JPS6378309A - 磁気ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的コ （産業上の利用分野） 本発明は磁気ヘッドに係り、特にビデオテープレコーダ
（以下ＶＴＲと称する）に用いて好適な磁気ヘッドに関
する６ （従来の技術） 近年、ＶＴＲに用いられる磁気テープは狭トラツクで高
密度の記録再生が要求されるようになり、このために磁
気ヘッドも飽和磁束密度の大きいアモルファス、センダ
スト、パーマロイなどの磁性金属材料がフェライトに代
って用いられている。この磁性金属材料をスパッタリン
グ、蒸着、イオンブレーティングなどの真空薄膜形成技
術により形成する磁気ヘッドとしては、例えば特開昭Ｇ
ｏ−３２１０７号公報によって開示されたものが知られ
ている。この磁気ヘッドは第７図に示すように、フェラ
イトコア１，２の接合面に磁性金８１１膜３ａ。

３ｂをギャップ４に対して所定の角度をなすように形成
した後、両コア１．２を突き合わせて所定のギャップ４
を形成したものである。

このような磁気ヘッドは第８図に示すようにして製造さ
れる。すなわち、フェライトコア１，２に一定の間隔で
形成されたガラス充填溝５にガラス６を充填し、接合面
を研磨した後に溝５の間に膜形成溝７を形成する。ざら
にこの溝７に磁性金１ｉＩ！膜３ａ、　３ｂを形成した
後、接合面をラッピングなどにより研磨し、巻線溝８を
形成して１対の磁気コア半体対１，２を得る。これらの
１対のコア１．２を所定ギャップ長を隔てて突き合わせ
て接合することにより、第７図に示すような磁気へラド
チップが得られる。

しかしながら上記の従来の磁気ヘッドでは、磁性金属薄
膜３ａ、　３ｂはトラック幅Ｔ−にほぼ等しい幅で平行
に形成されている。このためガラス充填溝５及び膜形成
溝７を形成するときに、溝加工精度によりコア１，２の
基準面１ａ、　２ａに対する溝の角度αが直角とならず
誤差が発生する場合がめった。ざらにコア１，２の磁性
金属＠膜３ａ、　３ｂを突き合わせるときに、両コア１
，２の相対位置のずれにより第９図に点線で示すように
磁気テープ摺動面１ｂの突き合わせ面積（図中ＤＸＴＷ
で示すハンチング部〉は誤差が少なく確保できるが、下
側の後部突き合わせ面の幅Ｔはトラック幅ＴＷより小さ
くなる。このため後部突き合わせ面積（図中ＴＸＨで示
すクロスハツチング部）はＴＷＸＨよりも小ざい面積と
なる。従って、接合面における磁気抵抗が増加するため
記録再生時の効率が低下するという問題があった。

（発明が解決しようとする問題点） 本発明は従来の磁気ヘッドで問題であった磁性金属薄膜
の幅がトラック幅と等しくなっているため、一対のコア
を突き合わせるときガラス充填溝及び膜形成溝の加工精
度と両コアの突き合わせ精度に誤差があると、閉磁路を
構成する両コアの後部突き合わせ面が小さくなり、この
接合面の磁気抵抗が増加して記録再生の効率が低下する
という問題を解決し、磁気記録再生効率が良好な磁気ヘ
ッドを提供することを目的とする。

［発明の構成］ （問題点を解決するための手段） 本発明は上記の目的を達成するために、磁性酸化物より
なる磁気コア半体対の接合面に薄膜形成技術により磁気
ギヤラフ形成面に対して所要の角度で傾斜した磁性金属
薄膜を形成し、これらの磁気コア半休を突き合わせて前
記磁気ギャップを形成してなる磁気ヘッドにおいて、前
記磁気コア半体対の接合面の一部に前記磁性金属薄膜を
前記磁気ギャップと平行に、かつトラック幅より大きい
幅に形成したものである。

（作用） 上記の構造によると、コアの後部の突き合わせ面におけ
る磁性金属薄膜はトラック幅より大きい幅で形成されて
いるため、溝加工時及び接合時の誤差が生じた場合にお
いても、後部突き合わせ面積が従来よりも大きくできる
。従って磁気記録再生時の効率を向上させることが可能
となる。

（実施例） 以下、本発明に係る磁気ヘッドの一実施例を図面を参照
して説明する。

第１図に本発明の一実施例を示す。図において第７図に
示す従来例と同一または同等部分には同一符号を付して
示し、説明を省略する。本実施例の特徴は磁性酸化物コ
ア１，２に設けられた磁性金属薄１１ｉ３ａ、　３ｂが
、記録媒体と当接する摺動面１ｂ。

２ｂの下部より下方の磁気コア半体対の接合面において
、トラック幅Ｔ４より大きい幅で突き合わせられた点に
ある。

第２図に本実施例の製造方法の要部を示す。前述した従
来の磁気ヘッドの製造方法と異なる点はコア１，２の接
合面の摺動面１ｂ、　２ｂと反対側の下部全面に、深さ
くΔｔ）数μｍ乃至数１０μｍの磁性金属膜充填溝９ａ
、　９ｂを形成し、これらの溝９ａ。

９ｂと膜形成溝７ａ、　７ｂとにそれぞれＣｏ−Ｚｒを
主成分としたアモルファス磁性金属またはセンダスト合
金３ａ、　３ｂをトラック幅ＴＷが形成できる厚さに薄
膜形成技術により形成する点におる。これらの磁性金属
薄膜３ａ、　３ｂを両コア１，２の接合面に形成した後
、この接合面をラッピングなどにより数μｍ乃至数１０
μｍ除去するとともに、溝９ａ、　９ｂ内に磁性金ｆｆ
ｌ薄膜３ａ、　３ｂを残存させて仕上げる。

そして従来例と同様に一方のコア２に巻線溝８を形成し
て第２図に示すような１対のコア１，２が製作される。

これらのコア１，２を所定のギャップだけ隔ててＶ字状
溝７ａ、　７ｂにガラス６を充填し、このガラス６によ
り接合を行なう。その後、従来例と同様に所定の形状に
円筒研削加工及びスライシング加工を行なって、第１図
に示すような磁気ヘッドチップが得られる。この場合第
３図に示すように一方のコア１に形成する膜形成溝７ａ
を、コア１の基準面１ａに対して１度乃至１０度の傾料
角θとなるように傾斜させて形成する。このことにより
もう一方のコア２をコア１に突き合わせたとき、第４図
に示すように実線で示すコア１の突き合わせ面と破線で
示すコア２の突き合わせ面とが重なる部分が略梯形とな
る。この結果、磁性金３薄膜３の突き合わせ幅ＴＩ、Ｔ
２の寸法をトラック幅Ｔ−より広くすることができる。

本実施例によれば膜形成溝７によって仕切られるコア１
，２の接合面の幅をトラック幅Ｔ−よりも広くすること
ができ、しかも下方に行く程広くなる梯形状に形成され
るため、磁気ヘッドの後部接合面に形成される磁性金属
薄膜３ａ、　３ｂはテープ摺動面近傍の磁性金属薄膜３
ａ、　３ｂより広い面積にすることができる。この結果
溝加工時の溝５．７の曲り、ラッピング、ポリッシング
加工時の除去困の不均一に起因する溝の曲り及びコア１
，２の接合時の突き合わせ部のトラック幅の不一致によ
る突き合わせ面積の減少による磁気記録再生効率の低下
が防止できる。ざらに後部接合面の突き合わせ幅をトラ
ック幅ＴＷより広く形成できるので、突き合わせ部の磁
気抵抗値を小さくすることができ、磁気記録再生効率の
良好な磁気ヘッドを得ることができる。

一第５図及び第６図に本発明の他の実施例を示す。

この実施例では磁性金属薄膜３ａ、　３ｂをほぼクサビ
状にし、後部突き合わせ面に近づくに従って厚くなるよ
うにしたものである。この形状にすることにより膜形成
溝９ａ、　９ｂの加工を平行研削で行なうことが可能と
なり、高精度の平坦面を得ることができる。この結果セ
ンダストなどの結晶構造を持つ磁性金属薄膜３ａ、　３
ｂを形成する場合に、平面度粗さに起因する磁気特性の
劣化を防止することができる。

［発明の効果］ 上述したように本発明によれば、磁気ヘッドの後部接合
面に形成される磁性金属薄膜の幅をトラック幅より広く
したので加工時の精度不良による突き合わせ面積の減少
による磁気記録再生効率の低下を防止することができ、
しかも後部接合面の磁気抵抗値を小さくできるので、磁
気記録再生効率の良好な磁気ヘッドを得ることができる
。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る磁気ヘッドの一実施例を示す斜視
図、第２図は第１図に示す磁気ヘッドの製造方法を示す
分解斜視図、第３図及び第４図は第２図の接合面を示す
それぞれ斜視図及び正面図、第５図及び第６図は本発明
の他の実施例を示す斜視図、第７図及び第８図は従来の
磁気ヘッドを示す斜視図、第９図は第８図の接合面を示
す正面図でおる。 １．２・・・コア ３ａ、　３ｂ・・・磁性金属薄膜 ４・・・磁気ギャップ 代理人　弁理士　則　近　憲　佑 同　　宇治　弘 詠 第９図 Ｑ 第５図　　　　　　　。ｂ ｍｈ　　　　　　　　／ 第６図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）磁性酸化物よりなる磁気コア半体対の接合面に薄
   膜形成技術により磁気ギャップ形成面に対して所要の角
   度で傾斜した磁性金属薄膜を形成し、これらの磁気コア
   半体対を突き合わせて前記磁気ギャップを形成してなる
   磁気ヘッドであって、前記磁気コア半体対の接合面の一
   部に前記磁性金属薄膜を前記磁気ギャップと平行に、か
   つトラック幅より大きい幅に形成したことを特徴とする
   磁気ヘッド。
2. （２）磁気コア半体対の接合面の一部に形成された磁性
   金属薄膜の幅は、後部突き合わせ面が前部突き合わせ面
   より大きく形成されたことを特徴とする特許請求の範囲
   第１項記載の磁気ヘッド。