JPH06259737A - 浮上式磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
浮上式磁気ヘッドの製造方法Info
- Publication number
- JPH06259737A JPH06259737A JP26448591A JP26448591A JPH06259737A JP H06259737 A JPH06259737 A JP H06259737A JP 26448591 A JP26448591 A JP 26448591A JP 26448591 A JP26448591 A JP 26448591A JP H06259737 A JPH06259737 A JP H06259737A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slider
- magnetic head
- core block
- forming
- perspective
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は浮上式磁気ヘッドのスライダー面の
平面性を向上させ、より低浮上量でかつ高い信頼性を有
し、低原価で量産性に適した浮上式磁気ヘッドの製造方
法の提供を目的とする。 【構成】 本発明の浮上式磁気ヘッドの製造方法は、ス
ライダー用コア材5とギャップ形成部7を介して接合さ
れた巻線用コア材6とからなるコアブロック8からフォ
トリソグラフィ法又は機械加工法を用いて浮上式磁気ヘ
ッドを製造する浮上式磁気ヘッドの製造方法であって、
前記コアブロック8のバックギャップ部12にギャップ
形成時の応力を緩和する傾斜溝14等の溝入れ加工をし
た後にデプス加工やスライダー形成加工、トラック幅規
制加工等を行なう構成からなる。ここで、溝入れ加工
は、ギャップ形成時の応力を緩和するものであれば傾斜
溝、切欠き等バックギャップ部12の一部を切除するも
のであればよい。
平面性を向上させ、より低浮上量でかつ高い信頼性を有
し、低原価で量産性に適した浮上式磁気ヘッドの製造方
法の提供を目的とする。 【構成】 本発明の浮上式磁気ヘッドの製造方法は、ス
ライダー用コア材5とギャップ形成部7を介して接合さ
れた巻線用コア材6とからなるコアブロック8からフォ
トリソグラフィ法又は機械加工法を用いて浮上式磁気ヘ
ッドを製造する浮上式磁気ヘッドの製造方法であって、
前記コアブロック8のバックギャップ部12にギャップ
形成時の応力を緩和する傾斜溝14等の溝入れ加工をし
た後にデプス加工やスライダー形成加工、トラック幅規
制加工等を行なう構成からなる。ここで、溝入れ加工
は、ギャップ形成時の応力を緩和するものであれば傾斜
溝、切欠き等バックギャップ部12の一部を切除するも
のであればよい。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は磁気記録装置に於ける浮
上式磁気ヘッドの製造方法に関するものである。
上式磁気ヘッドの製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、フォトリソグラフィ技術等を用い
た浮上式磁気ヘッドが各種情報機器に用いられている。
フォトリソグラフィ技術を用いた浮上式磁気ヘッドは、
トラック規制を機械加工より精度よく行えるうえに、狭
トラック化を可能にし、高密度記録化及び低浮上量化が
進められている。浮上量が低下するに従って浮上量の安
定化が重要になる。そこで、フォトリソグラフィー技術
を用いた浮上式磁気ヘッドの浮上量に大きく影響を与え
る空気浮上面とエッチング面の段差はサブミクロンの精
度での制御が要求されてきている。従って、従来までの
ラッピングにより平面性を向上する方法でこの精度を維
持することは極めて困難な状況になってきている。
た浮上式磁気ヘッドが各種情報機器に用いられている。
フォトリソグラフィ技術を用いた浮上式磁気ヘッドは、
トラック規制を機械加工より精度よく行えるうえに、狭
トラック化を可能にし、高密度記録化及び低浮上量化が
進められている。浮上量が低下するに従って浮上量の安
定化が重要になる。そこで、フォトリソグラフィー技術
を用いた浮上式磁気ヘッドの浮上量に大きく影響を与え
る空気浮上面とエッチング面の段差はサブミクロンの精
度での制御が要求されてきている。従って、従来までの
ラッピングにより平面性を向上する方法でこの精度を維
持することは極めて困難な状況になってきている。
【0003】以下に一般的な浮上式磁気ヘッドについて
説明する。図5は一般的な浮上式磁気ヘッドの斜視図で
