JPS6297117A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドの製造方法Info
- Publication number
- JPS6297117A JPS6297117A JP23793285A JP23793285A JPS6297117A JP S6297117 A JPS6297117 A JP S6297117A JP 23793285 A JP23793285 A JP 23793285A JP 23793285 A JP23793285 A JP 23793285A JP S6297117 A JPS6297117 A JP S6297117A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- coil
- magnetic
- magnetic head
- layer
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
- G11B5/3133—Disposition of layers including layers not usually being a part of the electromagnetic transducer structure and providing additional features, e.g. for improving heat radiation, reduction of power dissipation, adaptations for measurement or indication of gap depth or other properties of the structure
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
- G11B5/3166—Testing or indicating in relation thereto, e.g. before the fabrication is completed
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気ヘッドの製造方法に関する。
本発明は、基板上に絶縁Ｉｌｌ、下部磁性層、導体層、
上部磁性層、保護層を積層することによって成る磁気ヘ
ッドにおいて、ギャップ先端に下部磁性層、絶縁＋１１
１Ｊ導体層、上部磁性層から成るパターンを形成するこ
とにより、薄膜プロセス終了後１ｃｌｉＢ気ヘツドの良
否および特性がチェックでき、不良品を除外してスライ
ダー加工する際に、磁気ヘッドの磁気媒体との対向面を
前記パターン側から研摩し消失した時点で研摩終了点と
することにより正確なギャップ深さが規定できるように
したものである。
上部磁性層、保護層を積層することによって成る磁気ヘ
ッドにおいて、ギャップ先端に下部磁性層、絶縁＋１１
１Ｊ導体層、上部磁性層から成るパターンを形成するこ
とにより、薄膜プロセス終了後１ｃｌｉＢ気ヘツドの良
否および特性がチェックでき、不良品を除外してスライ
ダー加工する際に、磁気ヘッドの磁気媒体との対向面を
前記パターン側から研摩し消失した時点で研摩終了点と
することにより正確なギャップ深さが規定できるように
したものである。
従来の磁気ヘッドの製造方法における缶気ヘッドコアの
ギャップ深さを規定するための研摩は、磁気ヘッド近傍
に磁気ヘッドのギャップ深さに対応した薄膜パターン（
通常は磁極材料と同一）を形成し、研摩時にこの薄膜パ
ターンを光学顕微鏡等で監視し、これが消失したところ
で研摩を終了していた。
ギャップ深さを規定するための研摩は、磁気ヘッド近傍
に磁気ヘッドのギャップ深さに対応した薄膜パターン（
通常は磁極材料と同一）を形成し、研摩時にこの薄膜パ
ターンを光学顕微鏡等で監視し、これが消失したところ
で研摩を終了していた。
〔発明が解決しようとする問題点及び目的〕磁気ヘッド
においてギャップ深さが所定の量に正確にできない場合
、定められた記録再生特性等の仕様が満足できなくなる
。しかし、前述の従来技術では、薄膜磁気ヘッドにおい
て磁極もしくは層間絶縁膜、コイル等の形成と同時に形
成されるギャップ深さ管理用パターン上には、磁気ヘッ
ドを保護するための８１０．あるいはＡ１．Ｏ，等の保
護膜が数十μ惟堆積されるため、前記ギャップ深さ管理
