JPH0612620A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
- Publication number
- JPH0612620A JPH0612620A JP4170596A JP17059692A JPH0612620A JP H0612620 A JPH0612620 A JP H0612620A JP 4170596 A JP4170596 A JP 4170596A JP 17059692 A JP17059692 A JP 17059692A JP H0612620 A JPH0612620 A JP H0612620A
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- Japan
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- magnetic film
- magnetic
- film
- glass
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気ヘッドの製造における加工工数を低減す
る。 【構成】 基板１の山形面に磁性膜を形成してその上に
ガラスを充填し、上記ガラス面を平坦に研磨または研削
して上記磁性膜の頂部をその頂点を中心にして対称な所
定幅に露出するようにする。また、基板面に山形面を形
成し、上記山形面上に磁性膜３を形成し、磁性膜３の上
にガラス４を充填してから研磨／研削し、磁性膜３の頂
部を所定のトラック幅だけ露出させる。また、砥石６ま
たはスパッタエッチングにより磁性膜３の頂部をその頂
点を中心にして対称な所定幅に並行に加工してからガラ
ス４を充填し、ガラス面を研磨／研削して磁性膜３の頂
部を所定のトラック幅だけ露出させる。また、上記磁性
膜が磁性膜と非磁性層の多層構造の場合には、最上層磁
性膜の厚みを他の磁性層より厚くし、上記トラック幅加
工時に層間絶縁膜を切断しないようにする。
る。 【構成】 基板１の山形面に磁性膜を形成してその上に
ガラスを充填し、上記ガラス面を平坦に研磨または研削
して上記磁性膜の頂部をその頂点を中心にして対称な所
定幅に露出するようにする。また、基板面に山形面を形
成し、上記山形面上に磁性膜３を形成し、磁性膜３の上
にガラス４を充填してから研磨／研削し、磁性膜３の頂
部を所定のトラック幅だけ露出させる。また、砥石６ま
たはスパッタエッチングにより磁性膜３の頂部をその頂
点を中心にして対称な所定幅に並行に加工してからガラ
ス４を充填し、ガラス面を研磨／研削して磁性膜３の頂
部を所定のトラック幅だけ露出させる。また、上記磁性
膜が磁性膜と非磁性層の多層構造の場合には、最上層磁
性膜の厚みを他の磁性層より厚くし、上記トラック幅加
工時に層間絶縁膜を切断しないようにする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はＶＴＲ用磁気ヘッドに関
し、とくにトラック幅を精度高く、工程数少なく加工す
ることのできる磁気ヘッドの製造方法に関する。
し、とくにトラック幅を精度高く、工程数少なく加工す
ることのできる磁気ヘッドの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】特開昭６３−２９８８０６号公報には、
磁気ヘッドの基板材を山形に機械加工し、この山形上に
金属磁性膜を形成して所定の金属薄膜トラック幅Ｗを得
ることが開示されている。上記山形の傾斜角が小さくな
るほど、磁気特性の良い金属磁性膜を山形部に形成する
ことが困難となり、また、上記傾斜角を大きくするとト
ラック幅Ｗの規制が難しくなるので、通常は上記傾斜角
を３０度程度としている。
磁気ヘッドの基板材を山形に機械加工し、この山形上に
金属磁性膜を形成して所定の金属薄膜トラック幅Ｗを得
ることが開示されている。上記山形の傾斜角が小さくな
るほど、磁気特性の良い金属磁性膜を山形部に形成する
ことが困難となり、また、上記傾斜角を大きくするとト
ラック幅Ｗの規制が難しくなるので、通常は上記傾斜角
を３０度程度としている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術におい
て、角度付砥石を用いて山形溝を形成する場合、砥石の
加工機の送りピッチ誤差、高さ方向の位置決め誤差、砥
石の摩耗誤差等がトラック幅Ｗの精度に影響し、さらに
磁性薄膜の膜厚バラツキが影響するので、トラック幅Ｗ
を数ミクロン程度の公差（バラツキ）内で加工すること
が困難であった。また、例えば基板をはりつける工程、
山形を形成する工程、山形に金属薄膜を形成する工程、
および山形の頂部を平坦にする工程、および金属薄膜形
成後にトラック幅を規制する工程等によりトラック幅を
形成するようにしていたので、加工工数が多いという問
題があった。
て、角度付砥石を用いて山形溝を形成する場合、砥石の
加工機の送りピッチ誤差、高さ方向の位置決め誤差、砥