ある。
説明する。図5は一般的な浮上式磁気ヘッドの斜視図で
ある。
【0004】1は強磁性材料であるフェライトからなる
スライダー用コア、2はギャップ部、3はギャップ部2
を介してコア1に接合された巻線用コア、4はエッチン
グにより形成されスライダー面とエッチング面の段差が
数ミクロンに形成されたスライダーパターンで、浮上式
磁気ヘッドはスライダーパターン4に形成された段差に
より浮上量をコントロールしている。
スライダー用コア、2はギャップ部、3はギャップ部2
を介してコア1に接合された巻線用コア、4はエッチン
グにより形成されスライダー面とエッチング面の段差が
数ミクロンに形成されたスライダーパターンで、浮上式
磁気ヘッドはスライダーパターン4に形成された段差に
より浮上量をコントロールしている。
【0005】以上のように構成された浮上式磁気ヘッド
について、以下従来の製造方法について説明する。
について、以下従来の製造方法について説明する。
【0006】図6は従来のフォトリソグラフィー技術を
利用した浮上式磁気ヘッドの製造方法の製造工程図であ
り、(a)はブロック形成後のコアブロックの斜視図、
(b)はラッピング工程後のコアブロックの斜視図であ
り、(c)はスライダーパターン形成工程後のコアブロ
ックの斜視図、(d)はコアブロック切断工程後のヘッ
ド単体の斜視図、(e)は巻線部形成工程後のヘッド単
体の斜視図である。まず、工程(a)で強磁性フェライ
トにより形成されたスライダー用コア材5と巻線用コア
材6の少なくとも一方に形状加工を行い、SiO2,A
l2O3などをスパッタリングなどの薄膜形成法により形
成したギャップ形成部7を介して張り合わせ、コアブロ
ック8を作成する。
利用した浮上式磁気ヘッドの製造方法の製造工程図であ
り、(a)はブロック形成後のコアブロックの斜視図、
(b)はラッピング工程後のコアブロックの斜視図であ
り、(c)はスライダーパターン形成工程後のコアブロ
ックの斜視図、(d)はコアブロック切断工程後のヘッ
ド単体の斜視図、(e)は巻線部形成工程後のヘッド単
体の斜視図である。まず、工程(a)で強磁性フェライ
トにより形成されたスライダー用コア材5と巻線用コア
材6の少なくとも一方に形状加工を行い、SiO2,A
l2O3などをスパッタリングなどの薄膜形成法により形
成したギャップ形成部7を介して張り合わせ、コアブロ
ック8を作成する。
【0007】次いで、工程(b)で、磁気コアのデプス
規制をするために所定の厚みとなるまでラッピング加工
を行う。次に工程(c)でフォトリソグラフィ技術を用
いてスライダーパターンの形成及びトラック規制加工を
行う。すなわち、デプス規制加工の終わったコアブロッ
クに感光剤のレジストをスピンコーティングしレジスト
を乾燥させる。そして、スライダーパターンのフォトマ
スクをレジスト表面に密着させ、その上から紫外線をあ
て露光する。その後現像液に浸し、光の当たった部分の
レジストを洗い流すことによりレジストでのスライダー
パターンを得る。その後イオンエッチング加工を行いス
ライダーパターン群9を形成する。
規制をするために所定の厚みとなるまでラッピング加工
を行う。次に工程(c)でフォトリソグラフィ技術を用
いてスライダーパターンの形成及びトラック規制加工を
行う。すなわち、デプス規制加工の終わったコアブロッ
クに感光剤のレジストをスピンコーティングしレジスト
を乾燥させる。そして、スライダーパターンのフォトマ
スクをレジスト表面に密着させ、その上から紫外線をあ
て露光する。その後現像液に浸し、光の当たった部分の
レジストを洗い流すことによりレジストでのスライダー
パターンを得る。その後イオンエッチング加工を行いス
ライダーパターン群9を形成する。
【0008】その後、工程(d)で、コアブロック8を
ヘッド単体10に切断し、工程(e)で巻線部11を形
成加工して、スライダー完成品を得ていた。
ヘッド単体10に切断し、工程(e)で巻線部11を形
成加工して、スライダー完成品を得ていた。
【0009】以上のように構成された従来の浮上式磁気
ヘッドの製造方法について、以下そのスライダーの平滑
化加工について図7を用いて説明する。
ヘッドの製造方法について、以下そのスライダーの平滑
化加工について図7を用いて説明する。
【0010】図7は巻線部形成加工後のヘッド単体の斜
視図である。前記工程(e)で、コアブロック8からヘ
ッド単体10を切断し、巻線部11の形成加工を行なう
際、ギャップ形成部7の応力が緩和され、図7に示すよ
うなネジレ等の変形が発生する。そこで、変形の大きい
ものについては巻線部11の形成加工後にヘッド単体1
