JPS629572A - 負圧形浮動ヘツドスライダの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、電子計算機の補助記憶装置として使われる
磁気ディスク装置の負圧形浮動ヘッドスライダの製造方
法に関するものである。

（従来の技術〕 第２図は一般的な負圧形浮動ヘッドスライダを示す斜視
図であ抄、１１）は負圧形浮動ヘッドスライダ、（２）
は負圧形浮動ヘッドスライダ（１）の磁気記録媒体に対
向する面の両縁部にそれぞれ配設されたサイドレール、
（３）は走行する媒体との間に生じる矢印−で示した空
気流により浮揚力を発生する浮動面、ｔ４）は両サイド
レール（２）間く形成され下流側に向かう空気流の流量
を減少させるクロスレール。

（５）はサイドレール（２）の浮動面（３）の空気流入
端側即ち上流側端に形成されたテーパ面、（６）はサイ
ドレールの浮動面（３）とクロスレール浮動面からくぼ
んで形成され空気流の通過により吸着力を発生させるた
めの負Ｂ：面でサイドレール（２）との段差は２〜ｌＯ
μｍ　である。

第３図（ａ）〜（ｄ）は、従来の負圧形浮動ヘッドスラ
イダの製造方法を工程順に示す斜視図である。まず（、
）に示すようにフェライト等のスライダ材料ブロックの
表面を鏡面に研磨し９次に（ｂ）に示すように９表面を
鏡面に研磨したスライダ材料ブロックにマスク（９）を
付け、２〜ｌＯ＃ｆｌ深さイオンエツチングする。ここ
でマスク（９）としてはＣｒ、　Ｔｉのスパッタ膜を用
いる。マスク（９）は所望のパターンに写真製版で成形
する。次Ｋ（ｃ）に示すようにイオンエツチング後マス
ク（９）を取り除き、（ｄ）に示すようにクロスレール
前側部の切り欠き部（７）を切り欠き、（５）のテーパ
面を機械加工により形成する。

〔発明が解決しようとする問題点〕

従来の製造方法では、イオンエツチングを利用して負圧
面を形成するが、この時のスライダ材料のエツチング速
度が小さすぎると、以下の様な製造上の問題を生ずる。

第１にエツチング時間がかかり生産性が悪くなる。

第２にスライダ材料のエツチング速度とマスク材料のエ
ツチング速度の比が大きくとれず、マスク材料を厚く積
まなければならなくなる。マスクが厚いとエツチング加
工の精度が悪くなる上、マスクを厚く積まなければなら
ないので生産性が悪くなる。

さて、スライダ材料がフェライトではエッチイブ速度は
１．３μル蛋「であるが、薄膜ヘッドに用いられるＡｊ
ｚＯａ−ＴｉＣではｏ、ｓ織」ｒと小さい。１０４ｍの
エツチングに要する時間はフェライトでも８時間かかる
がＡＪｚＯａ−ＴｉＣでは１７時間もかかる。又マスク
材料としては＋　Ｃｒ＋　ＴＩが使われている：６ｔ、
’　Ｔｉとフェライトではエツチング速度比は４程度で
あるが。

ＴＩとＡｊｚＯｓ−ＴＨＣでは２に下がってしまう。

以上のよう表理由で、エツチング速度の遅いスライダ材
料についてはイオンエツチングを利用した従来の製造方
法では、生産性が悪くなる上、エツチング精度もおちる
という問題点があった。又。

イオンエツチング後の負圧面は粗さが大きく、スライダ
材料がフェライトではＲｆｎａ　Ｋが０．６μｍである
。

サイドレールと負圧力との段差が２細根度ではこの面粗
さがスライダの浮動状態に影響を与えるという問題点が
あった。

この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、従来の製造方法では生産性が悪く困難であっ
たエツチング速度の小さいスライダ材料に対する負圧面
の加工を容易にし加工精度も上げるとともに負圧面の研
磨が可能な負圧形浮動ヘッドスライダの製造方法を提供
することを目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

この発明に係る負圧形浮動ヘッドスライダの製造方法は
、スライダ材料ブロックの両縁部に形成されるサイドレ
ールの巾を残して両サイドレール間を研削する工種、研
削後研削部にクロスレールを付着させる工程を施すよう
にしたものである。

