JPS62154319A - 薄膜磁気ヘツドのスライダ浮上面形成方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘツドのスライダ浮上面形成方法Info
- Publication number
- JPS62154319A JPS62154319A JP29806785A JP29806785A JPS62154319A JP S62154319 A JPS62154319 A JP S62154319A JP 29806785 A JP29806785 A JP 29806785A JP 29806785 A JP29806785 A JP 29806785A JP S62154319 A JPS62154319 A JP S62154319A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic pole
- slider
- bearing surface
- air bearing
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/3116—Shaping of layers, poles or gaps for improving the form of the electrical signal transduced, e.g. for shielding, contour effect, equalizing, side flux fringing, cross talk reduction between heads or between heads and information tracks
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
この発明の薄膜磁気ヘッドのスライダ浮上面形成方法は
、該浮上面の機械研磨加工における磁極先端部分の加工
歪層および凹みを無くすため、イオンミリング等で前記
凹み内にある加工歪層を除去した後、該凹みを含むスラ
イダ浮上面全体にスパッタリング法等で磁極材料を形成
し、さらにスライダ浮上面上の余分な該磁極材料をイオ
ンミリングで除去し該浮上面を平坦化したものである。
、該浮上面の機械研磨加工における磁極先端部分の加工
歪層および凹みを無くすため、イオンミリング等で前記
凹み内にある加工歪層を除去した後、該凹みを含むスラ
イダ浮上面全体にスパッタリング法等で磁極材料を形成
し、さらにスライダ浮上面上の余分な該磁極材料をイオ
ンミリングで除去し該浮上面を平坦化したものである。
この発明は、浮上型＊ １１！磁気ヘツドのスライダ浮
上面形成方法に係り、さらに詳細には磁極先端部の凹み
を無くした新しいスライダ浮上面の形成方法に関するも
のである。
上面形成方法に係り、さらに詳細には磁極先端部の凹み
を無くした新しいスライダ浮上面の形成方法に関するも
のである。
磁気ディスク装置は、益々高密度化が進み、それに連れ
磁気ヘッドの浮上量は益々低浮上化の方向に向かってい
る。そのためスライダ浮上面を形成する機械研磨による
磁極先端部分の加工歪層および凹みは、ヘッド浮上量が
小さければ小さい程磁気記録特性に対する影響が大とな
る。
磁気ヘッドの浮上量は益々低浮上化の方向に向かってい
る。そのためスライダ浮上面を形成する機械研磨による
磁極先端部分の加工歪層および凹みは、ヘッド浮上量が
小さければ小さい程磁気記録特性に対する影響が大とな
る。
従って、このような磁極先端部分の加工歪層および凹み
を無くする製造方法が必要である。特に高密、度記録が
可能な垂直記録用磁気ヘッドにおいては、その浮上量は
さらに小さくなるので是非とも当該製造方法が必要とな
ってきた。
を無くする製造方法が必要である。特に高密、度記録が
可能な垂直記録用磁気ヘッドにおいては、その浮上量は
さらに小さくなるので是非とも当該製造方法が必要とな
ってきた。
第２図に一般的な薄膜磁気ヘッドの断面図を、第３図に
それを搭載したスライダの斜視図をそれぞれ示す。
それを搭載したスライダの斜視図をそれぞれ示す。
図に示すようにＷｔｌＩｉヘッドは、５ｉ０２．Ａｌ２
Ｏ３、Ａ １２０３ Ｔ ｉ Ｃ等の酸化物系のスラ
イダを構成する基板ｌｌ上に、磁極１２としてＮｉＦｅ
。
Ｏ３、Ａ １２０３ Ｔ ｉ Ｃ等の酸化物系のスラ
イダを構成する基板ｌｌ上に、磁極１２としてＮｉＦｅ
。
アモルファスＣｏＺｒＮｂ、ＦｅＳｉ等の金属強磁性体
を、同じく酸化物系の物質で形成したギャップｆｉＬ３
を両側から挟んで形成し、かつギャップ層１３上にコイ
ル導体層１４を設け、さらにそれらの上から同酸化物系
物質の保護膜１５を厚く設けた構造である。
を、同じく酸化物系の物質で形成したギャップｆｉＬ３
を両側から挟んで形成し、かつギャップ層１３上にコイ
ル導体層１４を設け、さらにそれらの上から同酸化物系
物質の保護膜１５を厚く設けた構造である。
しかして磁気ディスク（図示せず）と対向するスライダ
の浮上面１の加工は、前記磁極先端部の長さを所定長さ
に調整する機械研削を加えた後、ダイヤモンド粒子を塗
布した表面精度の良いアルミニウム板を用いてその研削
後の浮上面を研磨し平面にする手法が採られていた。
の浮上面１の加工は、前記磁極先端部の長さを所定長さ
に調整する機械研削を加えた後、ダイヤモンド粒子を塗