0に微小の荷重をかけスライダーパターン4にラッピン
グ加工を施している。
視図である。前記工程(e)で、コアブロック8からヘ
ッド単体10を切断し、巻線部11の形成加工を行なう
際、ギャップ形成部7の応力が緩和され、図7に示すよ
うなネジレ等の変形が発生する。そこで、変形の大きい
ものについては巻線部11の形成加工後にヘッド単体1
0に微小の荷重をかけスライダーパターン4にラッピン
グ加工を施している。
【0011】次に、機械加工による従来の浮上式磁気ヘ
ッドの製造方法について説明する。図8は従来の機械加
工法による浮上式磁気ヘッドの製造工程図であり、
(a)はコアブロックの形成工程後のコアブロックの斜
視図であり、(b)はコアブロック切断後のヘッド単体
の斜視図であり、(c)はスキー加工後のヘッド単体の
斜視図であり、(d)はデプス規制、トラック加工後の
ヘッド単体の斜視図であり、(e)はラッピング加工後
のヘッド単体の斜視図である。従来の機械加工法による
浮上式磁気ヘッドの製造方法では、ヘッド単体に切断
(b)した後、スキー加工(c)、デプス規制、トラッ
ク加工を行い(d)、最後に平面度対策の最終ラッピン
グをおこなってスライダー完成品(e)としていた。こ
れは、数秒間のラッピングであるため安定した加工を行
なうことが非常に困難であった。
ッドの製造方法について説明する。図8は従来の機械加
工法による浮上式磁気ヘッドの製造工程図であり、
(a)はコアブロックの形成工程後のコアブロックの斜
視図であり、(b)はコアブロック切断後のヘッド単体
の斜視図であり、(c)はスキー加工後のヘッド単体の
斜視図であり、(d)はデプス規制、トラック加工後の
ヘッド単体の斜視図であり、(e)はラッピング加工後
のヘッド単体の斜視図である。従来の機械加工法による
浮上式磁気ヘッドの製造方法では、ヘッド単体に切断
(b)した後、スキー加工(c)、デプス規制、トラッ
ク加工を行い(d)、最後に平面度対策の最終ラッピン
グをおこなってスライダー完成品(e)としていた。こ
れは、数秒間のラッピングであるため安定した加工を行
なうことが非常に困難であった。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の構成では、ねじれ等の変形は、ギャップ形成時に磁気
コアに加わる応力の不均一性によって発生しており、完
全にスライダーパターン面を平滑にすることが困難で、
ギャップ部の部分に変形が残ったままとなる。従って、
浮上時にギャップ部の浮上量が左右のレールで差が生
じ、電磁変換特性がバラつくという問題点があった。
の構成では、ねじれ等の変形は、ギャップ形成時に磁気
コアに加わる応力の不均一性によって発生しており、完
全にスライダーパターン面を平滑にすることが困難で、
ギャップ部の部分に変形が残ったままとなる。従って、
浮上時にギャップ部の浮上量が左右のレールで差が生
じ、電磁変換特性がバラつくという問題点があった。
【0013】また、信頼性の面においても、スライダー
面が変形しているため、低浮上状態では、一方のレール
のエッジが磁気記録媒体に接触しクラッシュを引き起こ
し易く信頼性の低下をまねく等の問題点を有していた。
更に、磁気ヘッド単体は微小なため平滑加工は困難で生
産性が悪く製品歩留りを下げるという問題点を有してい
た。
面が変形しているため、低浮上状態では、一方のレール
のエッジが磁気記録媒体に接触しクラッシュを引き起こ
し易く信頼性の低下をまねく等の問題点を有していた。
更に、磁気ヘッド単体は微小なため平滑加工は困難で生
産性が悪く製品歩留りを下げるという問題点を有してい
た。
【0014】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、浮上式磁気ヘッドのスライダー面の平面性を向上さ
せ、より低浮上量でかつ高い信頼性を有し、低原価で量
産性に適した浮上式磁気ヘッドの製造方法を提供するこ
とを目的とする。
で、浮上式磁気ヘッドのスライダー面の平面性を向上さ
せ、より低浮上量でかつ高い信頼性を有し、低原価で量
産性に適した浮上式磁気ヘッドの製造方法を提供するこ
とを目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の浮上式磁気ヘッドの製造方法は、スライダー
用コア材とギャップ形成部を介して接合された巻線用コ
ア材とからなるコアブロックからフォトリソグラフィ法
又は機械加工法を用いて浮上式磁気ヘッドを製造する浮
上式磁気ヘッドの製造方法であって、前記コアブロック
のバックギャップ部にギャップ形成時の応力を緩和する
溝入れ等の加工をした後にデプス加工やスライダー形成
加工、トラック幅規制加工等を行なう構成からなる。
に本発明の浮上式磁気ヘッドの製造方法は、スライダー
用コア材とギャップ形成部を介して接合された巻線用コ
ア材とからなるコアブロックからフォトリソグラフィ法
又は機械加工法を用いて浮上式磁気ヘッドを製造する浮
上式磁気ヘッドの製造方法であって、前記コアブロック
のバックギャップ部にギャップ形成時の応力を緩和する
溝入れ等の加工をした後にデプス加工やスライダー形成
加工、トラック幅規制加工等を行なう構成からなる。
【0016】ここで、溝入れ等の加工は、ギャップ形成
時の応力を緩和するものであれば傾斜溝、切欠き等バッ
クギャップ部の一部を切除するものであればよい。
時の応力を緩和するものであれば傾斜溝、切欠き等バッ
クギャップ部の一部を切除するものであればよい。
【0017】
【作用】この構成によって、バックギャップ部に溝入れ
等の加工を行なうことにより、コアブロックのギャップ
形成時の応力が解放されてねじれ等の変形が発生する
が、その後にデプス規制加工等でラッピングされ平坦化
されるので、スライダー面は変形のない平滑面とするこ
とができる。
等の加工を行なうことにより、コアブロックのギャップ
形成時の応力が解放されてねじれ等の変形が発生する
が、その後にデプス規制加工等でラッピングされ平坦化
されるので、スライダー面は変形のない平滑面とするこ
とができる。
【0018】
【実施例】以下本発明の一実施例について、図面を参照
しながら説明する。
しながら説明する。
【0019】図1は本発明の一実施例である浮上式磁気
ヘッドのフォトリソグラフィ法による製造方法の工程図
であり、(a)はコアブロック形成工程後のコアブロッ
クの斜視図であり、(b)はバックギャップ部への溝入
工程後のコアブロックの斜視図であり、(c)はスライ
ダーパターン形成工程後のコアブロックの斜視図であ
り、(d)はコアブロック切断工程後のヘッド単体の斜
視図であり、(e)は巻線部形成工程後のヘッド単体の
斜視図であり、図2はバックギャップ部への溝加工時の
斜視図であり、図3はコアブロックの変形例を示す説明
図であり、(a)はコアブロックの斜視図であり、
(b)は(a)のA部拡大図である。
ヘッドのフォトリソグラフィ法による製造方法の工程図
であり、(a)はコアブロック形成工程後のコアブロッ
クの斜視図であり、(b)はバックギャップ部への溝入
工程後のコアブロックの斜視図であり、(c)はスライ
ダーパターン形成工程後のコアブロックの斜視図であ
り、(d)はコアブロック切断工程後のヘッド単体の斜
視図であり、(e)は巻線部形成工程後のヘッド単体の
斜視図であり、図2はバックギャップ部への溝加工時の
斜視図であり、図3はコアブロックの変形例を示す説明
図であり、(a)はコアブロックの斜視図であり、
(b)は(a)のA部拡大図である。
【0020】工程(a)のギャップ形成部7を形成する
工程までは、従来の浮上式磁気ヘッドの製造方法と同じ
工程をたどり、工程(b)でデプス規制する前すなわ
ち、従来の浮上式磁気ヘッドの製造方法である図6の工
程(a)と工程(b)の工程間でバックギャップ部12
に巻線用コア規制代13を残して、傾斜溝14を切削す
る。この工程では、コアブロック8の最終的に巻線窓部
を形成するために除去する部分の中で、接合した磁気コ
アのスライダー形成面と逆の面のバックギャップ部12
のみを除去し、バックギャップ部12への傾斜溝14の
溝入れ加工を行う。バックギャップ部12の溝入れ加工
方法は図2に示すようにスライダー形成面(フロントギ
ャップ部側)を治具に斜めに貼付けて、一点鎖線cで示
すようにバックギャップ部12のみを完全に研削する。
また、バックギャップ部12の傾斜溝14の幅aは、フ
ロントギャップ部側のスライダー形成面の巻線用コア3
の形成のための巻線用コア規制代13の幅以下とする。
この部分の除去後は、図3(b)に示すようにスライダ
ー形成面は大きく変形して、ねじれ等の変形が発生する
が、その後、スライダー形成面をラッピング加工を行
い、所定のデプスにまで加工することによりスライダー
形成面の変形を取り除いて平面とすることができる。
工程までは、従来の浮上式磁気ヘッドの製造方法と同じ
工程をたどり、工程(b)でデプス規制する前すなわ
ち、従来の浮上式磁気ヘッドの製造方法である図6の工
程(a)と工程(b)の工程間でバックギャップ部12
に巻線用コア規制代13を残して、傾斜溝14を切削す
る。この工程では、コアブロック8の最終的に巻線窓部
を形成するために除去する部分の中で、接合した磁気コ
アのスライダー形成面と逆の面のバックギャップ部12
