JP2644740B2 - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
- Publication number
- JP2644740B2 JP2644740B2 JP61312074A JP31207486A JP2644740B2 JP 2644740 B2 JP2644740 B2 JP 2644740B2 JP 61312074 A JP61312074 A JP 61312074A JP 31207486 A JP31207486 A JP 31207486A JP 2644740 B2 JP2644740 B2 JP 2644740B2
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- JP
- Japan
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- low
- core
- magnetic head
- glass
- film
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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- Magnetic Heads (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はVTR、DAT等に用いる磁気ヘッドに関するもの
である。
である。
従来の技術 従来特にVTR用磁気ヘッドとしてはフェライトが主流
であったが、近年の磁気記録技術の発展に伴いVTR用の
磁気ヘッドとしては高磁束密度、高抗磁力の磁気テープ
への記録再生が可能である事が要求されている。この為
前記のフェライトヘッドでは書き込み、読み込み能力に
限界が生じてきた。
であったが、近年の磁気記録技術の発展に伴いVTR用の
磁気ヘッドとしては高磁束密度、高抗磁力の磁気テープ
への記録再生が可能である事が要求されている。この為
前記のフェライトヘッドでは書き込み、読み込み能力に
限界が生じてきた。
そこでヘッド材料として非晶質金属やセンダストが用
いられる様になってきたが、従来のフェライトヘッドと
異なるギャップ形成技術が必要となる。即ちギャップ形
成技術の問題点として高密度記録であるが為の狭ギャッ
プ化、ギャップ部の接着力を補強するガラスが非晶質金
属やセンダストと塗れ性が悪い等がある。以下図面を参
照しながら従来例の説明をする。
いられる様になってきたが、従来のフェライトヘッドと
異なるギャップ形成技術が必要となる。即ちギャップ形
成技術の問題点として高密度記録であるが為の狭ギャッ
プ化、ギャップ部の接着力を補強するガラスが非晶質金
属やセンダストと塗れ性が悪い等がある。以下図面を参
照しながら従来例の説明をする。
第４図（ａ）は非晶質金属からなる磁気コア１をフェ
ライトと高融点ガラスの複合基板、あるいはセラミック
やガラス等の基板２、２′、３、３′により挟み込んだ
構成の磁気ヘッドの斜視図である。巻線溝４を設けたコ
ア半体の接合面および、巻線溝を設けていないコア半体
の接合面にスパッタリング等の手段によりSiO2 5、５′
低融点ガラス６、６′のトータル膜厚がほぼギャップ幅
になるように形成したあと巻線溝部４に低融点ガラス棒
７を置いた時の構成図である。なお、低融点ガラス棒７
は一対のコア半体の接着力が後の加工負荷および製品と
して十分耐えられるように接合部を補強するものであ
る。
ライトと高融点ガラスの複合基板、あるいはセラミック
やガラス等の基板２、２′、３、３′により挟み込んだ
構成の磁気ヘッドの斜視図である。巻線溝４を設けたコ
ア半体の接合面および、巻線溝を設けていないコア半体
の接合面にスパッタリング等の手段によりSiO2 5、５′
低融点ガラス６、６′のトータル膜厚がほぼギャップ幅
になるように形成したあと巻線溝部４に低融点ガラス棒
７を置いた時の構成図である。なお、低融点ガラス棒７
は一対のコア半体の接着力が後の加工負荷および製品と
して十分耐えられるように接合部を補強するものであ
る。
この条件で低融点ガラス棒７を溶融させた場合、コア
半体に対し濡れ性が非常に悪く、低融点ガラス棒７が溶
けた時の断面は、第４図（ｂ）のように扇状になり接着
強度が弱く、また巻線スペースの確保等の条件に対し満
足のいくものでなかった。これは、第４図（ａ）に示す
コア半体上に形成した低融点ガラス膜６、６′の厚みが
薄くなる程、第５図に示すように低融点ガラス棒を溶融
させた時の接触角が大きくなる。
半体に対し濡れ性が非常に悪く、低融点ガラス棒７が溶
けた時の断面は、第４図（ｂ）のように扇状になり接着
強度が弱く、また巻線スペースの確保等の条件に対し満
足のいくものでなかった。これは、第４図（ａ）に示す
コア半体上に形成した低融点ガラス膜６、６′の厚みが
薄くなる程、第５図に示すように低融点ガラス棒を溶融
させた時の接触角が大きくなる。
発明が解決しようとする問題点 巻線溝部で溶融させるガラスの濡れ性が非常に悪くな
る為、コア半体の接着力が弱い、巻線スペースが確保で
きないなどの問題があった。
る為、コア半体の接着力が弱い、巻線スペースが確保で
きないなどの問題があった。
問題点を解決するための手段 本発明では上記問題点を解決する為に巻線溝部に補強
用のガラスと同系統のガラス膜をある一定以上形成させ
ガラスの濡れ性を良くしようとするものである。
用のガラスと同系統のガラス膜をある一定以上形成させ
ガラスの濡れ性を良くしようとするものである。
作用 このような構成により接着ガラスの濡れ性が良くなる
のみならず、ギャップ形成によるコア半体の接着強度が
向上し巻線スペースも確保できる。
のみならず、ギャップ形成によるコア半体の接着強度が
向上し巻線スペースも確保できる。
実施例 以下、本発明の一実施例について図面を参照しながら
説明する。
説明する。
第１図（ａ）は、本発明の実施例の構成図である。コ
ア半体15は、巻線溝部17に低融点ガラス膜18を数千Å形
成した後コア突き合わせ面を研磨し、その上にギャップ
材であるSiO2膜19を形成したもので、巻線溝部17にも同
様に形成される。コア半体16は、突き合わせ面を研磨し
た後コア半体15と同様のギャップ材を形成させる。この
構成は、巻線溝部に形成されたSiO2上で低融点ガラス棒
20を溶融させるもので、下地の低融点ガラス膜18の影響
を受け濡れ性が向上し、第１図（ｂ）に示すようにきれ
いな流れ方をする。
ア半体15は、巻線溝部17に低融点ガラス膜18を数千Å形
成した後コア突き合わせ面を研磨し、その上にギャップ
材であるSiO2膜19を形成したもので、巻線溝部17にも同
様に形成される。コア半体16は、突き合わせ面を研磨し
た後コア半体15と同様のギャップ材を形成させる。この
構成は、巻線溝部に形成されたSiO2上で低融点ガラス棒
20を溶融させるもので、下地の低融点ガラス膜18の影響
を受け濡れ性が向上し、第１図（ｂ）に示すようにきれ
いな流れ方をする。
この効果を裏付けるものとして次の実験結果がある。
第２図に示すように鏡面に仕上げたフェライト基板21上
に低融点ガラス膜22を3000Å形成し、その上に数種の膜
厚のSiO2膜23を形成し、さらに低融点ガラス棒24を置き
溶融させ接触角を測定した。その結果を第３図に示す。
これからも判るように700Å程度のSiO2膜であればガラ
スの濡れ性に影響を与えない事が判る。しかも、実際は
ガラスを溶かす面が粗れているので、さらに多くのSiO2
膜の形成が可能である。
第２図に示すように鏡面に仕上げたフェライト基板21上
に低融点ガラス膜22を3000Å形成し、その上に数種の膜
厚のSiO2膜23を形成し、さらに低融点ガラス棒24を置き
溶融させ接触角を測定した。その結果を第３図に示す。
これからも判るように700Å程度のSiO2膜であればガラ
スの濡れ性に影響を与えない事が判る。しかも、実際は
ガラスを溶かす面が粗れているので、さらに多くのSiO2
膜の形成が可能である。
なお、本実施例では、SiO2膜のみを低融点ガラス膜上
に形成させたが、さらにSiO2膜上に低融点ガラス膜を形
成しても同様の結果が得られる。
に形成させたが、さらにSiO2膜上に低融点ガラス膜を形
成しても同様の結果が得られる。
以上のように本実施例では工程数も少なく、煩雑な工
程を用いることなく目的を達成する事ができ、安定した
狭ギャップ幅の磁気ヘッドが得られ、しかも低融点ガラ
スの濡れ性を向上させる事によって強固な信頼性の高い
磁気ヘッドが得られる。
程を用いることなく目的を達成する事ができ、安定した
狭ギャップ幅の磁気ヘッドが得られ、しかも低融点ガラ
スの濡れ性を向上させる事によって強固な信頼性の高い
磁気ヘッドが得られる。
発明の効果 本発明によれば巻線溝部に低融点ガラス膜を形成する
事により巻線溝部でのガラスの濡れ性が良くなり、非常
に簡単に低融点ガラスのボンディングができ、しかも強
固な信頼性の高い磁気ヘッドが得られる。
事により巻線溝部でのガラスの濡れ性が良くなり、非常
に簡単に低融点ガラスのボンディングができ、しかも強
固な信頼性の高い磁気ヘッドが得られる。
第１図（ａ）は本発明の実施例の構成図、第１図（ｂ）
は同実施例における低融点ガラスの流れを示す状態図、
第２図は同実施例の効果を実証する為に行った実験サン
プルの構成図、第３図は低融点ガラス膜の上に形成した
SiO2膜の膜厚と低融点ガラスの接触角の関係を示すグラ
フ、第４図（ａ）は、従来の非晶質合金ヘッドの斜視
