JPH05197940A - 磁気ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドおよびその製造方法Info
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- JPH05197940A JPH05197940A JP802092A JP802092A JPH05197940A JP H05197940 A JPH05197940 A JP H05197940A JP 802092 A JP802092 A JP 802092A JP 802092 A JP802092 A JP 802092A JP H05197940 A JPH05197940 A JP H05197940A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気ヘッドが小型になっても加工による影響
で透磁率が低下しない磁気ヘッドを提供する。 【構成】 強磁性酸化物からなる一対の磁気コア１，２
を非磁性材の磁気ギャップ３ａを介して接合した磁気ヘ
ッドであって、磁気コア１，２の媒体対向面ａを除いた
少なくとも一面をエッチングすることにより、粘度の高
い砥石を用いて加工を行っても磁気コア１，２に加わっ
ていた表面ストレスおよび加工変質層が除去して、ギャ
ップ強度を維持したまま出力の高い磁気ヘッドを得る。
で透磁率が低下しない磁気ヘッドを提供する。 【構成】 強磁性酸化物からなる一対の磁気コア１，２
を非磁性材の磁気ギャップ３ａを介して接合した磁気ヘ
ッドであって、磁気コア１，２の媒体対向面ａを除いた
少なくとも一面をエッチングすることにより、粘度の高
い砥石を用いて加工を行っても磁気コア１，２に加わっ
ていた表面ストレスおよび加工変質層が除去して、ギャ
ップ強度を維持したまま出力の高い磁気ヘッドを得る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク装置に用
いられる磁気ヘッドおよびその製造方法に関するもので
ある。
いられる磁気ヘッドおよびその製造方法に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気ディスク装置の小型化、大容
量化の要求にはめざましいものがある。磁気ディスク装
置の小型化の要求に対しては現在の主流である3.5 イン
チ径から2.5 インチ、1.75インチとより小さくなってき
ている。
量化の要求にはめざましいものがある。磁気ディスク装
置の小型化の要求に対しては現在の主流である3.5 イン
チ径から2.5 インチ、1.75インチとより小さくなってき
ている。
【０００３】また、磁気ディスク装置の大容量化の要求
に対しては １．線記録密度（単位長さ当りのビットの数）を高くす
る。 ２．トラック密度（単位長さ当りのトラックの数）を高
くする。
に対しては １．線記録密度（単位長さ当りのビットの数）を高くす
る。 ２．トラック密度（単位長さ当りのトラックの数）を高
くする。
【０００４】３．ディスク枚数を増やす。 ４．ゾーンビットレコーディングを用いる。 などの方法が行われてきた。
【０００５】線記録密度を高くするためには、磁気ヘッ
ドと磁気ディスクと間の間隔、すなわち浮上量を小さく
することが有効である。しかしながら浮上量を小さくす
ることにより磁気ディスク装置の起動停止時におけるコ
ンタクトスタートスットプ特性が悪化するため、磁気ヘ
ッド自体の大きさを小さくし押し付け荷重を小さくする
方向へ進んでいる。実際に磁気ヘッドの大きさは、磁気
ディスク装置の小型化ともあいまって、長さ4.11mm×幅
3.2mm ×高さ1.27mmから2.90×2.24×0.86mmさらに2.9
×2.24×0.61mmと小さくなってきた。
ドと磁気ディスクと間の間隔、すなわち浮上量を小さく
することが有効である。しかしながら浮上量を小さくす
ることにより磁気ディスク装置の起動停止時におけるコ
ンタクトスタートスットプ特性が悪化するため、磁気ヘ
ッド自体の大きさを小さくし押し付け荷重を小さくする
方向へ進んでいる。実際に磁気ヘッドの大きさは、磁気
ディスク装置の小型化ともあいまって、長さ4.11mm×幅
3.2mm ×高さ1.27mmから2.90×2.24×0.86mmさらに2.9
×2.24×0.61mmと小さくなってきた。
