JP3125343B2 - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、特に磁気ヘッドチ
ップの製造工程を有する磁気ヘッドの製造方法に係わ
る。

【０００２】

【従来の技術】各種の磁気ヘッドチップは、図１にその
一例の拡大斜視図を示すように、対の磁気コア半体２１
及び２２がその前方端面間に磁気ギャップｇを形成する
ように融着ガラス等の非磁性材６を介して接合合体され
てなる。

【０００３】この場合、対の磁気コア半体２１及び２２
の少くとも一方に磁気ギャップｇのギャップデプス（深
さ）を規定しヘッド巻線を巻装する巻線溝１１が形成さ
れてなる。

【０００４】磁気記録の高密度化に伴い、高保磁力の磁
気記録媒体が用いられると、これに対応して高い飽和磁
束密度Ｂｓを有する磁気ヘッドが要求される。図１は、
この種の磁気ヘッドの一例である。

【０００５】図１に示される磁気ヘッドは、ＶＴＲ等に
おける磁気記録用磁気ヘッドで、この場合磁気ギャップ
ｇの形成部が強磁性金属薄膜５によって構成され、この
強磁性金属薄膜５の膜面が磁気ギャップｇのトラック幅
方向に対し非平行をなす、いわゆるＴＳＳ型の磁気ヘッ
ドである。

【０００６】この種の磁気ヘッドの製造方法としては、
例えば本出願人によって提案した特開昭６１−１０５７
１０号公報に開示されている方法がある。この方法を図
６〜図８の各製造工程における斜視図を参照して説明す
る。この場合、まず表面をラップ処理等により平行度よ
くかつ平滑度よく加工された例えばＭｎ−Ｚｎフェライ
トよりなる強磁性酸化物基板１を用意する。

【０００７】図６Ａに示すように、この強磁性酸化物基
板１の磁気ギャップ形成面に対応する主面１ａに、第１
のトラック幅規制溝２を複数本平行に加工形成する。

【０００８】これら第１のトラック幅規制溝２には、そ
の側面に強磁性金属薄膜形成面として主面１ａに対して
所要の角度θ例えば２０°〜８０°の４０゜を有する斜
面３を形成する。

【０００９】そして、図６Ｂに示すように、この基板１
の少くとも斜面３に例えばセンダスト、パーマロイ等を
所要の厚さ例えば２０〜３０μｍにスパッタして強磁性
金属薄膜５を形成する。このようにして一方のコア半体
を構成するコアブロック１５を構成する。

【００１０】そして、図７Ａに示すように、強磁性酸化
物基板１の強磁性金属薄膜５によって覆われた第１のト
ラック幅規制溝２内に、融着ガラス等の非磁性材６を充
填し、基板１の主面１ａ上の強磁性金属薄膜５を平面研
磨して除去し、洗浄する。

【００１１】さらに、図７Ｂに示すように、強磁性金属
薄膜５を被着した斜面３と隣接して第１のトラック幅規
制溝２と平行に第２のトラック幅規制溝７を形成する。
このとき、第２のトラック幅規制溝７の切削位置は、こ
の溝７が斜面３上に形成される強磁性金属薄膜５の基板
１の主面１ａと同一面とされた端面５ａとほぼ一致する
ように設定される。次いで、主面１ａを平面研磨してさ
らに鏡面仕上げを行い、第２のトラック幅規制溝７のこ
れに隣接する第１のトラック幅規制溝２側の側面の斜面
によってその研磨深さにより第２のトラック幅規制溝７
の強磁性金属薄膜５の端面５ａへの入り込み量を制御す
ることによって、この端面５ａの第１及び第２のトラッ
ク幅規制溝２及び７間の幅、すなわち図１におけるトラ
ック幅Ｔｗの制御矯正を行う。

【００１２】一方、図８Ａに示すように、コアブロック
１５と同様の方法によって形成したコアブロック１６を
用意し、これに両溝２及び７の延長方向と直交するよう
にこのブロック１６の前方端面１６ａから所要の距離Ｄ
ｏだけ隔てた位置に巻線溝１１を切込み加工する。

【００１３】次に図８Ｂに示すように、両コアブロック
１５及び１６を良く洗浄し、両者を衝合せ合体した合体
ブロック１７を形成する。この場合、両コアブロック１
５及び１６は、その対応する強磁性金属薄膜５の端面５
ａが互いに衝合せられて両者間に磁気ギャップｇを形成
するように例えば第１及び第２のトラック幅規制溝２及
び７に充填された例えば融着ガラスによる非磁性材６に
よって接合合体する。このようにして両コアブロック１
５及び１６が合体された合体ブロック１７は、図９にそ
の磁気ギャップ面を横切る断面図を示すように、この状
態におけるその前方面を鎖線ｂで示す位置まで切削研磨
する。すなわち合体ブロック１７における磁気ギャップ
ｇのギャップデプスＤｏは例えば２００μｍという最終
的に得るギャップデプスの例えば２０μｍのギャップデ
プスに比して大に形成されているものであって、このよ
うな合体ブロック１７に対して図９中鎖線ｂで示すよう
に前方面から例えば円筒研磨して最終的に得る磁気ギャ
ップｇのギャップデプスに対応する所要の深さＤに切削
研磨することが行われる。この切削研磨によって形成す
るギャップデプスＤは、その深さが数１０μｍ程度に小
なるものであることから図８Ｂに示すように、長尺物の
合体ブロック１７に関して多数配列された磁気ギャップ
ｇに関して一様な深さ、すなわち傾きが生じないように
所要の深さに切削研磨することは極めて難しい。したが
って通常図８Ｂに示すようにその衝合せ面の両端にギャ
ップデプス観察用切欠３０を一方のブロック例えばコア
ブロック１５に設けてこの切欠３０から研磨面を顕微鏡
で観察しながら前方面と巻線溝１１までの深さを研削研
磨するという方法が採られる。

【００１４】このギャップデプス観察用切欠３０は、通
常図７Ｂに示すように第１及び第２のトラック幅規制溝
が形成されて後に機械加工によって形成するという方法
が採られている。

【００１５】ところが、このような方法による場合、こ
のギャップデプス観察用切欠３０の加工に当たってのい
わゆる“きりこ”あるいは傷等が両コアブロック１５及
び１６の衝合せ面特に磁気ギャップｇを形成する強磁性
金属薄膜５の端面５ａ間に存在することによって最終的
に得る磁気ヘッドチップ、特にそのギャップ長すなわち
端面５ａ間の間隔すなわちギャップ長が狭小な磁気ヘッ
ドチップ例えば８ｍｍビデオ等に用いられる磁気ヘッド
等におけるように、そのギャップ長が０．２μｍ程度に
形成されるものにおいて問題となる。

【００１６】すなわち、例えばいわゆるβ型あるいはＶ
ＨＳ型の通常のＶＴＲ等に用いられる磁気ヘッドにおい
ては、そのギャップ長は０．４〜０．５μｍ程度という
比較的大なるものであって、この場合その両コアブロッ
ク１５及び１６の接合合体において、その前方の両コア
ブロック１５または１６の互いの対向面間に、図示しな
いが図９で示す鎖線ｂの位置までの最終的に研削研磨に
よって排除される領域に、このギャップ長に対応する厚
さのギャップスペーサを介在させておいて、切削研磨後
にギャップ部を洗浄し、その後にこのギャップｇ内にガ
ラス等の充填を行うのでギャップデプス観察用切欠の加
工によって最終的に得る磁気ヘッドのきりこや損傷の影
響をある程度排除することができる。

【００１７】ところが、８ｍｍビデオ等においては、そ
のギャップ長が０．２μｍ程度に小であることから合体
ブロック１７を形成するに先立って図７Ｂ及び図８Ａで
示す工程で、図示しないがＳｉＯ₂ 等のギャップ長を規
制するスペーサとなる非磁性膜をコアブロック１５，１
６の互いの対向面の少くとも一方に被着し、その後これ
を図８Ｂに示すようにこれらコアブロック１５及び１６
を衝合せて合体するものであるためにその、ＳｉＯ₂ 等
のギャップスペーサ膜の被着に先立ってはギャップデプ
ス観察切欠の形成後に充分な洗浄等を行うものではある
ものの、その傷あるいは“きりこ”の排除が充分行われ
ない場合が生じてきて、この研磨の後に、図８Ｂ中ａ−
ａ線及びａ₁ −ａ₁ 線間でスライスして磁気ヘッドチッ
プを得てこの磁気ヘッドチップによって磁気ヘッドを作
製した場合、その記録再生特性の低下、不良品の発生率
が高くなるという不都合が生じている。

【００１８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した磁
気ヘッドを製造するに、その磁気ヘッドチップの製造に
おいて、そのギャップデプスを観察しながら所定の値に
設定する合体ブロック１７に対する研削、研磨における
ギャップデプス観察用切欠を設けることによる信頼性及
び歩留りの低下を回避する。

【００１９】

【課題を解決するための手段】本発明においては、図１
に示すように、対の磁気コア半体２１及び２２が接合さ
れて前方端面間に磁気ギャップｇを形成する磁気ヘッド
チップの製造方法において、最終的に対の磁気コア半体
２１及び２２を構成する対のコアブロック１５及び１６
の少くとも一方のブロックの少くとも一端部に図３Ａに
示すように、磁気ギャップのギャップデプス観察用切欠
３０を設けておき、その後これら対のコアブロック１５
及び１６にトラック幅規制溝や巻線溝を形成する工程
と、これらコアブロックの前方の互いの接合端面の少く
とも一方にギャップ長を規定する非磁性膜を被着し、こ
の非磁性膜の介在による磁気ギャップを形成して上記対
のコアブロックを接合合体し、対のコアブロックによる
合体ブロックの前方面をコアブロックに形成したギャッ
プデプス観察用切欠３０を通じてギャップデプスを観察
して研磨し、合体ブロックをスライスして複数の磁気ヘ
ッドチップを切り出す。

【００２０】

【作用】上述の本発明構成によれば、磁気ヘッドの製造
における磁気ヘッドチップを形成する初期の段階でギャ
ップデプス観察用切欠３０を形成するものであるので、
その後の各過程における繰返しの洗浄過程を採ることに
よってこの切欠３０を形成することによるきこの付着及
び傷の存在が有効に排除されることによって最終的に得
られる磁気ヘッドチップ、したがって、磁気ヘッドは信
頼性が高く、高い歩留りをもって製造することができ
る。

【００２１】

【実施例】本発明においては、上述したように図１に示
すように対のコア半体２１及び２２が接合されて前方端
面間に磁気ギャップｇを形成する磁気ヘッドチップの製
造方法において、各溝加工の形成前にギャップデプス観
察用の切欠３０を設ける。図２、図３Ａ及びＢ、図４Ａ
及びＢ、図５Ａ及びＢのそれぞれ各工程における拡大斜
視図を参照して本発明製造方法を図１に示したいわゆる
ＴＳＳ型磁気ヘッドでかつそのギャップ長が例えば０．
２μｍという狭小な磁気ヘッドを得る場合の一実施例を
詳細に説明する。

【００２２】まず、図２に示すように最終的に図１にお
ける磁気コア半体２１及び２２をそれぞれ形成する磁気
コアブロックを構成するＭｎ−Ｚｎフェライト等よりな
る大なる板状ブロック４０を用意し、その相対向する側
面に所定の深さ及び幅をもってギャップデプス観察用切
欠３０を切込む。

【００２３】そして、図２中鎖線ｃ₁ ，ｃ₂ ，ｃ₃ ‥‥
‥に示すように各対向する各ギャップデプス観察用切欠
３０間及び各ギャップデプス観察用切欠３０内の各中央
において切断してそれぞれ図３Ａ、図５Ａに示すコアブ
ロック１５及び１６を得る。

【００２４】そして、このようにして図３Ａに示すよう
に強磁性酸化物基板１よりなるコアブロック１５のその
一主面１ａを平滑に研磨して図３Ａに示すように、この
強磁性酸化膜基板１の磁気ギャップ形成面に対応する主
面１ａに、第１のトラック幅規制溝２を複数本平行に加
工形成する。

【００２５】これら第１のトラック幅規制溝２には、そ
の側面に強磁性金属薄膜形成面として主面１ａに対して
所要の角度θ例えば２０°〜８０°の例えば４０°を有
する斜面３を形成する。

【００２６】そして、図３Ｂに示すように、その基板１
の少くとも斜面３に例えばセンダスト、パーマロイを所
要の厚さ例えば２０〜３０μｍにスパッタして強磁性金
属薄膜５を形成する。

【００２７】そして、図４Ａに示すように、強磁性酸化
物基板１の強磁性金属薄膜５によって覆われた第１のト
ラック幅規制溝２内に、融着ガラス等の非磁性材６を充
填し、基板１の主面１ａ上の強磁性金属薄膜５を平面研
磨して除去し、洗浄する。

【００２８】さらに、図４Ｂに示すように、強磁性金属
薄膜５を被着した斜面３と隣接して第１のトラック幅規
制溝２と平行に第２のトラック幅規制溝７を形成する。
このとき、第２のトラック幅規制溝７の切削位置は、こ
の溝７が斜面３上に形成される強磁性金属薄膜５の基板
１の主面１ａと同一面とされた端面５ａとほぼ一致する
ように設定される。次いで、主面１ａを平面研磨してさ
らに鏡面仕上げを行い、第２のトラック幅規制溝７のこ
れに隣接する第１のトラック幅規制溝２側の側面の斜面
によってその研磨深さにより第２のトラック幅規制溝７
の強磁性金属薄膜５の端面５ａへの入り込み量を制御す
ることによって、この端面５ａの第１及び第２のトラッ
ク幅規制溝２及び７間の幅、すなわち図１におけるトラ
ック幅Ｔｗの制御矯正を行う。

【００２９】一方、図５Ａに示すように、コアブロック
１５と同様の方法によって形成したコアブロック１６を
用意し、これに両溝２及び７の延長方向とほぼ直交する
ようにこのブロック１６の前方端面１６ａから所要の距
離Ｄｏだけ隔てた位置に巻線溝１１を切込み加工する。

【００３０】次に、図５Ｂに示すように、両コアブロッ
ク１５及び１６を良く洗浄し、両溝を衝合せ合体した合
体ブロック１７を形成する。この合体に先立って両ブロ
ック１５，１６の互いの衝き合わせ面の少くとも一方に
は、ＳｉＯ₂，Ｓｉ₃ Ｎ₄ 等の所要の厚さのギャップス
ペーサとなる非磁性膜（図示せず）を被着しておく。

【００３１】この場合、両コアブロック１５及び１６
は、その対応する強磁性金属薄膜５の端面５ａが互いに
衝合せられて両者間に前述の非磁性膜、即ちギャップス
ペーサ膜によってギャップ長が規制され、磁気ギャップ
ｇを形成して、例えば第１及び第２のトラック幅規制溝
２及び７に充填された例えば融着ガラスによる非磁性材
６によって接合合体する。このようにして両コアブロッ
ク１５及び１６が合体された合体ブロック１７は、図９
で説明したように、ギャップデプス観察用切欠３０を通
じて顕微鏡で観察し乍ら、その前方面から所定のギャッ
プデプスになるまで研削研磨する。その後図５Ｂのａ−
ａ線、ａ₁ −ａ₁ 線で切断して目的とする図１の磁気ヘ
ッドチップを複数個切り出す。

【００３２】

【発明の効果】上述したように本発明によれば、各第１
及び第２のトラック幅規制溝２及び７、さらに巻線溝１
１等の加工前の初期の段階において及びそのコアブロッ
ク１５及び１６の衝合せ面の平滑研磨等の各研磨工程よ
り以前の初期の工程でギャップデプス観察用切欠溝３０
の形成を行うので、この形成で生じたきりこあるいは傷
は、その後の各工程での研磨、洗浄の多数の工程によっ
て充分排除されるので、このようにして形成したコアブ
ロック１５及び１６の強磁性金属薄膜５にギャップスペ
ーサ膜例えばＳｉＯ₂ のスパッタ膜を被着した場合にお
いても良好な膜形成を行うことができ、最終的に安定し
た信頼性の高い記録再生特性を有する磁気ヘッドとして
構成することができ、またその不良品の発生率が激減さ
れて歩留りの向上をはかることができるので、量産性及
びコストの低減化をはかることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明製造方法によって得る磁気ヘッドチップ
の一例の斜視図である。

【図２】本発明による磁気ヘッドチップの製造方法の一
例の工程図（その１）である。

【図３】本発明による磁気ヘッドチップの一例の製造工
程図（その２）である。

【図４】本発明による磁気ヘッドチップの一例の製造工
程図（その３）である。

【図５】本発明による磁気ヘッドチップの一例の製造工
程図（その４）である。

【図６】従来の磁気ヘッドチップの製造工程図（その
１）である。

【図７】従来の磁気ヘッドチップの製造工程図（その
２）である。

【図８】従来の磁気ヘッドチップの製造工程図（その
３）である。

【図９】磁気ヘッドチップの一製造工程の断面図であ
る。

【符号の説明】

２１ 磁気コア半体 ２２ 磁気コア半体 ｇ 磁気ギャップ １ 強磁性酸化物基板 ２ 第１のトラック幅規制溝 ３ 斜面 ５ 強磁性金属薄膜 ６ 非磁性材 ７ 第２のトラック幅規制溝 １５ コアブロック １６ コアブロック １７ 合体ブロック

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岩崎 京子 宮城県登米郡中田町宝江新井田字加賀野 境30番地ソニー・プレシジョン・マグネ 株式会社内 (56)参考文献 特開 昭61−105710（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−253511（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−173304（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G11B 5/187 - 5/255

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 対の磁気コア半体が接合されて前方端面
   間に磁気ギャップを形成する磁気ヘッドチップを有して
   成る磁気ヘッドの製造方法にあって、 上記磁気ヘッドチップの製造工程において、 最終的に上記対の磁気コア半体を構成する対のコアブロ
   ックの少なくとも一方のブロックの少なくとも一端部に
   予め上記磁気ギャップのギャップデプス観察用切欠を、
   他の溝加工工程、研磨加工工程以前に形成しておき、 上記対のコアブロックに、トラック幅規制溝や巻線溝を
   形成する溝加工工程と、これらコアブロックの前方の互
   いに接合端面の少なくとも一方にギャップ長を規定する
   非磁性膜を被着し、該非磁性膜の介在による磁気ギャッ
   プを形成して上記対のコアブロックを接合合体し、 該コアブロックによる合体ブロックの前方面を、上記コ
   アブロックに形成したギャップデプス観察用切欠を通じ
   て上記ギャップデプスを観察して研磨し、 上記合体ブロックをスライスして複数の磁気ヘッドチッ
   プを切出すことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。