図、第４図（ｂ）は、従来の低融点ガラスの流れを示す
状態図、第５図はガラスの膜厚と接触角の関係を示すグ
ラフである。 17……巻線溝部、19,23……SiO2、18,22……低融点ガラ
ス膜、20,24……低融点ガラス棒、15,16……コア半体、
21……フェライト基板。
は同実施例における低融点ガラスの流れを示す状態図、
第２図は同実施例の効果を実証する為に行った実験サン
プルの構成図、第３図は低融点ガラス膜の上に形成した
SiO2膜の膜厚と低融点ガラスの接触角の関係を示すグラ
フ、第４図（ａ）は、従来の非晶質合金ヘッドの斜視
図、第４図（ｂ）は、従来の低融点ガラスの流れを示す
状態図、第５図はガラスの膜厚と接触角の関係を示すグ
ラフである。 17……巻線溝部、19,23……SiO2、18,22……低融点ガラ
ス膜、20,24……低融点ガラス棒、15,16……コア半体、
21……フェライト基板。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 米本 忠孝 門真市大字門真1006番地 松下電器産業 株式会社内 (72)発明者 小川 靖弘 門真市大字門真1006番地 松下電器産業 株式会社内 (56)参考文献 特開 昭60−201509（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−170011（ＪＰ，Ａ)
Claims (3)
- 【請求項１】主磁路を磁性合金とし、その両端を基板で
挟持した磁気ヘッドにおいて、対で磁気ヘッドとなるコ
ア半体の少なくとも一方に形成した巻線溝部に低融点ガ
ラス膜を形成する工程と、コア半体のそれぞれのコア突
き合わせ面を研磨する工程と、前記巻線溝部が形成され
ていないコア半体に低融点ガラス膜を形成する工程と、
SiO2膜を前記コア半体のそれぞれのコア突き合わせ面及
び前記巻線溝部に形成する工程と、低融点ガラス棒を前
記巻線溝部に置き溶融させ、前記コア半体のそれぞれを
ギャップ接合する工程とを有することを特徴とする磁気
ヘッドの製造方法。 - 【請求項２】磁性合金として非晶質材料を用いたことを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッドの製
造方法。 - 【請求項３】磁性合金としてセンダストヘッド材料を用
いたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気
ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61312074A JP2644740B2 (ja) | 1986-12-26 | 1986-12-26 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61312074A JP2644740B2 (ja) | 1986-12-26 | 1986-12-26 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63164011A JPS63164011A (ja) | 1988-07-07 |
| JP2644740B2 true JP2644740B2 (ja) | 1997-08-25 |
Family
ID=18024917
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61312074A Expired - Lifetime JP2644740B2 (ja) | 1986-12-26 | 1986-12-26 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2644740B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60170011A (ja) * | 1984-02-13 | 1985-09-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘツド |
| JPS60201509A (ja) * | 1984-03-23 | 1985-10-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘツドの製造方法 |
-
1986
- 1986-12-26 JP JP61312074A patent/JP2644740B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63164011A (ja) | 1988-07-07 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |