でセラミックなどの一対の非磁性体のスライダ（２）を
接合し一体化した構造である。磁性薄膜（１）は、セン
ダストなどの高飽和磁束密度を有する金属磁性膜と、ア
ルミナなどの絶縁薄膜とを交互に積層したラミネート層
で、その頂面の一部に磁気ギャップ（Ｇ）が形成され
る。
は、記録用のもので、積層構造の磁性薄膜（１）を挾ん
でセラミックなどの一対の非磁性体のスライダ（２）を
接合し一体化した構造である。磁性薄膜（１）は、セン
ダストなどの高飽和磁束密度を有する金属磁性膜と、ア
ルミナなどの絶縁薄膜とを交互に積層したラミネート層
で、その頂面の一部に磁気ギャップ（Ｇ）が形成され
る。
【０００４】ヘッドチップ（３）は、始め略矩形のブロ
ック体で製造された後、平坦な頂面にエア溝（４）が磁
性薄膜（１）と平行に形成される。エア溝（４）は切削
により形成され、この溝切り加工でヘッドチップ（３）
の頂面の両端部に平行な一対のレール部（５）が突設さ
れる。レール部（５）の一方の上面中心線に沿って磁性
薄膜（１）が露呈する。各レール部（５）の上面は平坦
に研磨されて、この上面が磁気記録媒体（図示せず）に
対して０．１μｍ程度僅かに浮上して相対走行する媒体
対向面（ｍ）となる。
ック体で製造された後、平坦な頂面にエア溝（４）が磁
性薄膜（１）と平行に形成される。エア溝（４）は切削
により形成され、この溝切り加工でヘッドチップ（３）
の頂面の両端部に平行な一対のレール部（５）が突設さ
れる。レール部（５）の一方の上面中心線に沿って磁性
薄膜（１）が露呈する。各レール部（５）の上面は平坦
に研磨されて、この上面が磁気記録媒体（図示せず）に
対して０．１μｍ程度僅かに浮上して相対走行する媒体
対向面（ｍ）となる。
【０００５】ヘッドチップ（３）を備えた磁気ヘッド
は、磁気記録媒体に対してレール部（５）の長手方向に
相対走行して、情報の再生または記録を行う。このと
き、レール部（５）が磁気記録媒体を傷付けるのを防止
するため、予めレール部（５）の媒体対向面（ｍ）のエ
ッジ部分（６）を丸くエッジ取り加工している。
は、磁気記録媒体に対してレール部（５）の長手方向に
相対走行して、情報の再生または記録を行う。このと
き、レール部（５）が磁気記録媒体を傷付けるのを防止
するため、予めレール部（５）の媒体対向面（ｍ）のエ
ッジ部分（６）を丸くエッジ取り加工している。
【０００６】このようなレール部（５）のエッジ取り加
工は、図４に示されるように、ゴムシート（８）上の研
磨シート（９）にヘッドチップ（３）を一定の押圧力で
押し付け、そのままヘッドチップ（３）を研磨シート
（９）の面方向に摺動させることで行われている。ヘッ
ドチップ（３）のレール部（５）を研磨シート（９）に
押し付けると、研磨シート（９）がゴムシート（８）の
弾性で変形してレール部（５）のエッジ部分（６）に特
に強く押圧される。この状態でヘッドチップ（３）を研
磨シート（９）上で横に摺動させると、エッジ部分
（６）が研磨シート（９）で丸く研磨される。
工は、図４に示されるように、ゴムシート（８）上の研
磨シート（９）にヘッドチップ（３）を一定の押圧力で
押し付け、そのままヘッドチップ（３）を研磨シート
（９）の面方向に摺動させることで行われている。ヘッ
ドチップ（３）のレール部（５）を研磨シート（９）に
押し付けると、研磨シート（９）がゴムシート（８）の
弾性で変形してレール部（５）のエッジ部分（６）に特
に強く押圧される。この状態でヘッドチップ（３）を研
磨シート（９）上で横に摺動させると、エッジ部分
（６）が研磨シート（９）で丸く研磨される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
に研磨シート（９）でレール部（５）のエッジ部分
（６）を研磨する際、研磨シート（９）とゴムシート
（８）の弾性変形量の変化などが原因でヘッドチップ
（３）を研磨シート（９）に常に適切な一定の押圧力で
押圧することが困難である。そのため、レール部（５）
のエッジ部分（６）に加わる研磨シート（９）からの弾
性押圧力が不安定となって、エッジ部分（６）を所望の
丸み形状に研磨加工することができず、ヘッドチップ
（３）の寸法精度が悪くなる問題があった。
に研磨シート（９）でレール部（５）のエッジ部分
（６）を研磨する際、研磨シート（９）とゴムシート
（８）の弾性変形量の変化などが原因でヘッドチップ
（３）を研磨シート（９）に常に適切な一定の押圧力で
押圧することが困難である。そのため、レール部（５）
のエッジ部分（６）に加わる研磨シート（９）からの弾
性押圧力が不安定となって、エッジ部分（６）を所望の
丸み形状に研磨加工することができず、ヘッドチップ
（３）の寸法精度が悪くなる問題があった。
【０００８】それ故に、本発明の目的とするところは、
上記のようなヘッドチップにおけるレール部のエッジ部
分を所望の丸み形状に確実に加工する製造方法を提供す
ることにある。
上記のようなヘッドチップにおけるレール部のエッジ部
分を所望の丸み形状に確実に加工する製造方法を提供す
ることにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、浮上式積層型
磁気ヘッドにおけるヘッドチップの頂面に形成されたレ
ール部のエッジ部分をエッチングにて丸み形状に加工す
る製造方法で、レール部の上面を含むヘッドチップの頂
面に液状のレジストを塗布し乾燥させる工程と、ヘッド
チップ上のレジストをイオンミリング法、または、パウ
ダービーム法、または、プラズマエッチバック法で、レ
ール部の上面エッジ部分もエッチングされる所定の時間
だけエッチングする工程と、ヘッドチップ上の残留レジ
ストを除去する工程を含む製造方法にて、上記目的を達
成する。
磁気ヘッドにおけるヘッドチップの頂面に形成されたレ
ール部のエッジ部分をエッチングにて丸み形状に加工す
る製造方法で、レール部の上面を含むヘッドチップの頂
面に液状のレジストを塗布し乾燥させる工程と、ヘッド
チップ上のレジストをイオンミリング法、または、パウ
ダービーム法、または、プラズマエッチバック法で、レ
ール部の上面エッジ部分もエッチングされる所定の時間
だけエッチングする工程と、ヘッドチップ上の残留レジ
ストを除去する工程を含む製造方法にて、上記目的を達
成する。
【００１０】また、本発明は、浮上式積層型磁気ヘッド
におけるヘッドチップの平坦な頂面の媒体対向面形成予
定部分に液状のレジストを塗布し乾燥させる工程と、こ
のヘッドチップの頂面に塗布されたレジストとヘッドチ
ップ頂面の露呈部分をエッチングして、レジストが塗布
された媒体対向面形成予定部分を断面山形に残してレー
ル部を形成する工程と、ヘッドチップ上の残留レジスト
を除去する工程を含む製造方法にて、上記目的を達成す
る。
におけるヘッドチップの平坦な頂面の媒体対向面形成予
定部分に液状のレジストを塗布し乾燥させる工程と、こ
のヘッドチップの頂面に塗布されたレジストとヘッドチ
ップ頂面の露呈部分をエッチングして、レジストが塗布
された媒体対向面形成予定部分を断面山形に残してレー
ル部を形成する工程と、ヘッドチップ上の残留レジスト
を除去する工程を含む製造方法にて、上記目的を達成す
る。
【００１１】
【作用】ヘッドチップの頂面に塗布される液状レジスト
の粘度、塗布量でレール部のエッジ部分のエッチング
量、丸み形状が決まる。レジストの粘度、塗布量を一定
に規制することは、技術的に容易であることから、ヘッ
ドチップにおけるレール部のエッジ部分を常に所望の丸
み形状に加工することが容易に可能となる。
の粘度、塗布量でレール部のエッジ部分のエッチング
量、丸み形状が決まる。レジストの粘度、塗布量を一定
に規制することは、技術的に容易であることから、ヘッ
ドチップにおけるレール部のエッジ部分を常に所望の丸
み形状に加工することが容易に可能となる。
【００１２】
【実施例】以下、図３のヘッドチップ（３）の製造方法
に適用した本発明実施例を、図１（ａ）〜（ｄ）に示さ
れる第１の実施例の製造工程と、図２（ａ）〜（ｄ）に
示される第２の実施例の製造工程を参照して説明する。
に適用した本発明実施例を、図１（ａ）〜（ｄ）に示さ
れる第１の実施例の製造工程と、図２（ａ）〜（ｄ）に
示される第２の実施例の製造工程を参照して説明する。
【００１３】まず、図１（ａ）に示すように、ヘッドチ
ップ（３）の頂面にエア溝（４）を従来同様に切削にて
形成して、頂面の両端部に一対の矩形断面のレール部
（５）を形成する。
ップ（３）の頂面にエア溝（４）を従来同様に切削にて
形成して、頂面の両端部に一対の矩形断面のレール部
（５）を形成する。
【００１４】次に、図１（ｂ）に示すように、ヘッドチ
ップ（３）のエア溝（４）とレール部（５）上の全面に
液状のレジスト（７）を塗布し、乾燥させる。このレジ
