JPS5972639A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドの製造方法Info
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- JPS5972639A JPS5972639A JP57184300A JP18430082A JPS5972639A JP S5972639 A JPS5972639 A JP S5972639A JP 57184300 A JP57184300 A JP 57184300A JP 18430082 A JP18430082 A JP 18430082A JP S5972639 A JPS5972639 A JP S5972639A
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
- C23C14/044—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks using masks to redistribute rather than totally prevent coating, e.g. producing thickness gradient
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/14—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates
- H01F41/18—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates by cathode sputtering
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- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/4902—Electromagnet, transformer or inductor
- Y10T29/49021—Magnetic recording reproducing transducer [e.g., tape head, core, etc.]
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- Y10T29/49032—Fabricating head structure or component thereof
- Y10T29/49048—Machining magnetic material [e.g., grinding, etching, polishing]
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明に、高密度記録再生が可能な垂直磁化記録再生用
磁気ヘッドの製造方法に関する本のである。
磁気ヘッドの製造方法に関する本のである。
従来、磁気記録媒体例えば磁気テープ、磁気ディスク、
等に情報を記録、再生する方式として、前記媒体の磁性
層面に対して水平方向に磁化する方式が一般に７広く用
いられていた。
等に情報を記録、再生する方式として、前記媒体の磁性
層面に対して水平方向に磁化する方式が一般に７広く用
いられていた。
前記記録再生方式に用いられていた磁気ヘッドは、通水
、リング型ヘッドと称され、該ヘッドは再生効率が優れ
ているが、記録ビットに生ずる減磁界が大なるため高密
度記録を達成することが困難なものであった。
、リング型ヘッドと称され、該ヘッドは再生効率が優れ
ているが、記録ビットに生ずる減磁界が大なるため高密
度記録を達成することが困難なものであった。
近年、前記リング型ヘッドによる面内記録再生方式、即
ち、水平磁化記録再生方式に代わり、高密度記録が可能
な垂直磁化記録再生方式、即ち、前１ｉｅｆＡ体の磁性
層面に対して垂直に磁化記録再生する方式が提案され、
該方式は原理的に極めて優れていることが確認されっ５
ある。
ち、水平磁化記録再生方式に代わり、高密度記録が可能
な垂直磁化記録再生方式、即ち、前１ｉｅｆＡ体の磁性
層面に対して垂直に磁化記録再生する方式が提案され、
該方式は原理的に極めて優れていることが確認されっ５
ある。
か＼る垂直磁化記録再生方式において、理想的な垂直磁
化記録を行うためには、先ず、記録面に垂直な出猟異方
性を有する磁気記録媒体が必要とされ、又、前記記録面
に垂直な磁界成分を急峻な分布パターンで発生させるこ
とが可能な磁気ヘッドも不可欠なものとされていた。
化記録を行うためには、先ず、記録面に垂直な出猟異方
性を有する磁気記録媒体が必要とされ、又、前記記録面
に垂直な磁界成分を急峻な分布パターンで発生させるこ
とが可能な磁気ヘッドも不可欠なものとされていた。
なお、前述した垂直磁化記録に適する記録媒体としては
、Ｃｏ−Ｃｒス・耐ツタ膜又（ｌ″を蒸着薄膜が逸して
いるＣとが知られている。
、Ｃｏ−Ｃｒス・耐ツタ膜又（ｌ″を蒸着薄膜が逸して
いるＣとが知られている。
一方、Ｓ気ヘッドとしては％ Ａ’図に示したよう処、
磁気記録媒体ｌの磁性層側に平板状の主磁極−を、父、
反磁性層側に励磁・コイルｌを巻回した補助磁極３を、
夫々配設して成る補助磁極励磁型ヘッドが一般に広く採
用されているものである。
磁気記録媒体ｌの磁性層側に平板状の主磁極−を、父、
反磁性層側に励磁・コイルｌを巻回した補助磁極３を、
夫々配設して成る補助磁極励磁型ヘッドが一般に広く採
用されているものである。
しかしながら、前述した山気ヘッドは、垂直力向に急峻
な分布パターンをもった磁界が発生する点で憂れている
ものであるが、その読み出し過程で、前記主磁極λの１
単さｔよシも記録ビットがせまい場合、矢印で示した互
に逆方向の磁化に前記主磁極−がま７？：、がる状態と
なり、磁束は前記コイル弘と鎖交せずに環流するので、
その再生出力は著しく低下し、前記主磁極λの厚さｔが
（通常、３〜／μｍ）ギゼット長のコ倍になると、出力
は全くなくなってしまう欠点があった。
な分布パターンをもった磁界が発生する点で憂れている
ものであるが、その読み出し過程で、前記主磁極λの１
単さｔよシも記録ビットがせまい場合、矢印で示した互
に逆方向の磁化に前記主磁極−がま７？：、がる状態と
なり、磁束は前記コイル弘と鎖交せずに環流するので、
その再生出力は著しく低下し、前記主磁極λの厚さｔが
（通常、３〜／μｍ）ギゼット長のコ倍になると、出力
は全くなくなってしまう欠点があった。
その門生出力とビット密度との１関係をグシノで示した
ものが第１図であシ、出力変動パターンの８点は、ビッ
ト長が前記厚さｔの手分に・又・ｂ点は−に、夫々なつ
１ζ場合に相当するものである。
ものが第１図であシ、出力変動パターンの８点は、ビッ
ト長が前記厚さｔの手分に・又・ｂ点は−に、夫々なつ
１ζ場合に相当するものである。
前述し７こ従来の垂直磁化用ヘッドヘッドの欠点を解消
すべく提案されている磁気ヘッドとして、特開昭５７−
４Ａ０７コ３号公報に、主磁極の厚さをトラック幅方向
にわたって連続的に変化せしめた構造を採り、再生出力
の急峻な低下を防止するヘッドが開示されている。
すべく提案されている磁気ヘッドとして、特開昭５７−
４Ａ０７コ３号公報に、主磁極の厚さをトラック幅方向
にわたって連続的に変化せしめた構造を採り、再生出力
の急峻な低下を防止するヘッドが開示されている。
しかしながら、この磁気ヘッドは、スノｔツタリング、
等によって基板上に形成された・ぐ−マロイ、センダス
ト、アモルファス母性体等の軟磁性金属から成る均一な
厚さの薄膜を研摩によって、一方向に連続的に厚さ’ｒ
Ｋ化せしめる製法を採用しているので、助望する厚さを
正確に得ることが加工精度上困離であり、ｔＳ変換特性
に難点が認められた。
等によって基板上に形成された・ぐ−マロイ、センダス
ト、アモルファス母性体等の軟磁性金属から成る均一な
厚さの薄膜を研摩によって、一方向に連続的に厚さ’ｒ
Ｋ化せしめる製法を採用しているので、助望する厚さを
正確に得ることが加工精度上困離であり、ｔＳ変換特性
に難点が認められた。
本発明は、前述した加工精度によってもたらされる電磁
変換特性上の欠点を解消し、よシ正確な形状に加工可能
な磁気ヘッドの製造法を提供することを目自勺とするも
のである。
変換特性上の欠点を解消し、よシ正確な形状に加工可能
な磁気ヘッドの製造法を提供することを目自勺とするも
のである。
本発明のか＼る目的は、スパッタ装置内において、遮蔽
板をターゲット電極と基板との対向間隙内でかつ該基板
に近接して連続的に移動させることによシ前記基板上の
軟磁性金属スパッタ膜の厚さを連続的に変化させて垂直
磁化用ヘッドの主磁極とする磁気ヘッドの製造方法°に
よって達成される。
板をターゲット電極と基板との対向間隙内でかつ該基板
に近接して連続的に移動させることによシ前記基板上の
軟磁性金属スパッタ膜の厚さを連続的に変化させて垂直
磁化用ヘッドの主磁極とする磁気ヘッドの製造方法°に
よって達成される。
以下、麻付した図面に基づき、本発明の一実施態様につ
いて詳述する。第３図は、本発明に基づく製造法を実施
するための主磁極形成装置の要部略図である。
いて詳述する。第３図は、本発明に基づく製造法を実施
するための主磁極形成装置の要部略図である。
こ＼に示す装置全体は、ＲＦスノξツタ装置内にあって
、ｊＸ／ ＯＴｏｒｒ程度のアルゴンガス雰囲気下で、
軟磁性金栖、例えばパーマロイ、から成るターゲット電
極１０ｔ−１例えば、チタン酸バリウム、等から成る基
板／ｌを対向せしめて、ｊ ００ Ｗ ８にのスパッタ
リングツξワーを入力している。
、ｊＸ／ ＯＴｏｒｒ程度のアルゴンガス雰囲気下で、
軟磁性金栖、例えばパーマロイ、から成るターゲット電
極１０ｔ−１例えば、チタン酸バリウム、等から成る基
板／ｌを対向せしめて、ｊ ００ Ｗ ８にのスパッタ
リングツξワーを入力している。
前記基板ｌ／とターゲット電極１０との対向間隙内で〃
為つ該基板／／に近接して遮蔽板／、２を左右に移動さ
せる。
為つ該基板／／に近接して遮蔽板／、２を左右に移動さ
せる。
前呂己遮蔽板／−は、モータ／Ｊ（例えばステッピング