石の摩耗誤差等がトラック幅Ｗの精度に影響し、さらに
磁性薄膜の膜厚バラツキが影響するので、トラック幅Ｗ
を数ミクロン程度の公差（バラツキ）内で加工すること
が困難であった。また、例えば基板をはりつける工程、
山形を形成する工程、山形に金属薄膜を形成する工程、
および山形の頂部を平坦にする工程、および金属薄膜形
成後にトラック幅を規制する工程等によりトラック幅を
形成するようにしていたので、加工工数が多いという問
題があった。
【０００４】また、うず電流損を低減するために金属磁
性膜と絶縁膜により多層化した上記磁性膜のトラック幅
加工においては、表面の金属磁性膜が加工により切断さ
れやすいという問題があった。本発明の目的は、工程数
を低減して上記トラック幅を高精度に決定することので
きる磁気ヘッドと上記磁性薄膜におけるうず電流損失を
低減するために磁性膜を多層化した磁気ヘッドの製造方
法を提供することにある。
性膜と絶縁膜により多層化した上記磁性膜のトラック幅
加工においては、表面の金属磁性膜が加工により切断さ
れやすいという問題があった。本発明の目的は、工程数
を低減して上記トラック幅を高精度に決定することので
きる磁気ヘッドと上記磁性薄膜におけるうず電流損失を
低減するために磁性膜を多層化した磁気ヘッドの製造方
法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、基板面に山形面を形成し、上記山形面上に磁性膜を
形成し、上記磁性膜の上にガラスを充填し、上記ガラス
面を平坦に研磨または研削して上記磁性膜の頂部をその
頂点を中心にして対称な所定幅に露出するようにする。
に、基板面に山形面を形成し、上記山形面上に磁性膜を
形成し、上記磁性膜の上にガラスを充填し、上記ガラス
面を平坦に研磨または研削して上記磁性膜の頂部をその
頂点を中心にして対称な所定幅に露出するようにする。
【０００６】また、基板面に山形面を形成し、上記山形
面上に磁性膜を形成し、上記磁性膜の頂部をその頂点を
中心にして対称な所定幅に研磨または研削し、次いで上
記磁性膜の上にガラスを充填し、上記ガラス面を平坦に
研磨または研削して上記磁性膜の頂部をその頂点を中心
にして対称な所定幅に露出するようにする。また、スパ
ッタエッチングにより上記山形形成面の頂部をその頂点
を中心にして対称な所定幅に加工するようにする。ま
た、上記磁性膜を磁性膜と非磁性層の積層構造とし、上
記積層磁性膜の最上層を磁性膜としてその厚さを他の磁
性層の厚みより厚くするようにする。
面上に磁性膜を形成し、上記磁性膜の頂部をその頂点を
中心にして対称な所定幅に研磨または研削し、次いで上
記磁性膜の上にガラスを充填し、上記ガラス面を平坦に
研磨または研削して上記磁性膜の頂部をその頂点を中心
にして対称な所定幅に露出するようにする。また、スパ
ッタエッチングにより上記山形形成面の頂部をその頂点
を中心にして対称な所定幅に加工するようにする。ま
た、上記磁性膜を磁性膜と非磁性層の積層構造とし、上
記積層磁性膜の最上層を磁性膜としてその厚さを他の磁
性層の厚みより厚くするようにする。
【０００７】
【作用】上記ガラス面を平坦に研磨または研削すること
により、１工程にて上記磁性膜の頂部に所定幅の磁気ギ
ャップ部を形成することができる。また、上記磁性膜の
頂部をその頂点を中心にして対称な所定幅に研磨または
研削することにより、上記ガラス面の研磨または研削量
精度が緩和される。また、上記スパッタエッチングは上
記山形形成面の頂点を中心にした対称な加工幅の精度を
向上する。また、上記積層構造磁性膜の最上層磁性膜の
厚みを厚くすることにより、その下層の絶縁膜の切断を
防止して磁気特性の低化を防止する。
により、１工程にて上記磁性膜の頂部に所定幅の磁気ギ
ャップ部を形成することができる。また、上記磁性膜の
頂部をその頂点を中心にして対称な所定幅に研磨または
研削することにより、上記ガラス面の研磨または研削量
精度が緩和される。また、上記スパッタエッチングは上
記山形形成面の頂点を中心にした対称な加工幅の精度を
向上する。また、上記積層構造磁性膜の最上層磁性膜の
厚みを厚くすることにより、その下層の絶縁膜の切断を
防止して磁気特性の低化を防止する。
【０００８】
〔実施例 １〕図１はＶＴＲ用磁気ヘッドのヘッドチッ
プ形成プロセス図である。図１（ａ）において、成形し
た砥石２を用いて基板材１に山形の溝Ａを形成する。次
いで図１（ｂ）に示すように、上記山形の溝Ａの上に磁
性膜３をスパッタリングで形成する。
プ形成プロセス図である。図１（ａ）において、成形し
た砥石２を用いて基板材１に山形の溝Ａを形成する。次
いで図１（ｂ）に示すように、上記山形の溝Ａの上に磁
性膜３をスパッタリングで形成する。
【０００９】次いで、図１（ｃ）のように充填用のガラ
ス４を全面に充填し、同図（ｄ）のようにガラス４を研
削あるいは研磨して、磁性膜３の頂部が所定のトラック
幅Ｗで露出するようにする。上記トラック幅Ｗは上記研
削あるいは研磨の量により決定される。次いで図１