スト塗布は、レール部（５）の上面のレジスト（７）が
山形断面になって、エア溝（４）のレジスト（７）に波
形に連続するように行われる。このようなレジスト塗布
で、ヘッドチップ（３）上で乾燥したレジスト（７）
は、レール部（５）のエッジ部分（６）とエア溝（４）
の中央部分で薄く形成される。
ップ（３）のエア溝（４）とレール部（５）上の全面に
液状のレジスト（７）を塗布し、乾燥させる。このレジ
スト塗布は、レール部（５）の上面のレジスト（７）が
山形断面になって、エア溝（４）のレジスト（７）に波
形に連続するように行われる。このようなレジスト塗布
で、ヘッドチップ（３）上で乾燥したレジスト（７）
は、レール部（５）のエッジ部分（６）とエア溝（４）
の中央部分で薄く形成される。
【００１５】図１（ｂ）のような形状でのレジスト塗布
は、次のようにディップ法で行えば容易に実施できる。
ヘッドチップ（３）をレール部（５）とエア溝（４）を
レジスト液（図示せず）に浸漬して、レール部（５）の
長手方向に、または、レール部（５）の長手方向と直交
する方向にヘッドチップ（３）をレジスト液から引き上
げる。すると、ヘッドチップ（３）のレール部（５）と
エア溝（４）に、図１（ｂ）に示すような安定した波形
形状でレジスト（７）が塗布される。このレジスト
（７）のレール部（５）上での厚さ、断面形状はレジス
ト液の粘度で決まり、レジスト液の粘度調整でレジスト
（７）の厚さ、形状を適正なものにすることができる。
この場合のレジスト液の粘度は、５００〜１５００ｃｐ
の範囲であり、その塗布厚は２０μｍ程度が適性である
ことが分かっている。
は、次のようにディップ法で行えば容易に実施できる。
ヘッドチップ（３）をレール部（５）とエア溝（４）を
レジスト液（図示せず）に浸漬して、レール部（５）の
長手方向に、または、レール部（５）の長手方向と直交
する方向にヘッドチップ（３）をレジスト液から引き上
げる。すると、ヘッドチップ（３）のレール部（５）と
エア溝（４）に、図１（ｂ）に示すような安定した波形
形状でレジスト（７）が塗布される。このレジスト
（７）のレール部（５）上での厚さ、断面形状はレジス
ト液の粘度で決まり、レジスト液の粘度調整でレジスト
（７）の厚さ、形状を適正なものにすることができる。
この場合のレジスト液の粘度は、５００〜１５００ｃｐ
の範囲であり、その塗布厚は２０μｍ程度が適性である
ことが分かっている。
【００１６】次に、ヘッドチップ（３）上のレジスト
（７）をエッチングする。このエッチングはイオンミリ
ング法、パウダービーム法、プラズマエッチバック法の
いずれかで行う。イオンミリング法、パウダービーム
法、プラズマエッチバック法の各エッチングによると、
レジスト（７）のアンダーカットが無くて、レール部
（５）のエッジ部分（６）が後述するように安定した丸
み形状で加工されることが分かっている。
（７）をエッチングする。このエッチングはイオンミリ
ング法、パウダービーム法、プラズマエッチバック法の
いずれかで行う。イオンミリング法、パウダービーム
法、プラズマエッチバック法の各エッチングによると、
レジスト（７）のアンダーカットが無くて、レール部
（５）のエッジ部分（６）が後述するように安定した丸
み形状で加工されることが分かっている。
【００１７】上記イオンミリング法は、ヘッドチップ
（３）上のレジスト（７）にイオンビームを照射してレ
ジスト（７）をエッチングする方法である。このエッチ
ングでヘッドチップ（３）上に波形に塗布されたレジス
ト（７）が、その波形表面からほぼ等速で除去されてい
く。レジスト（７）のエッチングが進行し、レール部
（５）のエッジ部分（６）上の薄いレジスト（７）が除
去されてエッジ部分（６）が露呈すると、このエッジ部
分（６）もレジスト（７）と共にエッチングされる。エ
ッジ部分（６）は、その先端の角がエッチングされて丸
みを帯びるようになる。そして、図１（ｃ）に示すよう
に、エッジ部分（６）が所定の丸み形状になるまでエッ
チングがされると、エッチングが完了する。
（３）上のレジスト（７）にイオンビームを照射してレ
ジスト（７）をエッチングする方法である。このエッチ
ングでヘッドチップ（３）上に波形に塗布されたレジス
ト（７）が、その波形表面からほぼ等速で除去されてい
く。レジスト（７）のエッチングが進行し、レール部
（５）のエッジ部分（６）上の薄いレジスト（７）が除
