JPH0253217A - 磁気ヘッドの活動面の平滑化を行なう方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 （産業上の利用分野） 本発明は磁気記録／読み取りヘッド用の活動面の平滑化
を達成させる方法に係り、とりわけ研摩によって活動面
を形成する方法に関する。

（従来の技術） 磁気記録／読み取りヘッドは、非磁性材料からなる狭部
間隙によって切られたリング状磁気回路により形成され
ている。

磁気ヘッドは３つの大きなグループに分類することがで
きる。

■　磁性材料からなる２つのセミヘッドを機械研削しか
つ連結することによって形成された大きなヘッドであっ
て、例えばビデオヘッド（ＶＨＳヘッド）またはアナロ
グオーディオヘッドのようなもの。これらのヘッドは製
造工程の終了時にコイル巻される。

■　連続して設けられた磁性材料、非導電材料、導電材
料により形成された薄膜層のヘッド。これら各層はマス
キングおよびエツチング工程を経て、磁気回路、間隙、
および導電性巻取部を形成する。

■　間隙の両側に０．１〜４０ミクロンメータの厚さの
磁性金属合金を有するヘッドであって、磁気回路と導電
性巻取部は前述した大きなヘッドと同様に形成されたも
の、これはいわゆるＭＩＧヘッド（ｓ＋ｅｔａｌ　Ｉｎ
　ｇａｐ）とよばれ、今日では８ＩＩＩｌ用あるいはＲ
Ｄ　Ａ　Ｔ　（ｒｏｔａｒｙ　ｄｌｇＨａｌ　ａｕｄｉ
ｏ　ｔａｐｅ）システムに用いられる。

磁気記録／読み取りヘッドを製造する方法において、磁
性材料（例えばフェライト）と非磁性材料（例えばグラ
ス）とを連結して形成された異成分部分を機械切削する
ことがしばしば必要となる。

このことは、とりわけ出願番号第８７ １４８２４号の本件出願人によってなされた仏国特許出
願に開示された磁気ヘッドの製造方法において必要とな
る。もし、本件出願人によっ′Ｃなされた仏国特許出願
第８７　１４８について、磁性薄膜層がこの機械切削さ
れたヘッド上に付着されるのであれば、上質の表面特性
を有する必要がある。

しかしながら、異成分部分を研摩する作業は、このよう
に異成分部分を形成する２つの材料が異なった状態で摩
耗することになる。このように異なった摩耗は、各材料
が異なる硬度を有するので、非常に大きくなる。通常ダ
イヤモンド粉の混合物により研摩されるフ℃ライトと、
通常酸化セリウムにより研摩されるグラスとの場合は、
特にこのような状態となる。

従って、このように機械切削された甲面は平滑化の問題
を有し、磁気ヘッドを作成するためのその後の工程の要
求に合わなくなる。

この問題を解決するため、本発明は磁気記録／読み取り
ヘッド用に活動面の平滑化を達成させる新たな方法を有
しており、これは研摩工程前に活動面に非磁性材料の付
着工程を提供するものである。

〔発明の構成〕

（課題を解決するための手段） 従って、本発明の目的は、磁気記録／読み取りヘッドの
ための活動面の平滑化を行なう方法であって、この平滑
化は研摩によって行なわれ、活動面は研摩工程の前に、
間隙を形成する材料のレベルが磁極に対して凹状となる
ものであって、この方法は次の工程からなっている。

第１工程：少なくとも間隙の四部と等しい厚さの非磁性
材料の薄膜層を前記活動面に付着させる工程、 第２工程：非磁性材料の薄膜層を研摩して活動面の平滑
化を達成させる工程。

本発明は添付図面により説明される以下の非限定的実施
例により、より明らかにされる。

（実施例） 本発明は、とりわけ標準的な研摩工程の前にヘッドの活
動面に関して、非磁性材料内に凹部が形成されている場
合に適用されるが、限定的なものではない。

すでに引用された仏国特許出願第 ８７．１４８２４号によれば、記録／読み取りヘッドは
次のような工程で作成される。

第１工程中、磁性材料、例えばフェライト台の基板１に
１または２以上の中空部が形成される。

これらの中空部は、基板の主面に対して略直交している
。第１図は例えば符号２のような４つの中空部が形成さ
れた基板１を示している。これらの中空部は基板１の面
１０に対して直交している。

中空部の底には狭部２０が設けられている。これらの中
空部はすべて同−深さとなっているが、これらの中空部
は面１０に対向する面１１には達していない。

第２工程中、符号２０の狭部は非磁性材料で充てんされ
る。例えばグラス基材料が充てんされる。

このようにして、第２図のような構造が得られる。

第３図に示す第３工程において、磁性材料のウェハ３が
基板の面１０に固着される。このウェハはすでに形成さ
れた中空部を密閉し、ヘッドの磁性回路を閉とするため
に用いることができる。

第４工程において、基板の面が中空部の底に対して平行
に機械切削される。狭部２０まで達する機械切削が行な
われ、非磁性材からなり所望の幅ｅを有する例えば符号
２５のよう−な間隙が得られる。このようにして、第４
図に示すような構造が得られる。間隙の幅の精度は面１
１の機械切削の厚さによって調整される。

実際、製造工程のこの段階においては、活動面に、磁性
材料に対する（磁性材料面を基準とした場合の）非磁性
材料の凹部が形成される。この凹部は磁性材料と非磁性
材料との間の硬さの違いによって生じるものである。第
５図は第４図の詳細を示す拡大図である。この第５図は
とりわけ活動面１２における磁性材料に対するグラス内
の凹部を示している。

活動面１２について良好な特性面が得られる。

一般に、活動面の表面起伏の平均値は０．４μｍとなっ
ていることが好ましい。また起伏の最大値は１μｍ以下
となっていることが好ましい。これは研摩作業のためで
ある。

本発明によれば、例えばシリカやアルミナからなる非磁
性薄膜層が活動面１２に付着されている。

この層は例えばスパッタリングや蒸着等の方法により得
ることができる。付着層の厚さは、少なくとも非磁性材
料中の四部ｄの大きさに等しくなっている。

第６図はこの方法による工程を示しているが、非磁性材
料層３０が全体の活動面１２を覆っている。

また、本発明によれば、薄膜層３０が研摩され、この薄
膜層を形成する材料からなる非常に薄い層のみが、活動
面１２の磁極３１および３２に残る。

その後、研摩が１つの材料のみについて行なわれるので
、活動面が所定の平面基準とされる。この層３０の材料
のために用いられる研摩技術は、当業者にって特に問題
とならない。

このようにして、例えば仏国特許出願第８７１４８２４
号に説明されているように、磁気ヘッドが作成される。

このように形成された構造は、個々の磁気回路毎に切断
される。この切断作業は、例えば中空部間でかつ中空部
に平行に配設された平面Ｐに沿って行なわれる。第４図
の構造はＸＹ、　Ｚの三面の中に配置され、面１０およ
び１１が平面ＸＺに平行となっているので、Ｐのような
平面は平面ＺＹに平行となる。

その後、図示していないが平面ＹＸに平行な面に沿って
切断作業が行なわれる。

その後の工程において、各磁気回路にはコイルが設けら
れる。このコイルは磁気回路の腕回りのノツチ２により
巻取られる。

本発明は上述の実施例に限定されない。活動面の平滑化
を達成する本発明による方法の各工程（非磁性薄膜層工
程および研摩工程）は、当業者であれば問題なく他の実
施例にも適用可能である。

本発明の方法は、更に磁気ヘッドのバッチ生産にも適用
できるという利点を有する。

１０．１１・・・面、１２・・・活動面、２０・・・狭
部、２５・・・間隙。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、磁気記録／読み取りヘッドのための活動面の平滑化
   を研摩によって行なう方法であって、この活動面は研摩
   工程前に間隙を形成する材料のレベルが磁極に対して凹
   状となる方法において、少なくとも間隙の凹部と等しい
   厚さの非磁性材料の薄膜層を前記活性面に付着させる工
   程と、非磁性材料の薄膜層を研摩して活動面の平滑化を
   達成させる工程と、 からなる磁気ヘッドの活動面の平滑化を行なう方法。 ２、非磁性材料の薄膜層がアルミナまたはシリカである
   ことを特徴とする請求項１記載の方法。