用パターンは確認がしずらく、ギャップ深さの規定は正
確に行λず、又、多くの時間を要していた。
においてギャップ深さが所定の量に正確にできない場合
、定められた記録再生特性等の仕様が満足できなくなる
。しかし、前述の従来技術では、薄膜磁気ヘッドにおい
て磁極もしくは層間絶縁膜、コイル等の形成と同時に形
成されるギャップ深さ管理用パターン上には、磁気ヘッ
ドを保護するための８１０．あるいはＡ１．Ｏ，等の保
護膜が数十μ惟堆積されるため、前記ギャップ深さ管理
用パターンは確認がしずらく、ギャップ深さの規定は正
確に行λず、又、多くの時間を要していた。
本発明の磁気ヘッドの製造方法は、磁気へラドコアのギ
ャップ先端に下部磁性層、絶縁層、導体層、上部磁性層
から成るパターンを形成し、スライダー加工中に除去す
ることを特徴とする。
ャップ先端に下部磁性層、絶縁層、導体層、上部磁性層
から成るパターンを形成し、スライダー加工中に除去す
ることを特徴とする。
第１図は、本発明における一実施例を示す図である。基
板上に下部磁性膜１としてパーマロイを厚さ２μｍにス
パッタリングあるいはこれと等価な方法で形成する。下
部磁性膜１上に第１絶縁膜２としてＳ１０．あるいはＭ
、０．を厚さ１μ惟にスパッタリングあるいはこれと等
価な方法で形成する。
板上に下部磁性膜１としてパーマロイを厚さ２μｍにス
パッタリングあるいはこれと等価な方法で形成する。下
部磁性膜１上に第１絶縁膜２としてＳ１０．あるいはＭ
、０．を厚さ１μ惟にスパッタリングあるいはこれと等
価な方法で形成する。
第１絶縁膜２上に第１のコイル３と第２のコイル４とし
てＣｕを厚さ２μ愕にメッキで形成する。
てＣｕを厚さ２μ愕にメッキで形成する。
第１のコイル３上および第２のコイル４上に第２絶縁膜
５としてフォトレジストあるいはポリイミド系樹脂で形
成する。第２絶縁膜５上に下部磁性膜１と、′４１絶縁
膜のみを隔て、また第１のコイル３および第２のコイル
４のもう一方の側で下部磁性膜と直接接合するよう上部
磁性膜６としてパーマロイを厚さ２μ溝にスパッタリン
グあるいはこれと等価な方法で形成する。さらに上部磁
性膜６上にｆ３１Ｑ、 、 ＡＩ、ｏ、等を堆積して保
護膜７とする。
５としてフォトレジストあるいはポリイミド系樹脂で形
成する。第２絶縁膜５上に下部磁性膜１と、′４１絶縁
膜のみを隔て、また第１のコイル３および第２のコイル
４のもう一方の側で下部磁性膜と直接接合するよう上部
磁性膜６としてパーマロイを厚さ２μ溝にスパッタリン
グあるいはこれと等価な方法で形成する。さらに上部磁
性膜６上にｆ３１Ｑ、 、 ＡＩ、ｏ、等を堆積して保
護膜７とする。
ここで下部磁性膜１および下部磁性膜６としてパーマロ
イを用いたが、非晶質合金あるいはセンダストを用いて
もよい。また第１のコイル３あるいは第２のコイル４ｔ
−２層に成形してもよい。
イを用いたが、非晶質合金あるいはセンダストを用いて
もよい。また第１のコイル３あるいは第２のコイル４ｔ
−２層に成形してもよい。
以上のような薄膜プロセス終了槽、第２のコイル４に電
流を流すことにより、上部磁性膜６および下部磁性膜１
で形成される磁心に磁束が発生しそれによって第１のコ
イル５に生じる電流の有無及び波形から磁気ヘッドの良
否を判定する。
流を流すことにより、上部磁性膜６および下部磁性膜１
で形成される磁心に磁束が発生しそれによって第１のコ
イル５に生じる電流の有無及び波形から磁気ヘッドの良
否を判定する。
その結果から不良品を除外して基板を切断し、良品の磁
気ヘッドを２個１組としたブロックとして切シ出す。
気ヘッドを２個１組としたブロックとして切シ出す。
ここで第２のコイル４側から研摩し、第２のコイル幅は
５μ嘱、また第２コイル４からギャップまでが３μ惟に
形成するため、研摩時忙おいて第２コイルが研摩終了点
の目印となシ、また研摩終了点近傍で第２絶縁膜５が急
激に減少し、ギヤツブ長方１第１Ｍ縁膜の大きさと等し
くなった時点で研摩を終了した。
５μ嘱、また第２コイル４からギャップまでが３μ惟に
形成するため、研摩時忙おいて第２コイルが研摩終了点
の目印となシ、また研摩終了点近傍で第２絶縁膜５が急
激に減少し、ギヤツブ長方１第１Ｍ縁膜の大きさと等し
くなった時点で研摩を終了した。
以上述べたように本発明の磁気ヘッドの製造方法によれ
ば下部磁性膜上に第１１ｄＡ縁膜を形成して、該絶縁膜
上に第１コイル及び第２コイルを形成して、その間に所
定の深さを持ったギャップを形成するよう前記第１コイ
ル及び前記第２コイル上に第２絶縁膜、上部磁性膜、保
護膜を順次積層することにより、余分なパターンを形成
することなく、またヘッド形成プロセスを増やすことな
く薄膜プロセス終了後磁気ヘッドの良否および特性チェ
ックを行なうことができ、不良品をスライダー加工する
といった無駄な工程をはぶき、また研摩終了点は第２の
コイルが目印となり、研摩終了点直前にギャップ長が急
に＄、少するため効率よくかつギャップ深さが正確に規
定された磁気ヘッドが得られるという効果を有する。
ば下部磁性膜上に第１１ｄＡ縁膜を形成して、該絶縁膜
上に第１コイル及び第２コイルを形成して、その間に所
定の深さを持ったギャップを形成するよう前記第１コイ
ル及び前記第２コイル上に第２絶縁膜、上部磁性膜、保
護膜を順次積層することにより、余分なパターンを形成
することなく、またヘッド形成プロセスを増やすことな
く薄膜プロセス終了後磁気ヘッドの良否および特性チェ
ックを行なうことができ、不良品をスライダー加工する
といった無駄な工程をはぶき、また研摩終了点は第２の
コイルが目印となり、研摩終了点直前にギャップ長が急
に＄、少するため効率よくかつギャップ深さが正確に規
定された磁気ヘッドが得られるという効果を有する。
第１図は本発明における一実施例を示す主要部断面図。
第２図は本発明における一実施例を示す主要部平面図。
１．６・・・磁性膜
３・・・・・・・・・第１のコイル
４・・・・・・・・・第２のコイル
２．５・・・絶縁膜
７・・・・・・・・・保護膜
４％ 八−、ドｉＨＰｑｒ１Ｊｇ
第１図
肩鰍気へ・リビ多ｐ−ｙイ；＃Ｉｉｉ！１第２図
Claims (1)
- 基板上に、絶縁層、下部磁性層、導体層、上部磁性層、
保護層を積層することによつて成る磁気ヘッドの製造工
程において、下部磁性膜上に第１絶縁膜を形成して、該
絶縁膜上に導体薄膜で形成される多数巻きの第１のコイ
ルと第２のコイルが形成され、上部磁性膜が第１と第２
のコイルの間において第１の絶縁膜のみを隔てて下部磁
性膜上にあり、第１のコイルと第２のコイルのもう１方
の側で下部磁性膜と直接接合させ、第２のコイルを囲む
磁路は磁気ヘッド形成中に除去することを特徴とする磁
気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23793285A JPS6297117A (ja) | 1985-10-24 | 1985-10-24 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23793285A JPS6297117A (ja) | 1985-10-24 | 1985-10-24 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6297117A true JPS6297117A (ja) | 1987-05-06 |
Family
ID=17022588
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23793285A Pending JPS6297117A (ja) | 1985-10-24 | 1985-10-24 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6297117A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01300411A (ja) * | 1988-05-27 | 1989-12-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
-
1985
- 1985-10-24 JP JP23793285A patent/JPS6297117A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01300411A (ja) * | 1988-05-27 | 1989-12-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
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