モータンの回転により、減速ギヤ／４′・ネジ軸ｉｓを
弁して水平方向に駆動される。
モータンの回転により、減速ギヤ／４′・ネジ軸ｉｓを
弁して水平方向に駆動される。
１６は、アノード電極でる。！７かつ前記基板ｌｌを保
持口」能である。
持口」能である。
前述し九ＲＦスパッタ装を紅を用いて、ス／ξツタリン
グを開始すると＼もに、前記モータ１３を駆動して前記
遮蔽板ｌコを徐々に矢印Ａの方向に移動させると、第弘
図に示したように、スパッタ膜コＯ１ｌ′！その厚さが
連続的に磁化したものが得られる。
グを開始すると＼もに、前記モータ１３を駆動して前記
遮蔽板ｌコを徐々に矢印Ａの方向に移動させると、第弘
図に示したように、スパッタ膜コＯ１ｌ′！その厚さが
連続的に磁化したものが得られる。
前記遮蔽板７．２の移動速度は、先ず、前記Ｓ触板１２
を前記対向間隙内から取シ除いた状態で、通ｎのスパッ
タ速度を求め、次に、形成しようとする膜２０の厚さ匂
配から、前記遮蔽板／２の必要移動速度を求め、制御さ
れるものである。
を前記対向間隙内から取シ除いた状態で、通ｎのスパッ
タ速度を求め、次に、形成しようとする膜２０の厚さ匂
配から、前記遮蔽板／２の必要移動速度を求め、制御さ
れるものである。
例えば、通ｎ′のスパッタ速度がＯ１λμｍ／ ７ＦＬ
ｉ ｎ、前記基板／／の一端の必要膜厚さｔｏが１μ
ｍ１他端の必要膜厚さｔｌが０．７μｍ、その両端間前
述したように得られたスパッタ膜λＯば、実際には若干
厚くかつ長く形成されて、その後のフォトエツチングに
よシ所望する９寸法に精度良く仕上げられる。
ｉ ｎ、前記基板／／の一端の必要膜厚さｔｏが１μ
ｍ１他端の必要膜厚さｔｌが０．７μｍ、その両端間前
述したように得られたスパッタ膜λＯば、実際には若干
厚くかつ長く形成されて、その後のフォトエツチングに
よシ所望する９寸法に精度良く仕上げられる。
一方、ｉｔ図に示すように、チタン酸、＜ ＩＪウム、
等から成る基板３０に低融点ガラスをスノξツタした膜
３／を形成し、前記基板／／上のスノξツタ膜、２０を
、第６図に示し罠ように、前記ガラス膜３１に対口させ
、真空ｐ内で浴着させ、第７図に示すような浴着体ＵＯ
を得る。
等から成る基板３０に低融点ガラスをスノξツタした膜
３／を形成し、前記基板／／上のスノξツタ膜、２０を
、第６図に示し罠ように、前記ガラス膜３１に対口させ
、真空ｐ内で浴着させ、第７図に示すような浴着体ＵＯ
を得る。
次に、直線１１及び１２に沿って前記浴宥体≠００両端
を切り落とし、更に、直線ｍ１、ｍ２、ｍ３・・・ に
沿って分割し、前記主磁極λとして用いる。
を切り落とし、更に、直線ｍ１、ｍ２、ｍ３・・・ に
沿って分割し、前記主磁極λとして用いる。
第ｇ図は、本発明方法による磁気ヘッド（実線）と従来
の研摩によって製作された磁気ヘッド（破線）の記録密
度特性を示したものであシ、本発明方法による磁気ヘッ
ドは高密度領域で顕著にその特性が改良されていること
が判る。
の研摩によって製作された磁気ヘッド（破線）の記録密
度特性を示したものであシ、本発明方法による磁気ヘッ
ドは高密度領域で顕著にその特性が改良されていること
が判る。
なお、前記遮蔽板／、２の変更例として、第り図に示し
たように、遮蔽板ｌ−の平ｌに長方形の開口部１０を複
数個透設することにより、複数イ固の主Ｓ極を同時に同
一基板上に形成すること１１介し以上、記述したように
５本発明は主磁極゛の軟磁性金属薄膜を遮蔽板の連続移
動によって、そのス・ぐツタ膜の厚さを連続的に変化さ
せることが可能となりその加工仕上げ精度を飛躍的に同
上させることができた。
たように、遮蔽板ｌ−の平ｌに長方形の開口部１０を複
数個透設することにより、複数イ固の主Ｓ極を同時に同
一基板上に形成すること１１介し以上、記述したように
５本発明は主磁極゛の軟磁性金属薄膜を遮蔽板の連続移
動によって、そのス・ぐツタ膜の厚さを連続的に変化さ
せることが可能となりその加工仕上げ精度を飛躍的に同
上させることができた。
その結果、記録密度特性特に高密度領域での特性が著し
く改良された。
く改良された。
第１図は一般の補助磁極励磁型垂直磁化記録用ヘッドに
よる記録媒体とヘッドの関係を示す断面図。第一図はこ
の時の記録密度％件。第３図ａ本発明の実施のためのス
ノξツタ装置概略図、第μ図〜第７図は本発明の実施例
における製造工程を示す。第ｒ図は１本発明の効果を示
す記録密度特性であシ、実線ｅは本発明の実施例、破線
ｆは従来法にヘッドの記録密度％性を示す。第７図は本
発明の実施例における遮蔽板／、２の変更例を示す図で
ある。 ｌ・・・垂＠磁化記録媒体、λ・・・垂直磁化記録用ヘ
ッドの主磁極、 ３・・・垂直磁化記録用ヘッドの補助磁極、弘・・・
〃 のコイル、１０・・・ターゲット電
極、／ｌ・・・基板、／２・・・遮蔽板、１３・・・モ
ータ、ｌｕ・・・減速ギヤ、ｌｊ・・・ネジＮ、＃・・
・アノード磁極、−〇・・・、（／ξミッタ、３０・・
・基板、３／・・・低融点ガラス膜、ｊＯ・・・浴着体
、ｊＯ・・・開口部 特許出願人 富士写真フィルム株式会社第 １ 図 第２図 第３図 第４図 第５図 第６図 ｆａＹ図 ０ 第８図 ＠９図
