JPH0411320A - 浮上型磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
浮上型磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPH0411320A JPH0411320A JP11293190A JP11293190A JPH0411320A JP H0411320 A JPH0411320 A JP H0411320A JP 11293190 A JP11293190 A JP 11293190A JP 11293190 A JP11293190 A JP 11293190A JP H0411320 A JPH0411320 A JP H0411320A
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- magnetic
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- magnetic head
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Links
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Landscapes
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明はハードディスク装置等に使用する浮上型磁気ヘ
ッドの製造方法に関する。
ッドの製造方法に関する。
（従来の技術）
浮上型磁気ヘッドとして、第８図に示すようにスライダ
５０の両側に２つのエアベアリング面５１．５１を平行
に並べて形成し、このスライダ５０の端部でエアベアリ
ング面５１．５１の中央に電磁変換素子部５２を位置さ
せたモノシリツクタイプのものがある。
５０の両側に２つのエアベアリング面５１．５１を平行
に並べて形成し、このスライダ５０の端部でエアベアリ
ング面５１．５１の中央に電磁変換素子部５２を位置さ
せたモノシリツクタイプのものがある。
このような浮上型磁気ヘッドのうちには、上記のように
電磁変換素子部５２のトラック幅Ｔｗを機械加工にて規
制するバルク型と、トラック幅をフォトリソグラフィ及
び磁性材の選択形成あるいはエツチングにて規制する薄
膜型とがある。
電磁変換素子部５２のトラック幅Ｔｗを機械加工にて規
制するバルク型と、トラック幅をフォトリソグラフィ及
び磁性材の選択形成あるいはエツチングにて規制する薄
膜型とがある。
（発明が解決しようとする課題）
ところでハードディスクドライブ装置においては、記録
密度が増加していることから磁気ヘッドのトラック幅Ｔ
ｗは微小化する傾向にあり、１０μｍ以下にする要求が
高まっている。
密度が増加していることから磁気ヘッドのトラック幅Ｔ
ｗは微小化する傾向にあり、１０μｍ以下にする要求が
高まっている。
ところが、バルク型は第９図に示すように電磁変換素子
部５２の両側部５２ａ、５２ａ及び各エアベアリング５
１の両側部５１ａ、５１ａを研削加工してヘッド５２の
トラック幅Ｔｗ及びエアベアリング幅Ｅｗを規制するの
で、工数がかかると共に精度的な限界があり、しかも研
削加工によって電磁変換素子部５２の両側部及びエアベ
アリング５１の両側部に同図に斜線を施して示す部分が
加工による熱で変質し、磁性体の特性が劣化する。
部５２の両側部５２ａ、５２ａ及び各エアベアリング５
１の両側部５１ａ、５１ａを研削加工してヘッド５２の
トラック幅Ｔｗ及びエアベアリング幅Ｅｗを規制するの
で、工数がかかると共に精度的な限界があり、しかも研
削加工によって電磁変換素子部５２の両側部及びエアベ
アリング５１の両側部に同図に斜線を施して示す部分が
加工による熱で変質し、磁性体の特性が劣化する。
また、薄膜型は製造プロセスが複雑であり、基板上のコ
ア間段差をなくすることが難しく、しかもエアベアリン
グ幅を規制するためにその両側部を加工するので工数が
かかる。
ア間段差をなくすることが難しく、しかもエアベアリン
グ幅を規制するためにその両側部を加工するので工数が
かかる。
（課題を解決するための手段）
上記課題を解決するため本発明は、フォトリソグラフィ
とエツチング技術とを組合せて浮上型磁気ヘッドのエア
ベアリングとトラックとを同時に加工形成するようにし
た。
とエツチング技術とを組合せて浮上型磁気ヘッドのエア
ベアリングとトラックとを同時に加工形成するようにし
た。
（作用）
磁性体表面にエアベアリング幅のレジスト膜とトラック
幅のレジスト膜をマスクとして形成し、このマスクを介
して磁性体をエツチングすることでエアベアリング及び
トラックを一体的に形成する。
幅のレジスト膜をマスクとして形成し、このマスクを介
して磁性体をエツチングすることでエアベアリング及び
トラックを一体的に形成する。
（実施例）
以下に本発明の実施例を添付図面を参照して説明する。
第１図乃至第３図は本発明に係る製造方法を示す図であ
り、このうち第１図（Ａ）は加工前の磁性体の平面図、
第１図（Ｂ）は第１図（Ａ）のＢ方向矢視図、第２図（
Ａ）はレジスト膜を形成した状態の磁性体の平面図、第
２図（Ｂ）は第２図（Ａ）のＢ方向矢視図、第３図は磁
性体のエツチング後の状態を示す図である。
り、このうち第１図（Ａ）は加工前の磁性体の平面図、
第１図（Ｂ）は第１図（Ａ）のＢ方向矢視図、第２図（
Ａ）はレジスト膜を形成した状態の磁性体の平面図、第
２図（Ｂ）は第２図（Ａ）のＢ方向矢視図、第３図は磁
性体のエツチング後の状態を示す図である。
浮上型磁気ヘッドを製造するには、第１図（Ａ）及び（
Ｂ）に示すように溝１ａを有する磁性半体１と２ａを有
する磁性半体２とをギャップ材３を介して貼り合わせて
基材４とし、次いでこの基材４の一面にフォトレジスト
膜を塗布形成し、このレジスト膜に対しフォトリソグラ
フィ技術を利用し、第２図（Ａ）及び（Ｂ）に示すよう
にエアベアリング幅と等しい幅のレジスト膜５ａとトラ
ック幅と等しい幅のレジスト膜５ｂからなるレジストパ
ターン５形成する。
Ｂ）に示すように溝１ａを有する磁性半体１と２ａを有
する磁性半体２とをギャップ材３を介して貼り合わせて
基材４とし、次いでこの基材４の一面にフォトレジスト
膜を塗布形成し、このレジスト膜に対しフォトリソグラ
フィ技術を利用し、第２図（Ａ）及び（Ｂ）に示すよう
にエアベアリング幅と等しい幅のレジスト膜５ａとトラ
ック幅と等しい幅のレジスト膜５ｂからなるレジストパ
ターン５形成する。
次いで、イオンミーリング等によってレジストパターン
５でマスキングされていない部分をエツチングし、更に
アッシングによりレジスト膜５ａ５ｂを除去し、所定幅
のトラック７及びエアベアリング８を得た後、１個の磁
気ヘッド寸法に切断し、機械加工による溝９を形成して
第４図及び第５図に示す磁気ヘッド１０を得る。
５でマスキングされていない部分をエツチングし、更に
アッシングによりレジスト膜５ａ５ｂを除去し、所定幅
のトラック７及びエアベアリング８を得た後、１個の磁
気ヘッド寸法に切断し、機械加工による溝９を形成して
第４図及び第５図に示す磁気ヘッド１０を得る。
このようにして、トラック７及びエアベアリング８．８
をフォトリソグラフィ及びエツチングにて同時に加工形
成することにより、工数が少なくなり、しかもトラック
精度が向上し、加工変質層も少なくなって磁性特性が良
好になる。
をフォトリソグラフィ及びエツチングにて同時に加工形
成することにより、工数が少なくなり、しかもトラック
精度が向上し、加工変質層も少なくなって磁性特性が良
好になる。
同様にして、例えば第６図あるいは第７図に示すような
磁気ヘッド２０．３０を得ることもできる。磁気ヘッド
２０は一方のエアベアリンク２８とトラック２７とを一
体形成し、且つエアベアリング２８の先部を先細りのテ
ーパ形状としている。
磁気ヘッド２０．３０を得ることもできる。磁気ヘッド
２０は一方のエアベアリンク２８とトラック２７とを一
体形成し、且つエアベアリング２８の先部を先細りのテ
ーパ形状としている。
また磁気ヘッド３０はトラック３７をスライダ上の２つ
のエアベアリング３８．３８間の中央端部に形成したも
のである。
のエアベアリング３８．３８間の中央端部に形成したも
のである。
（発明の効果）
以上説明したように本発明によれば、エアベアリングと
トラックを同時に加工形成するので、製造工数が減少す
る。
トラックを同時に加工形成するので、製造工数が減少す
る。
また、トラック精度も向上し、加工変質層も少なくなっ
て磁性特性が良好になる。
て磁性特性が良好になる。
第１図（Ａ）は加工前の磁性体の平面図、第１図（Ｂ）
は第１図（Ａ）のＢ方向矢視図、第２図（Ａ）はレジス
ト膜を形成した状態の磁性体の平面図、第２図（Ｂ）は
第２図（Ａ）のＢ方向矢視図、第３図は磁性体のエツチ
ング後の状態を示す第１図（Ｂ）と同様の図、第４図は
本発明方法にて製作した浮上型磁気ヘッドの斜視図、第
５図は同浮上型磁気ヘッドの正面図、第６図及び第７図
は浮上型磁気ヘッドの別実施例の斜視図、第８図及び第
９図は従来の浮上型磁気ヘッドを示す図である。 １．２・・・磁性半体、３・・・ギャップ材、４・・・
基材、６．７．８・・・パターン、９・・・溝、 １
１．２１３１・・・磁気ヘッド、１２，２２．３２・・
・スライダ１３．２３．３３・・・エアーベアリング、
１４゜２４．３４・・・電磁変換素子部。 特 許 出 願 人 日本ビクター株式会社第 図 第 図 第 図 第 図
は第１図（Ａ）のＢ方向矢視図、第２図（Ａ）はレジス
ト膜を形成した状態の磁性体の平面図、第２図（Ｂ）は
第２図（Ａ）のＢ方向矢視図、第３図は磁性体のエツチ
ング後の状態を示す第１図（Ｂ）と同様の図、第４図は
本発明方法にて製作した浮上型磁気ヘッドの斜視図、第
５図は同浮上型磁気ヘッドの正面図、第６図及び第７図
は浮上型磁気ヘッドの別実施例の斜視図、第８図及び第
９図は従来の浮上型磁気ヘッドを示す図である。 １．２・・・磁性半体、３・・・ギャップ材、４・・・
基材、６．７．８・・・パターン、９・・・溝、 １
１．２１３１・・・磁気ヘッド、１２，２２．３２・・
・スライダ１３．２３．３３・・・エアーベアリング、
１４゜２４．３４・・・電磁変換素子部。 特 許 出 願 人 日本ビクター株式会社第 図 第 図 第 図 第 図
Claims (1)
- 磁性体表面にエアベアリング幅のレジスト膜とトラック
幅のレジスト膜を形成し、次いで前記レジスト膜をマス
クとして磁性体をエッチングし、マスクした部分をエア
ベアリング及びトラックとして残すようにしたことを特
徴とする浮上型磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11293190A JPH0411320A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 浮上型磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11293190A JPH0411320A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 浮上型磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0411320A true JPH0411320A (ja) | 1992-01-16 |
Family
ID=14599073
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11293190A Pending JPH0411320A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | 浮上型磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0411320A (ja) |
-
1990
- 1990-04-27 JP JP11293190A patent/JPH0411320A/ja active Pending
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