【０００６】また、ゾーンビットレコーディングの採用
により外周側での記録周波数が高くなるため、磁気ヘッ
ドとしてインダクタンスの低減が要求されている。した
がって磁気ヘッド自体の小型化と低インダクタンス化の
ためトラック部となるセンターレールの幅も400 μｍか
ら300,200 μｍと狭くなってきている。
により外周側での記録周波数が高くなるため、磁気ヘッ
ドとしてインダクタンスの低減が要求されている。した
がって磁気ヘッド自体の小型化と低インダクタンス化の
ためトラック部となるセンターレールの幅も400 μｍか
ら300,200 μｍと狭くなってきている。
【０００７】ここで、従来の磁気へッドの製造方法につ
いて図１３および図１４により説明する。図１３の
（ａ）に示すように、一対の強磁性酸化物の磁気コア
１，２に巻線溝２ａ、ギャップデプス規制などの形状加
工を行い、ギャップ対向面１ｂ，２ｂを鏡面加工した
後、図１３の（ｂ）に示すように、磁気ギャップとなる
ＳｉＯ2 などの非磁性材３をスパッタリングなどにより
形成する。そして、図１３の（ｃ）に示すように、ギャ
ップ対向面１ｂ，２ｂを互いに合わせた状態で巻線溝２
ａの中にモールドガラス４を挿入してギャップ形成を行
い、磁気コアブロック５を作成する。
いて図１３および図１４により説明する。図１３の
（ａ）に示すように、一対の強磁性酸化物の磁気コア
１，２に巻線溝２ａ、ギャップデプス規制などの形状加
工を行い、ギャップ対向面１ｂ，２ｂを鏡面加工した
後、図１３の（ｂ）に示すように、磁気ギャップとなる
ＳｉＯ2 などの非磁性材３をスパッタリングなどにより
形成する。そして、図１３の（ｃ）に示すように、ギャ
ップ対向面１ｂ，２ｂを互いに合わせた状態で巻線溝２
ａの中にモールドガラス４を挿入してギャップ形成を行
い、磁気コアブロック５を作成する。
【０００８】次に図１３の（ｄ）に示すように、磁気デ
ィスク対向面１ｃおよびその反対側の面１ｄを所定寸法
に加工し、図１４の（ａ）に示すように、磁気ヘッド単
体６に切断する。そして、図１４の（ｂ）に示すよう
に、トラック部となるセンターレール７を加工する。こ
のときの一般的な加工は、図１４の（ｃ）に示すよう
に、磁気ヘッドを複数個立てて並べ、砥石８の側面で加
工を行う。このときには、なるべく表面ストレスを加え
ないように粘度の低い400 〜500 番程度の砥石が使用さ
れていたが、このような砥石ではチッピングが多数発生
するため、センターレール７の幅が狭くなるにしたがっ
て砥石８の粘度を高くするようになってきている。
ィスク対向面１ｃおよびその反対側の面１ｄを所定寸法
に加工し、図１４の（ａ）に示すように、磁気ヘッド単
体６に切断する。そして、図１４の（ｂ）に示すよう
に、トラック部となるセンターレール７を加工する。こ
のときの一般的な加工は、図１４の（ｃ）に示すよう
に、磁気ヘッドを複数個立てて並べ、砥石８の側面で加
工を行う。このときには、なるべく表面ストレスを加え
ないように粘度の低い400 〜500 番程度の砥石が使用さ
れていたが、このような砥石ではチッピングが多数発生
するため、センターレール７の幅が狭くなるにしたがっ
て砥石８の粘度を高くするようになってきている。
【０００９】そして、最終的に図１４の（ｄ）に示すよ
うに、スキー部９、トラック幅１０の加工を行い、最終
完成品とする。
うに、スキー部９、トラック幅１０の加工を行い、最終
完成品とする。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、磁気ヘ
ッドの大きさが小さくなり、砥石８の粘度が高くなって
くると、加工により生じる表面ストレス、加工変質層の
影響が大きくなり、磁気コア１，２の透磁率が低下して
しまう。特に、トラック部となるセンターレール７の幅
が狭くなってくるとこの影響は顕著になり、磁気ディス
ク装置の大容量化の妨げとなっていた。
ッドの大きさが小さくなり、砥石８の粘度が高くなって
くると、加工により生じる表面ストレス、加工変質層の
影響が大きくなり、磁気コア１，２の透磁率が低下して
しまう。特に、トラック部となるセンターレール７の幅
が狭くなってくるとこの影響は顕著になり、磁気ディス
ク装置の大容量化の妨げとなっていた。
【００１１】このことについてさらに詳しく説明する。
前述したセンターレール用の砥石８を用いてその影響を
調べてみた。測定は図１５に示すように実際の磁気ヘッ
ドに用いる強磁性酸化物でリング１１を作り、その両面
１１ａ，１１ｂを加工して厚みを変えそのときの透磁率
を測定した。透磁率は強磁性酸化物のリング１１に巻線
１２を施してベクトルインピーダンスメーター１３によ
り１ＭＨｚのインダクタンスを測定して求めた。結果を
図１６に示す。図１６からわかるように両面を加工する
ことにより透磁率は本来の値から低下し、現状の厚み30
0 μｍ程度でも30％程度の低下があり、さらに厚みが薄
くなればさらに低下することは明らかである。
前述したセンターレール用の砥石８を用いてその影響を
調べてみた。測定は図１５に示すように実際の磁気ヘッ
ドに用いる強磁性酸化物でリング１１を作り、その両面
１１ａ，１１ｂを加工して厚みを変えそのときの透磁率
を測定した。透磁率は強磁性酸化物のリング１１に巻線
１２を施してベクトルインピーダンスメーター１３によ
り１ＭＨｚのインダクタンスを測定して求めた。結果を
図１６に示す。図１６からわかるように両面を加工する
ことにより透磁率は本来の値から低下し、現状の厚み30
0 μｍ程度でも30％程度の低下があり、さらに厚みが薄
くなればさらに低下することは明らかである。
【００１２】本発明は、上記課題を解決するもので、磁
気ヘッドが小型になっても加工による影響で透磁率が低
下しない磁気ヘッドを提供することを目的とする。
気ヘッドが小型になっても加工による影響で透磁率が低
下しない磁気ヘッドを提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明は、磁気ヘッドの媒体対向面を除いた少なくと
も一面をエッチングにより除去したものである。
に本発明は、磁気ヘッドの媒体対向面を除いた少なくと
も一面をエッチングにより除去したものである。
【００１４】その製造方法としては以下の何れかの手段
による。 強磁性酸化物からなる一対の磁気コアを非磁性材の磁
気ギャップを介して接合した磁気コアブロックを、所定
寸法に加工、切断して磁気ヘッド単体にした後、所定形
状に加工し、その後媒体対向面に保護層を被着し、化学
的方法あるいは物理的方法を用いてエッチングを行う。
による。 強磁性酸化物からなる一対の磁気コアを非磁性材の磁
気ギャップを介して接合した磁気コアブロックを、所定
寸法に加工、切断して磁気ヘッド単体にした後、所定形
状に加工し、その後媒体対向面に保護層を被着し、化学
的方法あるいは物理的方法を用いてエッチングを行う。
【００１５】強磁性酸化物からなる一対の磁気コアを
非磁性材の磁気ギャップを介して接合した磁気コアブロ
ックを、所定寸法に加工した後、フォトリソグラフィー
技術によりスライダーおよびトラックパターンを形成
し、その後、媒体対向面に保護層を被着し、切断および
所定形状加工を行って磁気ヘッド単体にした後、化学的
方法あるいは物理的方法を用いてエッチングを行う。
非磁性材の磁気ギャップを介して接合した磁気コアブロ
ックを、所定寸法に加工した後、フォトリソグラフィー
技術によりスライダーおよびトラックパターンを形成
し、その後、媒体対向面に保護層を被着し、切断および
所定形状加工を行って磁気ヘッド単体にした後、化学的
方法あるいは物理的方法を用いてエッチングを行う。
【００１６】強磁性酸化物からなる一対の磁気コアを
非磁性材の磁気ギャップを介して接合した磁気コアブロ
ックを、所定寸法に加工、切断して磁気ヘッド単体にし
た後、所定形状に加工し、前記磁気ヘッドを化学的方法
あるいは物理的方法を用いてエッチングした後、媒体対
向面の最終加工を行う。
非磁性材の磁気ギャップを介して接合した磁気コアブロ
ックを、所定寸法に加工、切断して磁気ヘッド単体にし
た後、所定形状に加工し、前記磁気ヘッドを化学的方法
あるいは物理的方法を用いてエッチングした後、媒体対
向面の最終加工を行う。
【００１７】強磁性酸化物からなる一対の磁気コアを
非磁性材の磁気ギャップを介して接合した磁気コアブロ
ックを、所定寸法に加工、切断して磁気コアチップを作
り、前記磁気コアチップを化学的方法あるいは物理的方
法を用いてエッチングした後、スライダー部となる非磁
性セラミックにモールドガラスにより固着して磁気ヘッ
ド単体を作り、所定形状に加工を行う。
非磁性材の磁気ギャップを介して接合した磁気コアブロ
ックを、所定寸法に加工、切断して磁気コアチップを作
り、前記磁気コアチップを化学的方法あるいは物理的方
法を用いてエッチングした後、スライダー部となる非磁
性セラミックにモールドガラスにより固着して磁気ヘッ
ド単体を作り、所定形状に加工を行う。
【００１８】
【作用】上記構成において、磁気ヘッドの媒体対向面を
除いた少なくとも一面をエッチングにより除去すること
により、加工により生じる表面ストレスおよび加工変質
層が除去される。
除いた少なくとも一面をエッチングにより除去すること
により、加工により生じる表面ストレスおよび加工変質
層が除去される。
【００１９】また、上記〜に示す方法により、表面
ストレスおよび加工変質層がエッチングにより除去され
た磁気ヘッドを良好に製造することができる。
ストレスおよび加工変質層がエッチングにより除去され
た磁気ヘッドを良好に製造することができる。
【００２０】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づき説明す
る。なお、従来の磁気ヘッドと同機能のものには同符号
を付す。
る。なお、従来の磁気ヘッドと同機能のものには同符号
を付す。
【００２１】（実施例１）図１は、本発明の一実施例に
係る磁気ヘッドの斜視図である。この磁気ヘッドは、Ｍ
ｎ−Ｚｎ，Ｎｉ−Ｚｉなどの強磁性フェライトからなる
磁気コア１，２をＳｉＯ2 などの非磁性材３である磁気
ギャップ３ａを介してモールドガラス４により接合され
ており、空気浮動面となるスキー部９、トラック部とな
るセンターレール７が加工されて形成された後に、磁気
コア１，２の媒体対向面ａ以外の部分がエッチングによ
り除去されて形成され、センターレール７に巻線１３が
施された構成とされている。
係る磁気ヘッドの斜視図である。この磁気ヘッドは、Ｍ
ｎ−Ｚｎ，Ｎｉ−Ｚｉなどの強磁性フェライトからなる
磁気コア１，２をＳｉＯ2 などの非磁性材３である磁気
ギャップ３ａを介してモールドガラス４により接合され
ており、空気浮動面となるスキー部９、トラック部とな
るセンターレール７が加工されて形成された後に、磁気
コア１，２の媒体対向面ａ以外の部分がエッチングによ
り除去されて形成され、センターレール７に巻線１３が
施された構成とされている。
【００２２】この磁気ヘッドにおいて巻線１３に電流を
流し、磁気ギャップ３ａから発生する磁界により磁気デ
ィスクに信号磁化を書き込むことにより記録動作をし、
磁気ディスクの信号磁化から発生する磁束を拾うことに
より再生動作をする。このとき、磁束を拾う能力は磁気
コア１，２の透磁率によるところが大きい。
流し、磁気ギャップ３ａから発生する磁界により磁気デ
ィスクに信号磁化を書き込むことにより記録動作をし、
磁気ディスクの信号磁化から発生する磁束を拾うことに
より再生動作をする。このとき、磁束を拾う能力は磁気
コア１，２の透磁率によるところが大きい。
【００２３】この磁気ヘッドの製造方法を図２を用いて
説明する。図２および図３の（ａ）〜（ｄ）に示す磁気
ヘッド単体６にするまでの工程は従来の磁気ヘッドの製
造方法と同じであるため、異なる工程のみを説明する。
磁気ヘッド完成品となった後、図４の（ａ）に示すよう
に磁気ヘッドの媒体対向面ａにレジスト、ワックスなど
の保護層１４を被着してエッチングを行う。エッチング
の方法としては、リン酸溶液による溶解や電解エッチン
グなどの化学的方法あるいはイオンミリング、スパッタ
リングなどの物理的方法を用いる。
説明する。図２および図３の（ａ）〜（ｄ）に示す磁気
ヘッド単体６にするまでの工程は従来の磁気ヘッドの製
造方法と同じであるため、異なる工程のみを説明する。
磁気ヘッド完成品となった後、図４の（ａ）に示すよう
に磁気ヘッドの媒体対向面ａにレジスト、ワックスなど
の保護層１４を被着してエッチングを行う。エッチング
の方法としては、リン酸溶液による溶解や電解エッチン
グなどの化学的方法あるいはイオンミリング、スパッタ
リングなどの物理的方法を用いる。
【００２４】化学的方法を用いた場合には保護層１４を
被着していない部分すべてを同時にエッチングすること
が可能であり、表面応力、加工変質層の除去が簡単で時
間もかからない。
被着していない部分すべてを同時にエッチングすること
が可能であり、表面応力、加工変質層の除去が簡単で時
間もかからない。
【００２５】物理的方法を用いた場合には選択した部分
