JPH08508360A - 空隙中金属のそして薄膜のハイブリッド読出し／書込みヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 空隙中金属・薄膜ハイブリッド読出し／書込みヘッドが少ない磁気材料を使用し、かくして低いインダクタンスを有する。ハイブリッドヘッドはさらにのど高さ許容差に対して低感度であり、空隙やトラックなどの幾何学的パラメータに関して良好な制御が得られる。ハイブリッドヘッドは個々のコア（２１０）と、軟磁性層（２０１）と非磁性層（２０２）とＣ形切れ目（２０４）とを具備する。ハイブリッドヘッドはバッチプロセスにおいて簡単でより高い収量が得られる技術によって製造される。

Description

【発明の詳細な説明】 空隙中金属のそして薄膜の ハイブリッド読出し／書込みヘッド 従来の技術 薄膜ヘッド技術の利益の一つが、数千個の素子が一つのウェハで製造され、そ して全てバッチプロセスにて、滑動子の製造のためいくつもの列をなして処理さ れることである。これは複雑な技術を使用するが、空隙中金属（MIG、Metal-in- the-gap）タイプの技術よりも少ないマンパワー資源を使用する。薄膜ヘッドの 幾何学的な空隙およびトラック幅の画定が露光技術および真空蒸着技術の使用に より良好に制御される。 ところが、薄膜プロセス技術はきわめて複雑である。堅焼きフォトレジストに より発生される大きな形態的特徴・構造的関係（topography）は極磁気劣化およ び膜応力変化によりバッチ収量を低下し、さらに薄膜ヘッドの大きな形態的特徴 ・構造的関係の上に狭ピッチコイルを形成することにおける困難さおよび良好に 心合わせないし整合される磁極チップ要素の画定（またはトラックトリミングの 使用）における困難さがある。フォトレジスト絶縁は、磁気劣化および後に続く 堅焼きプロセス中のその収縮によるのど高さの変化により収量を低下させる。 薄膜ヘッドプロセスにおける収量がさらに硬化されな いフォトレジストのひび割れによっても影響を受ける。薄膜ヘッド収量損失にお ける別の影響がその高いのど高さ感度によるものである。これは、収量の改善の ため、精巧な電子的な重ねガイドプロセスを要求する。 従来技術の空隙中金属ヘッドは製造するのがより簡単であり、所望されるのど 高さを得ることにおいて感度が低く、そして資源はこの領域において豊富である 。しかし、その欠点は、コイルが一回に一つの滑動子ずつ巻廻されそしてさらに 滑動子もまた一回に一つずつ製造されることである。この非バッチタイプの製造 方法は多量のマンパワー資源を要求する。別の不利益が、たとえば空隙とトラッ ク幅についての幾何学的制御が劣ることである。これは、高密度ディスクドライ ブ装置における空隙中金属（MIG）の有用性を制限する。高密度のディスクドラ イブ装置における使用についての別途の制限がその高磁気インダクタンスによる 。 それゆえ、本発明の目的は、低インダクタンスを有しさらにバッチプロセスの 態様にて製造できる、空隙中金属のそして薄膜のハイブリッド読み出し／書き込 みヘッド（以下、空隙中金属・薄膜ハイブリッド読出し／書込みヘッドという） を提供することである。 発明の概要 本明細書にて開示される空隙中金属・薄膜ハイブリッド読出し／書込みヘッド は、高機能で高収量そして低コ ストのヘッドの製造のため、薄膜ヘッド技術の最もよいものと空隙中金属技術の 最もよいものとを組み合わせる。本発明は利用可能な空隙中金属技術の基礎を利 用しそして薄膜ヘッドプロセスと類似のバッチプロセスを付加する。この新規な プロセスは、これをプレーナプロセスとするために形状的特徴の低減によってよ り簡単にそして高収量とされる。この新規なプロセスは堅焼き絶縁を要求せず、 収量を別途改善する。 本発明のハイブリッドヘッドはのど高さ許容差に対して低感度である。なぜな ら空隙中金属（MIG）の技術を使用するからである。臨界的な幾何形状パラメー タ、たとえば空隙やトラックなど、は薄膜ヘッド技術の使用によりバッチプロセ スにてそして平坦な形態的特徴・構造的関係にて形成され、良好な幾何学的制御 を生ずる。従来の空隙中金属ヘッドと比較して低減された磁性材料により、本発 明のハイブリッドヘッドは低いインダクタンスを有する。 本発明の別の実施例が、書き込みのために空隙中金属・薄膜ハイブリッドヘッ ドを使用しそしてデータの読出しのために書込みヘッドの頂部上のＭＲ（磁気抵 抗性）ヘッドを使用する。従来のＭＲ読出し／書込みヘッドにおいて、（回転媒 体に対する滑動子の後縁部の）書込みヘッドが（前縁部の）ＭＲ読出しヘッドの 頂部上に位置する。読出し空隙と書込み空隙との間の垂直距離は回転アクチュエ ータのために、半径依存のスキューないし斜 向を決定する。これは、遷移が書込み磁極後縁部に一層接近して書き込まれるか らである。 さらに、従来技術のピギーバック方式ＭＲ読出し／書込みヘッドにおいて、書 込みヘッド（後縁部）はディスクが回転するとき読出しヘッド（前縁部）に追従 する。