布した表面精度の良いアルミニウム板を用いてその研削
後の浮上面を研磨し平面にする手法が採られていた。
ところが、前記従来のスライダ浮上面加工方法では、第
４図に示すように磁極１２の先端部分に加工歪層２１が
生じるとともに、その材料である金属強磁性体が周りの
酸化系物質よりも格段に軟らかい性質であるために当該
磁極先端が浮上面より凹んだ形（２２）となってしまう
という欠点があった。
４図に示すように磁極１２の先端部分に加工歪層２１が
生じるとともに、その材料である金属強磁性体が周りの
酸化系物質よりも格段に軟らかい性質であるために当該
磁極先端が浮上面より凹んだ形（２２）となってしまう
という欠点があった。
前記磁極先端の加工歪層２１の厚さは０．０２〜０．０
５μｍ１凹み２２の深さは０．０３〜０．１μｍである
。現在の磁気ディスク装置のヘッド浮上量は、０．１５
〜０．２μｍであるから当該歪層および凹みは特性上無
視できない。すなわち、この加工歪層および凹みは、磁
気記録再生特性的には浮上量が増加したことに相当し、
磁気ディスクの特性上大きな問題となる。特に加工歪層
２１は、単に浮上量を増加させるだけでなく、磁気ヘッ
ド全体の特性にも悪影響を及ぼすものである。
５μｍ１凹み２２の深さは０．０３〜０．１μｍである
。現在の磁気ディスク装置のヘッド浮上量は、０．１５
〜０．２μｍであるから当該歪層および凹みは特性上無
視できない。すなわち、この加工歪層および凹みは、磁
気記録再生特性的には浮上量が増加したことに相当し、
磁気ディスクの特性上大きな問題となる。特に加工歪層
２１は、単に浮上量を増加させるだけでなく、磁気ヘッ
ド全体の特性にも悪影響を及ぼすものである。
この発明は、以上のような従来の状況から、そのような
加工歪層および凹みを無くした磁気ヘッドのスライダ浮
上面形成方法の提供を目的とするものである。
加工歪層および凹みを無くした磁気ヘッドのスライダ浮
上面形成方法の提供を目的とするものである。
この発明のスライダ浮上面形成方法では、第１図の工程
図に示すようにスライダ浮上面を機械研削および機械研
磨する工程と、該研磨により生じた磁極先端部１２Ａの
加工歪層２１をイオンミリングまたは化学エツチングに
より除去する工程と、該歪層２工を除去したスライダ浮
上面１にスパッタリング法または真空蒸着法またはメッ
キ法により磁極材料を形成する工程と、該磁極材料層３
１の表面を機械研磨により平坦にする工程と、平坦にし
た磁極材料層３１゛をイオンミリングによりエツチング
してスライダ浮上面１上の余分な磁極材料層を除去し該
浮上面を平坦化する工程が施される。
図に示すようにスライダ浮上面を機械研削および機械研
磨する工程と、該研磨により生じた磁極先端部１２Ａの
加工歪層２１をイオンミリングまたは化学エツチングに
より除去する工程と、該歪層２工を除去したスライダ浮
上面１にスパッタリング法または真空蒸着法またはメッ
キ法により磁極材料を形成する工程と、該磁極材料層３
１の表面を機械研磨により平坦にする工程と、平坦にし
た磁極材料層３１゛をイオンミリングによりエツチング
してスライダ浮上面１上の余分な磁極材料層を除去し該
浮上面を平坦化する工程が施される。
スライダ浮上面１は、最初の機械研削、研磨によって磁
極先端部分１２Ａに従来同様に加工歪層２１と凹み２２
が発生するが、次のイオンミリング（または化学エツチ
ング）処理によって前記加工歪層２１が除去される。そ
して次のスパッタリング法等の磁極材料層形成処理によ
って歪層が除去された凹み２２内に不足分の磁極材が埋
設される。以後の磁極材料層３１の機械研磨加工は、そ
の表面を平面にして浮上面上の当該層３１′全体の次工
程におけるミリング条件（エツチング量）を同じにする
。
極先端部分１２Ａに従来同様に加工歪層２１と凹み２２
が発生するが、次のイオンミリング（または化学エツチ
ング）処理によって前記加工歪層２１が除去される。そ
して次のスパッタリング法等の磁極材料層形成処理によ
って歪層が除去された凹み２２内に不足分の磁極材が埋
設される。以後の磁極材料層３１の機械研磨加工は、そ
の表面を平面にして浮上面上の当該層３１′全体の次工
程におけるミリング条件（エツチング量）を同じにする
。
そして最後のイオンミリングによってスライダ浮上面１
上に付着している余分な磁極材料層３１゛が除去される
結果、磁極先端面１２Ｂは当該浮上面と面一になり、換
言するとスライダ浮上面１は平坦化される。
上に付着している余分な磁極材料層３１゛が除去される
結果、磁極先端面１２Ｂは当該浮上面と面一になり、換
言するとスライダ浮上面１は平坦化される。
以下、この発明に係るスライダ浮上面形成方法の一実施
例につき第１図の磁極先端部を拡大した断面図を参照し
て詳細に説明する。なお、前記第２〜４図と同一部分に
は同一符号を記している。
例につき第１図の磁極先端部を拡大した断面図を参照し
て詳細に説明する。なお、前記第２〜４図と同一部分に
は同一符号を記している。
第１図ｆａ）に示す工程において、磁極１２の先端が露
出したスライダの浮上面に機械研削と研磨を順次施す。
出したスライダの浮上面に機械研削と研磨を順次施す。
なお、研磨加工は前述した研磨具を用いて行う。そのた
め研磨後のスライダ浮上面１には、磁極先端部分１２Ａ
に図示のような機械歪層２１と凹み２２が生じる。
め研磨後のスライダ浮上面１には、磁極先端部分１２Ａ
に図示のような機械歪層２１と凹み２２が生じる。
第１図（ｂ）に示す工程において、短時間のイオンミリ
ングにより前記機械歪１１２１を除去する処理を施す。
ングにより前記機械歪１１２１を除去する処理を施す。
この場合スライダ（基板１１）材料は、磁極材料よりも
ミリング速度が遅いためその浮上面１がエツチングされ
磁極先端１２Ａと面一となるよう平坦化されることはな
い。
ミリング速度が遅いためその浮上面１がエツチングされ
磁極先端１２Ａと面一となるよう平坦化されることはな
い。
第１図ｔｃ＋に示す工程において、前記歪層２１を除去
した磁極先端部分１２Ａを含むスライダ浮上面ｌ全体に
スパンタリング法で磁極１２と同材料の金属強磁性体、
例えばＮｉＦｅを膜Ｗ、５μｍ被着形成する処理を施す
。形成された磁極材料Ｎ３１には、磁極対応部分に図の
ような凹凸が生じる。
した磁極先端部分１２Ａを含むスライダ浮上面ｌ全体に
スパンタリング法で磁極１２と同材料の金属強磁性体、
例えばＮｉＦｅを膜Ｗ、５μｍ被着形成する処理を施す
。形成された磁極材料Ｎ３１には、磁極対応部分に図の
ような凹凸が生じる。
第１図（ｃｌ）に示す工程において、前記機械研磨工程
で使用したと同じ研磨具を用いて磁極材料Ｊｉ３１の表
面を研磨加工し、浮上面１からの厚みを均一にする。
で使用したと同じ研磨具を用いて磁極材料Ｊｉ３１の表
面を研磨加工し、浮上面１からの厚みを均一にする。
第１図ｆｅ）に示す工程において、スライダにミリング
処理を施し浮上面ｌ上に付着している余分な磁極材料層
３１゛（第１図（ｄ）参照）を除去する。要するに、浮
上面の凹み２２内に埋設した磁極材料層のみを残す処理
を施す。これでスライダ浮上面の形成加工は完了し、完
了後の浮上面１は磁極先端部１２Ｂがそれと面一な平坦
面に形成される。
処理を施し浮上面ｌ上に付着している余分な磁極材料層
３１゛（第１図（ｄ）参照）を除去する。要するに、浮
上面の凹み２２内に埋設した磁極材料層のみを残す処理
を施す。これでスライダ浮上面の形成加工は完了し、完
了後の浮上面１は磁極先端部１２Ｂがそれと面一な平坦
面に形成される。
以上の説明から明らかなように、この発明によれば、磁
極先端部分に加工歪層および凹みの皆無なスライダ浮上
面を形成することができるので、磁気記録再生特性の優
れた薄膜磁気ヘッドを提供できる効果がある。従って、
高密度記録再生用の薄膜磁気ヘッドを製造する際に適用
してきわめて有益である。
極先端部分に加工歪層および凹みの皆無なスライダ浮上
面を形成することができるので、磁気記録再生特性の優
れた薄膜磁気ヘッドを提供できる効果がある。従って、
高密度記録再生用の薄膜磁気ヘッドを製造する際に適用
してきわめて有益である。
第１図はこの発明に係る薄膜磁気ヘッドのスライダ浮上
面形成方法の一実施例を工程順に示す要部拡大断面図、 第２図は一般的な薄膜磁気ヘッドの構造を示す要部断面
図、 第３図は同ヘッドを搭載したスライダの斜視図、第４図
はスライダ浮上面の機械研磨による問題を説明するため
の要部拡大断面図である。 第１図において、 １はスライダ浮上面、 １１は基板、 １２は磁極、１
２Ａ、 １２Ｂは磁極先端部、 １３はギャップ層、１
４はコイル導体層、 １５は保護膜、２１は加工歪層、
２２は凹み、 ３１．３１’は磁極材料層をそれぞれ示す。 ｔｔ １２８１祷ＬＩＩｔｒ”Ｐ、１膜、ット・
・９１ツヒ膏１ｓ−シｔｂａンエｗＩ ２囚 スライタ“４１Ｐ＋’ｆ！芝らΩ ＠３ 図 ４＠棲芝廂部℃掠友幹面図 第 ４ 囚
面形成方法の一実施例を工程順に示す要部拡大断面図、 第２図は一般的な薄膜磁気ヘッドの構造を示す要部断面
図、 第３図は同ヘッドを搭載したスライダの斜視図、第４図
はスライダ浮上面の機械研磨による問題を説明するため
の要部拡大断面図である。 第１図において、 １はスライダ浮上面、 １１は基板、 １２は磁極、１
２Ａ、 １２Ｂは磁極先端部、 １３はギャップ層、１
４はコイル導体層、 １５は保護膜、２１は加工歪層、
２２は凹み、 ３１．３１’は磁極材料層をそれぞれ示す。 ｔｔ １２８１祷ＬＩＩｔｒ”Ｐ、１膜、ット・
・９１ツヒ膏１ｓ−シｔｂａンエｗＩ ２囚 スライタ“４１Ｐ＋’ｆ！芝らΩ ＠３ 図 ４＠棲芝廂部℃掠友幹面図 第 ４ 囚
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記の工程を有する、浮上型の薄膜磁気ヘッドのスライ
ダ浮上面形成方法。 前記スライダ浮上面を機械研削および機械研磨する工程
、 前記機械研磨により生じたスライダ浮上面（１）に露出
する磁極（１１）の先端部の加工歪層（２１）をイオン
ミリングまたは化学エッチングにより除去する工程、 前記加工歪層を除去したスライダ浮上面（１）にスパッ
タリング法または真空蒸着法またはメッキ法により磁極
材料を形成する工程、 前記磁極材料層（３１）の表面を機械研磨により平坦に
する工程、 平坦にした磁極材料層（３１′）をイオンミリングによ
りエッチングして、スライダ浮上面（１）上の余分な磁