のみを除去し、バックギャップ部12への傾斜溝14の
溝入れ加工を行う。バックギャップ部12の溝入れ加工
方法は図2に示すようにスライダー形成面(フロントギ
ャップ部側)を治具に斜めに貼付けて、一点鎖線cで示
すようにバックギャップ部12のみを完全に研削する。
また、バックギャップ部12の傾斜溝14の幅aは、フ
ロントギャップ部側のスライダー形成面の巻線用コア3
の形成のための巻線用コア規制代13の幅以下とする。
この部分の除去後は、図3(b)に示すようにスライダ
ー形成面は大きく変形して、ねじれ等の変形が発生する
が、その後、スライダー形成面をラッピング加工を行
い、所定のデプスにまで加工することによりスライダー
形成面の変形を取り除いて平面とすることができる。
【0021】次いで、スライダーパターンの形成工程
(c)ではフォトリソグラフィ技術が用いられる。すな
わち、デプス規制の終わったコアブロック8に、従来と
同様にスピンコートなどの薄膜コーティング法により感
光剤のレジストを塗布する。そしてスライダーパターン
群9をレジストで形成する。その際、巻線部の中央にス
ライダーパターンのトラック部に位置するように位置決
めしスライダーパターン群9を形成する。その後イオン
ミリング等のエッチング法によりスライダー形状を形成
した後、ヘッド単体に切断する。
(c)ではフォトリソグラフィ技術が用いられる。すな
わち、デプス規制の終わったコアブロック8に、従来と
同様にスピンコートなどの薄膜コーティング法により感
光剤のレジストを塗布する。そしてスライダーパターン
群9をレジストで形成する。その際、巻線部の中央にス
ライダーパターンのトラック部に位置するように位置決
めしスライダーパターン群9を形成する。その後イオン
ミリング等のエッチング法によりスライダー形状を形成
した後、ヘッド単体に切断する。
【0022】次に、工程(d)で巻線部形成のためスラ
イダー形成面側の巻線用コア3の形成のため巻線用コア
規制代13の研削加工を行い、工程(e)でスライダー
完成品を得る。
イダー形成面側の巻線用コア3の形成のため巻線用コア
規制代13の研削加工を行い、工程(e)でスライダー
完成品を得る。
【0023】以上により、最終のスライダー面の平面度
は、コアブロックの状態での平面度がほぼそのまま保た
れ、スライダーパターン形成後、その面の加工をするこ
とが困難なフォトリソグラフィ技術を用いた浮上式磁気
ヘッドの製造方法においても、優れた平面性を実現する
ことができた。
は、コアブロックの状態での平面度がほぼそのまま保た
れ、スライダーパターン形成後、その面の加工をするこ
とが困難なフォトリソグラフィ技術を用いた浮上式磁気
ヘッドの製造方法においても、優れた平面性を実現する
ことができた。
【0024】(実施例2)図4は本発明の第2実施例で
ある機械加工法による浮上式磁気ヘッドの製造方法を示
す工程図であり、(a)はバックギャップ部の溝加工後
のコアブロックの斜視図であり、(b)はコアブロック
を切断後のヘッド単体の斜視図であり、(c)はスキー
加工後のヘッド単体の斜視図であり、(d)はデプス規
制、トラック加工後のスライダ完成品の斜視図である。
ある機械加工法による浮上式磁気ヘッドの製造方法を示
す工程図であり、(a)はバックギャップ部の溝加工後
のコアブロックの斜視図であり、(b)はコアブロック
を切断後のヘッド単体の斜視図であり、(c)はスキー
加工後のヘッド単体の斜視図であり、(d)はデプス規
制、トラック加工後のスライダ完成品の斜視図である。
【0025】工程(a)でコアブロック8のバックギャ
ップ部12に巻線用コア規制代13を残して傾斜溝14
の加工を行い、工程(b)でコアブロック8をヘッド単
体10に切断し、工程(c)でスキー加工を行い、次い
で、工程(d)でデプス規制、巻線トラック加工を行い
スライダー完成品を得る。
ップ部12に巻線用コア規制代13を残して傾斜溝14
の加工を行い、工程(b)でコアブロック8をヘッド単
体10に切断し、工程(c)でスキー加工を行い、次い
で、工程(d)でデプス規制、巻線トラック加工を行い
スライダー完成品を得る。
【0026】以上説明したように、本実施例の製造方法
を用いることにより、機械加工法による浮上式磁気ヘッ
ドの製造方法においても平面性向上のための最終ラッピ
ング工程を廃止することができ、容易に平面度を小さく
抑えることが出来る。
を用いることにより、機械加工法による浮上式磁気ヘッ
ドの製造方法においても平面性向上のための最終ラッピ
ング工程を廃止することができ、容易に平面度を小さく
抑えることが出来る。
【0027】
