JPS5877017A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS5877017A JPS5877017A JP17324681A JP17324681A JPS5877017A JP S5877017 A JPS5877017 A JP S5877017A JP 17324681 A JP17324681 A JP 17324681A JP 17324681 A JP17324681 A JP 17324681A JP S5877017 A JPS5877017 A JP S5877017A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- substrate
- ferromagnetic
- thin film
- magnetic head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は蒸着、スパッタ等の°薄膜作成技術、及び化学
エツチング、プラズマエッチジグ等の微細加工技術を用
いて作成される薄膜磁気ヘッドに関する。
エツチング、プラズマエッチジグ等の微細加工技術を用
いて作成される薄膜磁気ヘッドに関する。
又本発明は特に記録用ヘッ″ドとして用いられる巻線型
薄膜磁気ヘッドに関する。 。
薄膜磁気ヘッドに関する。 。
達成するためには、ヘッドの狭トラック化、狭ギｌ゛″
化・″チ′−′化によ６低電流化ｒ゛必要となる。
・ 又、一般に記録効！の点から、大電流を導入した場合で
も磁気飽和しない程度の飽和磁化Ｍ８の、しかし、天竺
な飽和磁化を持つ材料であって、しかも基板としても゛
用い得る材質のものは少ない。
化・″チ′−′化によ６低電流化ｒ゛必要となる。
・ 又、一般に記録効！の点から、大電流を導入した場合で
も磁気飽和しない程度の飽和磁化Ｍ８の、しかし、天竺
な飽和磁化を持つ材料であって、しかも基板としても゛
用い得る材質のものは少ない。
現在で９耐摩耗性の今るガラス基板等上に飽和磁化の大
きな材料膜を核種した基板が用いられる。
きな材料膜を核種した基板が用いられる。
しかし、これら０大きな飽和磁化を持つ材料は比抵抗ρ
が小さいので、その上に導電層を形成するためには絶縁
層、及び基板との密着を向上させるだめの密着層を形成
する必要が生ずる。以上の様な点から飽和磁化は小さい
が耐摩耗性に優れたフェライト基板を用いてヘッド基板
としたものも採用されている。しかしフェライト基板で
は特にメタルテープ等の抗磁力の高い媒体に記録を行な
う場合に記録効率の低下が生ずるという欠点がある。
が小さいので、その上に導電層を形成するためには絶縁
層、及び基板との密着を向上させるだめの密着層を形成
する必要が生ずる。以上の様な点から飽和磁化は小さい
が耐摩耗性に優れたフェライト基板を用いてヘッド基板
としたものも採用されている。しかしフェライト基板で
は特にメタルテープ等の抗磁力の高い媒体に記録を行な
う場合に記録効率の低下が生ずるという欠点がある。
又、以上示した基板の材質の問題とは別に従来のヘッド
の作成は、基板上に記録ヘッドを作成し、目的の大きさ
に基板を切断後ケースに収納し、更に磁気テープと接触
する面を目的の寸法まで研摩して行なう方法がとられる
が、しかし前記基板をケースに収納する場合その上面を
耐摩耗性材料と張り合わせる必要があり、この場合フロ
ントギャップの凹凸が著しいと凹部分に接着剤゛が多く
充填され研摩時に前記接着剤がはみ出し、テープ走行時
等に荒れるので記録特性に問題があった。
の作成は、基板上に記録ヘッドを作成し、目的の大きさ
に基板を切断後ケースに収納し、更に磁気テープと接触
する面を目的の寸法まで研摩して行なう方法がとられる
が、しかし前記基板をケースに収納する場合その上面を
耐摩耗性材料と張り合わせる必要があり、この場合フロ
ントギャップの凹凸が著しいと凹部分に接着剤゛が多く
充填され研摩時に前記接着剤がはみ出し、テープ走行時
等に荒れるので記録特性に問題があった。
本発明は上記した２つの問題点を同時に解決するもので
ある。
ある。
以下、本発明に係わる薄膜磁気ヘッドの一実施例を図面
を用いて詳細に説明する。
を用いて詳細に説明する。
本発明に係わる薄膜磁気ヘッドの一実施例の製造手順に
ついて説明する。
ついて説明する。
第１図の側面断面図は下側の磁気コアとなるＮ ｉ −
Ｚ ｎ 、 Ｍｎ −Ｚ ｎフェライト基板１上に、該
フェライト基板１より飽和磁化Ｍｓの大きいＮ１５ｏ−
Ｆ ｅ ５ｏ、セ°ンダスト等よりなる強磁性層２をス
パッタ法あるいは電子ビーム蒸着等を用いて形成し、。
Ｚ ｎ 、 Ｍｎ −Ｚ ｎフェライト基板１上に、該
フェライト基板１より飽和磁化Ｍｓの大きいＮ１５ｏ−
Ｆ ｅ ５ｏ、セ°ンダスト等よりなる強磁性層２をス
パッタ法あるいは電子ビーム蒸着等を用いて形成し、。
該層２を目的のパターン形状に化学エッチζフグあるｌ
にはスパッタエッチ等を用いて加工後、該層上にＳ ｉ
ｏ ２ ｒＡ Ｉ２Ｏ３等の第１の絶縁層３をスパッタ
。
にはスパッタエッチ等を用いて加工後、該層上にＳ ｉ
ｏ ２ ｒＡ Ｉ２Ｏ３等の第１の絶縁層３をスパッタ
。
電子ビーム蒸着等を用いて形成したものを示す。
第２図は完成したヘッドを示し、同図（ａ）は平面図、
同図（ｂ）はＡ−Ａ’線で切断した側面断面図である。
同図（ｂ）はＡ−Ａ’線で切断した側面断面図である。
第１図の第１の絶縁層３上にＣｕ、ＡＩ、Ａｕ等の第１
の導電層４をスパッタ法あるいは電気メツキ法等を用い
て形成し、該導電層４をシグナルラインとする為にマル
チターンの微細パターン形状に化学エツチング、プラズ
マエッチ等によりエツチングする。次に前記導電層４上
にＳ ｉ ０２ ｒＡ Ｉ２０ Ｂ。
の導電層４をスパッタ法あるいは電気メツキ法等を用い
て形成し、該導電層４をシグナルラインとする為にマル
チターンの微細パターン形状に化学エツチング、プラズ
マエッチ等によりエツチングする。次に前記導電層４上
にＳ ｉ ０２ ｒＡ Ｉ２０ Ｂ。
Ｓ ｉ ３ Ｎ ４等の第２の絶縁層５をスパッタ法、
電子ビーム蒸着法等を用いて積層する。次に前記第１の
導電層４と後述する第２の導電層との間の接続部及びフ
ロントギャップ部の第２の絶縁層５をプラズマエッチ等
を用いてエツチングし、２層目の導電層としてＣｕ、Ａ
Ｉ、Ａ４の第２の導電層６をスパッタ法、電気メツキ法
等により形成する。この第２の導電層６はマルチターン
のシグナルラインの一方の端子として用いるべく、目的
の微細パターン形状に化学エツチング、プラズマエッチ
等を用いてエツチングする。次に前記第２の導電層６上
にＳ １０２１Ａ ｌ□０３．ＳｉＯ等の第３の絶縁層
７をスパッタ等、電子ビーム蒸着法等を用いて形成し、
該第３の絶縁層７の一部をプラズマエッチ等を用いて除
去後、Ｎ ｉ −Ｆ ｅ等の強磁性層８を電気メッキ、
スパッタ法を用いて形成し、この強磁性層８と前記フェ
ライト基板とで磁気コアを構成した後、前記第２の絶縁
層５及び第３の絶縁層７をプラズマエッチ等を用いて窓
あけをする事により、薄膜磁気ヘッドが完成する。
電子ビーム蒸着法等を用いて積層する。次に前記第１の
導電層４と後述する第２の導電層との間の接続部及びフ
ロントギャップ部の第２の絶縁層５をプラズマエッチ等
を用いてエツチングし、２層目の導電層としてＣｕ、Ａ
Ｉ、Ａ４の第２の導電層６をスパッタ法、電気メツキ法
等により形成する。この第２の導電層６はマルチターン
のシグナルラインの一方の端子として用いるべく、目的
の微細パターン形状に化学エツチング、プラズマエッチ
等を用いてエツチングする。次に前記第２の導電層６上
にＳ １０２１Ａ ｌ□０３．ＳｉＯ等の第３の絶縁層
７をスパッタ等、電子ビーム蒸着法等を用いて形成し、
該第３の絶縁層７の一部をプラズマエッチ等を用いて除
去後、Ｎ ｉ −Ｆ ｅ等の強磁性層８を電気メッキ、
スパッタ法を用いて形成し、この強磁性層８と前記フェ
ライト基板とで磁気コアを構成した後、前記第２の絶縁
層５及び第３の絶縁層７をプラズマエッチ等を用いて窓
あけをする事により、薄膜磁気ヘッドが完成する。
上記の工程で、基板としてＮ ｉ −Ｚ ｎフェライト
基板を用いた場合は、該基板が絶縁物であるので第１の
絶縁層′３は形成しなくとも問題ない。
基板を用いた場合は、該基板が絶縁物であるので第１の
絶縁層′３は形成しなくとも問題ない。
以上の本発明によれば、強磁性体基板（Ｎｉ −Ｚｎ。
Ｍｎ−Ｚｎフェライト基板等）により下側の磁気コアを
構成し、更にフロント、ギャップ部に、前記強磁性板基
板より飽和磁化Ｍｓの大きなＮＮ１６（１−Ｆｅ５ある
いはセンダスト等の強磁性層を配置したことによって、
フロントギャップ部の段差が緩和され、研摩あるいはテ
ープ走行中等に核部の接着剤の樹脂層が大きな損傷を受
けず、結果的に安定な記録行ｉを得る。又磁気コア先端
部分において磁気飽和することがないので記録効力の向
上を、得るものである。
構成し、更にフロント、ギャップ部に、前記強磁性板基
板より飽和磁化Ｍｓの大きなＮＮ１６（１−Ｆｅ５ある
いはセンダスト等の強磁性層を配置したことによって、
フロントギャップ部の段差が緩和され、研摩あるいはテ
ープ走行中等に核部の接着剤の樹脂層が大きな損傷を受
けず、結果的に安定な記録行ｉを得る。又磁気コア先端
部分において磁気飽和することがないので記録効力の向
上を、得るものである。
第１図は基板上に強磁性層を形成し絶縁層を積層した状
態の側面断面図、第２図は完成したヘッドで同図（ａ＞
は平面図、同図（ｂ）は側面断面図を示す。 図中、ｌ：フェライト基板 ２：強磁性層３：第１の絶
縁層 ４：第１の導電層５：第２の絶縁層 ６：第
２の導電層７：第３の絶縁層 ８：強磁性層 代理人 弁理士 福 士 愛 彦
態の側面断面図、第２図は完成したヘッドで同図（ａ＞
は平面図、同図（ｂ）は側面断面図を示す。 図中、ｌ：フェライト基板 ２：強磁性層３：第１の絶
縁層 ４：第１の導電層５：第２の絶縁層 ６：第
２の導電層７：第３の絶縁層 ８：強磁性層 代理人 弁理士 福 士 愛 彦
Claims (1)
- １、 強磁性体基板上に絶縁層を介して導電層による巻
線を形成し、該導電層上に絶縁層を介して金属強磁性層
を形成してなる薄膜磁気ヘッドにおいて、前記強磁性体
基板と前記金属強磁性層の間に形成されるフロントギャ
ップ部に前記強磁性体基板より大々る飽和磁化を有する
強磁性層を配置したことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17324681A JPS5877017A (ja) | 1981-10-28 | 1981-10-28 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17324681A JPS5877017A (ja) | 1981-10-28 | 1981-10-28 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5877017A true JPS5877017A (ja) | 1983-05-10 |
Family
ID=15956865
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17324681A Pending JPS5877017A (ja) | 1981-10-28 | 1981-10-28 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5877017A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4631613A (en) * | 1984-04-16 | 1986-12-23 | Eastman Kodak Company | Thin film head having improved saturation magnetization |
| US4729050A (en) * | 1984-02-23 | 1988-03-01 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Thin-film vertical magnetization transducer head |
| US4782416A (en) * | 1984-06-04 | 1988-11-01 | Siemens Aktiengesellschaft | Magnetic head having two legs of predetermined saturation magnetization for a recording medium to be magnetized vertically |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5593519A (en) * | 1978-12-28 | 1980-07-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic head |
-
1981
- 1981-10-28 JP JP17324681A patent/JPS5877017A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5593519A (en) * | 1978-12-28 | 1980-07-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic head |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4729050A (en) * | 1984-02-23 | 1988-03-01 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Thin-film vertical magnetization transducer head |
| US4631613A (en) * | 1984-04-16 | 1986-12-23 | Eastman Kodak Company | Thin film head having improved saturation magnetization |
| US4782416A (en) * | 1984-06-04 | 1988-11-01 | Siemens Aktiengesellschaft | Magnetic head having two legs of predetermined saturation magnetization for a recording medium to be magnetized vertically |
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