それゆえ、このヘッドは、早速に書き込まれる遷移を読み出すことができ ない。ところが、本明細書に開示のＭＲ読出し／書込みヘッドにおいて、誘導性 書込みヘッドは先導しそしてＭＲ読出しヘッドは追随する。すなわち、ＭＲヘッ ドは早速に書き込まれる遷移を読み出すことができる。さらに、新規なＭＲ読出 し／書込みヘッドにおいて、書込み遷移はＭＲ読出し空隙に一層接近し、回転ア クチュエータのために、半径依存の斜向ないしスキュー効果を低減する。これは より一層丈夫な設計である。なぜなら、書込みヘッドは、書込みヘッド製造にお いて空隙中金属の技術の適用によりのど高さ変化に対して低感度であるからであ る。従来のＭＲ読出しおよび誘導書込みヘッドにおいて、ＭＲヘッドは最初に作 られそれから誘導性書込みヘッドがその頂部上に形成される。こうして、ＭＲ読 出しヘッドは薄膜書込みヘッドの高温度プロセスが課され、層間内部の可能性の ある相互拡散により性能に影響を与える。新規な本発明は書込みヘッドを最初製 造しそれからＭＲ読出しヘッドが形成され、かかる悪影響を除去する。 本発明の実施例は新規かつ有用な空隙中金属・薄膜ハ イブリッド読出し／書込みヘッドおよびこれを製造する効率のよい方法を教示す る。コア製造および滑動子との結合はバッチ態様にて行われる。ガラス結合スペ ーサにより分離される空隙中金属タイプ材料包含磁気縞部材が滑動子形成タイプ のサブストレートに結合される。後続の任意の温度プロセスが結合の完全性に影 響しないように、この結合は高温度で行ってもよい。これらの磁気縞部材は積層 された空隙中金属タイプ材料またはフェライト上にセンダスト（すなわち、ニッ ケル−鉄−シリコン合金）または高飽和材料が被着されたものとし得る。空隙材 料および別の磁性材料層がその上に被着され得る。そのとき、Ｃ形切れ目が特定 間隔で、そして必要であれば傾斜路部と一緒に形成される。トラック幅は、所望 されるのであれば、機械的研磨によって画定され得る。Ｃ形切れ目は磁気縞部材 へ部分的に入り込むだけであるが、トラック画定はトラック方向から全ての磁性 材料を除去することによって得られる。全てのスロットおよび空洞が低融点ガラ スまたは任意の非磁性材料で充填され順次平面化のため重ねられる。これは、空 隙と磁極チップとが画定された状態でサブストレート内に埋設されるＣ形コア部 材を形成する。コイル層が、絶縁物（たとえば、アルミナや二酸化珪素のタイプ の材料）により分離される平坦面に形成される。絶縁物質が磁極チップと後方閉 鎖領域から除去される。完全な磁気回路の形成ために、頂部の磁極チップおよび ヨークの後方閉鎖領域を接続 するため、頂部ヨーク（好ましくはNiFeから作られる）が順次形成される。これ は、高品質のバッチ製造される誘導性空隙中金属タイプの読出し／書込みヘッド を形成する。 代替実施例において、結合磁気縞状部材は、上述したごとく磁気縞部材の結合 によりあるいは磁気縞部材の形成のため、磁性サブストレートに結合しそして磁 性材料を切断および除去することにより形成される。 Ｃ形切れ目および傾斜路部が機械的手段により形成される。Ｃ形切断スロット 部は、低温度溶融ガラスまたは別の非磁性物質で充填されそして平面化のため重 ねられる。空隙材料および別の磁性材料層が被着される。ここに、磁極チップ、 後方閉鎖体および心合わせ用マークがフォトリソグラフィの使用によりパターン 化されあるいは形作られ、そしてアセンブリは、少なくとも底部コアの一部まで トラック幅を形成するためエッチングされる（代替例として、このパターンは、 除去可能なタイプの金属マスク部材でマスクし順次エッチングすることにより作 られ得る）。これは、高磁極チップ、後方閉鎖体および心合わせ用マークを製造 し、他の全ての領域はより低い高さにて平坦である。ここに、コイル層が、平坦 面にてたとえばアルミナや二酸化珪素などの絶縁物質によって分離されて形成さ れる。 本発明の別の実施例が、ＭＲ読出しヘッドが書込みへッド頂部上に形成される ことである。コアの棒部材（特 定間隔にてガラス結合材料により分離される積層空隙中金属が好ましい）が滑動 子形成サブストレートに結合される。磁性材料厚さはトラック幅を画定する。Ｃ 形切断スロット部および傾斜路部が機械的手段により形成される。Ｃ形切断スロ ット部は低温度溶融ガラスまたは任意の他の非磁性材料で充填されそして平面化 のため重ねられる。書込みヘッドのための空隙材料およびセンダスト層が被着さ れそしてアニールされる。ＭＲ読出しヘッドの頂部磁極／底部シールド部材の形 成のためセンダスト膜がパターン処理される。リード部材を有するＭＲ構造体は このシールド部材上に形成される。書込みコイルは形成されそして書込みヘッド ヨーク部分は頂部シールド部材とともに被着される。結合パッド形成および包封 という残余の段階が従来の態様で後に続く。 