よる記録媒体とヘッドの関係を示す断面図。第一図はこ
の時の記録密度％件。第３図ａ本発明の実施のためのス
ノξツタ装置概略図、第μ図〜第７図は本発明の実施例
における製造工程を示す。第ｒ図は１本発明の効果を示
す記録密度特性であシ、実線ｅは本発明の実施例、破線
ｆは従来法にヘッドの記録密度％性を示す。第７図は本
発明の実施例における遮蔽板／、２の変更例を示す図で
ある。 ｌ・・・垂＠磁化記録媒体、λ・・・垂直磁化記録用ヘ
ッドの主磁極、 ３・・・垂直磁化記録用ヘッドの補助磁極、弘・・・
〃 のコイル、１０・・・ターゲット電
極、／ｌ・・・基板、／２・・・遮蔽板、１３・・・モ
ータ、ｌｕ・・・減速ギヤ、ｌｊ・・・ネジＮ、＃・・
・アノード磁極、−〇・・・、（／ξミッタ、３０・・
・基板、３／・・・低融点ガラス膜、ｊＯ・・・浴着体
、ｊＯ・・・開口部 特許出願人 富士写真フィルム株式会社第 １ 図 第２図 第３図 第４図 第５図 第６図 ｆａＹ図 ０ 第８図 ＠９図
Claims (1)
- （１）スパッタ装置内において、遮蔽板をターゲット電
極と基板との対向間隙内でたつ該基板に近接して連続的
に移動させることによシ、前記基板上の軟磁性金属ス・
ξツタ膜の厚さを連続的に変化させて垂直磁化用ヘッド
の主磁極とする磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57184300A JPS5972639A (ja) | 1982-10-20 | 1982-10-20 | 磁気ヘツドの製造方法 |
| US06/543,202 US4646429A (en) | 1982-10-20 | 1983-10-19 | Method of making magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57184300A JPS5972639A (ja) | 1982-10-20 | 1982-10-20 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5972639A true JPS5972639A (ja) | 1984-04-24 |
| JPH0423325B2 JPH0423325B2 (ja) | 1992-04-22 |
Family
ID=16150915
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57184300A Granted JPS5972639A (ja) | 1982-10-20 | 1982-10-20 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4646429A (ja) |
| JP (1) | JPS5972639A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103774106A (zh) * | 2014-01-23 | 2014-05-07 | 江苏奥蓝工程玻璃有限公司 | 一种根据膜层均匀性曲线变化即时可调挡板机构及其调节方法 |
| CN111863284A (zh) * | 2020-06-24 | 2020-10-30 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 深冷靶低温吸附抑制开启机构 |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4907578A (en) * | 1986-07-23 | 1990-03-13 | Petersen Thomas D | Method and instruments for resection of the distal femur |
| US4773407A (en) * | 1986-07-23 | 1988-09-27 | Thomas Petersen | Method and instruments for resection of the distal femur |
| AUPO338396A0 (en) * | 1996-11-04 | 1996-11-28 | Sola International Holdings Ltd | Sputter coating apparatus |
| US7296339B1 (en) | 2004-09-08 | 2007-11-20 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for manufacturing a perpendicular magnetic recording head |
| US7552523B1 (en) | 2005-07-01 | 2009-06-30 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for manufacturing a perpendicular magnetic recording transducer |