のみをエッチングすることが可能である。保護層１４の
選択、エッチングの方法については本実施例により拘束
されるものではなく表面応力、加工変質層の除去の目的
であれば別の方法を用いても構わない。
のみをエッチングすることが可能である。保護層１４の
選択、エッチングの方法については本実施例により拘束
されるものではなく表面応力、加工変質層の除去の目的
であれば別の方法を用いても構わない。
【００２６】以下に本発明の磁気ヘッドの特性について
述べる。実施例および比較例を表１に示す。実施例、比
較例１，２ともに上述した構成とし、実施例については
媒体対向面にレジスト（ＡＺ4620：ヘキストジャパン社
製）を塗布した後、温度80℃のリン酸溶液中に５分間浸
漬してエッチングを行った。なお、比較例１は砥石の粒
度を＃1500とし、比較例２は砥石の粒度を＃400とし
た。
述べる。実施例および比較例を表１に示す。実施例、比
較例１，２ともに上述した構成とし、実施例については
媒体対向面にレジスト（ＡＺ4620：ヘキストジャパン社
製）を塗布した後、温度80℃のリン酸溶液中に５分間浸
漬してエッチングを行った。なお、比較例１は砥石の粒
度を＃1500とし、比較例２は砥石の粒度を＃400とし
た。
【００２７】実施例、比較例１，２ともにトラック幅11
μｍ、ギャップ長0.45μｍ、浮上量0.15μｍとして、3.
5 インチ内周23.5mmにおいて記録再生を行った。記録周
波数は４ＭＨｚである。結果を図６に示す。また、セン
ターレール７のチッピングの様子およびギャップ強度を
併せて表１に示す。
μｍ、ギャップ長0.45μｍ、浮上量0.15μｍとして、3.
5 インチ内周23.5mmにおいて記録再生を行った。記録周
波数は４ＭＨｚである。結果を図６に示す。また、セン
ターレール７のチッピングの様子およびギャップ強度を
併せて表１に示す。
【００２８】
【表１】
【００２９】実施例においてはセンターレール７の幅に
関係なく出力は略一定であり、チッピングも少なく、ギ
ャップ強度もセンターレール７の幅に略比例したものと
なっている。
関係なく出力は略一定であり、チッピングも少なく、ギ
ャップ強度もセンターレール７の幅に略比例したものと
なっている。
【００３０】しかし、比較例１はチッピングは少なく、
ギャップ強度も実施例と同等であるが、出力はセンター
レール７の幅が狭くなると急激に低下している。比較例
２は出力の低下はあまりないが、センターレールのチッ
ピングが多くセンターレールが狭くなるとギャップ強度
の低下を招いている。
ギャップ強度も実施例と同等であるが、出力はセンター
レール７の幅が狭くなると急激に低下している。比較例
２は出力の低下はあまりないが、センターレールのチッ
ピングが多くセンターレールが狭くなるとギャップ強度
の低下を招いている。
【００３１】（実施例２）本発明の磁気ヘッドの他の製
造方法について図６〜図８に示す。本製造方法はフォト
リソグラフィー技術を用いてスライダーおよびトラック
パターンを形成する磁気ヘッドに関するものであり、図
６の（ａ）〜（ｄ）に示す磁気コアブロック５を形成す
るまでは従来の製造方法と同じである。その後、図７の
（ａ）に示すように、磁気コアブロック５にフォトリソ
グラフィー技術を用いてスライダー部１５、トラック部
１６を形成し、図７の（ｂ）に示すように、媒体対向面
ｂにレジスト、ワックスなどの保護層１７を被着し、図
７の（ｃ），（ｄ）に示すように切断および所定形状の
加工を行う。しかる後、図８の（ａ）および（ｂ）に示
すように、形状加工された磁気ヘッド単体１８をエッチ
ングするものである。エッチングの方法としては実施例
１で述べた方法を用いることができる。この磁気ヘッド
についても実施例１と同様の効果が得られる。
造方法について図６〜図８に示す。本製造方法はフォト
リソグラフィー技術を用いてスライダーおよびトラック
パターンを形成する磁気ヘッドに関するものであり、図
６の（ａ）〜（ｄ）に示す磁気コアブロック５を形成す
るまでは従来の製造方法と同じである。その後、図７の
（ａ）に示すように、磁気コアブロック５にフォトリソ
グラフィー技術を用いてスライダー部１５、トラック部
１６を形成し、図７の（ｂ）に示すように、媒体対向面
ｂにレジスト、ワックスなどの保護層１７を被着し、図
７の（ｃ），（ｄ）に示すように切断および所定形状の
加工を行う。しかる後、図８の（ａ）および（ｂ）に示
すように、形状加工された磁気ヘッド単体１８をエッチ
ングするものである。エッチングの方法としては実施例
１で述べた方法を用いることができる。この磁気ヘッド
についても実施例１と同様の効果が得られる。
【００３２】また、フォトリソグラフィー技術によりス
ライダーおよびトラックを形成する磁気へッドは媒体対
向面形成後には媒体対向面ｂの加工をすることができな
いため、保護層１７がその後の機械加工により媒体対向
面へ傷が入ることを防ぐ効果もあり、外観検査での歩留
まりを向上させることができる。
ライダーおよびトラックを形成する磁気へッドは媒体対
向面形成後には媒体対向面ｂの加工をすることができな
いため、保護層１７がその後の機械加工により媒体対向
面へ傷が入ることを防ぐ効果もあり、外観検査での歩留
まりを向上させることができる。
【００３３】（実施例３）本発明の磁気ヘッドの他の製
造方法について図９および図１０に示す。磁気ヘッドの
構成としては実施例１で述べたものと同じであり、図９
の（ａ）〜（ｄ）および図１０の（ａ），（ｂ）に示す
磁気ヘッド単体６にするまでは従来の磁気ヘッドの製造
方法と同じであるため、従来と異なる工程のみを説明す
る。磁気ヘッド単体６となった後、図１０の（ｃ）に示
すようにエッチングを行うものである。エッチングの方
法としては、リン酸溶液による溶解や電解エッチングな
どの化学的方法あるいはイオンミリング、スパッタリン
グなどの物理的方法を用いる。その後、図１０の（ｄ）
に示すように媒体対向面の最終加工としてスキー部９、
トラック部１０の加工を行うものである。本実施例では
保護層を被着する必要はない。
造方法について図９および図１０に示す。磁気ヘッドの
構成としては実施例１で述べたものと同じであり、図９
の（ａ）〜（ｄ）および図１０の（ａ），（ｂ）に示す
磁気ヘッド単体６にするまでは従来の磁気ヘッドの製造
方法と同じであるため、従来と異なる工程のみを説明す
る。磁気ヘッド単体６となった後、図１０の（ｃ）に示
すようにエッチングを行うものである。エッチングの方
法としては、リン酸溶液による溶解や電解エッチングな
どの化学的方法あるいはイオンミリング、スパッタリン
グなどの物理的方法を用いる。その後、図１０の（ｄ）
に示すように媒体対向面の最終加工としてスキー部９、
トラック部１０の加工を行うものである。本実施例では
保護層を被着する必要はない。
【００３４】この磁気ヘッドについても実施例１と同様
の効果が得られる。 （実施例４）本発明の磁気ヘッドの他の製造方法につい
て図１１および図１２に示す。この磁気ヘッドは強磁性
酸化物からなる磁気コア２１，２２を非磁性セラミック
のスライダー部２３にガラス２４により固着したいわゆ
るコンポジット型の磁気ヘッドである。図１１の（ａ）
〜（ｃ）に示す磁気コアブロック２５を作るまでは従来
の磁気ヘッドの製造方法と同じである。
の効果が得られる。 （実施例４）本発明の磁気ヘッドの他の製造方法につい
て図１１および図１２に示す。この磁気ヘッドは強磁性
酸化物からなる磁気コア２１，２２を非磁性セラミック
のスライダー部２３にガラス２４により固着したいわゆ
るコンポジット型の磁気ヘッドである。図１１の（ａ）
〜（ｃ）に示す磁気コアブロック２５を作るまでは従来
の磁気ヘッドの製造方法と同じである。
【００３５】以下、従来と異なる工程について述べる。
図１１の（ｄ）に示すように切断して磁気コアチップ２
６をつくり、図１２の（ａ），（ｂ）に示すように所定
形状に加工した後、エッチングを行うものである。ここ
で、図１２の（ａ）におけるｄはトラック幅を示す。エ
ッチングの方法としては、リン酸溶液による溶解や電解
エッチングなどの化学的方法あるいはイオンミリング、
スパッタリングなどの物理的方法を用いる。その後、図
１２の（ｃ）に示すように、磁気コアチップ２６を非磁
性セラミックからなるスライダー部２３にモールドガラ
ス２４により固着する。そして、図１２の（ｄ）に示す
ように媒体対向面ｃなどを所定形状に加工する。このよ
うにしてコンポジット型磁気ヘッド２７を得る。
図１１の（ｄ）に示すように切断して磁気コアチップ２
６をつくり、図１２の（ａ），（ｂ）に示すように所定
形状に加工した後、エッチングを行うものである。ここ
で、図１２の（ａ）におけるｄはトラック幅を示す。エ
ッチングの方法としては、リン酸溶液による溶解や電解
エッチングなどの化学的方法あるいはイオンミリング、
スパッタリングなどの物理的方法を用いる。その後、図
１２の（ｃ）に示すように、磁気コアチップ２６を非磁
性セラミックからなるスライダー部２３にモールドガラ
ス２４により固着する。そして、図１２の（ｄ）に示す
ように媒体対向面ｃなどを所定形状に加工する。このよ
うにしてコンポジット型磁気ヘッド２７を得る。
【００３６】この磁気ヘッド２７については磁気コア２
１，２２をガラスモールドしているため、ギャップ強度
については効果として得られないが、図１２の（ａ）で
示したように、コンポジット型磁気ヘッド２７では、ト
ラック幅ｄ自体を研削加工により出すため、出力の改善
効果としては実施例１、実施例２の磁気ヘッドよりも大
きくなる。
１，２２をガラスモールドしているため、ギャップ強度
については効果として得られないが、図１２の（ａ）で
示したように、コンポジット型磁気ヘッド２７では、ト
ラック幅ｄ自体を研削加工により出すため、出力の改善
効果としては実施例１、実施例２の磁気ヘッドよりも大
きくなる。
【００３７】また、これまではハードディスクドライブ
に用いられる浮動式の磁気ヘッドについて述べてきた
が、フロッピーディスクドライブ、ビデオテープなどに
用いられる同様の構造の磁気ヘッドについても同様の効
果が得られる。
に用いられる浮動式の磁気ヘッドについて述べてきた
が、フロッピーディスクドライブ、ビデオテープなどに
用いられる同様の構造の磁気ヘッドについても同様の効
果が得られる。
【００３８】なお、磁気ヘッドとしてギャップ対向面に
強磁性薄膜を設けた複合型磁気ヘッドに本発明を適用す
ることもでき、この場合、強磁性フェライトとして単結
晶、多結晶どちらを用いても構わない。
強磁性薄膜を設けた複合型磁気ヘッドに本発明を適用す
ることもでき、この場合、強磁性フェライトとして単結
晶、多結晶どちらを用いても構わない。
【００３９】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、強磁性酸
化物からなる一対の磁気コアを非磁性材の磁気ギャップ
を介して接合した磁気ヘッドにおいて、磁気コアの媒体
対向面以外の少なくとも一面を化学的方法あるいは物理
的方法を用いてエッチングすることにより、粘度の高い
砥石を用いて加工を行っても磁気コアに加わっていた表
面ストレスおよび加工変質層が除去されるので、ギャッ
プ強度を維持したまま出力の高い磁気ヘッドを得ること
ができて、磁気ディスクの大容量化が可能になる。
化物からなる一対の磁気コアを非磁性材の磁気ギャップ
を介して接合した磁気ヘッドにおいて、磁気コアの媒体
対向面以外の少なくとも一面を化学的方法あるいは物理
的方法を用いてエッチングすることにより、粘度の高い
砥石を用いて加工を行っても磁気コアに加わっていた表
面ストレスおよび加工変質層が除去されるので、ギャッ
プ強度を維持したまま出力の高い磁気ヘッドを得ること
ができて、磁気ディスクの大容量化が可能になる。
【図１】本発明の一実施例に係る磁気ヘッドの斜視図で
ある。
ある。
【図２】同磁気ヘッドの製造方法における各製造工程を
示す斜視図である。
示す斜視図である。
【図３】同磁気ヘッドの製造方法における各製造工程を
示す斜視図である。
示す斜視図である。
【図４】同磁気ヘッドの製造方法における各製造工程を
示す斜視図および略化した図である。
示す斜視図および略化した図である。
【図５】磁気ヘッドの本発明の実施例と比較例との出力
を比較した図である。
を比較した図である。
【図６】本発明の他の実施例に係る磁気ヘッドの製造方
法における各製造工程を示す斜視図である。
法における各製造工程を示す斜視図である。
【図７】同磁気ヘッドの製造方法における各製造工程を
示す斜視図である。
示す斜視図である。
【図８】同磁気ヘッドの製造方法における各製造工程を
示す斜視図および略化した図である。
示す斜視図および略化した図である。
【図９】本発明の第３の実施例に係る磁気ヘッドの製造
方法における各製造工程を示す斜視図である。
方法における各製造工程を示す斜視図である。
【図１０】同磁気ヘッドの製造方法における各製造工程
を示す斜視図および略化した図である。
を示す斜視図および略化した図である。
【図１１】本発明の第４の実施例に係る磁気ヘッドの製
造方法における各製造工程を示す斜視図である。
造方法における各製造工程を示す斜視図である。
【図１２】同磁気ヘッドの製造方法における各製造工程
を示す斜視図および略化した図である。
を示す斜視図および略化した図である。
【図１３】従来の磁気ヘッドの製造方法における各製造
工程を示す斜視図である。
工程を示す斜視図である。
【図１４】同従来の磁気ヘッドの製造方法における各製
造工程を示す斜視図である。
造工程を示す斜視図である。
【図１５】磁気ヘッドの加工による影響を調べるための
実験装置を示す斜視図である。
実験装置を示す斜視図である。
【図１６】磁気ヘッドの加工による影響を示す図であ
る。
る。
１，２，２１，２２ 磁気コア ３ 磁気ギャップ ５，２５ 磁気コアブロック ６，１８ 磁気ヘッド単体 １４，１７ 保護層 １５，２３ スライダー部 １６ トラック部 ２４ モールドガラス ２６ 磁気コアチップ ａ，ｂ，ｃ 媒体対向面
Claims (5)
- 【請求項１】 強磁性酸化物からなる一対の磁気コアを
非磁性材の磁気ギャップを介して接合した磁気ヘッドで
あって、磁気コアの媒体対向面を除いた少なくとも一面
がエッチングされている磁気ヘッド。 - 【請求項２】 強磁性酸化物からなる一対の磁気コアを
非磁性材の磁気ギャップを介して接合した磁気コアブロ
ックを、所定寸法に加工、切断して磁気ヘッド単体にし
た後、所定形状に加工し、その後、媒体対向面に保護層
を被着し、化学的方法あるいは物理的方法を用いてエッ
チングして磁気ヘッドを製造する磁気ヘッドの製造方
法。 - 【請求項３】 強磁性酸化物からなる一対の磁気コアを
非磁性材の磁気ギャップを介して接合した磁気コアブロ
ックを、所定寸法に加工した後、フォトリソグラフィー
技術によりスライダーおよびトラックパターンを形成
し、その後、媒体対向面に保護層を被着し、切断および
所定形状加工を行って磁気ヘッド単体にした後、化学的
方法あるいは物理的方法を用いてエッチングして磁気ヘ
ッドを製造する磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項４】 強磁性酸化物からなる一対の磁気コアを
非磁性材の磁気ギャップを介して接合した磁気コアブロ
ックを、所定寸法に加工、切断して磁気ヘッド単体にし
た後、所定形状に加工し、前記磁気ヘッドを化学的方法
あるいは物理的方法を用いてエッチングした後、媒体対
向面の最終加工をして磁気ヘッドを製造する磁気ヘッド
の製造方法。 - 【請求項５】 強磁性酸化物からなる一対の磁気コアを
非磁性材の磁気ギャップを介して接合した磁気コアブロ
ックを、所定寸法に加工、切断して磁気コアチップを作
り、前記磁気コアチップを化学的方法あるいは物理的方
法を用いてエッチングした後、スライダー部となる非磁
性セラミックにモールドガラスにより固着して磁気ヘッ
ド単体を作り、所定形状に加工して磁気ヘッドを製造す
る磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP802092A JPH05197940A (ja) | 1992-01-21 | 1992-01-21 | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP802092A JPH05197940A (ja) | 1992-01-21 | 1992-01-21 | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05197940A true JPH05197940A (ja) | 1993-08-06 |
Family
ID=11681657
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP802092A Pending JPH05197940A (ja) | 1992-01-21 | 1992-01-21 | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05197940A (ja) |
-
1992
- 1992-01-21 JP JP802092A patent/JPH05197940A/ja active Pending
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