JPH02105307A - 薄膜磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPH02105307A JPH02105307A JP25891488A JP25891488A JPH02105307A JP H02105307 A JPH02105307 A JP H02105307A JP 25891488 A JP25891488 A JP 25891488A JP 25891488 A JP25891488 A JP 25891488A JP H02105307 A JPH02105307 A JP H02105307A
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- magnetic
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- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims description 12
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イ）産業上の利用分野
本発明は、磁気記録装置に用いる薄膜磁気ヘッドの贋造
方法に関するものである。
方法に関するものである。
（ロ）従来技術
従来 薄膜磁気ヘッドの製造方法にさいしては、磁界中
で磁性膜を形成することにより、磁気コアに磁気異方性
を付けて、磁壁移動が生じにくいようなヘッドをつくる
方法がとられている。電気めっきで磁気コアを形成する
場合には、従来、第５図に示すよらなフレームめっき法
がとちれている。
で磁性膜を形成することにより、磁気コアに磁気異方性
を付けて、磁壁移動が生じにくいようなヘッドをつくる
方法がとられている。電気めっきで磁気コアを形成する
場合には、従来、第５図に示すよらなフレームめっき法
がとちれている。
：れは フォトレジストなどの電気絶縁物でめっきフレ
ーム１を形成した後、めっきフレーム１以外の所にＮｉ
Ｆ（！等の磁性体をめっきし、さらに磁極周辺部２
をエンチングによって取り除き、下部磁極３を−）くる
。さらに、ギャップ層、絶縁層、コイル等を形成した後
、Ｆ部磁極を下部磁極３と同様の方法でつくる５ その後、Ｉ−−ｌ−面まで切断、研磨する。Ｌ−Ｌ面は
、磁気ヘッド・スライダの浮揚面となる。
ーム１を形成した後、めっきフレーム１以外の所にＮｉ
Ｆ（！等の磁性体をめっきし、さらに磁極周辺部２
をエンチングによって取り除き、下部磁極３を−）くる
。さらに、ギャップ層、絶縁層、コイル等を形成した後
、Ｆ部磁極を下部磁極３と同様の方法でつくる５ その後、Ｉ−−ｌ−面まで切断、研磨する。Ｌ−Ｌ面は
、磁気ヘッド・スライダの浮揚面となる。
ヒ述した製造工程を第６図（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）に順
次示す。
次示す。
磁気異方性はめっき時に図中の矢印Ｐの方向に磁界を印
加することにより付けられる。通常、反磁界（Ｑ）に打
ち勝って磁化をそろえるためには、数百エルステッド（
Ｏｅ）以上の強力な磁界が必要である。反磁界はトラッ
ク幅Ｗが小さくなると急激に大きくなり、磁気異方性を
付与することは一層困難となる。
加することにより付けられる。通常、反磁界（Ｑ）に打
ち勝って磁化をそろえるためには、数百エルステッド（
Ｏｅ）以上の強力な磁界が必要である。反磁界はトラッ
ク幅Ｗが小さくなると急激に大きくなり、磁気異方性を
付与することは一層困難となる。
これらの対策としては、特開昭５９−７２１ＬｌＯ号公
報に示されるように、フレームめっき時の磁気コア形状
を工夫することにより、特価的に磁極先端部での反磁界
を軒滅する方法が提示されている。
報に示されるように、フレームめっき時の磁気コア形状
を工夫することにより、特価的に磁極先端部での反磁界
を軒滅する方法が提示されている。
１−かじ、」１記提案においては、平面１−２ての磁極
形成を仮定しており、しかって、下部磁極形成時には有
効であるが、立体形状を有する上部磁極形成時には状況
が異なることを本発明者等は見い出した。すなわち、第
６図に示すように、［一部磁極形成時には、十１部磁極
先端６は下部磁極先端５の段差４ユに形成されるため、
平面上でのフレームめっきにくらべて、反磁界が大きく
なる。
形成を仮定しており、しかって、下部磁極形成時には有
効であるが、立体形状を有する上部磁極形成時には状況
が異なることを本発明者等は見い出した。すなわち、第
６図に示すように、［一部磁極形成時には、十１部磁極
先端６は下部磁極先端５の段差４ユに形成されるため、
平面上でのフレームめっきにくらべて、反磁界が大きく
なる。
第７図に磁極先端厚み２μ肩の場合の計算結果を示す。
反磁界はめっき成膜が進行するに従って除々に大きくな
るため、めっき開始直前とめっき終了後の間で図７のよ
うに、ある幅を持つが平均的に１ニボールでの値が大き
いことがわがる。このため、特にトラック幅が１０μ屑
前後の高密度記録対応の薄膜磁気ヘッド製造においては
、上部磁極先端の磁気異方性付与のために、非常に大き
な磁界を印加する必要が生じ、設備的に大ががりになる
。
るため、めっき開始直前とめっき終了後の間で図７のよ
うに、ある幅を持つが平均的に１ニボールでの値が大き
いことがわがる。このため、特にトラック幅が１０μ屑
前後の高密度記録対応の薄膜磁気ヘッド製造においては
、上部磁極先端の磁気異方性付与のために、非常に大き
な磁界を印加する必要が生じ、設備的に大ががりになる
。
特開昭５９−７２６３６号公報においては、反磁界低減
の方法として、トラック幅より大きい磁性膜パターンを
磁気コア先端近傍に設け、トラック幅を有する部分の長