| US8333008B1 (en) | 2005-07-29 | 2012-12-18 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for manufacturing a perpendicular magnetic recording transducer |
| US7508627B1 (en) | 2006-03-03 | 2009-03-24 | Western Digital (Fremont), Llc | Method and system for providing perpendicular magnetic recording transducers |
| US8141235B1 (en) | 2006-06-09 | 2012-03-27 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for manufacturing a perpendicular magnetic recording transducers |
| US8015692B1 (en) | 2007-11-07 | 2011-09-13 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for providing a perpendicular magnetic recording (PMR) head |
| US9099118B1 (en) | 2009-05-26 | 2015-08-04 | Western Digital (Fremont), Llc | Dual damascene process for producing a PMR write pole |
| US8486285B2 (en) | 2009-08-20 | 2013-07-16 | Western Digital (Fremont), Llc | Damascene write poles produced via full film plating |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3117885A (en) * | 1960-06-14 | 1964-01-14 | Sperry Rand Corp | Tapered magnetic film cores |
| US3751803A (en) * | 1972-05-16 | 1973-08-14 | Ferroxcube Corp | Method of making a magnetic head |
| US4303489A (en) * | 1978-08-21 | 1981-12-01 | Vac-Tec Systems, Inc. | Method and apparatus for producing a variable intensity pattern of sputtering material on a substrate |
| JPS5740723A (en) * | 1980-08-25 | 1982-03-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Vertical magnetic recording head |
| US4436593A (en) * | 1981-07-13 | 1984-03-13 | Memorex Corporation | Self-aligned pole tips |
-
1982
- 1982-10-20 JP JP57184300A patent/JPS5972639A/ja active Granted
-
1983
- 1983-10-19 US US06/543,202 patent/US4646429A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103774106A (zh) * | 2014-01-23 | 2014-05-07 | 江苏奥蓝工程玻璃有限公司 | 一种根据膜层均匀性曲线变化即时可调挡板机构及其调节方法 |
| CN111863284A (zh) * | 2020-06-24 | 2020-10-30 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 深冷靶低温吸附抑制开启机构 |
| CN111863284B (zh) * | 2020-06-24 | 2022-03-25 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 深冷靶低温吸附抑制开启机构 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4646429A (en) | 1987-03-03 |
| JPH0423325B2 (ja) | 1992-04-22 |
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