（ｅ）に示すように、（ｄ）の基板ブロックをそれぞれ
のトラック幅Ｗ部分が対向するようにボンディングし、
斜線で示した切断線に沿って切断し、図１（ｆ）に示す
ようなヘッドチップに整形する。図４は上記ヘッドチッ
プの上面図である。
ス４を全面に充填し、同図（ｄ）のようにガラス４を研
削あるいは研磨して、磁性膜３の頂部が所定のトラック
幅Ｗで露出するようにする。上記トラック幅Ｗは上記研
削あるいは研磨の量により決定される。次いで図１
（ｅ）に示すように、（ｄ）の基板ブロックをそれぞれ
のトラック幅Ｗ部分が対向するようにボンディングし、
斜線で示した切断線に沿って切断し、図１（ｆ）に示す
ようなヘッドチップに整形する。図４は上記ヘッドチッ
プの上面図である。
【００１０】〔実施例 ２〕図２は本発明によるＶＴＲ
用磁気ヘッドの他のヘッドチップ形成プロセス図であ
る。図２（ａ）において成形した砥石２を用いて基板材
１に山形の溝を形成する。次いで、成形した砥石６を用
いて磁性膜３の先端部がトラック幅Ｗと等しくなるよう
に加工する。この時、砥石のストレート部の加工深さＤ
を後の研磨加工における取り代より大きくする。
用磁気ヘッドの他のヘッドチップ形成プロセス図であ
る。図２（ａ）において成形した砥石２を用いて基板材
１に山形の溝を形成する。次いで、成形した砥石６を用
いて磁性膜３の先端部がトラック幅Ｗと等しくなるよう
に加工する。この時、砥石のストレート部の加工深さＤ
を後の研磨加工における取り代より大きくする。
【００１１】次いで、図２（ｃ）のように充填用のガラ
ス４を全面に充填し、同図（ｄ）のようにガラス４を研
削あるいは研磨して、磁性膜３の頂部が所定のトラック
幅Ｗで露出するようにする。次いで図１（ｅ）と同様
に、基板ブロックのトラック幅Ｗ部分が対向するように
ボンディングして切断し、図１（ｆ）に示すようなヘッ
ドチップに整形する。上記加工においては、トラック幅
Ｗの精度は主に砥石の送り精度によって決まり、その加
工ばらつきを±２μｍ以内に確保することができる。
ス４を全面に充填し、同図（ｄ）のようにガラス４を研
削あるいは研磨して、磁性膜３の頂部が所定のトラック
幅Ｗで露出するようにする。次いで図１（ｅ）と同様
に、基板ブロックのトラック幅Ｗ部分が対向するように
ボンディングして切断し、図１（ｆ）に示すようなヘッ
ドチップに整形する。上記加工においては、トラック幅
Ｗの精度は主に砥石の送り精度によって決まり、その加
工ばらつきを±２μｍ以内に確保することができる。
【００１２】〔実施例 ３〕上記実施例２において、研
削砥石６による加工をアルゴンガスを用いたスパッタエ
ッチに替えることによりトラック幅Ｗの加工ばらつきを
２μｍ以内に確保することができる。
削砥石６による加工をアルゴンガスを用いたスパッタエ
ッチに替えることによりトラック幅Ｗの加工ばらつきを
２μｍ以内に確保することができる。
【００１３】〔実施例 ４〕実施例１〜３において磁性
膜３の厚みが大きいとうず電流損失により磁気特性が劣
化する。このため図３に示すように、磁性膜間にＳｉＯ
2膜を設けて磁性膜３を多層に形成し、下層の磁性膜３
ａの厚みを薄くする。また、最上層の磁性膜３ｂを他の
層より厚く形成し、次のトラック幅加工において磁性膜
３ｂがＳｉＯ2膜に届かぬようにする。この結果、磁気
特性の劣化なくトラック幅加工することができた。
膜３の厚みが大きいとうず電流損失により磁気特性が劣
化する。このため図３に示すように、磁性膜間にＳｉＯ
2膜を設けて磁性膜３を多層に形成し、下層の磁性膜３
ａの厚みを薄くする。また、最上層の磁性膜３ｂを他の
層より厚く形成し、次のトラック幅加工において磁性膜
３ｂがＳｉＯ2膜に届かぬようにする。この結果、磁気
特性の劣化なくトラック幅加工することができた。
【００１４】
【発明の効果】本発明により、磁気ヘッド基板材上に設
けたガラス面を研磨または研削する工程のみにより、磁
気ヘッドのトラック幅を精度高く加工することができ
る。また、上記工程に磁性膜の頂部をその頂点を中心に
して対称な所定幅に研磨／研削またはスパッタエッチン
グする工程を追加することにより、上記ガラス面の研磨
または研削量精度を緩和することができる。また、積層
構造磁性膜の最上層磁性膜の厚みを厚くすることによ
り、上記工程における下層絶縁膜の切断を防ぎ、磁気特
性の低化を防止することができる。
けたガラス面を研磨または研削する工程のみにより、磁
気ヘッドのトラック幅を精度高く加工することができ
る。また、上記工程に磁性膜の頂部をその頂点を中心に
して対称な所定幅に研磨／研削またはスパッタエッチン
グする工程を追加することにより、上記ガラス面の研磨
または研削量精度を緩和することができる。また、積層
構造磁性膜の最上層磁性膜の厚みを厚くすることによ
り、上記工程における下層絶縁膜の切断を防ぎ、磁気特
性の低化を防止することができる。
【図１】本発明による磁気ヘッドのヘッドチップ形成プ
ロセス図である。
ロセス図である。