【発明の効果】以上のように本発明は、コアブロックの
バックギャップ部の一部を切除して、コアブロックのギ
ャップ形成時の応力を解放した後、スライダーの形成を
行うので、浮上式磁気ヘッドのスライダー面の平面度を
飛躍的に向上することができる。その結果、高密度記録
を実現するための条件である狭トラック化と平面度向上
による低浮上量化の両方ともに満足することができ、高
い信頼性を達成することができる。また、磁気ヘッドご
との浮上量のばらつきが小さく、電磁変換特性が安定
し、量産性に優れた浮上式磁気ヘッドの製造方法を実現
できるものである。
バックギャップ部の一部を切除して、コアブロックのギ
ャップ形成時の応力を解放した後、スライダーの形成を
行うので、浮上式磁気ヘッドのスライダー面の平面度を
飛躍的に向上することができる。その結果、高密度記録
を実現するための条件である狭トラック化と平面度向上
による低浮上量化の両方ともに満足することができ、高
い信頼性を達成することができる。また、磁気ヘッドご
との浮上量のばらつきが小さく、電磁変換特性が安定
し、量産性に優れた浮上式磁気ヘッドの製造方法を実現
できるものである。
【図1】本発明の第1実施例のフォトリソグラフィ法を
利用した浮上式磁気ヘッドの製造工程図 (a)ブロック形成工程後のコアブロックの斜視図 (b)バックギャップ部への溝入工程後のコアブロック
の斜視図 (c)スライダーパターン形成工程後のコアブロックの
斜視図 (d)コアブロック切断工程後のヘッド単体の斜視図 (e)巻線部形成工程後のヘッド単体の斜視図
利用した浮上式磁気ヘッドの製造工程図 (a)ブロック形成工程後のコアブロックの斜視図 (b)バックギャップ部への溝入工程後のコアブロック
の斜視図 (c)スライダーパターン形成工程後のコアブロックの
斜視図 (d)コアブロック切断工程後のヘッド単体の斜視図 (e)巻線部形成工程後のヘッド単体の斜視図
【図2】バックギャップ部への溝加工時の斜視図
【図3】(a)コアブロックの斜視図 (b)図3(a)のA部拡大図
【図4】第2実施例の機械加工法を利用した浮上式磁気
ヘッドの製造工程図 (a)バックギャップ部の溝加工後のコアブロックの斜
視図 (b)コアブロック切断後のヘッド単体の斜視図 (c)スキー加工後のヘッド単体の斜視図 (d)デプス規制、トラック加工後のスライダ完成品の
斜視図
ヘッドの製造工程図 (a)バックギャップ部の溝加工後のコアブロックの斜
視図 (b)コアブロック切断後のヘッド単体の斜視図 (c)スキー加工後のヘッド単体の斜視図 (d)デプス規制、トラック加工後のスライダ完成品の
斜視図
【図5】一般的な浮上式磁気ヘッドの斜視図
【図6】従来の浮上式磁気ヘッドの製造工程図 (a)ブロック形成後のコアブロックの斜視図 (b)ラッピング工程後のコアブロックの斜視図 (c)スライダーパターン形成工程後のコアブロックの
斜視図 (d)コアブロック切断工程後のヘッド単体の斜視図 (e)巻線部形成工程後のヘッド単体の斜視図
斜視図 (d)コアブロック切断工程後のヘッド単体の斜視図 (e)巻線部形成工程後のヘッド単体の斜視図
【図7】従来法による巻線部形成加工後のヘッド単体の
斜視図
斜視図
【図8】従来の機械加工法による浮上式磁気ヘッドの製
造工程図 (a)コアブロック形成後のコアブロックの斜視図 (b)コアブロック切断後のヘッド単体の斜視図 (c)スキー加工後のコアブロックの斜視図 (d)デプス規制、トラック加工後のヘッド単体の斜視
図 (e)ラッピング加工後のヘッド単体の斜視図
造工程図 (a)コアブロック形成後のコアブロックの斜視図 (b)コアブロック切断後のヘッド単体の斜視図 (c)スキー加工後のコアブロックの斜視図 (d)デプス規制、トラック加工後のヘッド単体の斜視
図 (e)ラッピング加工後のヘッド単体の斜視図
1 スライダー用コア 2 ギャップ部 3 巻線用コア 4 スライダーパターン 5 スライダー用コア材 6 巻線用コア材 7 ギャップ形成部 8 コアブロック 9 スライダーパターン群 10 ヘッド単体 11 巻線部 12 バックギャップ部 13 巻線用コア規制代 14 傾斜溝
Claims (1)
- 【請求項1】スライダー用コア材とギャップ形成部を介
して接合された巻線用コア材とからなるコアブロックか
らフォトリソグラフィ法又は機械加工法を用いて浮上式
磁気ヘッドを製造する浮上式磁気ヘッドの製造方法であ
って、前記コアブロックのバックギャップ部にギャップ
形成時の応力を緩和する溝入れ等の加工をした後にデプ
ス加工やスライダー形成加工、トラック幅規制加工等を