本発明のさらに別の実施例において、マルチターン形ヨークヘッドがコイルの 周囲に形成され、そして低磁極が一対のＣ形切断コアの埋込みによって形成され る。 図面の簡単な説明 本発明の上述のそして他の利益が、添付図面を参照しつつ、共通部材を表わす のに共通番号が使用される以下の詳細な説明を参照することにより良好に理解さ れよう。 図１Ａは、トラック幅が積層磁性（センダスト）膜の厚さとして図示されるＣ 形切断の単一コアの斜視図であ る。 図１ＢはＣ影切断列を含む一つの棒部材の斜視図である。 図２はＸ軸切断溝およびＹ軸切断溝を図示する滑動子形成サブストレートの斜 視図である。 図３はガラス結合／スペーサ縞部材により分離される磁気縞部材を示す図であ る。 図４は互いに結合される滑動子形成サブストレートおよび磁気サブストレート の模式図である。 図５Ａは互いに結合される滑動子形成サブストレートおよび磁気サブストレー トの模式図である。磁気材料は結合磁気縞部材の形成のため横列において除去さ れる。良好に画定されるＣ形切断コアの縦列および横列の形成のためＣ形切れ目 が作られる。 図５Ｂは図５Ａの線Ａ−Ａ′に沿って得られる断面図である。 図６はウェハ上のＣ形切断溝を示す図である。 図７は本発明の誘導性ヘッドの模式図である。 図８は線Ａ−Ａ′に沿っての図７の断面図である。 図９は図７の空気支持面（ＡＢＳ）（線Ｂ−Ｂ′に沿う部分）の光景である。 図１０Ａは、誘導性書込みヘッドの頂部磁極チップならびにＭＲ読出しヘッド の底部シールド部材の形成のため、形作られそしてエッチングされるセンダスト 層、空隙層およびＣ形切断溝を図示する断面模式図である。 図１０Ｂは、誘導性書込みヘッドの頂部上に位置するＭＲ読出しヘッドの断面 模式図である。 図１１は図１０Ｂの空気支持面の光景の概要図である。 図１２は互い違いに配列されそして結合される２つのＣ形切断コアの概要図で ある。 図１３は、本発明により、コイル周囲に形成されるマルチターン形ヨークヘッ ドの模式図である。 図１４Ａ〜Ｆは本発明によりコイルの周囲に形成されるマルチターン形ヨーク ヘッドの模式図である。 実施例の詳細な説明 本発明は、後述のごとく、空隙中金属ヘッドまたはフェライトヘッドとして形 成され得る。図１（Ａ、Ｂ）に示されるごとく、個々のコア２１０または棒部材 ２２０がサブストレート材料２００上で、薄い（０．１μｍ）非磁性材料（たと えばアルミナなど）２０２により分離される軟磁性層（たとえばセンダスト）２ ０１の被着により形成される。Ｃ形切断スロット部２０４が形成される（さらに テーパー処理、すなわち頂部角付けが行われ、傾斜路部を形成してもよい）。代 替例として、コア２１０および棒部材２２０はフェライトから作られそしてセン ダストタイプの材料がＣ形切れ目２０４の切断後、被着される。これらのコア２ １０または棒部材２２０は滑動子形成サブストレート２３０に結合される。 図２の一つのアプローチにおいて、サブストレート２３０は良好に画定される 間隔にて、部分的なＸ軸切れ目２３１およびＹ軸切れ目２３２の連続物を有する 。棒部材２２０は、Ｃ形切れ目２０４がスロット部２３２と正確に整合状態であ るようスロット部２３１に結合される。サブストレート２３０上で、Ｃ形切れ目 ２０４を充填しそして一つの棒部材の基準面２１５を別の棒部材に関して整合さ せるガラススペーサ縞部材および結合材料（図示せず）が調整されそして棒部材 をサブストレート上に結合するため溶融される。結合の後、サブストレート２３ ０はコア面２１８または近くの部分を平面化しそして露呈するために重ねられ得 る。代替例として、棒部材２２０は滑動子形成サブストレート上に積層されそし て面２１５に関して互いに整合および結合されそして理想的には平面化のため重 ねられる。これは、底部磁極（ヨークおよびチップ）の形成のため、Ｃ形切断棒 部材が埋め込まれるプレーナウェハを形成する。ここで、空隙材料２３５（図８ ）が形成され順次別のセンダストタイプ物質層２３６（図１０Ａ）が被着されそ して後の頂部磁極チップ形成のためアニールされる。第２の磁極は後述のごとく 形成される。 別途の処理のため、図２に示す隅部２３４のセンダスト材料はエッチングされ 、基準面２１８、２１５を露呈するかまたは前段階で画定され得る整合用マーク ２３３を露呈する。次層マスクが、これらの基準の使用により 整合されそして正確に処理される。 図３は、ガラス結合スペーサ３０５により分離される、そして滑動子形成サブ ストレート２３０に積み重ねられるそして結合のため溶融される（積層され得る ）磁気縞部材３０１の図である。より良好な結合の完全性のために、ガラスが、 縞部材３０１およびスペーサ３０５の積み重ねの前に、サブストレート２３０に 被着され得る。任意の不規則性の回避のために、合わせ面は重ねられ／研磨され る。 図４および図５は本発明の別の実施例の図である。滑動子形成サブストレート ２９９が、（たとえば単結晶フェライトから形成される）磁性サブストレート３ ００と一緒に示されている。