去されてエッジ部分（６）が露呈すると、このエッジ部
分（６）もレジスト（７）と共にエッチングされる。エ
ッジ部分（６）は、その先端の角がエッチングされて丸
みを帯びるようになる。そして、図１（ｃ）に示すよう
に、エッジ部分（６）が所定の丸み形状になるまでエッ
チングがされると、エッチングが完了する。
【００１８】図１（ｂ）の状態から（ｃ）の状態になる
までのエッチング時間は、レジスト（７）の粘度、塗布
厚で決まる。この所定時間のエッチング後、ヘッドチッ
プ（３）に残ったレジスト（７）を有機溶剤などを使っ
て除去する。すると、図１（ｄ）に示すように、レール
部（５）のエッジ部分（６）が所望の丸み形状に加工さ
れたヘッドチップ（３）が得られる。
までのエッチング時間は、レジスト（７）の粘度、塗布
厚で決まる。この所定時間のエッチング後、ヘッドチッ
プ（３）に残ったレジスト（７）を有機溶剤などを使っ
て除去する。すると、図１（ｄ）に示すように、レール
部（５）のエッジ部分（６）が所望の丸み形状に加工さ
れたヘッドチップ（３）が得られる。
【００１９】また、図１（ｂ）のヘッドチップ（３）の
レジスト（７）をパウダービーム法、または、プラズマ
エッチバック法でエッチングしても、結果は上記イオン
ミリング法の場合と同様である。
レジスト（７）をパウダービーム法、または、プラズマ
エッチバック法でエッチングしても、結果は上記イオン
ミリング法の場合と同様である。
【００２０】図２の第２の実施例に示される製造方法
は、ヘッドチップ（３）のレール部（５）をエッチング
法で形成して、結果的にレール部（５）のエッジ部分
（６）を丸み形状にしたことを特徴としている。
は、ヘッドチップ（３）のレール部（５）をエッチング
法で形成して、結果的にレール部（５）のエッジ部分
（６）を丸み形状にしたことを特徴としている。
【００２１】すなわち、まず図２（ａ）に示されるよう
な矩形断面のヘッドチップ（３）を製造する。次に、図
２（ｂ）に示すように、矩形断面のヘッドチップ（３）
の平坦な頂面の両端部の媒体対向面形成予定部分
（ｍ’）上にだけ液状のレジスト（７）を塗布し、乾燥
させる。このレジスト（７）は、図１（ｂ）のレール部
（５）上のレジスト（７）と同様な山形断面で塗布さ
れ、このような塗布はレジスト（７）の粘度調整と塗布
量管理で容易に達成される。
な矩形断面のヘッドチップ（３）を製造する。次に、図
２（ｂ）に示すように、矩形断面のヘッドチップ（３）
の平坦な頂面の両端部の媒体対向面形成予定部分
（ｍ’）上にだけ液状のレジスト（７）を塗布し、乾燥
させる。このレジスト（７）は、図１（ｂ）のレール部
（５）上のレジスト（７）と同様な山形断面で塗布さ
れ、このような塗布はレジスト（７）の粘度調整と塗布
量管理で容易に達成される。
【００２２】図２（ｂ）のヘッドチップ（３）の頂面と
レジスト（７）を、イオンミリング法やパウダービーム
法、プラズマエッチバック法などでエッチングする。す
ると、図２（ｃ）に示すように、ヘッドチップ（３）の
レジスト（７）の在る媒体対向面形成予定部分（ｍ’）
を除く頂面がエッチングされて、頂面にエア溝（４）が
形成され、媒体対向面形成予定部分（ｍ’）が突起状に
残ってレール部（５）となる。また、山形断面のレジス
ト（７）もエッチングされて、レジスト（７）の両端の
薄い部分が早く無くなり、その結果、レジスト（７）の
下のレール部（５）のエッジ部分（６）が丸み形状にエ
ッチングされる。
レジスト（７）を、イオンミリング法やパウダービーム
法、プラズマエッチバック法などでエッチングする。す
ると、図２（ｃ）に示すように、ヘッドチップ（３）の
レジスト（７）の在る媒体対向面形成予定部分（ｍ’）
を除く頂面がエッチングされて、頂面にエア溝（４）が
形成され、媒体対向面形成予定部分（ｍ’）が突起状に
残ってレール部（５）となる。また、山形断面のレジス
ト（７）もエッチングされて、レジスト（７）の両端の
薄い部分が早く無くなり、その結果、レジスト（７）の
下のレール部（５）のエッジ部分（６）が丸み形状にエ
ッチングされる。
【００２３】レール部（５）のエッジ部分（６）が所望
の丸み形状にエッチングされる所定時間経過後、エッチ
ングを止めて残ったレジスト（７）を除去する。この状
態が図２（ｄ）に示される。この場合、ヘッドチップ
（３）のレール部（５）は、略台形断面の突起となる。
の丸み形状にエッチングされる所定時間経過後、エッチ
ングを止めて残ったレジスト（７）を除去する。この状
態が図２（ｄ）に示される。この場合、ヘッドチップ
（３）のレール部（５）は、略台形断面の突起となる。
【００２４】
【発明の効果】本発明によれば、ヘッドチップの頂面に
塗布される液状レジストの粘度、塗布量の管理調整で、
レール部のエッジ部分を所望の丸み形状に形成すること
が容易に、確実にできるようになって、適正な寸法形状
のヘッドチップを備えた高品質の磁気ヘッドの製造が容
易になる。また、ヘッドチップの頂面をエッチングで加
工するので、ヘッドチップのレール部加工の完全自動化
が容易になり、磁気ヘッドの生産性を向上させることが
できる効果もある。
塗布される液状レジストの粘度、塗布量の管理調整で、
レール部のエッジ部分を所望の丸み形状に形成すること
が容易に、確実にできるようになって、適正な寸法形状
のヘッドチップを備えた高品質の磁気ヘッドの製造が容
易になる。また、ヘッドチップの頂面をエッチングで加
工するので、ヘッドチップのレール部加工の完全自動化
が容易になり、磁気ヘッドの生産性を向上させることが
できる効果もある。
【図１】本発明の第１の実施例を説明するための各製造
工程のヘッドチップの概念的な正面図で、（ａ）はレー
ル部形成時、（ｂ）はレジスト塗布時、（ｃ）はレジス
トのエッチング時、（ｄ）はレジスト除去時のものであ
る。
工程のヘッドチップの概念的な正面図で、（ａ）はレー
ル部形成時、（ｂ）はレジスト塗布時、（ｃ）はレジス
トのエッチング時、（ｄ）はレジスト除去時のものであ
る。
【図２】本発明の第２の実施例を説明するための各製造
工程のヘッドチップの概念的な正面図で、（ａ）はレー
ル部形成時、（ｂ）はレジスト塗布時、（ｃ）はレジス
トのエッチング時、（ｄ）はレジスト除去時のものであ
る。
工程のヘッドチップの概念的な正面図で、（ａ）はレー
ル部形成時、（ｂ）はレジスト塗布時、（ｃ）はレジス
トのエッチング時、（ｄ）はレジスト除去時のものであ
る。
【図３】積層型磁気ヘッドにおけるヘッドチップの斜視
図。
図。
【図４】図３ヘッドチップのレール部のエッジ部分を研
磨する装置の部分断面図。
磨する装置の部分断面図。
１ 磁性薄膜 ２ スライダ ３ ヘッドチップ ５ レール部 ６ エッジ部分 ７ レジスト ｍ 媒体対向面 ｍ’ 媒体対向面形成予定部分
Claims (4)
- 【請求項１】 磁性薄膜を挾んで複数の非磁性体のスラ
イダを接合一体化したヘッドチップの頂面に、上面が媒
体対向面となる矩形断面のレール部を形成する工程、 レール部の上面を含むヘッドチップの頂面に液状のレジ
ストを塗布し乾燥させる工程、 ヘッドチップ上のレジストをイオンミリング法で、レー
ル部の上面エッジ部分もエッチングされる所定の時間だ
けエッチングする工程、 ヘッドチップ上の残留レジストを除去する工程、 とを含むことを特徴とする積層型磁気ヘッドの製造方
法。 - 【請求項２】 磁性薄膜を挾んで複数の非磁性体のスラ
イダを接合一体化したヘッドチップの頂面に、上面が媒
体対向面となる矩形断面のレール部を形成する工程、 レール部の上面を含むヘッドチップの頂面に液状のレジ
ストを塗布し乾燥させる工程、 ヘッドチップ上のレジストをパウダービーム法で、レー
ル部の上面エッジ部分もエッチングされる所定の時間だ
けエッチングする工程、 ヘッドチップ上の残留レジストを除去する工程、 とを含むことを特徴とする積層型磁気ヘッドの製造方
法。 - 【請求項３】 磁性薄膜を挾んで複数の非磁性体のスラ
イダを接合一体化したヘッドチップの頂面に、上面が媒
体対向面となる矩形断面のレール部を形成する工程、 レール部の上面を含むヘッドチップの頂面に液状のレジ
ストを塗布し乾燥させる工程、 ヘッドチップ上のレジストをプラズマエッチバック法
で、レール部の上面エッジ部分もエッチングされる所定
の時間だけエッチングする工程、 ヘッドチップ上の残留レジストを除去する工程、 とを含むことを特徴とする積層型磁気ヘッドの製造方
法。 - 【請求項４】 磁性薄膜を挾んで複数の非磁性体のスラ
イダを接合一体化したヘッドチップの平坦な頂面の媒体
対向面形成予定部分に液状のレジストを塗布し乾燥させ
る工程、 ヘッドチップの頂面に塗布されたレジストとヘッドチッ
プ頂面の露呈部分をエッチングして、レジストが塗布さ
れた媒体対向面形成予定部分を断面山形に残してレール
部を形成する工程、 ヘッドチップ上の残留レジストを除去する工程、 とを含むことを特徴とする積層型磁気ヘッドの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4308596A JPH06162431A (ja) | 1992-11-18 | 1992-11-18 | 積層型磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4308596A JPH06162431A (ja) | 1992-11-18 | 1992-11-18 | 積層型磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06162431A true JPH06162431A (ja) | 1994-06-10 |
Family
ID=17982946
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4308596A Withdrawn JPH06162431A (ja) | 1992-11-18 | 1992-11-18 | 積層型磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06162431A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100429455B1 (ko) * | 2001-06-11 | 2004-05-04 | 동우 화인켐 주식회사 | 포토레지스트의 에지 비드를 제거하는 세정용액 및 이를이용한 세정방법 |
| US6926582B2 (en) | 2002-04-16 | 2005-08-09 | Hitachi Global Storage Technologies Nethrlands B.V. | System and method for rounding disk drive slider corners and/or edges using a flexible slider fixture, an abrasive element, and support elements to control slider orientation |
| CZ301681B6 (cs) * | 1999-07-29 | 2010-05-26 | Vorwerk & Co. Interholding Gmbh | Zpusob vysávání prachu vysavacem prachu a sberný prostor pro prach pro provádení tohoto zpusobu |
-
1992
- 1992-11-18 JP JP4308596A patent/JPH06162431A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CZ301681B6 (cs) * | 1999-07-29 | 2010-05-26 | Vorwerk & Co. Interholding Gmbh | Zpusob vysávání prachu vysavacem prachu a sberný prostor pro prach pro provádení tohoto zpusobu |
| KR100429455B1 (ko) * | 2001-06-11 | 2004-05-04 | 동우 화인켐 주식회사 | 포토레지스트의 에지 비드를 제거하는 세정용액 및 이를이용한 세정방법 |
| US6926582B2 (en) | 2002-04-16 | 2005-08-09 | Hitachi Global Storage Technologies Nethrlands B.V. | System and method for rounding disk drive slider corners and/or edges using a flexible slider fixture, an abrasive element, and support elements to control slider orientation |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000201 |