行なうことを特徴とする浮上式磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26448591A JPH06259737A (ja) | 1991-10-14 | 1991-10-14 | 浮上式磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26448591A JPH06259737A (ja) | 1991-10-14 | 1991-10-14 | 浮上式磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06259737A true JPH06259737A (ja) | 1994-09-16 |
Family
ID=17403897
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26448591A Pending JPH06259737A (ja) | 1991-10-14 | 1991-10-14 | 浮上式磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06259737A (ja) |
-
1991
- 1991-10-14 JP JP26448591A patent/JPH06259737A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS63173213A (ja) | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 | |
JPH06259737A (ja) | 浮上式磁気ヘッドの製造方法 | |
JPH11283347A (ja) | スライダの製造方法およびスライダ | |
JPS61151818A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
JP3114216B2 (ja) | 浮上式磁気ヘッドの製造方法 | |
US5768072A (en) | Magnetic head for magnetic recording and reproduction | |
JPH02105307A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
JP2811514B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
JPH04353607A (ja) | 磁気ヘッド | |
JPH02236806A (ja) | 磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
JP2796998B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
WO1994022136A1 (en) | Mig and thin film hybrid read/write head | |
JP3015546B2 (ja) | レジスト塗布方法 | |
JPS63171409A (ja) | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 | |
JPS5816531B2 (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
JPH07121836A (ja) | 磁気抵抗効果型ヘッド | |
JPH11232625A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
JPH06101098B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 | |
JPH1074307A (ja) | 複合型磁気ヘッドの製造方法 | |
JPH10334412A (ja) | 薄膜磁気ヘッド及び磁気ディスク装置 | |
JPH0721515A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
JPH0411320A (ja) | 浮上型磁気ヘッドの製造方法 | |
JPH0581614A (ja) | 薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法 | |
JPH04186508A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
JPH02306411A (ja) | 薄膜磁気ヘッド |