〔作用〕

この発明における負圧形浮動ヘッドスライダの製造方法
は、負圧面形成を機械加工で行ない、その後クロスレー
ルを付着加工するようにしたので適当なマスクがなくイ
オンエツチングの難しかったエツチング速度の遅いスラ
イダ材料での負圧型ス、ライダの加工を容易にし、加工
精度も上げるとともに、負圧面の研磨加工を可能にし、
負圧面の面粗さを小さくすることができる。

〔実施例〕

第１図（、）〜（ｄ）は、この発明に係る一実施例の負
圧形浮動ヘッドスライダの製造方法を工程順に示すため
の斜視図で、ｔず（ａ）Ｋ示すスライダ材料ブロックに
（ｂ）に示すように研削により深さ２〜ｌＯμｍ。

この場合２μｍの角溝を両縁部に形成されるサイドレー
ルの巾を残して両サイドレール間に形成し。

溝の底面は型置により所望の面粗さに仕上げて負圧面（
６）を形成する。次に（Ｃ）のようにクロスレール部分
に穴を開けた金属薄板のマスク（８）を載せ、スパッタ
リングにより溝の埋まる厚さアルミナを積層しクロスレ
ール１４＋を形成する。最後に（ｄ）に示すようにサイ
ドレール（２）とクロスレール１４１の浮動面が同一面
となるまで研磨し、切り欠き部（７）を切り欠き、テー
パ面（５）を形成する。

この方法では、研削、研磨により負圧面（６）の溝加工
をし、かつ付着加工でクロスレール１４）を形成するた
め、イオンエツチングで生産性が悪く困難でありたＡ＃
０ａ−ＴＨＣ等のエツチング速度の遅い材料についても
、負圧形浮動ヘッドスライダの製造が容易になった。ま
た、負圧面の面粗さも小さくすることができる。

なお、上記実施例では負圧面の研磨を行なったが、必ず
しも行なう必要は無いつ また。切り欠き部（７）は切り欠かなくても良いつまた
。上記実施例では、金属薄板マスクスパッタによる付着
加工でクロスレールを形成したが。

マスクはレジストでもよい。また、付着加工としては蒸
着でもよく、さらにもつと広い領域にスパッタ、蒸着な
どの方法で成膜し、エツチングでクロスレールを形成し
てもよい。

またクロスレール材料としては、二酸化ケイ素。

レジストでもよい。

〔発明の効果〕

この発明は以上説明したとおり、スライダ材料ブロック
の両縁部に形成されるサイドレールの巾を残して両サイ
ドレール間を研削す°る工程、研削後研削部にクロスレ
ールを付着させる工程を施すようにしたので、エツチン
グ速度の遅いスライダ材料においても加工が容易で加工
精度の良い負圧形浮動ヘッドスライダの製造方法が得ら
れるという効果がある。また、研削後クロスレールを付
着する前に負正面を研磨するならば、負圧面の面粗さを
小さくでき浮動の安定性の良い負圧形浮動ヘッドスライ
ダの製造方法が得られるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図（、）〜（ｄ）はこの発明の一実施例の負圧形浮
動ヘッドスライダの製造方法を工程順に示す斜視図、第
２図は一般的な負圧形浮動ヘッドスライダを示す斜視図
、第３図（ａ）〜（ｄ）は従来の負圧形浮動ヘッドスラ
イダの製造方法を工程順に示す斜視図である。 “　（１）・・・負圧形浮動ヘッドスライダ、（２）・
・・サイドレール、　（３）・・・浮動面、１４）・・
・クロスレール、（５）・−・テーパ面、（６）・・・
負圧面 なお、各図中同一符号は同−又は相当部分を示す。 第１図 ｉ＋Ｊ 第２図 ド　７０人シレーし ２；　負号−＆ ３：、正−り面 ４：　チー・刻呼

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 磁気記録媒体に対向する面の両縁部にそれぞれ配設され
   走行する上記媒体との間に生じる空気流の上流側にテー
   パ面が形成され、空気流により浮揚力を発生する浮動面
   を有するサイドレール、この両サイドレール間に形成さ
   れ下流側に向かう空気流の流量を減少させるクロスレー
   ル、及びこのクロスレールの空気流の下流側で上記両サ
   イドレール間に空気流の通過により吸着力を発生する負
   圧面を備えたものの製造方法において、スライダ材料ブ
   ロックの両縁部に形成されるサイドレールの巾を残して
   両サイドレール間を研削する工程、研削後研削部にクロ
   スレールを付着させる工程を施すことを特徴とする負圧
   形浮動ヘッドスライダの製造方法。