さを短がくすることが開示されている。しかし、クロス
トーク特性等の関係ト、この長さは必要以トに短かくて
きす、上記提案では反磁界を無制限に減少させることは
困難であった。
の方法として、トラック幅より大きい磁性膜パターンを
磁気コア先端近傍に設け、トラック幅を有する部分の長
さを短がくすることが開示されている。しかし、クロス
トーク特性等の関係ト、この長さは必要以トに短かくて
きす、上記提案では反磁界を無制限に減少させることは
困難であった。
（ハ） 発明が解決しようとする課題
本発明が解決しようとする課題は、薄膜磁気ヘッドを製
造するにさいして、上部磁極形成時の磁極先端ての反磁
界を低減し、磁気巽方性を有効に磁子先端に付与するこ
とにある。
造するにさいして、上部磁極形成時の磁極先端ての反磁
界を低減し、磁気巽方性を有効に磁子先端に付与するこ
とにある。
（ニ）課題を解決するための手段
本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法は、電気メッキ法を
用いて磁気コアを製造する薄膜磁気ヘッドめ製造方法に
おいて、−に部磁極形成前に、下部磁極先端厚みと同し
か・ぞれｒＪ計の厚みを持つ補助磁極を該下部磁極先端
の両側に形成し、その後上部磁極形成を行うことからな
る手段によって、上記課題を解決している。
用いて磁気コアを製造する薄膜磁気ヘッドめ製造方法に
おいて、−に部磁極形成前に、下部磁極先端厚みと同し
か・ぞれｒＪ計の厚みを持つ補助磁極を該下部磁極先端
の両側に形成し、その後上部磁極形成を行うことからな
る手段によって、上記課題を解決している。
（ホ） 作用
本発明において補助磁極厚みを下部磁極先端厚みと同じ
かそれ以上の厚みとしたのは次の理由による１、上部磁
極形成時の生じる大きな反磁界は上部磁極が、下部磁極
の段差上に形成されることによるものである。よって、
下部磁極形成時と同程度の反磁界に抑えるなめには、下
部磁極による段差を解消する厚み、すなわち、下部磁極
先端厚みと少なくとも同じ厚みにする必要がある。補助
磁極厚みが大であるほど反磁界低減効果はより大となる
。
かそれ以上の厚みとしたのは次の理由による１、上部磁
極形成時の生じる大きな反磁界は上部磁極が、下部磁極
の段差上に形成されることによるものである。よって、
下部磁極形成時と同程度の反磁界に抑えるなめには、下
部磁極による段差を解消する厚み、すなわち、下部磁極
先端厚みと少なくとも同じ厚みにする必要がある。補助
磁極厚みが大であるほど反磁界低減効果はより大となる
。
（へ）実施例
第１図から第４図までを参照して、本発明の薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法の実施例について説明する。
ッドの製造方法の実施例について説明する。
第１図に示すように、−Ｌ部磁極形成前に、フォトレジ
スト８等により下部磁極先端５を覆い（Ａ）、その周囲
にめっき膜を形成させて補助磁極７を形成する（Ｂ）。
スト８等により下部磁極先端５を覆い（Ａ）、その周囲
にめっき膜を形成させて補助磁極７を形成する（Ｂ）。
次に、フォトレジスト８を除去しくＣ）、Ｌ、−シ゛ス
）−フレーム１を形成（１’））後、下部磁極６をｙ）
−）きて形成する（Ｆ）。
）−フレーム１を形成（１’））後、下部磁極６をｙ）
−）きて形成する（Ｆ）。
前）ボのＴ程９＋一部を第２図（Ａ）、（Ｂ）に平面図
として示す、第２図（Ａ）は第１図（Ｂ）を、また、第
２ｒ７Ｉ（ｎ＞は第１図（Ｅ）をそれぞれ示す。
として示す、第２図（Ａ）は第１図（Ｂ）を、また、第
２ｒ７Ｉ（ｎ＞は第１図（Ｅ）をそれぞれ示す。
第３図に他グ）実施例を示す。薄膜磁気ヘッドにおいて
は、磁極全体の透磁率を１−０けるために磁気先端部を
除いて、２回めっきを行い、厚みを増すことが行われる
場合がある３本実施例は上記の点に注目し、１回目めっ
きで磁極先端以外の部分を形成するさいに、上部磁極先
端厚みと同等が、それ以りの厚みとすることで補助磁極
７の役目を与えろ（Ａ）。その後に、２回目めっきによ
り、上部磁極先端部６を形成する（Ｂ）。これにより、
補助磁極形成のための余分な工程を省略することが可能
となる。
は、磁極全体の透磁率を１−０けるために磁気先端部を
除いて、２回めっきを行い、厚みを増すことが行われる
場合がある３本実施例は上記の点に注目し、１回目めっ
きで磁極先端以外の部分を形成するさいに、上部磁極先
端厚みと同等が、それ以りの厚みとすることで補助磁極
７の役目を与えろ（Ａ）。その後に、２回目めっきによ
り、上部磁極先端部６を形成する（Ｂ）。これにより、
補助磁極形成のための余分な工程を省略することが可能
となる。
第１図は、上記実施例において、上部磁極先端と同じ厚
みの補助磁極を形成したときの反磁界の値を示す。例え
ばフレーム幅３μの場合において、従来例（第７図）と
比較して、反磁界が５０％以下に軒減されることがわが
る。
みの補助磁極を形成したときの反磁界の値を示す。例え
ばフレーム幅３μの場合において、従来例（第７図）と
比較して、反磁界が５０％以下に軒減されることがわが
る。
（ト）効果
本発明の方法によれば、−Ｌ部磁極形成時の磁極先端で
の反磁界を低減し、磁気異方性を有効に磁極先端に付与
することがてきる。
の反磁界を低減し、磁気異方性を有効に磁極先端に付与
することがてきる。
４、 （図面の簡単な説明〕
第１図は本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法の実施例の
工程説明図。第２図は本発明のヘッドの実施例の平面図
、第３図は本発明のヘッドの別の実施例の平面図。第４
図は本発明のヘッドの効果を示すグラフ。第５図は従来
の薄膜磁気ヘッドの平面図。第６図は従来のヘッドグｌ
ｖ＃造工程の説明図。第７図は従来のｌ＼ラッド効果を
示すグラフ、。
工程説明図。第２図は本発明のヘッドの実施例の平面図
、第３図は本発明のヘッドの別の実施例の平面図。第４
図は本発明のヘッドの効果を示すグラフ。第５図は従来
の薄膜磁気ヘッドの平面図。第６図は従来のヘッドグｌ
ｖ＃造工程の説明図。第７図は従来のｌ＼ラッド効果を
示すグラフ、。
１ フレーム ２：磁極周辺部
３・磁気コア ４：ギヤツブ部
Claims (1)
- 電気メッキ法を用いて磁気コアを製造する薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法において、上部磁極形成前に、下部磁極先
端厚みと同じかそれ以上の厚みを持つ補助磁極を該下部
磁極先端の両側に形成し、その後上部磁極形成を行うこ
とを特徴とした薄膜磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25891488A JPH02105307A (ja) | 1988-10-14 | 1988-10-14 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25891488A JPH02105307A (ja) | 1988-10-14 | 1988-10-14 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02105307A true JPH02105307A (ja) | 1990-04-17 |
Family
ID=17326786
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25891488A Pending JPH02105307A (ja) | 1988-10-14 | 1988-10-14 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02105307A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5095397A (en) * | 1989-08-04 | 1992-03-10 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Thin film magnetic head of embodied recording and reproducing transducer type |
| US5097372A (en) * | 1989-08-04 | 1992-03-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Thin film magnetic head with wide recording area and narrow reproducing area |
| US7538977B2 (en) | 2004-04-30 | 2009-05-26 | Hitachi Global Storage Technologies B.V. | Method and apparatus for providing diamagnetic flux focusing in a storage device |
| US8230582B2 (en) | 2004-06-30 | 2012-07-31 | HGST Netherlands B.V. | Methods of making magnetic write heads with use of a resist channel shrinking solution having corrosion inhibitors |
-
1988
- 1988-10-14 JP JP25891488A patent/JPH02105307A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5095397A (en) * | 1989-08-04 | 1992-03-10 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Thin film magnetic head of embodied recording and reproducing transducer type |
| US5097372A (en) * | 1989-08-04 | 1992-03-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Thin film magnetic head with wide recording area and narrow reproducing area |
| US7538977B2 (en) | 2004-04-30 | 2009-05-26 | Hitachi Global Storage Technologies B.V. | Method and apparatus for providing diamagnetic flux focusing in a storage device |
| US8230582B2 (en) | 2004-06-30 | 2012-07-31 | HGST Netherlands B.V. | Methods of making magnetic write heads with use of a resist channel shrinking solution having corrosion inhibitors |
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