結合材料ガラス２８９がサブストレート２９９、３ ００の合わせ面に被着されそしてこれらを互いに結合するため高温度で溶融され る。サブストレート２９９それ自体が磁気を帯び得、この場合、サブストレート ３００は要求されない。 一つのアプローチにおいて、（底部磁極を形成する）センダストタイプすなわ ち高飽和材料３４０、空隙材料２３５および（頂部磁極チップを形成するための ）高飽和すなわちセンダストタイプの材料２３９が磁性サブストレート３００に 逐次被着される。ここに、横列３１０がトラック幅の画定のために使用され得る 。代替例として、横列３１０の幅は所望されるトラック幅よりも大きくし得、順 次最終トラック幅が、後続の段階におけるフ ォトリソグラフィおよびイオンエッチングプロセスにより画定され得る。Ｃ形切 れ目３３０が磁性材料３００に一部入り込んで作られる。図６がたとえばかかる Ｃ形切断コア配列を示す。磁極チップ領域２９０および後方閉鎖領域２９１が画 定される。アルミナ絶縁物２２６により分離されるコイル層２４１が形成されそ して（たとえばNiFeなどの）磁性ヨーク２４２（図７、図８）が形成され磁気回 路を完成する。 代替実施例において、トラック幅はフォトパターン処びおよびイオンエッチン グにより画定される。図７および図８に関して上述したごとく、Ｃ形コア２１０ は、滑動子形成サブストレート２９９に結合される積層磁性膜棒部材または磁気 縞部材からまたは磁気サブストレート３００の接着と機械的手段による磁気縞部 材の形成により作られ得る。空隙材料２３５および薄板のないしシート状のセン ダスト材料２３６（図１０Ａ）が逐次被着される。そのとき、Ｃ形切れ目３３０ がこれらの縞部材に形成され得、磁気層３００に侵入する。キャビティまたはチ ャンネル３２０、３３０は低温度溶融ガラスで充填されそして平面化される（す なわち重ねられる）。 トラック幅の画定のため、図７および図８に関して、磁極チップ領域２９０、 後方閉鎖領域２９１のためのマスクパターンおよび整合用特徴物２８３が形成さ れ、そしてのど高さに等しいのが好ましい深さまでコア２１０へとイオンエッチ ングされる。これは突出面３０８、３ ０７と整合用特徴物２８３を除いてプレーナ面３６０を残す。ここに、アルミナ 絶縁物２２６により分離される多層形コイル２４１が形成され得る。後方空隙形 閉鎖体の空隙物質２２７は先の段階で除去され得る。絶縁（２２６）後、NiFeが 好ましい頂部ヨーク部材２４２が（頂部磁極部品２３９の頂部）部分２４６およ び（後方閉鎖体部品２４８の頂部）部分２４７と磁気接触状態にて被覆される。 図９はかかるヘッドの空気支持面の光景を模式的に示している。 この製造プロセスはいくつかの利益を有する。全ての臨界的に重大なプロセス が従来の薄膜ヘッドと異なり本質的にプレーナ面で行われる。たとえば、トラッ クトリミングによるトラック画定がプレーナ面で行われ、コイル層２４１がプレ ーナ面にあり、そして頂部ヨーク部材２４２がプレーナ面にある。所望ならば、 堅焼きフォトレジストが絶縁材料として使用され得る。しかし、アルミナタイプ の材料が好ましい。 上述の空隙中金属のＣ形コアにより提供される広い磁束伝導領域により、この ヘッドは従来の薄膜ヘッドと比較してのど高さ変化に対して低感度である。さら に磁極チップ２３９および３０７が、薄膜ヘッドのNiFe磁極チップほど凹まずそ して汚れないセンダストから作られる。これら全ての特徴はともに本明細書に開 示の新規なヘッド技術によりプロセス収量を相当に改善する。 本発明の別の実施例が、図１０Ｂに模式的に示される ごとく、書込み目的のために、上述の誘導性ヘッドの頂部にＭＲ読出しヘッドを 作ることである。このことのより簡単なアプローチが上述したごとく、ウェハ内 に埋め込まれる（積層される空隙中金属が好ましい）Ｃ形コアを形成することで ある。キャビティ３３０をガラスで充填しそして平面化した後、もし面３０９が 面３０７に関して後退していれば、追加の非磁性材料薄層（フォトレジスト、ア ルミナ、銅または同様物のような非磁性金属）が被着されそして領域３０７、２ ４７などから取り除かれる。これは、領域３０９において磁極チップ２３９の周 囲を包まないようにする。書込み空隙２３５およびセンダストシート部材２３６ （部片２３９および２４８がシート部材２３６から形成される）が、整合用特徴 物２３３（図２）の助けを受けて被着された後、パターン２３９が層２３６に形 成されそして面２３８を露呈するためにエッチングされる。 任意の理由により、もし一つの横列の位置決めにおいて他の横列との任意のラ ンダムな心狂いがあれば、フォトパターン処理の段階的技術および基準面２３８ を使用し、引き続く層パターンが底部磁極のトラック形成部分２２５に関してウ ェハに正確に形成される。コイル２４１の形成後、絶縁性アルミナ２２６が被着 されそして部位２４７の面および部位２３９の頂部から除去される。そのとき、 第１のＭＲ読出し空隙部２４８、リード部材２４０を有するＭＲ膜構造体および 第２のＭＲ読出し空 隙部２４９が被着される。空隙部材料が再び部位２４６、２４７から除去されそ してコイル接触領域２８２、２８０、２８１（図７）などが露呈される。そのと き、NiFeの頂部ヨーク部材２４２、頂部ＭＲシールド部材およびリード部材など が被覆される。ヘッド完成のための残余の段階は従来の態様で行われる。 図１１は図１０Ｂに概略図示のヘッドの空気支持面の光景の概略である。図示 のごとく、部分２２５の幅（ＴＷ）が書込みトラック幅を画定する。積層される 空隙中金属において、厚さＴＷは非常に正確に制御されるので、非常に狭いトラ ック書込みヘッドが作られる。 こうして、書込みのための空隙中金属・薄膜ハイブリッドヘッドとデータ読出 しのため書込みヘッド頂部のＭＲヘッドとが形成される。この新規なＭＲ読出し ／書込みヘッドにおいて、回転媒体状のデータに対して誘導性書込みヘッドが先 行しそしてＭＲ読出しヘッドが後を追う。すなわちＭＲヘッドは早速に書き込ま れる遷移を読み出すことができる。さらに、この新規ヘッドにおいて、書込まれ た遷移はＭＲ読出し空隙により一層接近し、かくして典型的な回転アクチュエー タにおけるような半径依存性のスキュー効果を低減する。これはより一層丈夫な 設計である。なぜなら書込みヘッドは書込みヘッドの製造において空隙中金属技 術の応用によりのど高さの変化に対して低感度だからである。 本明細書に開示の新規な発明において、書込みヘッド は最初に製造されそして順次ＭＲ読出しヘッドが形成され、多層で薄くそして敏 感なＭＲ膜構造体に対する温度悪影響を除去する。 本発明の別の実施例において、ヨーク部材を複数回コイルの種々のセグメント と折り重ねることにより、同じコイル層がヨーク部材と複数回結合することによ りヘッドが形成される。図１２はスペーサ４００により分離されそしてＣ形コア ４１１と接続されるＣ形コア４１０を図示する。図１３は同じコイル２４１との 複数回のヨーク部材の折り重ねを図示する。ヨーク部材４１０はコイル２４１の 前方セグメント２５０の下に沈み、ヨーク部材４４２はコイル２４１の後方側部 の上を渡り、ヨーク部材４１１はコイル２４１の後方側部２５１の下に沈み、そ してヨーク部材４４３はコイル２４１の前方２５０の上を渡る。こうして、改善 される磁束結合のために、ヨーク部材はコイルと２回結合し、有効巻き数を増大 する。 ヨークセグメントにおける磁化は、ヘッド効率を高めるため、磁束が磁化に本 質的に垂直方向に伝達するよう画定される。ヨークセグメント４４２、４４３は NiFeで被覆されるフェライト材料または他の任意の軟磁性材料から作られ得る。 ヨークセグメント４４２はヨークセグメント４１０および４１１にそれぞれ部 分４３１および４３０で磁気的に結合される。ヨークセグメント４４３は部分４ ３２で ヨークセグメント４１１に結合される。製造プロセスにおいて、Ｃ形切断コア４ １０および４１１は結合され、そしてキャビティは充填されそして平面化される 。空隙材料２３５および軟磁性材料２３６が被着される。トラック幅４２０の画 定のため磁極チップ領域２９０および後方閉鎖体領域４３１、４３０、４３２の ためのマスクパターンおよび整合用の特徴２８３が形成されそしてある深さ（の ど高さに等しいのが好ましい）までコア４１０、４１１へとエッチングされる。 これは突出面４２０、４３０、４３１、４３２および整合用特徴物２８３を除き プレーナ面を残す。ここで、アルミナ絶縁物２２６により分離される多層形コイ ル２４１が形成される。絶縁（２２６）後、好ましくはNiFeの頂部ヨーク部分４ ４２、４４３が部分４３１、４３０、４３２と磁気的に接触状態にて被覆される 。 一例として、折り重ねヨークヘッドの製造プロセスの順序が図１４に示されて いる。図１４Ａは、滑動子形成サブストレート２９９に結合される磁気縞部材３ １０を図示する。これは、上述した如く、磁性サブストレート３００を滑動子形 成サブストレート２９９と結合しそして部分３２０を機械加工することにより形 成され得る。図１４Ｂに示されるごとく、領域４５１が、磁性材料の除去のため 、順次機械加工される。それから、磁気縞部材４５３が、領域４５２からスペー サ４００により離間されてサブストレート２９９と結合される（図１４Ｃ） 。スペーサ４００が面４０１で部位４５３にガラスを被着することにより形成さ れ得る。Ｃ形切れ目３３０が磁気片４５２に作られるときに、それが領域４５７ において全ての磁性材料を除去するように、縞部材４５３が部位４５２に関して 高められた高さの場所に結合される（図１４Ｄ）。 図１２に図示の互い違いの一対のＣ形切断コアの製造のため、溝ないしチャン ネル４５４が磁性縞部材４５３を通って切断され、磁性材料を除去する。さらに 、Ｃ形切れ目３３０および４６１が作られる。磁性縞部材４５３が高い高度の場 所に結合されるので、Ｃ形切れ目３３０が作られるとき、それはさらに領域４５ ７から全ての磁性材料を除去する。それから、Ｃ形切れ目４６１が作られる。Ｃ 形切れ目４６１を作成する間の残存材料４５９はいずれの悪影響をも有さない。 これは図１２に図示の互い違いの一対のＣ形切断コアを形成する。部分４５５は 底部磁極チップを形成する。付属物４５６は所望されるのであれば、滑動子製造 プロセス中に除去され得る。 ここに、コイル２４１が、図１４Ｅに示されるごとく、突出柱状部材４３１〜 ４３２の周囲に被着され得る。コイル２４１が、フォトリソグラフィおよび被覆 技術によりバッチ形式で被着する代わりに機械的に巻廻され得る。手巻きコイル は、コイル抵抗が低いという利益を有する。コイルの巻廻後、くぼみ領域が堅焼 きフォトレジ スト、エポキシまたはアルミナタイプの材料で充填される。それから、図１４Ｆ のごとく、磁気回路の完成のため、頂部ヨーク部分４４２、４４３が形成される 。このヨークは固定フェライト、被覆NiFeまたは他の任意の軟磁性材料とされ得 る。 上述の説明は本発明の特定の実施例に限定されている。しかし、本発明の利益 の全てまたはそのいくつかを達成しつつ種々の変更および修正が本発明に対して なされ得る。それゆえ、以下の請求の範囲の目的は本発明の精神および技術思想 内に包摂されるかかる変更の全てを包含することである。本発明は以下の請求の 範囲で示される。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．磁気媒体へおよび／または磁気媒体から磁束の形式にてデータを書込みおよ び／または読出すための磁気記憶装置であって、当該磁気媒体は該装置に関して 移動するところの磁気記憶装置の製造方法において、 滑動子形成サブストレートにＣ形切断コアを形成しそしてこれからバッチプロ セスにてヘッドを形成することを備える製造方法。 ２．バッチ処理のためウェハとしてサブストレートを形成することを別途含む請 求の範囲第１項の製造方法。 ３．コイルおよび第２のないし別の磁極をウェハに形成することを別途含む請求 の範囲第２項の製造方法。 ４．前記形成が、ＭＲ読出し／書込みヘッドの書込みヘッドまたは読出し／書込 み誘導性ヘッドの形成を含み、ここでヘッドは空隙中金属・薄膜ハイブリッドヘ ッドである請求の範囲第３項の製造方法。 ５．誘導性書込みヘッドおよびＭＲヘッドを含み、ＭＲヘッドが書込みヘッド頂 部に形成される、磁気記憶装置の読出し／書込みヘッド。 ６．Ａ．滑動子形成サブストレート上に、規則的な固定距離にて分離される磁気 縞部材を積み重ね、 Ｂ．磁気縞部材を滑動子形成サブストレートで結合し、 Ｃ．スロット部の形成のため縞部材内にＣ形切れ目 を作り、 Ｄ．スロット部を非磁性材料で充填しそして平面化することにより、ウェハ にＣ形切断コアを形成することを含む請求の範囲第１項の製造方法。 ７．Ａ．磁性サブストレートを滑動子形成サブストレートと結合し、 Ｂ．磁性材料を除去し、滑動子形成サブストレートに固定磁気縞部材を形成 するため、複数の横列またはチャンネルを切断し、 Ｃ．スロット部の形成のため縞部材内にＣ形切れ目を作り、 Ｄ．スロット部を非磁性材料で充填しそして平面化することにより、Ｃ形切 断コアがウェハとして形成される段階を含む請求の範囲第１項の製造方法。 ８．Ａ．磁性サブストレートを滑動子形成サブストレートと結合し、 Ｂ．空隙材料を被着し、 Ｃ．センダストタイプの磁性材料を被着し、 Ｄ．磁性材料を除去し、磁気縞部材を形成するために、複数のチャンネルを 切断し、 Ｅ．第１の磁性材料層に少くとも部分的に入り込んで縞部材内にＣ形切れ目 を作り、 Ｆ．スロット部を充填しそして平面化し、 Ｇ．絶縁物により分離される少くとも一つのコイル層を形成し、そして、 Ｈ．磁気回路の完成のため、前方チップを後方の閉鎖体と接続する頂部の磁 極を形成することを含む請求の範囲第１項の製造方法。 ９．Ａ．滑動子形成サブストレート上に、規則的な固定距離にて分離される磁気 縞部材を積み重ね、 Ｂ．磁気縞部材を滑動子形成サブストレートで結合し、 Ｃ．スロット部の形成のため縞部材内にＣ形切れ目を作り、 Ｄ．スロット部を非磁性材料で充填しそして平面化し、 Ｅ．空隙材料を被着しそして軟磁性材料を被着し、 Ｆ．トラック幅および後方領域構造体の画定のため磁極チップ構造体をパタ ーン処理しそしてエッチングしかかる構造体を形成し、 Ｇ．絶縁物により分離されるコイル層を被着し、そして、 Ｈ．磁気回路の完成のため、チップ領域を後方閉鎖体と磁気接続する軟磁性 材料を被着する諸段階を別途含む請求の範囲第１項の製造方法。 １０．磁気媒体へおよび／または磁気媒体から磁束の形式にてデータを書込みお よび／または読出すための磁気記憶装置であって、当該磁気媒体は該装置に関し て移動するところの磁気記憶装置の製造方法において、 ヨークを複数回、種々のコイルセグメントと折り重ね ることにより、コイル層がヨーク部材と複数回結合することにより空隙中金属・ 薄膜タイプのハイブリッドヘッドを製造することを含む、磁気記憶装置の製造方 法。 １１．コイルは多層である請求の範囲第１０項の製造方法。 １２．Ａ．滑動子形成サブストレート上に、規則的な固定距離にてスペーサ材料 により分離される磁性コアを積み重ね、 Ｂ．磁性コアを滑動子形成サブストレートで結合し、 Ｃ．スロット部を非磁性材料で充填しそして平面化し、 Ｅ．空隙材料を被着しそして軟磁性材料を被着し、 Ｆ．トラック幅、後方領域構造体および整合用パターンの画定のため磁極チ ップ構造体をパターン処理しそしてエッチングして、パターンを形成し、 Ｇ．絶縁物により分離されるコイル層を被着し、そして、 Ｈ．磁気回路の完成のため、磁気接続する軟磁性材料を被着することによっ てヘッドが形成される請求の範囲第１０項の製造方法。 １３．磁気媒体へおよび／または磁気媒体から磁束の形式にてデータを書込みお よび／または読出すための磁気記憶ヘッド装置であって、当該磁気媒体は該装置 に関して移動するところの磁気記憶ヘッド装置において、 底部磁極、空隙材料層、頂部磁極チップ領域および後方閉鎖体部分を形成する 滑動子形成サブストレートにＣ形切断コアを有し、頂部磁極チップ領域および後 方閉鎖体部分が同様の被着シートから形成されそして磁気回路の形成のため、磁 気被覆層により結合される磁気記憶ヘッド装置。 １４．誘導性書込みヘッドおよびＭＲ読出しヘッドを含み、ＭＲ読出しヘッドが 誘導性書込みヘッドの頂部に形成される請求の範囲第１３項の磁気記憶ヘッド装 置。 １５．Ｃ形切断コアが、滑動子形成サブストレート上で規則的な固定距離にて分 離される磁気縞部材の積層物を具備し、磁気縞部材が滑動子形成サブストレート に固定され、そして少くとも一つのＣ形切れ目がスロット部の形成のため磁気縞 部材内に作られそして当該スロット部が非磁性材料で充填される請求の範囲第１ ３項の磁気記憶ヘッド装置。 １６．Ｃ形切断コアが滑動子形成サブストレートに結合される磁気サブストレー トとして形成され、磁気材料を除去して滑動子形成サブストレートに結合磁気縞 部材の形成のため、横列状またはチャンネル状切れ目をサブストレート中に有し 、磁気縞部材はＣ形切れ目を有し、そしてＣ形切れ目のスロット部が非磁性材料 で充填される請求の範囲第１３項の磁気記憶ヘッド装置。 １７．磁気サブストレートが滑動子形成サブストレートと結合され、空隙材料層 がその上に形成され、センダス ト磁性部分（たとえば２９０、２９１、２８３）がその上に形成され、Ｃ形切断 スロット部が縞部材中に形成され、そしてスロット部が充填および平面化され、 コイル層および絶縁物がその上に形成され、頂部磁極が前方チップを後方閉鎖体 と接続し、磁気回路を完成する請求の範囲第１３項の磁気記憶ヘッド装置。 １８．滑動子形成サブストレートで規則的な固定距離にて結合材料スペーサによ り分離される磁気縞部材の積層体を別途具備する請求の範囲第１３項の磁気記憶 ヘッド装置。 １９．滑動子形成サブストレート上に結合磁気縞部材を別途具備し、Ｃ形切断ス ロット部が縞部材にあり、スロット部は非磁性材料で充填され、軟磁性材料層が その上に形成され、パターン化される磁極チップ、後方閉鎖体領域および整合用 パターンがここに形成され、絶縁物により分離されるコイル層がその上にあり、 磁気回路の完成のため、チップ領域と後方閉鎖体とを磁気接続する軟磁性材料に より被覆される請求の範囲第１８項の磁気記憶ヘッド装置。 ２０．空隙中金属・薄膜タイプハイブリッドヘッドを別途具備し、ヨークと種々 のコイルセグメントとの複数回の折り重ねを介してヨークと複数回結合されるコ イル層をヘッドが有する請求の範囲第１３項の磁気記憶ヘッド装置。 ２１．誘導性書込みヘッドおよびＭＲヘッドを含み、Ｍ Ｒヘッドが誘導性書込みヘッドの頂部に形成される磁気記憶装置の読出し／書込 みヘッド装置。 ２２．サブストレートとサブストレート内に埋め込まれる磁気コアを別途緒具備 する請求の範囲第２１項の読出し／書込みヘッド装置。 ２３．書込みトラック幅が磁気コアの厚さにより画定される請求の範囲第２２項 の読出し／書込みヘッド装置。 ２４．埋め込みコアが書込みトラック幅を画定する請求の範囲第２２項の読出し ／書込みヘッド装置。 ２５．埋め込みコアが書込みトラック幅を画定しそして書込みヘッドの先導磁極 である請求の範囲第２２項の読出し／書込みヘッド装置。 ２６．埋め込みコアが積層磁性膜から作られる請求の範囲第２２項の読出し／書 込みヘッド装置。 ２７．磁極のうち少くとも一つの磁極が磁性膜の積層により形成される請求の範 囲第１３項の磁気記憶ヘッド装置。 ２８．空気支持面（ＡＢＳ）における磁極チップ間の空隙で磁極チップが終了し 、少くとも一つのコアが空気支持面で所望トラック幅よりも広く、そして空隙周 囲の磁極チップはトラック幅画定のため実質的に同様の寸法である請求の範囲第 １３項の磁気記憶ヘッド装置。 ２９．磁極チップが空気支持面（ＡＢＳ）で終了しそして空気支持面における磁 極チップがセンダストから形成される請求の範囲第１３項の磁気記憶ヘッド装置 。 ３０．少くとも一つのコアが積層センダストから形成される請求の範囲第１３項 の磁気記憶ヘッド装置。 ３１．第１の磁極を、少くとものど高さに等しい深さまでエッチングすることを 別途含む請求の範囲第９項の製造方法。 ３２．積層軟磁性膜の埋め込みコアを製造することを別途含む請求の範囲第９項 の製造方法。 ３３．所望トラック幅よりも広い積層埋め込みコア厚さを作ることを別途含む請 求の範囲第３２項の製造方法。 ３４．センダストの磁性膜形成を別途含む請求の範囲第３２項の製造方法。 ３５．イオンビームエッチングを別途含む請求の範囲第３１項の製造方法。 ３６．ａ．サブストレートに埋め込まれるコアを形成し、 ｂ．スロット部の形成のためＣ形切れ目を縞部材内に形成し、 ｃ．スロット部を非磁性材料で充填および平面化し、 ｄ．書込み空隙材料を被着し、書込み空隙材料を後方閉鎖体領域から除去 し、 ｅ．磁性材料シートを被着し、 ｆ．書込みヘッドの頂部磁極チップおよびＭＲヘッドの底部シールド部材 の形成のため磁性材料の頂部のパターン処理およびエッチングを行い、 ｇ．少くとも一つのコイルおよび絶縁層を形成し、 ｈ．第１の読出し空隙、ＭＲ構造体および第２の読出し空隙を形成し、 ｉ．頂部ＭＲシールド部材と、後方閉鎖体と底部シールド部材とを接続す るヨーク領域とを形成することを含む磁気記憶装置の読出し／書込みヘッド形成 方法。 ３７．センダスト膜の底部シールド部材を形成することを別途含む請求の範囲第 ３６項の読出し／書込みヘッド形成方法。 ３８．積層磁性膜の埋め込み磁気コアを作ることを別途含む請求の範囲第３６項 の読出し／書込みヘッド形成方法。 ３９．埋め込みコアの厚さを通じて書込みトラック幅を決定することを別途含む 請求の範囲第３６項の読出し／書込みヘッド形成方法。 ４０．ヨークを複数回種々のコイルセグメントと折り重ねることを含み、ヨーク の折り重ねがサブストレート中の互い違いの埋込みコアの形成により達成される 、ヨーークと複数回結合されるコイル層を有するヘッド形成方法。 ４１．互いに隣接してそして非磁性材料により分離される一対の磁気コアを埋め 込みことを別途含み、一方の磁気コアが他の磁気コアとは異なる高さの場所にあ り、より高い高さを有する磁気コアにＣ形切れ目を形成してい る間、Ｃ形切れ目のパスにおける、他方の磁気コアの磁性材料セグメントが除去 され、 さらに、 互いに分離の２つの近接する磁気柱状部材の形成のため、第１のＣ形切れ目近 くにそしてこれと平行により高い高さにてコアにＣ形切れ目を形成し、 少くとも一つのコイル層および絶縁層が形成されそして近接の磁気柱状部材を 取り囲むようにスロット部を非磁性材料で充填しそして平面化し、 軟磁性材料を被着し、一つのコアの前方部分と近傍のコアの後方部分とを接続 し、磁気回路を完成することを別途含む請求の範囲第４０項のヘッド形成方法。 ４２．積層膜からなる少くとも一つのコアを形成することを別途含む請求の範囲 第４１項のヘッド形成方法。 ４３．所望トラック幅よりも広いコア材料からなる磁極チップを空気支持面に形 成し、順次、エッチングにより所望トラック幅を形成することを別途含む請求の 範囲第４０項のヘッド形成方法。 ４４．磁気縞部材を結合材料スペーサで分離することを別途含む請求の範囲第４ １項のヘッド形成方法。 ４５．磁気縞部材を結合材料スペーサで分離することを別途含む請求の範囲第９ 項の製造方法。 ４６．磁気媒体へおよび／または磁気媒体から磁束の形式にてデータを書込みお よび／または読出すための磁気記憶ヘッド装置であって、当該磁気媒体は該装置 に関し て移動するところの磁気記憶ヘッド装置において、 底部磁極、空隙材料層、頂部磁極チップ領域および後方閉鎖体部分を形成する 滑動子形成サブストレートにＣ形切断コアを有し、頂部磁極チップ領域および後 方閉鎖体部分が同様の被着シートから形成されそして磁気回路の形成のため、磁 気被覆層により結合され、 Ｃ形切断コアが、滑動子形成サブストレートに規則的な固定距離にて分離の分 離磁気縞部材の積層体を具備し、磁気縞部材は滑動子形成サブストレートに結合 され、そしてスロット部の形成のため少くとも一つのＣ形切れ目が縞部材に作ら れ、スロット部は非磁性材料で充填され、磁束伝達磁気回路の形成のため、絶縁 層上に形成される磁性層を有する絶縁層により互いに分離される複数コイル層を 有するヨークが画定される磁気記録ヘッド装置。 ４７．空隙中金属・薄膜タイプのハイブリッドヘッドを別途具備し、種々のコイ ルセグメントとの複数回のヨークの折り重ねを通じてヨークと複数回結合される コイル層を当該ヘッドが有する請求の範囲第４６項の磁気記録ヘッド装置。 ４８．ウェハに形成される、磁気記録装置の読出し／書込みヘッド装置の形成方 法において、 ウェハ中に埋め込まれる少くとも一つのコアを形成することを含む読出し／書 込みヘッド装置形成方法。 ４９．積層軟磁性膜からなる埋め込みコアを作ることを 別途含む請求の範囲第４８項の読出し／書込みヘッド装置の形成方法。