極材料層を除去し該浮上面を平坦化する工程。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29806785A JPS62154319A (ja) | 1985-12-27 | 1985-12-27 | 薄膜磁気ヘツドのスライダ浮上面形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29806785A JPS62154319A (ja) | 1985-12-27 | 1985-12-27 | 薄膜磁気ヘツドのスライダ浮上面形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62154319A true JPS62154319A (ja) | 1987-07-09 |
Family
ID=17854709
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29806785A Pending JPS62154319A (ja) | 1985-12-27 | 1985-12-27 | 薄膜磁気ヘツドのスライダ浮上面形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62154319A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8082658B2 (en) | 2008-02-25 | 2011-12-27 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. | Controlled lapping for an ABS damascene process |
-
1985
- 1985-12-27 JP JP29806785A patent/JPS62154319A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8082658B2 (en) | 2008-02-25 | 2011-12-27 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. | Controlled lapping for an ABS damascene process |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS5972639A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPS62154319A (ja) | 薄膜磁気ヘツドのスライダ浮上面形成方法 | |
| JPH0253217A (ja) | 磁気ヘッドの活動面の平滑化を行なう方法 | |
| US5279026A (en) | Process for producing a thin-film magnetic tape head | |
| JPS61151818A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPH0664730B2 (ja) | 磁気記録体 | |
| JP2819214B2 (ja) | ディスクおよびその製造方法 | |
| JP2853434B2 (ja) | 薄膜ヘッドスライダの製造方法 | |
| KR100198864B1 (ko) | 박막 자기테이프 헤드 제조방법 | |
| JPS61120329A (ja) | ヘツドスライダの製造方法 | |
| JPS61211809A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPS61158017A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPH06162431A (ja) | 積層型磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS60138713A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPS5877017A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPH07300684A (ja) | 金属薄膜パターンの形成方法 | |
| JPS60229217A (ja) | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPS61294618A (ja) | 磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH04221408A (ja) | 積層型磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JPH1196512A (ja) | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JPS59124025A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH04335202A (ja) | 垂直磁気記録再生薄膜ヘッドの製造方法 | |
| JPH02297707A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH01208711A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH0498607A (ja) | 薄膜磁気ヘッド |