【図２】図１にトラック幅形成工程を追加した本発明に
よるヘッドチップ形成プロセス図である。
よるヘッドチップ形成プロセス図である。
【図３】本発明による多層磁性膜を備えた磁気ヘッドチ
ップ基板の断面図である。
ップ基板の断面図である。
【図４】磁気ヘッドの平面図である。
１…基板、２、６…砥石、３、３ｂ…磁性膜、４…ガラ
ス、５…層間絶縁膜。
ス、５…層間絶縁膜。
Claims (4)
- 【請求項１】 磁気ヘッドの製造方法において、基板面
に山形面を形成し、上記山形面上に磁性膜を形成し、上
記磁性膜の上にガラスを充填し、上記ガラス面を平坦に
研磨または研削して上記磁性膜の頂部をその頂点を中心
にして対称な所定幅に露出するようにしたことを特徴と
する磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項２】 磁気ヘッドの製造方法において、基板面
に山形面を形成し、上記山形面上に磁性膜を形成し、上
記磁性膜の頂部をその頂点を中心にして対称な所定幅に
研磨または研削し、次いで上記磁性膜の上にガラスを充
填し、上記ガラス面を平坦に研磨または研削して上記磁
性膜の頂部をその頂点を中心にして対称な所定幅に露出
するようにしたことを特徴とする磁気ヘッドの製造方
法。 - 【請求項３】 請求項２において、スパッタエッチング
により上記山形形成面の頂部をその頂点を中心にして対
称な所定幅に加工するようにしたことを特徴とする磁気
ヘッドの製造方法。 - 【請求項４】 請求項１または３において、上記磁性膜
を磁性膜と非磁性層の積層構造とし、上記積層磁性膜の
最上層を磁性膜としてその厚さを他の磁性層の厚みより
厚くするようにしたことを特徴とする磁気ヘッドの製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4170596A JPH0612620A (ja) | 1992-06-29 | 1992-06-29 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4170596A JPH0612620A (ja) | 1992-06-29 | 1992-06-29 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0612620A true JPH0612620A (ja) | 1994-01-21 |
Family
ID=15907776
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4170596A Pending JPH0612620A (ja) | 1992-06-29 | 1992-06-29 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0612620A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0732280A1 (de) * | 1995-03-17 | 1996-09-18 | MASCHINENFABRIK KARL BRIEDEN GmbH & Co. | Verfahren und Vorrichtung zum Abdichten von Dampftrocknern bei Ein- und Austrag von Reibungsverschleiss erzeugendem Gut |
-
1992
- 1992-06-29 JP JP4170596A patent/JPH0612620A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0732280A1 (de) * | 1995-03-17 | 1996-09-18 | MASCHINENFABRIK KARL BRIEDEN GmbH & Co. | Verfahren und Vorrichtung zum Abdichten von Dampftrocknern bei Ein- und Austrag von Reibungsverschleiss erzeugendem Gut |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050929 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20051025 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20051226 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060704 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060726 |
|
| R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |